JPH01134285A - 測距装置 - Google Patents
測距装置Info
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- JPH01134285A JPH01134285A JP62293323A JP29332387A JPH01134285A JP H01134285 A JPH01134285 A JP H01134285A JP 62293323 A JP62293323 A JP 62293323A JP 29332387 A JP29332387 A JP 29332387A JP H01134285 A JPH01134285 A JP H01134285A
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- prism
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
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Landscapes
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は測距装置に関し、特に基準光路と被測定物体ま
での光路との光の位相差を使って被測定物体までの距離
を測定する光ホモダイン計測法による測距装置に関する
。
での光路との光の位相差を使って被測定物体までの距離
を測定する光ホモダイン計測法による測距装置に関する
。
従来、光を用いて物体までの距離を測定する手段として
光ディスクの焦点位置検出機構を用いる方法や、基準光
路との光路差を光の位相差として検出する光ホモダイン
計測法がある。光ディスクの焦点位置検出機構にはいく
つかの方法があるが、例えば、非点収差法による検出機
構は対物レンズの移動によって物体面に光を集光させ、
反射して戻ってきた光を収−束する光路中に円筒レンズ
を配置したものである。対物レンズと物体の距離が基準
の長さにある時、ビーム形状が真円となる位置に4分割
光検出器を配置する距離が変化することによってビーム
形状が変化し、これを検出することによって相対距離を
測定できる。詳しくは、例えば雑誌「アイイーイーイー
・トランザクションズ・オン・コンシューマ・エレクト
ロニクス(IEEE Transactions on
Consumer 1ilectronics>、2
2巻、1976年、304〜308ページに記載の論文
「ビデオディスクの光学的出力(Optical Re
adout of Videodisc) 」に述べら
れている。しかし、この方法では測定範囲が限られてお
り汎用的でない、一方、光ホモダイン計測法は物体に光
を照射して戻ってきた反射光と基準光路の光を干渉させ
るものである。この時の基準光の位相の変調や光の波長
の変調によって干渉光にビート信号を発生させ、その周
波数から距離を測定する。光の波長を変調する方法につ
いての詳細は、例えば雑誌「アプライド・オプティック
ス(Applied 0ptics) 、 20巻、1
981年、400〜ページに記載の論文「波長可変干渉
計による絶対距離測定(Absolute Dista
nce Measurementsby Variab
le Wavelength Interferome
try ) Jに述べられている。この方法は数10m
以上の距離を数μm以下の精度で測定することができ、
高精度でしかも汎用性のある計測法である。
光ディスクの焦点位置検出機構を用いる方法や、基準光
路との光路差を光の位相差として検出する光ホモダイン
計測法がある。光ディスクの焦点位置検出機構にはいく
つかの方法があるが、例えば、非点収差法による検出機
構は対物レンズの移動によって物体面に光を集光させ、
反射して戻ってきた光を収−束する光路中に円筒レンズ
を配置したものである。対物レンズと物体の距離が基準
の長さにある時、ビーム形状が真円となる位置に4分割
光検出器を配置する距離が変化することによってビーム
形状が変化し、これを検出することによって相対距離を
測定できる。詳しくは、例えば雑誌「アイイーイーイー
・トランザクションズ・オン・コンシューマ・エレクト
ロニクス(IEEE Transactions on
Consumer 1ilectronics>、2
2巻、1976年、304〜308ページに記載の論文
「ビデオディスクの光学的出力(Optical Re
adout of Videodisc) 」に述べら
れている。しかし、この方法では測定範囲が限られてお
り汎用的でない、一方、光ホモダイン計測法は物体に光
を照射して戻ってきた反射光と基準光路の光を干渉させ
るものである。この時の基準光の位相の変調や光の波長
の変調によって干渉光にビート信号を発生させ、その周
波数から距離を測定する。光の波長を変調する方法につ
いての詳細は、例えば雑誌「アプライド・オプティック
ス(Applied 0ptics) 、 20巻、1
981年、400〜ページに記載の論文「波長可変干渉
計による絶対距離測定(Absolute Dista
nce Measurementsby Variab
le Wavelength Interferome
try ) Jに述べられている。この方法は数10m
以上の距離を数μm以下の精度で測定することができ、
高精度でしかも汎用性のある計測法である。
上述した光ホモダイン計測法においては、物体光と基準
光の強度を干渉面で等しくすることが必要であるが、従
来の方法では、単色光源から出射した光をハーフミラ−
で分割し、物体光と基準光の強度をそろえるために基準
光路中にNDフィルタを置く場合が一般的で、光の出力
を著しく損失していた。
光の強度を干渉面で等しくすることが必要であるが、従
来の方法では、単色光源から出射した光をハーフミラ−
で分割し、物体光と基準光の強度をそろえるために基準
光路中にNDフィルタを置く場合が一般的で、光の出力
を著しく損失していた。
本発明の測距装置は、半導体レーザと、前記レーザの波
長を変化せしめる信号発生手段と、前記レーザから出射
されたビームを整形する光学系と、前記光学系から出射
されたビームを前記ビームと同一形態の第1および第2
のビームに分離するビームスビリツタと、前記ビームス
プリッタによって分離された前記第1のビームを反射す
るビーム反射手段と、前記第2のビームを被測定物体に
照射して散乱する散乱光の光軸を前記第1のビームの光
軸と一致させるための前記第1および第2のビームがけ
られない程度の大きさの穴を有する反射光学系と、前記
散乱光および前記第1のビームを干渉せしめて生じる干
渉パターンを検出する光検出器と、前記光検出器からの
信号を処理する演算装置とを備えることを特徴とする。
長を変化せしめる信号発生手段と、前記レーザから出射
されたビームを整形する光学系と、前記光学系から出射
されたビームを前記ビームと同一形態の第1および第2
のビームに分離するビームスビリツタと、前記ビームス
プリッタによって分離された前記第1のビームを反射す
るビーム反射手段と、前記第2のビームを被測定物体に
照射して散乱する散乱光の光軸を前記第1のビームの光
軸と一致させるための前記第1および第2のビームがけ
られない程度の大きさの穴を有する反射光学系と、前記
散乱光および前記第1のビームを干渉せしめて生じる干
渉パターンを検出する光検出器と、前記光検出器からの
信号を処理する演算装置とを備えることを特徴とする。
第2図は本発明の原理を示す概念図、第3図はレーザ光
の発振周波数の時間的変化を示すグラフである。
の発振周波数の時間的変化を示すグラフである。
第2図に示すような干渉計を構成し、周波数変調された
半導体レーザ101の光をビームスプリッタ103で2
分し、物体105からの反射光とプリズム104で反射
された基準光路からの反射光との干渉のビート周波数を
測定して、物体105と基準光路の光路差を求める0周
波数変調されたレーザ光は次式で表わされる。
半導体レーザ101の光をビームスプリッタ103で2
分し、物体105からの反射光とプリズム104で反射
された基準光路からの反射光との干渉のビート周波数を
測定して、物体105と基準光路の光路差を求める0周
波数変調されたレーザ光は次式で表わされる。
E(t)□Aoexp[i (2yt (VO+ΔV(
t)) ]−・・・−(1)ここで、A、は振幅、vo
は中心周波数、ΔV(t)は周波数ずれ量である。この
時の瞬間周波数はV(t)=Vo十ΔV(t)
・・・・・・(2)であ
る、ここで、レーザ光の周波数を第3図に示すような三
角波状に変調させると、半周期の時間T=1/2fにお
ける周波数変化量は一定である。この量をδとする。一
方、信号光の時間差は、物体面までの光路長をe2+基
準光路長を1;!1としてr□2(1!2−1! 1)
/C・・・−(3)である、ただし、Cは光速度である
。この時の光検出器107の面における2つの光路の位
相差はΔψ(t)= 2π翳r ・・・・・・
(4)である。従って、2光束の干渉稿強度の半周期の
時間における位相変化量は ΔΦ=SoΔψ(t)dt = 2πδr −−−−
−−(5)となる、従って、ビート成分の位相偏移ΔΦ
を測定することにより「を求め、12が得らえる。
t)) ]−・・・−(1)ここで、A、は振幅、vo
は中心周波数、ΔV(t)は周波数ずれ量である。この
時の瞬間周波数はV(t)=Vo十ΔV(t)
・・・・・・(2)であ
る、ここで、レーザ光の周波数を第3図に示すような三
角波状に変調させると、半周期の時間T=1/2fにお
ける周波数変化量は一定である。この量をδとする。一
方、信号光の時間差は、物体面までの光路長をe2+基
準光路長を1;!1としてr□2(1!2−1! 1)
/C・・・−(3)である、ただし、Cは光速度である
。この時の光検出器107の面における2つの光路の位
相差はΔψ(t)= 2π翳r ・・・・・・
(4)である。従って、2光束の干渉稿強度の半周期の
時間における位相変化量は ΔΦ=SoΔψ(t)dt = 2πδr −−−−
−−(5)となる、従って、ビート成分の位相偏移ΔΦ
を測定することにより「を求め、12が得らえる。
この際、干渉縞のコントラストを大きくし、と−ト信号
の振幅を大きくするために、干渉面において物体からの
反射港と基準光路からの反射光の強度を等しくする必要
がある。ところが、一般には基準光路からの反射光が物
体からの反射光に比べて著しく大きく、従来は基準光、
路にNDフィルタを置いて反射光の強度を低減していた
。そこで、光を有効に利用するため、まずブームスプリ
ッタ103の光分割比を物体105からの反射光が基準
光路からの反射光と等しくなるように透過光量を大きく
する。物体105に照射する光は往の光がけられない程
度に小さく開けられた穴開きミラー106の穴を通って
物体105に照射される。基準光はプリズム104によ
って光路を変えられ、穴開きミラー106の穴を通って
光検出器107に集光される。また、物体105からの
散乱光は穴開きミラー106によって光路を変えられ、
光検出器107上に集光されて基準光と干渉する。
の振幅を大きくするために、干渉面において物体からの
反射港と基準光路からの反射光の強度を等しくする必要
がある。ところが、一般には基準光路からの反射光が物
体からの反射光に比べて著しく大きく、従来は基準光、
路にNDフィルタを置いて反射光の強度を低減していた
。そこで、光を有効に利用するため、まずブームスプリ
ッタ103の光分割比を物体105からの反射光が基準
光路からの反射光と等しくなるように透過光量を大きく
する。物体105に照射する光は往の光がけられない程
度に小さく開けられた穴開きミラー106の穴を通って
物体105に照射される。基準光はプリズム104によ
って光路を変えられ、穴開きミラー106の穴を通って
光検出器107に集光される。また、物体105からの
散乱光は穴開きミラー106によって光路を変えられ、
光検出器107上に集光されて基準光と干渉する。
物体からの反射光は基準光の1/100以下であるため
、従来の方法ではレーザの光量の99%以上を無駄に捨
てていた。しかし、本発明の方法での光の損失は数10
%以下であり、70〜80%以上の光量を有効に利用で
きる。
、従来の方法ではレーザの光量の99%以上を無駄に捨
てていた。しかし、本発明の方法での光の損失は数10
%以下であり、70〜80%以上の光量を有効に利用で
きる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の測距装置の一実施例の構成図である。
レーザ1から出射した光はレンズ2によりコリメートさ
れ、ビームスプリッタ3に入射する。ビームスプリッタ
3によって分けられた光の一方はプリズム4により反射
されて基準光路となる。もう一方の光は中央に穴の開い
た穴開きミラー5を通過し、レンズ6によって物体7に
集光する。物体7からの散乱光は穴開きミラー5で反射
され、レンズ8によって集光されて光検出器9でプリズ
ム4からの基準光と干渉する。
れ、ビームスプリッタ3に入射する。ビームスプリッタ
3によって分けられた光の一方はプリズム4により反射
されて基準光路となる。もう一方の光は中央に穴の開い
た穴開きミラー5を通過し、レンズ6によって物体7に
集光する。物体7からの散乱光は穴開きミラー5で反射
され、レンズ8によって集光されて光検出器9でプリズ
ム4からの基準光と干渉する。
レーザ1は、GP−IBインターフェイスの付いたパソ
コンなどの演算装置11に制御される例えばGP−IB
インターフェイスの付いたファンクションジェネレータ
などのレーザ駆動装置12により、第3図に示したよう
に周波数変調される。プリズム4からの基準光と物体7
からの反射光の干渉パターンは光路差に比例してうねり
を生じる。このうねりの周波数を例えばGP−IBの付
いた周波数カウンタ11によって測定し、演算装置12
によって光路差を求めることができる。
コンなどの演算装置11に制御される例えばGP−IB
インターフェイスの付いたファンクションジェネレータ
などのレーザ駆動装置12により、第3図に示したよう
に周波数変調される。プリズム4からの基準光と物体7
からの反射光の干渉パターンは光路差に比例してうねり
を生じる。このうねりの周波数を例えばGP−IBの付
いた周波数カウンタ11によって測定し、演算装置12
によって光路差を求めることができる。
以上説明したように本発明は、ビームスプリッタ、プリ
ズム、穴開きミラーを用いて基準光と物体からの反射光
の強度を等しくすることによって、光源の光パワーを有
効に利用できる効果がある。
ズム、穴開きミラーを用いて基準光と物体からの反射光
の強度を等しくすることによって、光源の光パワーを有
効に利用できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の測距装置の一実施例の構成図、第2図
は本発明の原理を示す概念図、第3図はレーザ光の発振
周波数の時間的変化を示すグラフである。 1.101・・・レーザ、2,6.8・・・レンズ、3
.103・・・ビームスプリッタ、4.104・・・プ
リズム、5,106・・・穴開きミラー、7,105・
・・物体、9,107・・・光検出器、10・・・周波
数カウンタ、11・・・演算装置、12・・・レーザ駆
動装置。 代理人 弁理士 内 原 冒 茅 1 圀 ブソス゛ム 第 2 閏 序 3 TM
は本発明の原理を示す概念図、第3図はレーザ光の発振
周波数の時間的変化を示すグラフである。 1.101・・・レーザ、2,6.8・・・レンズ、3
.103・・・ビームスプリッタ、4.104・・・プ
リズム、5,106・・・穴開きミラー、7,105・
・・物体、9,107・・・光検出器、10・・・周波
数カウンタ、11・・・演算装置、12・・・レーザ駆
動装置。 代理人 弁理士 内 原 冒 茅 1 圀 ブソス゛ム 第 2 閏 序 3 TM
Claims (1)
- 半導体レーザと、前記レーザの波長を変化せしめる信号
発生手段と、前記レーザから出射されたビームを整形す
る光学系と、前記光学系から出射されたビームを前記ビ
ームと同一形態の第1および第2のビームに分離するビ
ームスピリッタと、前記ビームスプリッタによって分離
された前記第1のビームを反射するビーム反射手段と、
前記第2のビームを被測定物体に照射して散乱する散乱
光の光軸を前記第1のビームの光軸と一致させるための
前記第1および第2のビームがけられない程度の大きさ
の穴を有する反射光学系と、前記散乱光および前記第1
のビームを干渉せしめて生じる干渉パターンを検出する
光検出器と、前記光検出器からの信号を処理する演算装
置とを備えることを特徴とする測距装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62293323A JPH01134285A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 測距装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62293323A JPH01134285A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 測距装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01134285A true JPH01134285A (ja) | 1989-05-26 |
Family
ID=17793343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62293323A Pending JPH01134285A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | 測距装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01134285A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0768542A1 (en) * | 1995-10-13 | 1997-04-16 | Kabushiki Kaisha Topcon | Optical distance measuring apparatus |
CN109557547A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-04-02 | 武汉万集信息技术有限公司 | 激光雷达、距离测量和/或速度确定方法及存储介质 |
WO2021009723A1 (en) * | 2019-07-17 | 2021-01-21 | Scoptonic Sp. Z O.O. | High sensitivity optical devices using pupil splittig means |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5995404A (ja) * | 1982-11-24 | 1984-06-01 | Nippon Seiko Kk | 測距装置 |
JPS6025471A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-02-08 | Hidehiko Yamada | 光学的変位測定方法 |
JPS60174969A (ja) * | 1984-02-21 | 1985-09-09 | Asahi Optical Co Ltd | 光波距離計における光量調節装置 |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP62293323A patent/JPH01134285A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5995404A (ja) * | 1982-11-24 | 1984-06-01 | Nippon Seiko Kk | 測距装置 |
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JPS60174969A (ja) * | 1984-02-21 | 1985-09-09 | Asahi Optical Co Ltd | 光波距離計における光量調節装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0768542A1 (en) * | 1995-10-13 | 1997-04-16 | Kabushiki Kaisha Topcon | Optical distance measuring apparatus |
CN109557547A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-04-02 | 武汉万集信息技术有限公司 | 激光雷达、距离测量和/或速度确定方法及存储介质 |
CN109557547B (zh) * | 2018-12-27 | 2020-10-23 | 武汉万集信息技术有限公司 | 激光雷达、距离测量和/或速度确定方法及存储介质 |
WO2021009723A1 (en) * | 2019-07-17 | 2021-01-21 | Scoptonic Sp. Z O.O. | High sensitivity optical devices using pupil splittig means |
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