JPH01124945A - 荷電ビーム装置 - Google Patents

荷電ビーム装置

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JPH01124945A
JPH01124945A JP28482187A JP28482187A JPH01124945A JP H01124945 A JPH01124945 A JP H01124945A JP 28482187 A JP28482187 A JP 28482187A JP 28482187 A JP28482187 A JP 28482187A JP H01124945 A JPH01124945 A JP H01124945A
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JP
Japan
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current
ion
sample
charged
probe
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Pending
Application number
JP28482187A
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English (en)
Inventor
Hachiro Shimayama
島山 八郎
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は荷電ビーム装置に関し、更に詳しくは試料に照
射されるビーム電流を連続して測定することができるよ
うにした荷電ビーム装置に関する。
[従来の技術] 電子ビーム描画装置又は集束イオンビーム装置等の荷電
ビーム装置は、荷電ビーム源から出射されたビーム(?
’ff子ビーム又はイオンビーム)を集束・偏向して試
料(又は材料)上に所定のパターンを描画するようにな
っている。第3図は、集束イオンビーム装置の従来構成
例を示す図でイオンビ−プ電流を測定している状態を示
している。
加速電圧発生回路1によりエミッタ2に高電圧(加速電
圧) VA c cが印加され、更に加速電圧VACC
と正極性側を共通電位とする引出し電圧発生回路3によ
り引出し電極4に引出し電圧Vε×を印加する。この状
態で、エミッタ2から出射されたイオンは、引出し電極
4の方に引き寄せられ、集束レンズ5により集束され、
イオンビームBiとして出射される。
出射されたイオンビームBiは、マスフィルタ6により
不要イオンが除去された後、対物レンズ7により集束さ
れ、ファラデーカップ8を照射する。ファラデーカップ
8の位置には、通常は試料が請かれ、該試料上に所定の
パターンが描画される。このような実際のビーム描画を
行う時には、対物レンズ7とファラデーカップ8との間
に配されたビーム3iを2次元方向に走査するための曜
内電極9によりイオンビームBiの偏向を行う。
ファラデーカップ8により検出されたプローブ電流1p
は、増幅器10により増幅された後、メータ11で表示
される。オペレータは、このメータ11の指示値を観な
がら、プローブ電流1pが一定になるような定電流制御
を行う。試料上に高品質のパターンを描画するためには
、試料に照射されるイオンプローブ電流が常に一定であ
ることが必要となる。このためイオンプローブ電流が一
定になるような制御が行われる。定電流制御の方法とし
ては、以下に示すような3通りがある。
■ 第1の方法 オペレータが、メータ11の指示を見ながら指示値が一
定となるように分圧回路12を調整するものである。こ
の時、スイッチSWの共通接点はB接点と接続されてい
る。分圧回路12の分圧出力(電流設定値に対応してい
る)は、差動増幅器13の一方の入力(正入力)に入っ
ている。差動増幅器13は、ここでは出力と他方の入h
(負入力)が接続されて単なるバッファとなっている。
従って、電流設定値は、そのままV/F変換器14に入
る。
V/F変換器14は、入力電圧に応じた周波数信号を発
生する。そして、このV/F変換器14の出力は、光送
信器15に入って光信号に変換された後、光ファイバ1
6によって光受信器17に伝送される。光受信器17は
光ファイバ16からの光信号を電気信号(周波数信号)
に変換する。
この周波数信号は、続<F/V変換器18により元の直
流信号に変換された後、引出し電圧発生回路3に、電圧
可変の1liljllll信号として印加される。
この結果、引出し電圧発生回路3の発生電圧は変化し、
引出し電極4に印加される引出し電圧Vtxが変化する
。これにより、エミッタ2から出射されるイオン電流の
量が変化する。このイオン電流の変化は、プローブ電流
の変化となって表われメータ11の表示が変わる。オペ
レータは、このメータ11の表示を観て必要に応じて更
に分圧回路12を調整する。
■ 第2の方法 エミッタ2に直列に接続されたトータルエミッション電
流検出用抵抗19で検出されたトータルエミッション電
流が一定になるようにフィードバックIIJ ’tEす
るものである。この時のスイッチSW−の共通接点は、
C接点と接続されている。そして、この場合もトータル
エミッション電流の目標値は、分圧回路12で設定され
る。エミッタ2からイオンビームBiが出射されると、
電流検出抵抗19の両端には、エミッション電流に応じ
た電圧が発生する。この電圧は、v/F変換器20に入
プて周波数信号に変換され、光送信器21に入って光信
号に変換される。この光信号は、光ファイバ22によっ
て光受信器23に伝送される。該光受信器23は、光フ
ァイバ22からの信号を電気信号(周波数信号)に変換
する。この周波数信号は、続<F/V変換器24に入っ
て周波数に応じた直流電圧に変換される。そして、この
F/V変換器24の出力は差動増幅器13の負入力に入
る。
差動増幅器13は、エミッション電流目標値(分圧回路
12の出力)とエミッション’;amp定値(F/V変
換器24の出力)との差分に応じた信号を出力する。こ
の差分信号は、V/F変換器14→光送信器15→光フ
ァイバ16→光受信器17→F/V変換器18を経て引
出し電圧発生回路3にtlNID信号として与えられる
。この結果、引出し電極4に印加する引出し電圧VEX
が変化して工°ミッション電流が変化することは、第1
の方法について述べたとおりである。このようにして、
図に示すネガティブフィードバック回路はエミッション
電流測定値が目標値に等しくなるまで引出し電圧VEX
を変化させる。この結果、トータルエミッション電流は
一定値に保たれることになる。
■ 第3の方法 引出し電極4から集束レンズ5の方に流れるイオン1!
流をイオン電流検出器25で検出し、このイオン電流が
一定になるようにフィードバック制御するものである。
この時のスイッチ13の共通接点はA接点と接続されて
いる。この場合もイオン電流目標値は、分圧回路12で
設定される。そして、図に示すフィードバック回路は、
イオン電流側定値がイオン電流目標値に等しくなるよう
に負帰還制御を行う。この場合において、イオン電流検
出器25で検出された信号は増幅器26で増幅された後
、差動増幅器13に入っている。そして、増幅器26の
出力は、メータ27でモニタできるようになっている。
[発明が解決しようとする問題点] イオンプローブ電流が常に・一定になるような制御が可
能となるためには、先ずイオンプローブ電流を正確に測
定することが前提となる。前述したように、集束イオン
ビーム装置で試料に照射されるイオンプローブ電流を測
定する方法としては、前述したように■試料位置にファ
ラデーカップ8を配置して直接イオンプローブ電流を検
出し、メータ11で表示する方法と、■電流検出抵抗1
9でトータルエミッション電流を検出する方法及び、■
イオンTi流検出器25でイオン電流を検出しメータ2
7で表示する方法とがある。前者■は、イオンプローブ
電流を直接測定しているので、理想的な測定法といえる
。しかしながら、試料にイオンビームを照射中(例えば
露光中)には、ファラデーカップを入れることができな
いので、連続してイオンプローブ電流を測定することが
できないという不具合がある。
これに対し、侵者の■、■の方法はイオンビーム照射中
でも連続してイオン電流を検出することができる。しか
しながら、試料に直接照射される電流を測定していない
ため、測定値と、実際のイオンプローブ電流との間にず
れが生じることがある。このずれのために、正確な電流
制御が行えないという不具合がある。例えば、集束レン
ズ5を通過した後に不要イオンを除去するためのマスフ
ィルタ6が配置されているので、液体金属イオン源とし
て、ALI −8i−3e等を使用した時、イオンビー
ム電流を一定にしてもイオンプローブ電流は長時間一定
にならないことがある。例えば、マスフィルタ6でBe
のみを試料に照射しようとする場合、AU −8i−B
eのイオン電流比が変動するとトータルのイオン電流が
一定であってもプローブ電流は変化してしまう。
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであって
、その目的は試料に照射されるプローブ電流を、実際の
ビーム照射時においても連続して、しかも正確に測定す
ることができる荷電ビーム装置を実現することにある。
[問題点を解決するための手段] 前記した問題点を解決する本発明は、荷電ビーム源から
出射したビームを集束・偏向して試料に照射する荷電ビ
ーム装置において、 荷電ビーム源と試料との間に上下2段以上の荷電ビーム
電流検出器を配訝し、これら荷電ビーム電流検出器の出
力を差動増幅器に入れ、その差分出力が試料に照射され
るプローブ電流に等しくなるようにしたことを特徴とし
ている。
[作用] 荷電ビーム源と試料との間に例えば、上下2段の荷電ビ
ーム電流検出器を配置し、この2段の荷電ビーム電流検
出器の差分がプローブ電流と等しくなるように上段の荷
電ビーム電流検出器出力を調整する。このような構成と
することによって、実際の荷電ビーム描画時においても
荷電ビームのプローブ電流を連続して測定することがで
きるので、プローブ電流が一定となるような定電流制御
も可能となる。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
第1図は、本発明の一実施例を示す要部構成図である。
第3図と同一のものは、同一の符号を付して示す。図に
おいて、31.32はそれぞれマスフィルタ6の上下に
配された上下2段のイオンビーム電流検出器である。3
3は上段のイオンビーム電流検出器31の出力を増幅す
る増幅器、34は下段のイオンビーム電流検出!132
の出力を増幅する増幅器、35はこれら増幅器33.3
4の出力の差を求める差動増幅器である。このように構
成された装置の動作を説明すれば、以下のとおりである
引出し電極4を通過したイオンビームBiのイオンビー
ム電流をItlとする。このイオンピ−ム3iは、集束
レンズ5で集束された後、上段のイオンビーム電流検出
器31を照射する。このイオンビーム電流検出器31は
、図に示すように円板状になっており、真中にイオンビ
ーム通通用の穴があいたアパーチャとなっている。下段
のイオンビーム電流検出器32についても同様の構成と
なっている。
このようなアパーチャ形状のイオンビーム電流検出器3
1の穴を通過するイオン電流を182とすると、該イオ
ンビーム電流検出器31で検出される電流は(181−
rsz>となる。この検出された電流は穴を通過するイ
オン電流182に比例するものとする。即ち、 II t−IS 2−Kt  Is 2  (Ktは定
数)・・・(1) が成り立つものとする。
次に上段のイオンビーム電流検出器31を通過したイオ
ンビームは、マスフィルタ6によって不要イオンが除去
される。不要イオンが除去されたイオンビームは下段の
イオンビーム電流検出器32を照射する。そして、該イ
オンビーム電流検出器32の穴を通過したイオンビーム
がファラデーカップ(又は試料)8を照射する。この時
、下段のイオンビーム電流検出器32の出力電流をi。
とし、プローブ電流をIt)とすると、■0は次式1式
% そこで1.上段のイオンビーム電流検出器31の検出電
流に1182がII2と等しくなるように増幅器33の
ゲインに2を調節してやる。つまり、Ia 2−に2 
 (KIIs 2 )=Kz  (Ill−1112)
    ・・・(3)が成り立つようにゲインに2を調
節してやる。差動増幅器35の出力■−は、 1M=に2  (1st−II2 )−1゜−Iaz−
Io      −(3)式より−IC・・・(2)式
より となり、そのままプローブ電流を示すことになる。
従って、本発明によれば、試料位置にプローブ電流検出
器を配置しなくても実際のビーム照射時においても連続
してプローブ電流を検出することができ、プローブ電流
が一定になるような定電流制御を行うことができる。
第2図は、本発明の一実施例を示す構成ブロック図であ
る。第1図、第3図と同一のものは、同一の符号を付し
て示す。図に示す実施例は、第3図に示す従来例におい
てスイッチSWのA接点に接続されるイオン電流検出器
25の代わりに、差動増幅器35の出力を接続するよう
にしたものである。それ以外の構成は、全て第3図に示
す従来例と同じである。即ち、スイッチSWの共通接点
がA接点と接続された場合には試料8に照射されるプロ
ーブ電流が一定になるようなフィードバックIIJII
lが行われ、B接点と接続された場合には分圧回路12
によるマニュアル制御が行われ、C接点と接続された場
合にはトータルエミッション電流が一定になるようなフ
ィードバック制御が行われる。それぞれの動作について
は、第3図について詳細に説明したものと同一であるの
で、省略する。
上述の説明では、荷電ビーム装置として集束イオンビー
ム装置について説明した。しかしながら、本発明はこれ
に限るものではなく電子ビーム描画装置や電子顕微鏡等
の電子ビーム装置であってもよい。
尚、前記実施例では上段の荷電ビーム電流検出器の出力
を調整するようにしたが、下段の電荷ビーム電流検出器
の出力を調整するようにしてもよい。又、荷電ビーム源
と試料との間の上下方向にマスフィルタを挾んで2段以
上の荷電ビーム電流検出器を配置し、マスフィルタの上
方に配置されたものの何れかと、下方に配置されたもの
の何れかの差分が10−ブ電流と等しくなるようにして
もよい。
[発明の効果] 以上、詳細に説明したように、本発明によれば荷電ビー
ム源と試料との間に上下2段以上の荷電ビーム電流検出
器を配置して、これら荷電ビーム74流検出器の差分が
試料に照射されるプローブ電流に等しくなるようにする
ことにより、実際のピ−ム照射時においても連続して、
しかも正確に測定することができる荷電ビーム装置を実
現することができ、実用上の効果が大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す要部構成図、第2図は
本発明の一実施例を示す構成ブロック図、第3図は従来
装置の構成例を示す図である°。 1・・・加速電圧発生回路 2・・・エミッタ 3・・・引出し電圧発生回路 4・・・引出し電極    5・・・集束レンズ6・・
・マスフィルタ   7・・・対物レンズ8・・・ファ
ラデーカップ(又は試料)9・・・偏向電極     
10・・・増幅器31.32・・・イオンビーム電流検
出器33.34・・・増幅器  35・・・差動増幅器
特許出願人  日  本  電  子  株  式  
会  社代  理  人   弁  理  士   井
  島  藤  治外1名

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 荷電ビーム源から出射したビームを集束・偏向して試料
    に照射する荷電ビーム装置において、荷電ビーム源と試
    料との間に上下2段以上の荷電ビーム電流検出器を配置
    し、これら荷電ビーム電流検出器の出力を差動増幅器に
    入れ、その差分出力が試料に照射されるプローブ電流に
    等しくなるようにしたことを特徴とする荷電ビーム装置
JP28482187A 1987-11-10 1987-11-10 荷電ビーム装置 Pending JPH01124945A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28482187A JPH01124945A (ja) 1987-11-10 1987-11-10 荷電ビーム装置

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JP28482187A JPH01124945A (ja) 1987-11-10 1987-11-10 荷電ビーム装置

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JPH01124945A true JPH01124945A (ja) 1989-05-17

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ID=17683444

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28482187A Pending JPH01124945A (ja) 1987-11-10 1987-11-10 荷電ビーム装置

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JP (1) JPH01124945A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002050314A (ja) * 2000-08-01 2002-02-15 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002050314A (ja) * 2000-08-01 2002-02-15 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置

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