JPH01120827A - ウエハのエアー洗浄装置 - Google Patents
ウエハのエアー洗浄装置Info
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- JPH01120827A JPH01120827A JP27852887A JP27852887A JPH01120827A JP H01120827 A JPH01120827 A JP H01120827A JP 27852887 A JP27852887 A JP 27852887A JP 27852887 A JP27852887 A JP 27852887A JP H01120827 A JPH01120827 A JP H01120827A
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- Pending
Links
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- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 2
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- 206010041662 Splinter Diseases 0.000 description 1
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えばＸａアセンブリ製逝のブレーク°エキ
スバンド工程後つェハ上のシリコン屑、ａ１等を除去す
る為に圧縮空気を吹き付けるウニへのエアー洗浄装置特
に、ウェハ上均−にエアーを吹き付ける装置の改良に関
するものである。
スバンド工程後つェハ上のシリコン屑、ａ１等を除去す
る為に圧縮空気を吹き付けるウニへのエアー洗浄装置特
に、ウェハ上均−にエアーを吹き付ける装置の改良に関
するものである。
・第２図及び＠３図は従来のエアー洗浄装置ｆｔを示す
吹付器を示す断面図及び斜視図であり、図にお−てｃｌ
＋Ｇは前方が開放された外箱で後部に排出窓（！１０ａ
）を付している。６（ｌｉｊ外箱団に取付けられ上方向
に小孔（６０ａ）を有するノズル、閥はエアーパルプで
ある。
吹付器を示す断面図及び斜視図であり、図にお−てｃｌ
＋Ｇは前方が開放された外箱で後部に排出窓（！１０ａ
）を付している。６（ｌｉｊ外箱団に取付けられ上方向
に小孔（６０ａ）を有するノズル、閥はエアーパルプで
ある。
次に動作について説明する。まずエキスバンドを完了し
たトレイ以下（ウェハと記す）を外箱団円に入れ、パル
プ四を開いてウニ八表面にエアー吹付は塵等を取り除く
。取り除かれた塵は外箱…の排出窓（５０ａ）から外に
排出される。
たトレイ以下（ウェハと記す）を外箱団円に入れ、パル
プ四を開いてウニ八表面にエアー吹付は塵等を取り除く
。取り除かれた塵は外箱…の排出窓（５０ａ）から外に
排出される。
従来のウニへのエアー先＃装置は前記のように構成され
ているので−、ウェハを手で持って前後動作する必要が
ある。まなエアー吹付により取り除かれた塵が同辺（ク
リーンルーム内）に排出されるなどの問題があった。
ているので−、ウェハを手で持って前後動作する必要が
ある。まなエアー吹付により取り除かれた塵が同辺（ク
リーンルーム内）に排出されるなどの問題があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、本体上部にウェハの塵を簡単に集塵できる
と共に周囲のクリーン化を維持できるウェハのエアー洗
浄装ｖ！ｔを得ること？目的とする。
れたもので、本体上部にウェハの塵を簡単に集塵できる
と共に周囲のクリーン化を維持できるウェハのエアー洗
浄装ｖ！ｔを得ること？目的とする。
この発明に係るウニへのエアー洗浄装ｒＩ！ｔは、ベー
ス、このベース上に設けられ排出口を有すると共に上端
に開口部を何する本体、この本体円に略水平に配置され
ると共に上記ベースに水平回転自在に支承され、上記開
口部に而して多数のも−の吐出口を有すると共に上記水
平回転の円周方向の一方に向けて第二の吐出口を何する
ノズル、このノズル円に圧縮空気を導入するエアー導入
手段、上記排出口に吸込側が接続される集塵装置、及び
上記開口部に装着され、ウェハを下向きに支持するウニ
へ支持手段？備えたものである。
ス、このベース上に設けられ排出口を有すると共に上端
に開口部を何する本体、この本体円に略水平に配置され
ると共に上記ベースに水平回転自在に支承され、上記開
口部に而して多数のも−の吐出口を有すると共に上記水
平回転の円周方向の一方に向けて第二の吐出口を何する
ノズル、このノズル円に圧縮空気を導入するエアー導入
手段、上記排出口に吸込側が接続される集塵装置、及び
上記開口部に装着され、ウェハを下向きに支持するウニ
へ支持手段？備えたものである。
〔作用〕
この発明におけるウェハのエアー洗浄装置は本体の開口
部にウニ八支持手段にて、支持されたウェハには、ノズ
ルの多数弔−の吐出口が対面し、エアー導入手段ｒＣよ
ってエアーがノズル内を介して第一の吐出口から吐出し
てウェハを洗浄すると共に、一方では、ノズルの円周方
向の第二の吐出口から吐出されるエアーの反作用でノズ
ルが水平回転し、ウニ八全面にエアーが吹き付けられ、
ウェハの塵を確実ＶＣ且つ容易に除去できる。
部にウニ八支持手段にて、支持されたウェハには、ノズ
ルの多数弔−の吐出口が対面し、エアー導入手段ｒＣよ
ってエアーがノズル内を介して第一の吐出口から吐出し
てウェハを洗浄すると共に、一方では、ノズルの円周方
向の第二の吐出口から吐出されるエアーの反作用でノズ
ルが水平回転し、ウニ八全面にエアーが吹き付けられ、
ウェハの塵を確実ＶＣ且つ容易に除去できる。
以下この発明の実施例倉４１図で説明する。
図において、１１）は防振機で愼成された足１２１が装
着された下部ベース、１３１は柱、１４１はこの托噌３
１で支持された上部ベースで、中央にエアー導入口（４
ａ）が形成されている。＋６１に上端に開口部（５ａ）
が形成され、上部ベース１４１に結合された本体で、外
気の吸込口（５ｂ）と排出口（５Ｃ）を材している。１
６）は排出口（５Ｃ）に吸込口（６ａ）が接続された果
ｗｋ装置、口）は開口部（５ａ］に装着されたウニ八支
持手段で、ウェハ（８）が接着されたシー）［９１ｆリ
ングｒ７ａ）で支持している。ｎｏ＋ Ｆｉ上部ベース
（４１にボルトａυを介して結合された中空状の軸受箱
。
着された下部ベース、１３１は柱、１４１はこの托噌３
１で支持された上部ベースで、中央にエアー導入口（４
ａ）が形成されている。＋６１に上端に開口部（５ａ）
が形成され、上部ベース１４１に結合された本体で、外
気の吸込口（５ｂ）と排出口（５Ｃ）を材している。１
６）は排出口（５Ｃ）に吸込口（６ａ）が接続された果
ｗｋ装置、口）は開口部（５ａ］に装着されたウニ八支
持手段で、ウェハ（８）が接着されたシー）［９１ｆリ
ングｒ７ａ）で支持している。ｎｏ＋ Ｆｉ上部ベース
（４１にボルトａυを介して結合された中空状の軸受箱
。
（１２１はこの軸受箱ｆ１０１に嵌合されたスリーブ軸
受、０３はこのスリーブ軸受＋１２１に支承された中空
軸、α４はこの中空軸ｌｌ３１のスラスト力を受けるス
ラスト軸受、 ＋１６１は中空軸（１３１の上端に結合
された中空のスズ１１ンクラヘツドで上方向に回って吐
出ロケ有している。ａ・はスプリンクラヘッド０υに水
平に結合された中空のノズルで、上方に向って開口する
吐出口Ｎ８ａ）と同方向の吐出口ｒ１ｅｂ）とを有し、
上記スプリンクラヘッドａ（へ）に等間隔に複数装着さ
れている。１ηはエアー導入口（ｉａ）に接続され、エ
アーを供給する配管である。
受、０３はこのスリーブ軸受＋１２１に支承された中空
軸、α４はこの中空軸ｌｌ３１のスラスト力を受けるス
ラスト軸受、 ＋１６１は中空軸（１３１の上端に結合
された中空のスズ１１ンクラヘツドで上方向に回って吐
出ロケ有している。ａ・はスプリンクラヘッド０υに水
平に結合された中空のノズルで、上方に向って開口する
吐出口Ｎ８ａ）と同方向の吐出口ｒ１ｅｂ）とを有し、
上記スプリンクラヘッドａ（へ）に等間隔に複数装着さ
れている。１ηはエアー導入口（ｉａ）に接続され、エ
アーを供給する配管である。
次に動作について説明する。配）ｅＯηを介して中空軸
［＋３１にエアーを導入すると、このエアーはスプリン
クラヘッド（１６１内からノズルＱ６１内を介し吐出口
（１５ａｌｒ１６ａ）から上方へ吐出されてウェハ１８
１Ｆ＋＝吹き付けると共に、吐出口ｒｔａｂ）からも吐
出し、その吐出による反作用で、ノズルα鴫自体がスプ
リンクラヘッド１１６１と中空軸侶と共に回転するとと
くなる。このため、ウェハ（８）にはエアーが全面に吹
き付けられ、塵が確実に除去される。
［＋３１にエアーを導入すると、このエアーはスプリン
クラヘッド（１６１内からノズルＱ６１内を介し吐出口
（１５ａｌｒ１６ａ）から上方へ吐出されてウェハ１８
１Ｆ＋＝吹き付けると共に、吐出口ｒｔａｂ）からも吐
出し、その吐出による反作用で、ノズルα鴫自体がスプ
リンクラヘッド１１６１と中空軸侶と共に回転するとと
くなる。このため、ウェハ（８）にはエアーが全面に吹
き付けられ、塵が確実に除去される。
一方、集塵装置１６）？運転することＫより、吸込口（
５１））より、外気が導入されながら内部の空気が排出
口ｒ５ｃ）より排出され、その時に同時に塵も排出口か
ら排出される。
５１））より、外気が導入されながら内部の空気が排出
口ｒ５ｃ）より排出され、その時に同時に塵も排出口か
ら排出される。
以上のようにこの発明はベース、このベース上に設けら
れ排出口を有すると共に上端に開口部を何する本体、こ
の本体円に略水平に配置されると共に上記ベースに水平
回転自在に支承され、上記開口部に而して多数の第一の
吐出口を有すると共に上記水平回転の円周方向の一方に
向けて第二の吐出口を何するノズル、このノズル円に圧
縮空気を導入するエアー導入手段、上記排水口に吸込側
が接続される集塵装置、及び上記開口部に装着され、ウ
ェハを下向きに支持するウニ八支持手段を＠えたので、
容易に且つ確実にウェハの全面にエアーを吹き付けるこ
とができ、洗浄作用が向上でき、しかも周囲のクリーン
化を確実に維持できる効果がある。
れ排出口を有すると共に上端に開口部を何する本体、こ
の本体円に略水平に配置されると共に上記ベースに水平
回転自在に支承され、上記開口部に而して多数の第一の
吐出口を有すると共に上記水平回転の円周方向の一方に
向けて第二の吐出口を何するノズル、このノズル円に圧
縮空気を導入するエアー導入手段、上記排水口に吸込側
が接続される集塵装置、及び上記開口部に装着され、ウ
ェハを下向きに支持するウニ八支持手段を＠えたので、
容易に且つ確実にウェハの全面にエアーを吹き付けるこ
とができ、洗浄作用が向上でき、しかも周囲のクリーン
化を確実に維持できる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す断面図、第２図は従
来装置の断面図、第８図はその斜視図である。図中、１
４１は上部ベース、＋５１は本体、ｒ５ａ）は開口部、
ｒ５ｃ）は排出口、１６１は集塵装置、（７：はウニ八
支持手段、（８）はウェハ、（９１はシート、０４は中
空軸、ｌｌ５１はスプリンタラヘッド、αｄはノズル、
（１５ａ）（ｌｆｌａ）（ｌｆｌｂｌは吐出口である
。 なお、６図中間−符号は同−又は担当部分を示す。 代連人 大 岩 増 雄
来装置の断面図、第８図はその斜視図である。図中、１
４１は上部ベース、＋５１は本体、ｒ５ａ）は開口部、
ｒ５ｃ）は排出口、１６１は集塵装置、（７：はウニ八
支持手段、（８）はウェハ、（９１はシート、０４は中
空軸、ｌｌ５１はスプリンタラヘッド、αｄはノズル、
（１５ａ）（ｌｆｌａ）（ｌｆｌｂｌは吐出口である
。 なお、６図中間−符号は同−又は担当部分を示す。 代連人 大 岩 増 雄
Claims (1)
- ベース、このベース上に設けられ、排出口を有すると
共に上端に開口部を有する本体、この本体内に略水平に
配置されると共に上記ベースに水平回転自在に支承され
、上記開口部に面して多数の第１の吐出口を有すると共
に上記水平回転の円周方向の一方に向けて第２の吐出口
を何するノズル、このノズル円に圧縮空気を導入するエ
アー導入手段、上記排出口に吸込側が接続される集塵装
置、及び上記開口部に装置され、ウェハを下向きに支持
するウェハ支持手段を備えたウェハのエアー洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27852887A JPH01120827A (ja) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | ウエハのエアー洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27852887A JPH01120827A (ja) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | ウエハのエアー洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01120827A true JPH01120827A (ja) | 1989-05-12 |
Family
ID=17598529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27852887A Pending JPH01120827A (ja) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | ウエハのエアー洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01120827A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6547937B1 (en) * | 2000-01-03 | 2003-04-15 | Semitool, Inc. | Microelectronic workpiece processing tool including a processing reactor having a paddle assembly for agitation of a processing fluid proximate to the workpiece |
| WO2005107969A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Young Su Park | A cleaner for electric appliance |
| KR100597935B1 (ko) * | 2004-05-06 | 2006-07-13 | 박영수 | 전자기기 청소장치 |
| US7313462B2 (en) | 2003-06-06 | 2007-12-25 | Semitool, Inc. | Integrated tool with automated calibration system and interchangeable wet processing components for processing microfeature workpieces |
| US7390382B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-06-24 | Semitool, Inc. | Reactors having multiple electrodes and/or enclosed reciprocating paddles, and associated methods |
| US7393439B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-07-01 | Semitool, Inc. | Integrated microfeature workpiece processing tools with registration systems for paddle reactors |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56163791A (en) * | 1980-05-22 | 1981-12-16 | Nisshin Seiki Kk | Turning gear for nozzle pipe for washing |
| JPS6136221A (ja) * | 1984-07-16 | 1986-02-20 | ベーリングヴエルケ・アクチエンゲゼルシヤフト | 免疫抑制剤としてのリコリンの使用 |
-
1987
- 1987-11-04 JP JP27852887A patent/JPH01120827A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56163791A (en) * | 1980-05-22 | 1981-12-16 | Nisshin Seiki Kk | Turning gear for nozzle pipe for washing |
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Cited By (11)
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| US6773559B2 (en) | 2000-01-03 | 2004-08-10 | Semitool, Inc. | Processing apparatus including a reactor for electrochemically etching a microelectronic workpiece |
| US7294244B2 (en) | 2000-01-03 | 2007-11-13 | Semitool, Inc. | Microelectronic workpiece processing tool including a processing reactor having a paddle assembly for agitation of a processing fluid proximate to the workpiece |
| US7524406B2 (en) | 2000-01-03 | 2009-04-28 | Semitool, Inc. | Processing apparatus including a reactor for electrochemically etching microelectronic workpiece |
| US7313462B2 (en) | 2003-06-06 | 2007-12-25 | Semitool, Inc. | Integrated tool with automated calibration system and interchangeable wet processing components for processing microfeature workpieces |
| US7371306B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-05-13 | Semitool, Inc. | Integrated tool with interchangeable wet processing components for processing microfeature workpieces |
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| US7390382B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-06-24 | Semitool, Inc. | Reactors having multiple electrodes and/or enclosed reciprocating paddles, and associated methods |
| US7390383B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-06-24 | Semitool, Inc. | Paddles and enclosures for enhancing mass transfer during processing of microfeature workpieces |
| WO2005107969A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Young Su Park | A cleaner for electric appliance |
| KR100597935B1 (ko) * | 2004-05-06 | 2006-07-13 | 박영수 | 전자기기 청소장치 |
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