KR0152268B1 - 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사방법 및 검사장치 - Google Patents

집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사방법 및 검사장치

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KR0152268B1
KR0152268B1 KR1019900017003A KR900017003A KR0152268B1 KR 0152268 B1 KR0152268 B1 KR 0152268B1 KR 1019900017003 A KR1019900017003 A KR 1019900017003A KR 900017003 A KR900017003 A KR 900017003A KR 0152268 B1 KR0152268 B1 KR 0152268B1
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Abstract

본원 발명은 집속이온빔 장치에 있어서의 애퍼춰검사방법 및 검사장치, 특히 이온빔경(俓)을 제한하기 위한 리미팅애퍼춰의 개구부경을 측정하는 방법 및 장치에 관한 것으로서, 본원 방명 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사방법 및 검사장치는 이온빔을 발생시키는 이온원과, 이온빔의 빔경을 제한하기 위한 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서렌즈와, 이온빔을 편향하기 위한 전계(電界)를 발생시키는 모니터전극과, 상기 모니터 전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 모니터애퍼춰와, 상기 모니터 애퍼춰를 통과한 이온빔을 집속시키는 대물렌즈를 구비한 집속이온빔장치에 있어서, 상기 모니터전극에 전압을 인가하여 이온빔을 편향했을 때에 상기 모니터애퍼춰를 흐르는 전류를 관측하고, 이 전류의 편향량에 대한 변화상태에 의거하여 상기 리미팅애퍼춰의 개구부경을 구하는 것이다.

Description

집속이온빔장치에 있어서의 애퍼취검사방법 및 검사장치
제 1도는 본원 발명의 일실시예에 관한 검사방법을 실시하기 위한 기본구성도.
제 2도는 제1도에 도시한 집속이온빔장치의 사시도.
제 3도는 일반적인 이온빔의 단면의 이온분포를 나타낸 그래프.
제 4도는 본원 제1의 발병의 방법의 원리를 설명하는 그래프.
제 5도는 본원 제2의 발명의 방법의 원리를 설명하는 그래프.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 이온원 2 : 연출전극
3 : 가속전극 4 : 리미팅애퍼춰
5 : 콘덴서렌즈 6 : 모니터전극
7 : 모니터애퍼춰 8 : 대물렌즈
9 : 편향전극 10 : 시료
11 : CPU 12 : D/A변환기
13 : 증폭기 14 : 증폭기
15 : A/D변환기 16 : CRT
17 : 검출기 18 : 카운터
본원 발명은 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰 검사방법 및 검사장치, 특히 이온빔경(經)을 제한하기 위한 리미팅애퍼춰의 개구부경을 측정하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
집속이온빔창치는 이온빔을 집속한 상태에서 조사하는 장치이며, 웨이퍼나 포토마스크의 패턴묘화나 패턴결함의 수정등 반도체 리소그래픽프로세스에 널리 사용되고 있다. 포토마스크상의 백결함(白缺陷)에 대해서는 차광성부재의 형성에 의해 수정을 행할 수 있으며, 흑결함(黑缺陷)에 대해서는 차광성부재의 제거에 의해 수정을 행할 수 있다. 반도체집적회로에 사용하는 포토마스크의 패턴을 묘화하거나 수정하거나 하는 경우, 근년에는 서브미크론오더의 정밀도로 이온빔을 조사(照射)하는 기술이 요구되고 있다. 따라서, 집속이온빔장치는 항상 소망의 정밀도로 동작하도록 관리해두지 않으면 안 된다.
이온빔의 정밀도에 크게 영향을 미치는 부품을 리미팅애퍼춰이다. 이 리미팅애퍼춰는 이온원으로부터 발생한 이온빔경을 제한하는 기능을 가지고 있다. 이 때문에, 리미팅애퍼춰의 개구부 주변에는 항상 이온빔에 의한 스퍼터링을 받아, 경시변화에 의해 개구부경은 점차 커지게 된다. 따라서, 이 집속이온빔장치를 보수관리하는데는 리미팅애퍼춰를 검사하고, 개구부경이 소망의 값으로 되어 있는가를 확인할 필요가 있다.
그러나, 종래부터 행해지고 있는 리미팅애퍼춰의 검사는 매우 시간과 노력이 드는 것이었다. 장치의 기구상, 리미팅애퍼춰를 장치로부터 분리하거나, 장착하는 작업은 매우 곤란하며 시간이 걸리는 작업이기 때문에, 정기적으로 리미팅애퍼춰를 분리하여 개구부경의 상태를 검사하는 것은 매우 작업효율이 나쁜 것이다.
그래서, 본원 발명은 집속이온빔장치에 있어서의 리미팅애퍼춰의 검사를 용이하게 행할 수 있고, 장치의 보수관리의 작업효율을 개선할 수 있는 검사방법 및 검사장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
(1) 본원 제1의 발명은 이온빔을 발생시키는 이온원과, 이온빔의 빔경을 제한하기 위한 개구부를 가지는 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서렌즈와, 상기 리미팅애퍼춰에 의해 빔경이 제한된 이온빔을 편향하기 위한 전계(電界)를 발생시켜, 광축맞춤을 행하는 모니터전극과, 이 모니터전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 모니터애퍼춰와, 모니터애퍼춰를 통과한 이온빔을 집속시키는 대물렌즈와를 구비하는 집속이온빔장치에 있어서, 모니터전극에 전압을 인가하여 이온빔을 편향했을 때에, 모니터애퍼춰를 흐르는 전류를 관측하고, 이 전류의 편향량에 대한 변화상태에 따라서 리미팅애퍼춰의 개구부경을 구하도록 한 것이다.
(2) 본원 제2의 발명은 이온빔을 발생시키는 이온원과,이온빔의 빔경을 제한하기 위한 개구부를 가지는 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서렌즈와, 상기 리미팅애퍼춰에 의해 빔경이 제한된 이온빔을 편향하기 위한 전계를 발생시켜, 광축맞춤을 행하는 모니터전극과, 이 모니터전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 개구부를 가지고, 상기 광축맞춤이 정확하게 행해졌는가를, 전류를 관측함으로써 검사가능한 모니터애퍼춰와, 모니터애퍼춰를 통과한 이온빔을 집속시키는 대물렌즈와를 구비한 집속이온빔장치에 있어서, 모니터전극에 전압을 인가하여 이온빔을 편향했을 때에, 대물렌즈를 통과한 이온빔이 시료(試料)에 충돌하여 발생하는 2차 하전입자를 관측하고, 이 2차 하전입자의 강도의 편향량에 대한 변화상태에 따라서 리미팅애퍼춰의 개구부경을 구하도록 한 것이다.
(1) 본원 제1의 발명에 의하면, 모니터애퍼춰에 흐르는 전류가 관측된다. 이온빔이 모니터애퍼춰의 개구부의 중심을 통과하고 있는 경우에는 관측되는 전류치는 이론적으로 제로가 된다. 그러나, 이온빔을 서서히 편향해가면, 모니터애퍼춰의 일부에 이온빔의 일부가 조사되게 되고, 전류가 흐르기 시작한다. 이리하여 관측되는 전류치는 편향량과 함께 증가해 간다. 이윽고, 전이온빔이 모니터애퍼춰에 조사되게 되면 관측되는 전류치는 최대치가 되어 포화한다. 따라서, 관측되는 전류치의 상승부분에 상당하는 이온빔의 편향량이 이온빔경, 즉 리미팅애퍼춰의 개구부경에 대응하게 된다. 이와 같이, 본 방법에 의하면 모니터애퍼춰에 흐르는 전류의 측정이라고 하는 간단한 수단으로 리미팅애퍼춰의 검사가 가능하게 된다.
(2) 본원 제2의 발명은 상술한 제1의 발명에 있어서, 모니터애퍼춰전류를 관측하는 대신, 시료로부터 2차하전입자강도를 관측하도록 한 것이다. 이온빔을 서서히 편향해가면, 모니터애퍼춰의 일부에 이온빔의 일부가 조사되게 되고, 대물렌즈를 통과하여 시료에 조사되는 이온빔량이 감소해 간다. 이윽고, 전이온빔이 모니터애퍼춰에 조사되게 되면 시료에 조사되는 이온빔 밀도는 제로가 된다. 따라서, 관측되는 2차하전입자강도의 하강부분에 상당하는 이온빔의 편향량이 이온빔경, 즉 리미팅애퍼춰의 개구부경에 대응하게 된다. 이와 같이, 본 방법에 의하면 2차전자강도의 측정이라고 하는 간이한 수단으로 리미팅애퍼춰의 검사가 가능하게 된다.
[집속이온빔장치]
이하, 본원 발명을 도시한 실시예에 의거하여 설명한다.
제1도는 본원 발명의 일실시예에 관한 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사방법을 도시한 장치구성도이다. 도면의 우측의 각 구성요소는 집속이온빔장치를 구성하는 기본요소이며, 이 부분의 사시도를 제2도에 도시한다. 그리고, 제2도에서는 일부의 구성요소에 대해서는 절결된 상태를 도시하였다. 또, 제1도 및 제2도 모두 파선은 이온빔의 경로를 표시하고 있다.
면저, 제1도의 우절반부의 도면, 및 제2도를 참조하면서, 일반적인 집속이온빔장치의 구성을 설명한다. 이온빔은 이온원(1)에서 발생된다. 발생한 이온빔은 인출전극(2)으로 도면의 아래쪽으로 인출되며, 가속전극(3)에 의해서 가속된다. 따라서, 인출전극(2) 및 가속전극(3)은 각각 소정의 전위로 유지되어 있다. 가속된 이온빔은 리미팅애퍼춰(4)를 통과한다. 리미팅애퍼춰(4)의 중앙에는 개구부(4a)가 형성되어 있으며, 이온빔의 직경은 이 개구부(4a)의 직경에 의해서 제한된다. 리미팅애퍼춰(4)를 통과한 이온빔은 콘덴서렌즈(5)에 있으서 평행빔으로 된다. 이어서, 모니터전극(6)사이를 지나, 모니터애퍼춰(7)의 개구부(7a)를 통과하고, 마지막으로 대물렌즈(8)에 의해서 집속되어 편향전극(9)을 통과하여 시료(10)상에 조사된다. 여기서, 모니터전극(6)은 이온빔의 광축맞춤을 행하기 위한 것이다. 즉, 모니터전극(6)에 전압을 인가하여 전계를 발생시킴으로써 이온빔의 중심축을 적정한 위치로 조정할 수 있다. 또, 모니터애퍼춰(7)는 모니터전극(6)에 의한 광축맞춤이 적정하게 행해졌는가를 검사하는 기능을 가지며, 여기에 흐르는 전류를 관측함으로써 통과하는 이온빔의 광축의 위치에 관한 정보를 얻을 수 있다. 한편, 편향전극(9)은 이온빔을 주사하기 위해 편향시키는 기능을 가진다. 즉, 편향전극(9)에 전압을 인가함으로써 이온빔을 시료(10)의 표면상에서 2차원적으로 주사할 수 있다.
또한, 상술한 각 구성요소는 집속이온빔장치의 기본적인 구성요소이며, 실제의 장치에서는 이 이외에도 여러 가지 구성요소가 부가되어 있다.
본원 발명의 요지는 이와 같은 구성을 가진 집속이온빔장치에 있어서, 리미팅애퍼춰(4)의 개구부(4a)의 직경을 측정하는데 있다.
이하, 두가지 실시예에 대해 설명한다.
[실시예1]
이것은 본원 제1의 특징에 대응하는 실시예이며, 모니터애퍼춰(7)에 흐르는 전류측정에 의해 리미팅애퍼춰(4)의 검사를 행하는 것이다. 이 검사처리를 통괄제어하기 위해, 제1도에 도시한 바와 같이 CPU(11)가 사용된다. CPU(11)로부터는 D/A변환기(12)를 통해서 소정의 전압이 출력되며, 이 전압은 증폭기(13)로 증폭되어서 모니터전극(6)에 인가된다. 따라서, CPU(11)는 모니터전극(6)에 인가하는 전압을 제어함으로써 이온빔을 자유로이 편향시킬 수 있다.
한편, 모니터애퍼춰(7)의 일단에는 도선이 배설되어 있으며, 증폭기(14) 및 A/D변환기(15)를 통해서 CPU(11)에 접속되어 있다. 이온빔이 모니터애퍼춰(7)에 조사되면 도선을 통해서 모니터애퍼춰(7)에 전류가 흐른다. 이 전류치는 A/D변환기(15)에서 디지탈 신호로 변환되고, CPU(11)에 입력된다. CPU(11)에는 CRT(16)가 접속되어 있으며, 측정결과는 이 CRT(16)에 표시된다. 또한, 검출기(17) 및 카운터(18)는 다음의 실시예에서 설명되는 구성요소이며, 본 실시예어서는 사용하지 않는다.
이 측정계에 의한 측정원리는 다음과 같다. 제3도는 일반적인 이온빔의 단면이온분포강도를 도시한 그래프이다. 횡축은 빔중심위치로부터의 분포거리를 표시하며, 종축은 이온의 분포강도를 표시한다. 이와 같이 빔의 주변부에서는 분포강도가 서서히 감소하는 가우스분포를 취하는 것이 일반적이다. 지금, 모니터전극(6)에의 인가전압을 서서히 변화시켜 이온빔을 편향시켜 갔다고하면, 모니터애퍼춰(7)에는 제4도의 그래프에 도시한 바와 같은 전류가 관측된다. 여기서, 횡축은 모니터전극전압, 종축은 애퍼춰전류이며, 이온빔이 모니터애퍼춰(7)의 중심을 통과하도록 조정했을 때의 모니터전극전압을 c로 하고 있다. 지금 여기서, 모니터전극전압을 값 c로부터 서서히 높여가면, 이온빈이 서서히 편향하고, 그 일부가 모니터애퍼춰(7)에 걸리게 된다. 이와 같이, 이온빔이 모니터애퍼춰(7)에 조사되면, 애퍼춰전류가 흐르기 시작한다. 다시 모니터전극전압을 높여서 편향량을 증가시켜 가면, 모니터애퍼춰(7)에 조사되는 이온빔량이 증가하고, 애퍼춰전류는 다시 증가해 간다. 그리고, 전체이온빔이 모니터애퍼춰(7)에 조사되기에 이르면, 애퍼춰전류는 최대치가 되어 포화된다. 모니터 전극전압을 값 c로부터 서서히 저하시낀 경우에도 대략 같은 커브의 그래프가 얻어진다. 따라서, 애퍼춰전류가 흐르기 시작한 시점으로부터 포화최대치에 이르는 시점까지의 편향량은 이온빔의 경에 대응한다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 즉, 제4도에 도시한 그래프의 상승부분의 횡축방향의 폭이 이온빔경에 대응하게 된다. 단, 제3도에 도시한 바와 같이, 이온빔의 이온분포강도는 그 주변부에 있어서 완만하게 감소하므로, 제4도에 도시한 애퍼춰전류의 상승커브도 완만한 것이된다. 그래서, 본 실시예에서는 애퍼춰전류량의 포화최대치를 100%로 했을 때, 10% - 90%에 이르는 상승커브의 폭 d을 이온빔경을 표시하는 목적의 검출치로 하고 있다. 이 이온빔경은 리미팅애퍼춰(4)의 개구부(4a)에 따라 정해지는 것이므로, 이 검출지 d는 리미팅애퍼워(4)의 개구부(4a)의 직경을 표시하는 것이된다. 제4도의 그래프에 도시한 바와 같이, 이 검출치 d는 전압치를 단위로 하여 얻어지는 것이며, 리미팅애퍼춰(4)의 개구부(4a)의 직경의 절대치를 부여하는 것은 아니다. 그러나, 집속이온빔장치의 보수의 목적으로부터 보면, 개구부경이 어느 정도 경시변화했는가를 알 수 있으면 충분하며, 전압치를 가지고 개구부경의 검출치로 해도 아무런 지장도 없다.
이상의 원리에 의거한 측정이 CPU(11)에 의해서 자동적으로 행해진다. 즉, CPU(11)는 D/A변환기(12)에 대하여 인가전압치를 서서히 변화시키도록 지시하고, 각 전압치마다 A/D변환기 (15)로부터 애퍼춰전류치를 입력하여 제4도에 도시한 바와 같은 그래프를 메모리상에 작성한다. 또한, 실제로는 제4도의 횡축에 표시한 전압치 a로부터 서서히 전압을 증가시켜 가서 전압치 b에 이르기까지 차례차례 애퍼춰전류를 입력하도록 하고 있다. 그리고, 예를들면 10% - 90%의 범위에 상당하는 커브의 폭 d을 연산에 의해 구하고, 이것을 CRT(16)에 표시한다. 따라서, 오퍼레이터는 종래와 같이 리미팅애퍼춰(4)를 장치로부터 분리하여 검사를 행할 필요는 없으며, CPU(11)에 대하여 검사개시의 지시를 부여하는 것만으로도 된다.
[실시예2]
이어서, 본원 제2의 발명에 대응하는 실시예를 설명한다.
이 실시예에 있어서의 측정원리는 상술한 실시예와 대략 같다. 단지, 모니터애퍼춰에 흐르는 전류를 측정하는 대신, 시료로부터의 2차하전입자강도의 측정을 행하는 점이 다르다. 이 실시예에서는 제1도에 도시한 바와 같이 시료(10)로부터 발생하는 2차전자를 검출하는 검출기(17)와, 2차전자를 계수하는 카운터(18)를 준비하고 있다. 검출된 2차전자강도는 CPU(11)에 입력된다. 또한, 2차전자를 검출하는 대신에 2차이온을 검출해도 되고, 토탈이온(2차이온과 반사한 1차이온)을 검출해도 된다. 본 명세서에서는 이하 2차 하전입자라는 일반적인 말을 사용하며, 이것은 2차전자, 2차이온 및 반사한 1차이온을 포함하는 의미이다.
이와 같은 계(系)로 전극(6)에의 인가전압을 서서히 높여서 이온빔을 편향시켰다고 하면, 검출기(17)로부터는 제5도의 그래프레 도시한 바와 같은 2차하전입자가 검출된다. 여기서, 횡축은 모니터전극전압, 종축은 2차하전입자강도이다. 즉, 모니터적극전압이 c의 상태에서 전압을 서서히 높여가면(또는 저하시키면), 이온빔이 서서히 편향하고, 그 일부가 모니터애퍼춰(7)에 걸리게 된다. 이와 같이 이온빔이 모니터애퍼춰(7)에 조사되면, 시료(10)에 조사되는 빔량은 감소하고, 검출되는 2차하전입자강도는 감소하게 된다. 그리고, 전체이온빔이 모니터애퍼춰(7)에 조사되게되면, 관측되는 2차하전입자는 이론적으로는 제로가 된다. 따라서, 2차하전입자강도가 하강하기 시작한 시점으로부터 제로가 되는 시점까지의 편향량은 이온빔경에 대응한다는 것을 이해할 수 있다. 즉, 제5도에 도시한 그래프의 하강부분의 횡축방향의 폭이 이온빔경에 대응하게 된다. 본 실시예에서도 2차하전입자강도의 최대치를 100%로 했을 때, 90% - 10%에 이르는 하강커브의 폭 d을 이온빔경을 표시하는 목적의 검출치로 하고 있다.
이상의 원리에 의거한 측정이 CPU(11)에 의해서 자동적으로 행해진다. 즉, CPU(11)는 D/A변환기(12)에 대해서 인가전압치를 서서히 변화시키도록 지시를 부여하고, 각 전압치마다 카운터(18)로부터 2차전자강도치를 입력하여, 제5도에 도시한 그래프를 메모리상에 작성한다. 또한, 실제로는 제5도의 횡축에 표시하는 전압치 a로부터 서서히 전압을 증가시켜가며, 전압치 b에 이르기까지 차례로 카운터(18)의 출력을 입력하도록 하고 있다. 그리고, 예를들면 90% - 10%의 범위에 상당하는 커브의 폭 d을 연산에 의해서 구하여, 이것을 CRT(16)에 표시한다.
이상, 본원 발명을 두가지 실시예에 의거하여 설명하였으나, 본원 발명은 이들 실시예에서만 한정되는 것은 아니며 여러양태로의 실시가 가능하다. 예를들면 상술한 실시예에서는 이온빔을 1방향으로만 편향시키고 있으나, 여러 가지 방향으로 편향시켰을 때의 측정치를 사용하면, 리미팅애퍼춰의 개구부의 단면형상을 얻는 것도 가능하다. 또한, 본원 발명은 이온빔을 발생시키는 장치만이 아니라 전자빔을 발생시키는 장치에도 적용가능하다.
(1) 본원 제1의 발명에 의하면, 집속이온빔장치의 리미팅애퍼춰의 검사를 이온빔을 편향시키면서 모니터애퍼춰에 흐르는 전류를 관측함으로써 행하도록 하였으므로, 검사작업이 매우 간단하게 된다.
(2) 본원 제2의 발명에 의하면, 집속이온빔장치의 리미팅애퍼춰의 검사를 이온빔을 편향시키면서 2차하전입자강도를 관측함으로써 행하도록 하였으므로, 검사작업이 매우 간단하게 된다.

Claims (4)

  1. 이온빔을 발생시키는 이온원과, 이온빔의 빔경을 제한하기 위한 개구부를 가지는 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서렌즈와, 상기 리미팅애퍼춰에 의해 빔경이 제한된 이온빔을 편향하기 위한 전계(電界)를 발생시켜, 광축맞춤을 행하는 모니터전극과, 상기 모니터전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 개구부를 가지고, 상기 광축맞춤이 정확하게 행해졌는가를 , 전류를 관측함으로써 검사가능한 모니터애퍼춰와, 상기 모니터애퍼춰를 통과한 이온빔를 집속시키는 대물렌즈와를 구비하는 집속이온빔장치에 있어서, 상기 모니터전극에 전압을 인가하여 이온빔을 편향했을 때에, 상기 모니터애퍼춰를 흐르는 전류를 관측하고, 이 전류의 편향량에 대한 변화 상태에 따라서 상기 리미팅애퍼춰의 개구부경을 구하는 것을 특징으로 하는 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사방법.
  2. 이온빔을 발생시키는 이온원과, 이온빔의 빔경을 제한하기 위한 개구부를 가지는 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서렌즈와, 상기 리미팅애퍼춰에 의해 빔경이 제한된 이온빔을 편향하기 위한 전계를 발생기켜, 광축맞춤을 행하는 모니터전극과, 상기 모니터전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 개구부를 가지고, 상기 광축맞춤이 정확하게 행해졌는가를, 전류를 관측함으로써 검사가능한 모니터애퍼춰와, 상기 모니터애퍼춰를 통과한 이온빔을 집속시키는 대물렌즈와를 구비하는 집속이온빔장치에 있어서, 상기 모니터전극에 전압을 인가하여 이온빔을 편향했을 때에 , 상기 대물렌즈를 통과한 이온빔이 시료(詩料)에 충돌하여 발생하는 2차 하전(荷電)입자를 관측하고, 이 2차 하전입자의 강도의 편향량에 대한 변화상태에 따라서 상기 피미팅애퍼춰의 개구부경을 구하는 것을 특징으로 하는 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사방법.
  3. 이온빔을 발생시키는 이온원과, 이온빔의 빔경을 제한하기 위한 개구부를 가지는 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서 렌즈와, 상기 리미팅애퍼춰에 의해 빔경이 제한된 이온빔을 편향하기 위한 전계를 발생기켜, 광축맞춤을 행하는 모니터전극과, 상기 모니터전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 개구부를 가지고, 상기 광축맞춤이 정확하게 행해졌는가를, 전류를 관측함으로써 검사가능한 모니터애퍼춰와, 상기 모니터애퍼춰를 통과한 이온빔을 집속시키는 대물렌즈와를 구비하는 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사장치로서, 상기 모니터전극에 전압을 인가하는 전압인가수단과, 상기 모니터애퍼춰를 흐르는 전류를 검출하는 전류검출수단과, 상기 전압인수가수단을 제어하여 인가전압을 변화시키면서 상기 전류검출수단의 검출치를 입력하고, 이 검출치가 소정범위의 변화를 나타내는 구간에 있어서의 상기 인가전압의 변화폭을, 상기 리미팅애퍼춰의 개구부경을 나타내는 값으로서 출력하는 수단과 를 구비하는 것을 특징으로 하는 집속이온빔장체에 있어서의 애퍼춰 검사장치.
  4. 이온빔을 발생시키는 이온원과, 이온빔의 빔경을 제한하기 위한 개구부를 가지는 리미팅애퍼춰와, 이온빔을 평행빔으로 하기 위한 콘덴서렌즈와, 상기 리미팅애퍼춰에 의해 빔경이 제한된 이온빔을 편향하기 위한 전계를 발생기켜, 광축맞춤을 행하는 모니터전극과, 상기 모니터전극을 통과한 이온빔을 통과시키는 개구부를 가지고, 상기 광축맞춤이 정확하게 행해졌는가를, 전류를 관측함으로써 검사가능한 모니터애퍼춰와, 상기 모니터애퍼춰를 통과한 이온빔을 집속시키는 대물렌즈와를 구비하는 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰검사장치로서, 상기 모니터전극에 전압을 인가하는 전압인가수단과, 상기 대물렌즈를 통과한 이온빔이 시료에 충돌하여 발생하는 2차 하전입자를 검출하는 검출수단과, 상기 전압인수가수단을 제어하여 인가전압을 변화시키면서 상기 전류검출수단의 검출치를 입력하고, 이 검출치가 소정범위의 변화를 나타내는 구간에 있어서의 상기 인가전압의 변화폭을, 상기 리미팅애퍼춰의 개구부경을 나타내는 값으로서 출력하는 수단과 를 구비하는 것을 특징으로 하는 집속이온빔장치에 있어서의 애퍼춰 검사장치.
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