JP3029757B2 - 光熱変位計測による試料評価方法 - Google Patents
光熱変位計測による試料評価方法Info
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- JP3029757B2 JP3029757B2 JP5172948A JP17294893A JP3029757B2 JP 3029757 B2 JP3029757 B2 JP 3029757B2 JP 5172948 A JP5172948 A JP 5172948A JP 17294893 A JP17294893 A JP 17294893A JP 3029757 B2 JP3029757 B2 JP 3029757B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は試料に周期的に強度変調
した励起光を照射し，これにより生じる試料表面の熱膨
張振動を測定して試料の欠陥等を評価する試料評価方法
に関する。
した励起光を照射し，これにより生じる試料表面の熱膨
張振動を測定して試料の欠陥等を評価する試料評価方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】試料に周期的に強度変調した光（励起
光）を照射すると，試料はこの光の吸収により発熱し，
これにより熱膨張する。照射光は周期的に強度変調して
いるため，発熱による試料の温度変化は周期的となり，
試料は熱膨張をおこす。これらの熱応答を計測すること
により試料を評価する手法は光音響計測技術として知ら
れている。図３はマイケルソン型レーザ光干渉法により
試料の熱膨張振動を計測する手法を示したものである
（Miranda,APPLID OPTICS Vo122,No18,P2882(198
3））。ここに６１は被測定試料，６２は試料に熱膨張
振動を与えるための励起光源であり，チョッパ６３によ
り励起光源６２からの光を強度変調し，試料６１に照射
する。この熱膨張振動（光熱変位）をレーザ光干渉法に
より計測する。そのために測定用レーザ６４からの光を
半透鏡６５で二分し，一方を試料の熱膨張測定点に，他
方を空間的に固定した鏡６６に照射し，これらからの反
射光を干渉させ光電変換器６７で受光する。光電変換器
６７からの電気出力Ｅは次式で表される。 Ｅ＝Ｃ1 ＋Ｃ2 ・ｃｏｓ（Ｐ（ｔ）＋Φ）…（１′） ここで，Ｃ1 ，Ｃ2 及びΦは試料６１や干渉計の構成や
光電変換係数等に依存する定数，Ｐ（ｔ）は励起光照射
による熱膨張振動による試料の表面変位に併う位相変化
であり，この計測により試料の熱膨張振動（位相Φ及び
振幅Ｌ）を計測し，試料の熱弾性的性質を評価する。図
４は反射率計測法に基づく手法である（特開昭６１−２
０４６号公報）。励起レーザ３０からの光を変調器３２
により周期的に強度変調して試料３１に照射し，試料３
１に周期的温度変化を与える。この温度変化が試料３１
に光反射率の変化をもたらす。この反射率の変化を検出
するために測定用レーザ５０を，試料３１の温度変化計
測点（本図においては励起レーザ照射点と同位置）にミ
ラー３６を通して照射し，その反射光を光検出器５６で
検出する。この出力から信号処理回路５８により，反射
率の変化を求め，試料３１を評価する。
光）を照射すると，試料はこの光の吸収により発熱し，
これにより熱膨張する。照射光は周期的に強度変調して
いるため，発熱による試料の温度変化は周期的となり，
試料は熱膨張をおこす。これらの熱応答を計測すること
により試料を評価する手法は光音響計測技術として知ら
れている。図３はマイケルソン型レーザ光干渉法により
試料の熱膨張振動を計測する手法を示したものである
（Miranda,APPLID OPTICS Vo122,No18,P2882(198
3））。ここに６１は被測定試料，６２は試料に熱膨張
振動を与えるための励起光源であり，チョッパ６３によ
り励起光源６２からの光を強度変調し，試料６１に照射
する。この熱膨張振動（光熱変位）をレーザ光干渉法に
より計測する。そのために測定用レーザ６４からの光を
半透鏡６５で二分し，一方を試料の熱膨張測定点に，他
方を空間的に固定した鏡６６に照射し，これらからの反
射光を干渉させ光電変換器６７で受光する。光電変換器
６７からの電気出力Ｅは次式で表される。 Ｅ＝Ｃ1 ＋Ｃ2 ・ｃｏｓ（Ｐ（ｔ）＋Φ）…（１′） ここで，Ｃ1 ，Ｃ2 及びΦは試料６１や干渉計の構成や
光電変換係数等に依存する定数，Ｐ（ｔ）は励起光照射
による熱膨張振動による試料の表面変位に併う位相変化
であり，この計測により試料の熱膨張振動（位相Φ及び
振幅Ｌ）を計測し，試料の熱弾性的性質を評価する。図
４は反射率計測法に基づく手法である（特開昭６１−２
０４６号公報）。励起レーザ３０からの光を変調器３２
により周期的に強度変調して試料３１に照射し，試料３
１に周期的温度変化を与える。この温度変化が試料３１
に光反射率の変化をもたらす。この反射率の変化を検出
するために測定用レーザ５０を，試料３１の温度変化計
測点（本図においては励起レーザ照射点と同位置）にミ
ラー３６を通して照射し，その反射光を光検出器５６で
検出する。この出力から信号処理回路５８により，反射
率の変化を求め，試料３１を評価する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前者のマイケルソン型
レーザ光干渉により試料の熱膨張を計測する手法では，
試料６１上における励起光の照射位置と測定光の照射位
置との間にずれを生じる可能性があり，これが測定値に
変化をもたらし，測定誤差となって熱膨張振動を高精度
に測定することができない。また，前記（１′）式にお
ける定数Ｃ1 ，Ｃ 2 及びΦの変化が外乱として測定精度
を低下させる。例えば励起光照射による試料の温度変化
およびプラズマ（電子，ホール）密度の変化（半導体試
料の場合）により試料の反射率が変化する場合がある。
この場合，干渉光の信号は反射率変化に伴う外乱信号を
含んでいることになり，干渉光の信号から真の熱膨張信
号を計測できない。他方，後者の反射率計測法に基づく
手法は，試料の温度変化，プラズマ密度変化の計測であ
るため，試料の熱膨張率等の弾性的性質を得ることがで
きない。更に前記手法の場合と同様，試料３１上におけ
る励起光の照射位置と測定光の照射位置との間にずれを
生じる可能性があり，これが測定値に変化をもたらし，
測定誤差となって熱膨張振動を高精度に計測することが
できない。従って本発明が目的とするところは，励起光
の照射位置と測定光の照射位置のずれによる影響や，試
料の温度変化，プラズマ密度の変化等による試料の反射
率の変化といった外乱の影響を受けず，試料の真の熱膨
張振動を正確に計測することのできる光熱変位計測によ
る試料評価方法を提供することである。
レーザ光干渉により試料の熱膨張を計測する手法では，
試料６１上における励起光の照射位置と測定光の照射位
置との間にずれを生じる可能性があり，これが測定値に
変化をもたらし，測定誤差となって熱膨張振動を高精度
に測定することができない。また，前記（１′）式にお
ける定数Ｃ1 ，Ｃ 2 及びΦの変化が外乱として測定精度
を低下させる。例えば励起光照射による試料の温度変化
およびプラズマ（電子，ホール）密度の変化（半導体試
料の場合）により試料の反射率が変化する場合がある。
この場合，干渉光の信号は反射率変化に伴う外乱信号を
含んでいることになり，干渉光の信号から真の熱膨張信
号を計測できない。他方，後者の反射率計測法に基づく
手法は，試料の温度変化，プラズマ密度変化の計測であ
るため，試料の熱膨張率等の弾性的性質を得ることがで
きない。更に前記手法の場合と同様，試料３１上におけ
る励起光の照射位置と測定光の照射位置との間にずれを
生じる可能性があり，これが測定値に変化をもたらし，
測定誤差となって熱膨張振動を高精度に計測することが
できない。従って本発明が目的とするところは，励起光
の照射位置と測定光の照射位置のずれによる影響や，試
料の温度変化，プラズマ密度の変化等による試料の反射
率の変化といった外乱の影響を受けず，試料の真の熱膨
張振動を正確に計測することのできる光熱変位計測によ
る試料評価方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は，試料に光を照射し，それによる試料の光熱
変位を計測することにより試料を評価する方法におい
て，上記試料に強度変調した異なる振動周波数の２つの
光を照射して上記試料からの反射光を干渉させ，この干
渉光の位相に基づいて上記試料を評価することとした光
熱変位計測による試料評価方法として構成されている。
に本発明は，試料に光を照射し，それによる試料の光熱
変位を計測することにより試料を評価する方法におい
て，上記試料に強度変調した異なる振動周波数の２つの
光を照射して上記試料からの反射光を干渉させ，この干
渉光の位相に基づいて上記試料を評価することとした光
熱変位計測による試料評価方法として構成されている。
【０００５】
【作用】本発明によれば，例えば第２の光に対して相対
的に強度変調された振動周波数の第１の光を励起光とし
て試料に照射し該試料に光熱変位（熱膨張振動）を誘起
させると共に，同じく上記試料に上記第２の光を照射し
て上記第１の光と上記第２の光の上記試料からの反射光
を干渉させ，この干渉光の位相に基づいて上記試料を評
価する。即ち，上記第１の光による反射光の位相変化に
基づいて光熱変位が検出される。尚この場合，第１，第
２の光の照射位置に係る位置ずれ量が問題となることは
ない。
的に強度変調された振動周波数の第１の光を励起光とし
て試料に照射し該試料に光熱変位（熱膨張振動）を誘起
させると共に，同じく上記試料に上記第２の光を照射し
て上記第１の光と上記第２の光の上記試料からの反射光
を干渉させ，この干渉光の位相に基づいて上記試料を評
価する。即ち，上記第１の光による反射光の位相変化に
基づいて光熱変位が検出される。尚この場合，第１，第
２の光の照射位置に係る位置ずれ量が問題となることは
ない。
【０００６】
【実施例】以下，添付図面を参照して本発明を具体化し
た実施例につき説明し，本発明の理解に供する。尚，以
下の実施例は，本発明を具体化した一例であって，本発
明の技術的範囲を限定する性格のものではない。ここ
に，図１は本発明の一実施例に係る光熱変位計測による
試料評価装置の概略構成を示す全体回路図，図２は他の
実施例に係る部分回路図である。本実施例に係る試料評
価方法では，図１に示す如く，試料７に強度変調された
例えば振動周波数Ｆ1 の第１の光（ビーム１）を励起光
として照射し試料７に光熱変位（熱膨張振動）を誘起さ
せると共に，同じく上記試料７に強度変調されていない
例えば振動周波数Ｆ2 の第２の光（ビーム２）を照射し
て上記ビーム１と上記ビーム２の上記試料７からの反射
光を干渉させ，この干渉光の位相に基づいて上記試料７
を評価する。次に，同図に示す試料評価装置による計測
原理について述べる。まず，Ｈｅ−Ｎｅレーザ１からの
出射光（振動周波数：Ｆ2 ）を偏光ビームスプリッタ２
でビーム１およびビーム２に二分する。その一方（ビー
ム１）を音響光学変調器３で光の振動周波数をＦb （ビ
ート波の周波数に相当）シフトしてＦ 1 （従ってＦb ＝
Ｆ1 −Ｆ2 ）とすると共に強度変調する。これらのビー
ム１，２をビームスプリッタ４で合わせてビームエキス
パンダ５でビーム径を拡大して後，レンズ６で集光し，
試料７に照射する。尚この場合，ビーム１とビーム２の
試料７上での照射位置が僅かに異なる（例えば１mm以
下）ように，これらのビームの光軸がビームスプリッタ
４で調整されている。これらのビーム１，２の試料７か
らの反射光をビームスプリッタ８で反射さた，偏光板９
でビーム２とビーム１とを干渉させる。この干渉光を光
電変換器１０で受光する。光電変換器１０からの出力を
フィルタ１１に通した後の信号（ビート波信号）Ｅは次
式で表される。 Ｅ＝Ａ（ｔ）・ｃｏｓ（２πＦb ｔ＋Ｐ（ｔ）＋Φ） …（１） ここで，Ａ（ｔ）はビーム１，２の強度および試料，干
渉光学系等に依存する関数，Ｐ（ｔ）は励起光（ビーム
１）による試料表面の熱膨張変位（光熱変位）によるビ
ーム１，２間の位相変化，ΦはＰ（ｔ）が零（振動が無
い）のときのビーム１，ビーム２間の光路長差による位
相差である。Ｐ（ｔ）は試料が励起光によりＬ（ｔ）な
る表面変位が生じたとき次式で表される。 Ｐ（ｔ）＝（４π／λ）・Ｌ（ｔ） （λは光の波長） …（２）
た実施例につき説明し，本発明の理解に供する。尚，以
下の実施例は，本発明を具体化した一例であって，本発
明の技術的範囲を限定する性格のものではない。ここ
に，図１は本発明の一実施例に係る光熱変位計測による
試料評価装置の概略構成を示す全体回路図，図２は他の
実施例に係る部分回路図である。本実施例に係る試料評
価方法では，図１に示す如く，試料７に強度変調された
例えば振動周波数Ｆ1 の第１の光（ビーム１）を励起光
として照射し試料７に光熱変位（熱膨張振動）を誘起さ
せると共に，同じく上記試料７に強度変調されていない
例えば振動周波数Ｆ2 の第２の光（ビーム２）を照射し
て上記ビーム１と上記ビーム２の上記試料７からの反射
光を干渉させ，この干渉光の位相に基づいて上記試料７
を評価する。次に，同図に示す試料評価装置による計測
原理について述べる。まず，Ｈｅ−Ｎｅレーザ１からの
出射光（振動周波数：Ｆ2 ）を偏光ビームスプリッタ２
でビーム１およびビーム２に二分する。その一方（ビー
ム１）を音響光学変調器３で光の振動周波数をＦb （ビ
ート波の周波数に相当）シフトしてＦ 1 （従ってＦb ＝
Ｆ1 −Ｆ2 ）とすると共に強度変調する。これらのビー
ム１，２をビームスプリッタ４で合わせてビームエキス
パンダ５でビーム径を拡大して後，レンズ６で集光し，
試料７に照射する。尚この場合，ビーム１とビーム２の
試料７上での照射位置が僅かに異なる（例えば１mm以
下）ように，これらのビームの光軸がビームスプリッタ
４で調整されている。これらのビーム１，２の試料７か
らの反射光をビームスプリッタ８で反射さた，偏光板９
でビーム２とビーム１とを干渉させる。この干渉光を光
電変換器１０で受光する。光電変換器１０からの出力を
フィルタ１１に通した後の信号（ビート波信号）Ｅは次
式で表される。 Ｅ＝Ａ（ｔ）・ｃｏｓ（２πＦb ｔ＋Ｐ（ｔ）＋Φ） …（１） ここで，Ａ（ｔ）はビーム１，２の強度および試料，干
渉光学系等に依存する関数，Ｐ（ｔ）は励起光（ビーム
１）による試料表面の熱膨張変位（光熱変位）によるビ
ーム１，２間の位相変化，ΦはＰ（ｔ）が零（振動が無
い）のときのビーム１，ビーム２間の光路長差による位
相差である。Ｐ（ｔ）は試料が励起光によりＬ（ｔ）な
る表面変位が生じたとき次式で表される。 Ｐ（ｔ）＝（４π／λ）・Ｌ（ｔ） （λは光の波長） …（２）
【０００７】他方，ビーム１とビーム２の試料７に照射
される前にビームスプリッタ８で反射された光を偏光板
１２で干渉させ，この干渉光を光電変換器１３で受光す
る。光電変換器１３からの出力をフィルタ１４に通した
後の信号（ビート波信号）Ｅr は次式で表される。 Ｅr ＝Ｂ（ｔ）・ｃｏｓ（２πＦb ｔ＋Φ） …（３） ここで，Ｂ（ｔ）はビーム１，２の強度及び干渉光学系
等に依存する関数である。次にＥの位相を検出するため
に，Ｅのビート波に対して位相が９０°異なる信号Ｒ1
と同相の信号Ｒ2 を，Ｅr を位相シフタ１５で位相調整
することにより生成する。これらは次式で表される。 Ｒ1 ＝Ｋ（ｔ）・ｓｉｎ（２πＦb ｔ＋Φ） Ｒ2 ＝Ｋ（ｔ）・ｃｏｓ（２πＦb ｔ＋Φ） …（４） ここでＫ（ｔ）はビーム１，ビーム２の強度および干渉
光学系等に依存する関数である。こられの信号とＥをミ
キサ１６，１７でミキシングし，フィルタ１８，１９で
周波数２Ｆb 帯を除去した後信号Ｖ1 ，Ｖ2 を得る。Ｌ
（ｔ）がλに比べて十分小さいとき，信号Ｖ1 ，Ｖ2 は
次式が表される。 Ｖ1 ＝Ｋ1 （ｔ）・Ｐ（ｔ） Ｖ2 ＝Ｋ1 （ｔ） …（５） ここで，Ｋ1 （ｔ）はＫ（ｔ）及びＡ（ｔ）の関数であ
る。このようにして得られた信号Ｖ1 とＶ2 の比を除算
器２０にて算出することにより，光熱変位による位相変
化Ｐ（ｔ）を得ることができる。
される前にビームスプリッタ８で反射された光を偏光板
１２で干渉させ，この干渉光を光電変換器１３で受光す
る。光電変換器１３からの出力をフィルタ１４に通した
後の信号（ビート波信号）Ｅr は次式で表される。 Ｅr ＝Ｂ（ｔ）・ｃｏｓ（２πＦb ｔ＋Φ） …（３） ここで，Ｂ（ｔ）はビーム１，２の強度及び干渉光学系
等に依存する関数である。次にＥの位相を検出するため
に，Ｅのビート波に対して位相が９０°異なる信号Ｒ1
と同相の信号Ｒ2 を，Ｅr を位相シフタ１５で位相調整
することにより生成する。これらは次式で表される。 Ｒ1 ＝Ｋ（ｔ）・ｓｉｎ（２πＦb ｔ＋Φ） Ｒ2 ＝Ｋ（ｔ）・ｃｏｓ（２πＦb ｔ＋Φ） …（４） ここでＫ（ｔ）はビーム１，ビーム２の強度および干渉
光学系等に依存する関数である。こられの信号とＥをミ
キサ１６，１７でミキシングし，フィルタ１８，１９で
周波数２Ｆb 帯を除去した後信号Ｖ1 ，Ｖ2 を得る。Ｌ
（ｔ）がλに比べて十分小さいとき，信号Ｖ1 ，Ｖ2 は
次式が表される。 Ｖ1 ＝Ｋ1 （ｔ）・Ｐ（ｔ） Ｖ2 ＝Ｋ1 （ｔ） …（５） ここで，Ｋ1 （ｔ）はＫ（ｔ）及びＡ（ｔ）の関数であ
る。このようにして得られた信号Ｖ1 とＶ2 の比を除算
器２０にて算出することにより，光熱変位による位相変
化Ｐ（ｔ）を得ることができる。
【０００８】尚，本実施例では，光熱変位を変調された
周波数で周期的に誘起させているため，光熱変位の振幅
の検出にはロックインアンプ２１を用いている。以上の
ように，本実施例においては強度変調されたビーム１が
励起光として試料７に光熱変位を誘起させると共に、こ
の反射光の位相変化から光熱変位を検出している。即
ち，励起光と測定光とは同一であることから，試料７上
における励起光の照射位置と測定光の照射位置とにずれ
が生じるという不都合はない。更に本実施例において
は，上述の如く試料７からの反射光の位相変化から光熱
変位を計測するため，試料７の反射率変化，ビーム１，
２の強度変化等の影響を受けずに試料７の真の光熱変位
を計測することができる。その結果，高精度で試料の評
価を行うことができる。また，これは励起光の照射によ
り熱弾性波を計測するため，試料７の熱弾性的性質をも
評価することができる。更に，上記実施例に加えて，図
２に示す如く，試料７に照射するビーム１として，Ｈｅ
−Ｎｅレーザ１からの出射光を音響光学変調器３で振動
周波数をＦｂシフトするとともに強度変調して得られる
回折光（１次回折光）を，またビーム２として非回折光
（０次光）をそれぞれ適用するようにしても良い。これ
により，ビーム１による光熱変位に加えてビーム２によ
る光熱変位がビーム１のそれと逆位相で生じることか
ら，これらの熱膨張（光熱変位）による位相差変化Ｐ
（ｔ）が増加する。その結果，光熱変位を高感度（高い
信号レベル）で測定することが可能となる。尚，上記実
施例では，Ｈｅ−Ｎｅレーザ１を用いたが，色素レーザ
等波長可変光源を用いれば，試料７の分光的評価が可能
となる。
周波数で周期的に誘起させているため，光熱変位の振幅
の検出にはロックインアンプ２１を用いている。以上の
ように，本実施例においては強度変調されたビーム１が
励起光として試料７に光熱変位を誘起させると共に、こ
の反射光の位相変化から光熱変位を検出している。即
ち，励起光と測定光とは同一であることから，試料７上
における励起光の照射位置と測定光の照射位置とにずれ
が生じるという不都合はない。更に本実施例において
は，上述の如く試料７からの反射光の位相変化から光熱
変位を計測するため，試料７の反射率変化，ビーム１，
２の強度変化等の影響を受けずに試料７の真の光熱変位
を計測することができる。その結果，高精度で試料の評
価を行うことができる。また，これは励起光の照射によ
り熱弾性波を計測するため，試料７の熱弾性的性質をも
評価することができる。更に，上記実施例に加えて，図
２に示す如く，試料７に照射するビーム１として，Ｈｅ
−Ｎｅレーザ１からの出射光を音響光学変調器３で振動
周波数をＦｂシフトするとともに強度変調して得られる
回折光（１次回折光）を，またビーム２として非回折光
（０次光）をそれぞれ適用するようにしても良い。これ
により，ビーム１による光熱変位に加えてビーム２によ
る光熱変位がビーム１のそれと逆位相で生じることか
ら，これらの熱膨張（光熱変位）による位相差変化Ｐ
（ｔ）が増加する。その結果，光熱変位を高感度（高い
信号レベル）で測定することが可能となる。尚，上記実
施例では，Ｈｅ−Ｎｅレーザ１を用いたが，色素レーザ
等波長可変光源を用いれば，試料７の分光的評価が可能
となる。
【０００９】
【発明の効果】本発明に係る光熱変位計測による試料評
価方法は，上記したように構成されているため，従来技
術の場合のように励起光の照射位置と測定光の照射位置
とがずれるといった問題を生じることはなく，また，試
料の温度変化，プラズマ密度の変化等による試料の反射
率の変化といった外乱の影響も受けず，真の熱膨張振動
を計測することができる。その結果，高精度で試料の評
価を行うことができる。
価方法は，上記したように構成されているため，従来技
術の場合のように励起光の照射位置と測定光の照射位置
とがずれるといった問題を生じることはなく，また，試
料の温度変化，プラズマ密度の変化等による試料の反射
率の変化といった外乱の影響も受けず，真の熱膨張振動
を計測することができる。その結果，高精度で試料の評
価を行うことができる。
【図１】 本発明の一実施例に係る光熱変位計測による
試料評価装置の概略構成を示す全体回路図。
試料評価装置の概略構成を示す全体回路図。
【図２】 他の実施例に係る部分回路図。
【図３】 従来のマイケルソン型レーザ干渉法により試
料の熱膨張振動を計測する手法を示す説明図。
料の熱膨張振動を計測する手法を示す説明図。
【図４】 従来の反射率計測法に基づく手法を示す説明
図。
図。
１…Ｈｅ−Ｎｅレーザ ２…偏光ビームスプリッタ ３…音響光学変調器 ４，８…ビームスプリッタ ５…ビームエキスパンダ ６…レンズ ７…試料 ９，１２…偏光板 １０，１３…光電変換器 １１，１４，１８，１９…フィルタ １５…位相シフタ １６，１７…ミキサ ２０…除算器 ２１…ロックインアンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森本 勉 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所 神戸総合技術研 究所内 (56)参考文献 特開 平１−227957（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−273048（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−73606（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 29/00 - 29/28
Claims (3)
- 【請求項１】 試料に光を照射し，それによる試料の光
熱変位を計測することにより試料を評価する方法におい
て，光の振動周波数が異なる２つの光の内少なくとも１
つを強度変調し，それぞれを上記試料の異なる位置に照
射し，上記試料からの反射光を干渉させ，この干渉光の
位相に基づいて上記試料を評価することとした光熱変位
計測による試料評価方法。 - 【請求項２】 上記２つの光の強度変調を逆位相とした
請求項１記載の光熱変位計測による試料評価方法。 - 【請求項３】 上記試料に照射される前の上記２つの光
を分岐して干渉させ，この干渉光の位相を上記試料を評
価するに際しての基準とする請求項１又は２記載の光熱
変位計測による試料評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5172948A JP3029757B2 (ja) | 1993-07-13 | 1993-07-13 | 光熱変位計測による試料評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5172948A JP3029757B2 (ja) | 1993-07-13 | 1993-07-13 | 光熱変位計測による試料評価方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0727746A JPH0727746A (ja) | 1995-01-31 |
| JP3029757B2 true JP3029757B2 (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=15951328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5172948A Expired - Fee Related JP3029757B2 (ja) | 1993-07-13 | 1993-07-13 | 光熱変位計測による試料評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3029757B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102980520A (zh) * | 2012-12-04 | 2013-03-20 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 双脉冲数字散斑瞬态测量装置及方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07311182A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-11-28 | Kobe Steel Ltd | 光熱変位計測による試料評価方法 |
| US5790252A (en) * | 1995-09-27 | 1998-08-04 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Method of and apparatus for determining residual damage to wafer edges |
| DE19837889C1 (de) * | 1998-08-20 | 2000-12-21 | Siemens Ag | Thermowellen-Meßverfahren |
| JP4787067B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2011-10-05 | 株式会社神戸製鋼所 | 熱物性測定装置、熱物性測定方法 |
| JP5095844B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2012-12-12 | 株式会社神戸製鋼所 | 熱物性測定装置および熱物性測定方法 |
| KR100817615B1 (ko) * | 2005-09-20 | 2008-03-31 | 한국원자력연구원 | 물체의 결함을 측정하기 위한 레이저 유도 초음파 검사장치 및 그 구현 방법 |
| JP5249975B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2013-07-31 | 三菱重工業株式会社 | レーザ超音波探傷装置 |
| CN110132898B (zh) * | 2019-06-10 | 2021-12-28 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 应用干涉法支撑梁的材料弹性模量测量系统 |
-
1993
- 1993-07-13 JP JP5172948A patent/JP3029757B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102980520A (zh) * | 2012-12-04 | 2013-03-20 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 双脉冲数字散斑瞬态测量装置及方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0727746A (ja) | 1995-01-31 |
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