JPH01117890A - シラン化合物の製造方法 - Google Patents

シラン化合物の製造方法

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JPH01117890A
JPH01117890A JP62275216A JP27521687A JPH01117890A JP H01117890 A JPH01117890 A JP H01117890A JP 62275216 A JP62275216 A JP 62275216A JP 27521687 A JP27521687 A JP 27521687A JP H01117890 A JPH01117890 A JP H01117890A
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Hiroaki Hanaoka
花岡 宏明
Makoto Nishida
真 西田
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はシラン化合物の製造方法に関し、さらに詳しく
は、メトキシシラン化合物をエステル交換して他のシラ
ン化合物を得る方法の改良に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
ケイ素原子に結合したアルコキシ基、オキシム基などの
ケイ素官能性基をもつシラン化合物の製造方法としては
、四塩化ケイ素、メチルトジクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリ
クロロシランなどのハロシラン類を、アルコール類また
はオキシム化合物と反応させる方法が知られている。こ
の場合、副反応を抑制し、反応収率を上げる目的で、ト
ルエン、キシレン、エチルエーテルのような反応溶媒お
よび/またはピリジンのようなアミン類を共存させる方
法と、多段塔の内部でハロシラン類とヒドロキシル化合
物を接触させてハロゲン化水素を塔頂から取り出しなが
ら反応を行わせる方法とがある。
しかしながら、これらの方法のうち、前者すなわち反応
溶媒および/またはアミン類を共存させる方法において
は、次のような欠点がある。
■ 多量の反溶媒体を必要とする。
■ 毒性および臭気をもつアミン化合物を多量に要する
■ 反応の初期に、湿気の存在によって毒性と刺戟性を
もつハロゲン化水素を発生する。
■ 生成するアミン化合物とハロゲン化水素との塩の濾
過が困難で、塩が反応生成物に混入する。
また後者においても、前述の■のほかに、耐食性を要す
る高価な材質の多段塔を必要とし、また所望のアルコキ
シ化度に応じて、反応原料を所定の安定した速度で供給
するために、高度の制御機器を必要とするなど、反応設
備についての制約が多い。
そこで、ハロシラン類の代わりにメトキシシラン化合物
を用い、エステル交換反応によってアルコキシシラン類
(メトキシシランを除く)またはオキシムシラン類を得
ることが行われ、とくにオキシムシラン類の製造方法に
おいて、反応器内を適宜加熱した状態にしてメタノール
を反応系外に取り出したのち、反応生成物を精製する方
法が知られている(特公昭49−39967号公報)。
しかし、この方法においても、脱メタノール反応の速度
が遅く、また反応平衡が極度にメトキシシラン側に寄っ
ているために、エステル交換反応を進行させるには、副
生ずるメタノールを系外に留出させるために過剰の加熱
を必要とする。そのため、反応生成物の分解や着色を伴
う不利がある。また、反応を進行させるために触媒量の
アミンを用いることが上述の公報に開示されているが、
これらを反応生成物から分離するには、精留による分離
を必要とし、生成物の精製工程を煩雑にしている。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、メトキシシラン化合物のエステル交換
反応を有利に行い、かつ反応生成物の分離精製を容易に
する方法を見出すことにある。
〔発明の構成〕
本発明者らは、この目的を達成するために研究を行った
ところ、モレキュラーシーブの存在下にエステル交換反
応を行って、副生ずるメタノールを選択的にモレキュラ
ーシーブに吸着させることにより、この目的を達成しう
ろことを見出して、本発明をなすに至った。
即ち本発明は、一般式 %式%) (式中、R1は互いに同一または相異なる置換または非
置換の1価の炭化水素基、aは0〜3の整数を示す)で
表わされるメトキシシラン化合物と、一般式 X=NOHまたハYOH (式中、XはR”R3CまたはR’Cで示される2価の
基、R2およびR3は互いに同一または相異なる1価の
炭化水素基、R4は2価の炭化水素基、Yはメチル基よ
りも大きな分子量をもつ1価の炭化水素基を示す)で表
わされるヒドロキシル化合物とを反応させて、一般式 %式% (式中、RZ  aは前述のとおり、ZはX=Nまたは
Yで示される1価の基、X、Yは前述のとおり、bは0
〜3の整数を示し、かつa+bは0〜3の整数であ°る
)で示されるシラン化合物を製造する方法において、反
応を細孔径3〜13Aのモレキュラーシーブの存在下に
行うことを特徴とするシラン化合物の製造方法に関する
本発明に用いられるメトキシシラン化合物および生成シ
ラン化合物において、R1は置換または非置換の1価の
炭化水素基で、互いに同一でも相異っていてもよい。
R1としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基、ドデシル基のようなアルキル基
ニジクロペンチル基、シクロヘキシル基のようなシクロ
アルキル基:2−フェニルエチル基、2−フェニルプロ
ピル基のようなアラルキル基;フェニル基、トリル基、
キセニル基、ナフチル基のようなアリール基; ビニル
基、アリル基、デセニル基のようなアルケニル基;およ
びクロロメチル基、クロロフェニルL  3.3.3−
)リフルオロプロピル基、シアノエチル基のような置換
炭化水素基などが例示され、反応性からメチル基または
ビニル基が好ましい。
aはO〜3の整数である。このようなメトキシシラン化
合物としては、テトラメトキシシランのような4官能性
シラン;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシランのような3官能性シラン;ジメチルジメト
キシシラン、メチルフエニルジメトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン
のような2官能性シラン;トリメチルメトキシシラン、
ジメチルビニルメトキシシランのような1官能性シラン
が例示され、反応性および生成物の有用性から、メチル
トリメトキシシラン、ビニルト・リメトキシシランなど
が好ましい。
本発明に用いられるオキシム類において、XはR2R3
CまたはR4Cで表わされ、Cのところに2個の原子価
をもつ2価の炭化水素基である。
R2およびR3は互いに同一または相異なる1価の炭化
水素基であり、それぞれメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基のような
アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基のよ
ウナシクロアルキル基;2−フェニルエチル基、2−フ
ェニルプロピル基のようなアラルキル基;フェニル基、
トリル基のようなアリール基などが例示される。またR
4は2価の炭化水素基で、テトラメチレン基、ペンタメ
チレン基などが例示される。
このようなオキシム化合物としては、アセトンオキシム
、2−ブタノンオキシム、2−ペンタノンオキシム、2
−ノナノンオキシム、ジイソプロピルケトオキシム、ア
セトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム、シク
ロヘキサノンオキシムなどが例示される。
本発明に用いられるアルコール類またはフェノール類に
おいて、Yは1価の炭化水素基である。Yとしてはエチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデ
シル基のようなアルキル基;シクロペンチル基、シクロ
−ヘキシル基のようなシクロアルキル基;2−フェニル
エチル基、2−フェニルプロピル基のようなアラルキル
基;フェニル基、トリル基のようなアリール基などが例
示される。
このようなアルコール類またはフェノール類としては、
エタノール、n−プロパツール、インプロパツール、n
−フタノール、ペンタノール、ヘキサノール、デカノー
ル、2−フェニルエタノール、フェノールなどが例示さ
れる。
これらのヒドロキシ化合物のうち、反応性、取扱の容易
なことおよび生成物の有用性から、2−ブタノンオキシ
ム、n−ブタノール、フェノールが特に好ましい。
本発明に用いられるモレキュラーシーブは、反応系およ
び生成系からメタノールを選択的に吸着しうるもので、
細孔径が3〜13Aのものが選ばれる。選択吸収能力か
らは細孔径が3〜6人のものが好ましく、4〜5人のも
のが特に好ましい。
反応は、メトキシシラン化合物を、ヒドロキシル化合物
ならびにモレキュラーシーブとともに反応容器に仕込み
、好ましくは0〜95℃、更に好ましくは20〜80℃
の温度で行う。0℃未満では反応速度が遅<、95℃を
越えると副反応が起こって収率が低下する。なお、相互
の接触を高めるために撹拌などの手段を用いることもで
きる。
仕込量はとくに限定されないが、メトキシシラン化合物
のエステル交換したいメトキシ基1モルに対して、1〜
5モルのヒドロキシル化合物を用いることが好ましい。
また、モレキュラーシーブの量は、生成するメタノール
の量に対して5〜20倍(重量)量が好ましい。モレキ
ュラーシーブの量が5倍量未満ではメタノールを完全に
吸着しえないので反応速度が遅くなり、200倍量越え
て用いても、その量に見合う効果が得られないからであ
る。
〔発明の効果〕
本発明の方法により、オキシムシラン化合物、アルコキ
シシラン化合物、またはフェノキシシラン化合物などが
、比較的低い反応温度で反応を行うことにより収率よく
得られ、精製にも煩雑な工程を必要としない。
本発明の方法で得られたシラン化合物は、各種の有機ケ
イ素化合物の中間原料、シリコーンゴムや有機高分子の
架橋剤、無機質微粉末の表面処理剤、接着剤やプライマ
ーの成分などとして有用である。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明はこ
れらの実施例によって限定されるものではない。尚、実
施例中、部はいずれも重量部である。
実施例1〜3、比較例1 撹拌装置を備えた反応容器に、27.2部のメチルトリ
メトキシシランと69.6部の2−ブタノンオキシムを
仕込み、さらに細孔径が4人のモレキュラーシーブ10
0部を仕込んで、温度25℃で12時間の反応を行った
。反応後、モレキュラーシーブを濾過して、無色透明の
反応生成物を得た。
この反応生成物をガスクロマトグラフィーにかけたとこ
ろ、第1表に示す組成のものが得られていることが判っ
た。これを精留して、それぞれのオキシマド基含有シラ
ンを単離することができた(以上、実施例1)。
モレキュラーシーブの量を増した実施例2、細孔径5人
のモレキュラーシーブを用い、反応温度を上げた実施例
3、モレキュラーシーブを用いず、高温でメタノールを
系外に留去しながら反応を行う比較例1を行った。これ
らの反応条件と結果を第1表に示す。
実施例4.比較例2 実施例、1と同じ反応装置に29.6部のビニルトリメ
トキシシランと52.2部の2−ブタノンオキシム、お
よび細孔径が4人のモレキュラーシーブ100部を仕込
み、第2表に示す条件で反応を行って、黄色透明の反応
生成物を得た。ガスクロマトグラフィーによる組成比は
第2表のとおりであった。なお、比較例2としてモレキ
ュラーシーブを用いないでメタノールを留去しつつ同様
の反応を行ったことろ、淡黄色透明の反応生成物を得た
。その組成比は第2表に示すとおりであった。
第2表 実施例5 実施例1と同じ反応装置に27.2部のメチルトリメト
キシシラン、75.2部のフェノール、および細孔径が
4人のモレキュラーシーブ100部を仕込んで、温度5
5℃で12時間反応させたところ、無色透明の反応生成
物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる組成比は
第3表のとおりであった。精留により、容易にフェノキ
シ基含有シランを得ることができた。
第3表 実施例6 実施例1と同じ反応装置に27.2部のメチルトリメト
キシシラン、66.6部のn−ブタノーノへおよび細孔
径が4人のモレキュラーシーブ150部を仕込んで、温
度50℃で8時間反応させたところ、無色透明の反応生
成物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる組成比
は第4表のとおりであった。精留により、容易にn−ブ
トキシ基含有シランを得ることができた。
第4表 実施例7 実施例1と同じ反応装置に24.0部のジメチルジメト
キシシラン、52.2部の2−ブタノンオキシム、およ
び細孔径が4人のモレキ二う−シーブ100部を仕込ん
で、温度40℃で8時間反応させたところ、無色透明の
反応生成物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる
組成比は第5表のとおりであった。精留により、容易に
オキシマド基含有シランを得ることができた。
第5表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 R^1_aSi(OCH_3)_4_−_a(式中、R
    ^1は互いに同一または相異なる置換または非置換の1
    価の炭化水素基、aは0〜3の整数を示す)で表わされ
    るメトキシシラン化合物と、一般式 X=NOHまたはYOH (式中、XはR^2R^3CまたはR^4Cで示される
    2価の基、R^2およびR^3は互いに同一または相異
    なる1価の炭化水素基、R^4は2価の炭化水素基、Y
    はメチル基よりも大きな分子量をもつ1価の炭化水素基
    を示す)で表わされるヒドロキシル化合物とを反応させ
    て、一般式 R^1_aSi(OCH_3)_b(OZ)_4_−_
    a_−_b(式中、R^1、aは前述のとおり、ZはX
    =NまたはYで示される1価の基、X、Yは前述のとお
    り、bは0〜3の整数を示し、かつa+bは0〜3の整
    数である)で示されるシラン化合物を製造する方法にお
    いて、反応を細孔径3〜13Åのモレキュラーシーブの
    存在下に行うことを特徴とするシラン化合物の製造方法
    。 2 モレキュラーシーブの細孔径が4〜5Åである特許
    請求の範囲第1項記載のシラン化合物の製造方法。 3 反応温度が0〜95℃である特許請求の範囲第1項
    記載のシラン化合物の製造方法。
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