JPH01117890A - シラン化合物の製造方法 - Google Patents
シラン化合物の製造方法Info
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- JPH01117890A JPH01117890A JP62275216A JP27521687A JPH01117890A JP H01117890 A JPH01117890 A JP H01117890A JP 62275216 A JP62275216 A JP 62275216A JP 27521687 A JP27521687 A JP 27521687A JP H01117890 A JPH01117890 A JP H01117890A
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシラン化合物の製造方法に関し、さらに詳しく
は、メトキシシラン化合物をエステル交換して他のシラ
ン化合物を得る方法の改良に関する。
は、メトキシシラン化合物をエステル交換して他のシラ
ン化合物を得る方法の改良に関する。
ケイ素原子に結合したアルコキシ基、オキシム基などの
ケイ素官能性基をもつシラン化合物の製造方法としては
、四塩化ケイ素、メチルトジクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリ
クロロシランなどのハロシラン類を、アルコール類また
はオキシム化合物と反応させる方法が知られている。こ
の場合、副反応を抑制し、反応収率を上げる目的で、ト
ルエン、キシレン、エチルエーテルのような反応溶媒お
よび/またはピリジンのようなアミン類を共存させる方
法と、多段塔の内部でハロシラン類とヒドロキシル化合
物を接触させてハロゲン化水素を塔頂から取り出しなが
ら反応を行わせる方法とがある。
ケイ素官能性基をもつシラン化合物の製造方法としては
、四塩化ケイ素、メチルトジクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリ
クロロシランなどのハロシラン類を、アルコール類また
はオキシム化合物と反応させる方法が知られている。こ
の場合、副反応を抑制し、反応収率を上げる目的で、ト
ルエン、キシレン、エチルエーテルのような反応溶媒お
よび/またはピリジンのようなアミン類を共存させる方
法と、多段塔の内部でハロシラン類とヒドロキシル化合
物を接触させてハロゲン化水素を塔頂から取り出しなが
ら反応を行わせる方法とがある。
しかしながら、これらの方法のうち、前者すなわち反応
溶媒および/またはアミン類を共存させる方法において
は、次のような欠点がある。
溶媒および/またはアミン類を共存させる方法において
は、次のような欠点がある。
■ 多量の反溶媒体を必要とする。
■ 毒性および臭気をもつアミン化合物を多量に要する
。
。
■ 反応の初期に、湿気の存在によって毒性と刺戟性を
もつハロゲン化水素を発生する。
もつハロゲン化水素を発生する。
■ 生成するアミン化合物とハロゲン化水素との塩の濾
過が困難で、塩が反応生成物に混入する。
過が困難で、塩が反応生成物に混入する。
また後者においても、前述の■のほかに、耐食性を要す
る高価な材質の多段塔を必要とし、また所望のアルコキ
シ化度に応じて、反応原料を所定の安定した速度で供給
するために、高度の制御機器を必要とするなど、反応設
備についての制約が多い。
る高価な材質の多段塔を必要とし、また所望のアルコキ
シ化度に応じて、反応原料を所定の安定した速度で供給
するために、高度の制御機器を必要とするなど、反応設
備についての制約が多い。
そこで、ハロシラン類の代わりにメトキシシラン化合物
を用い、エステル交換反応によってアルコキシシラン類
(メトキシシランを除く)またはオキシムシラン類を得
ることが行われ、とくにオキシムシラン類の製造方法に
おいて、反応器内を適宜加熱した状態にしてメタノール
を反応系外に取り出したのち、反応生成物を精製する方
法が知られている(特公昭49−39967号公報)。
を用い、エステル交換反応によってアルコキシシラン類
(メトキシシランを除く)またはオキシムシラン類を得
ることが行われ、とくにオキシムシラン類の製造方法に
おいて、反応器内を適宜加熱した状態にしてメタノール
を反応系外に取り出したのち、反応生成物を精製する方
法が知られている(特公昭49−39967号公報)。
しかし、この方法においても、脱メタノール反応の速度
が遅く、また反応平衡が極度にメトキシシラン側に寄っ
ているために、エステル交換反応を進行させるには、副
生ずるメタノールを系外に留出させるために過剰の加熱
を必要とする。そのため、反応生成物の分解や着色を伴
う不利がある。また、反応を進行させるために触媒量の
アミンを用いることが上述の公報に開示されているが、
これらを反応生成物から分離するには、精留による分離
を必要とし、生成物の精製工程を煩雑にしている。
が遅く、また反応平衡が極度にメトキシシラン側に寄っ
ているために、エステル交換反応を進行させるには、副
生ずるメタノールを系外に留出させるために過剰の加熱
を必要とする。そのため、反応生成物の分解や着色を伴
う不利がある。また、反応を進行させるために触媒量の
アミンを用いることが上述の公報に開示されているが、
これらを反応生成物から分離するには、精留による分離
を必要とし、生成物の精製工程を煩雑にしている。
本発明の目的は、メトキシシラン化合物のエステル交換
反応を有利に行い、かつ反応生成物の分離精製を容易に
する方法を見出すことにある。
反応を有利に行い、かつ反応生成物の分離精製を容易に
する方法を見出すことにある。
本発明者らは、この目的を達成するために研究を行った
ところ、モレキュラーシーブの存在下にエステル交換反
応を行って、副生ずるメタノールを選択的にモレキュラ
ーシーブに吸着させることにより、この目的を達成しう
ろことを見出して、本発明をなすに至った。
ところ、モレキュラーシーブの存在下にエステル交換反
応を行って、副生ずるメタノールを選択的にモレキュラ
ーシーブに吸着させることにより、この目的を達成しう
ろことを見出して、本発明をなすに至った。
即ち本発明は、一般式
%式%)
(式中、R1は互いに同一または相異なる置換または非
置換の1価の炭化水素基、aは0〜3の整数を示す)で
表わされるメトキシシラン化合物と、一般式 X=NOHまたハYOH (式中、XはR”R3CまたはR’Cで示される2価の
基、R2およびR3は互いに同一または相異なる1価の
炭化水素基、R4は2価の炭化水素基、Yはメチル基よ
りも大きな分子量をもつ1価の炭化水素基を示す)で表
わされるヒドロキシル化合物とを反応させて、一般式 %式% (式中、RZ aは前述のとおり、ZはX=Nまたは
Yで示される1価の基、X、Yは前述のとおり、bは0
〜3の整数を示し、かつa+bは0〜3の整数であ°る
)で示されるシラン化合物を製造する方法において、反
応を細孔径3〜13Aのモレキュラーシーブの存在下に
行うことを特徴とするシラン化合物の製造方法に関する
。
置換の1価の炭化水素基、aは0〜3の整数を示す)で
表わされるメトキシシラン化合物と、一般式 X=NOHまたハYOH (式中、XはR”R3CまたはR’Cで示される2価の
基、R2およびR3は互いに同一または相異なる1価の
炭化水素基、R4は2価の炭化水素基、Yはメチル基よ
りも大きな分子量をもつ1価の炭化水素基を示す)で表
わされるヒドロキシル化合物とを反応させて、一般式 %式% (式中、RZ aは前述のとおり、ZはX=Nまたは
Yで示される1価の基、X、Yは前述のとおり、bは0
〜3の整数を示し、かつa+bは0〜3の整数であ°る
)で示されるシラン化合物を製造する方法において、反
応を細孔径3〜13Aのモレキュラーシーブの存在下に
行うことを特徴とするシラン化合物の製造方法に関する
。
本発明に用いられるメトキシシラン化合物および生成シ
ラン化合物において、R1は置換または非置換の1価の
炭化水素基で、互いに同一でも相異っていてもよい。
ラン化合物において、R1は置換または非置換の1価の
炭化水素基で、互いに同一でも相異っていてもよい。
R1としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基、ドデシル基のようなアルキル基
ニジクロペンチル基、シクロヘキシル基のようなシクロ
アルキル基:2−フェニルエチル基、2−フェニルプロ
ピル基のようなアラルキル基;フェニル基、トリル基、
キセニル基、ナフチル基のようなアリール基; ビニル
基、アリル基、デセニル基のようなアルケニル基;およ
びクロロメチル基、クロロフェニルL 3.3.3−
)リフルオロプロピル基、シアノエチル基のような置換
炭化水素基などが例示され、反応性からメチル基または
ビニル基が好ましい。
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、ノニル基、デシル基、ドデシル基のようなアルキル基
ニジクロペンチル基、シクロヘキシル基のようなシクロ
アルキル基:2−フェニルエチル基、2−フェニルプロ
ピル基のようなアラルキル基;フェニル基、トリル基、
キセニル基、ナフチル基のようなアリール基; ビニル
基、アリル基、デセニル基のようなアルケニル基;およ
びクロロメチル基、クロロフェニルL 3.3.3−
)リフルオロプロピル基、シアノエチル基のような置換
炭化水素基などが例示され、反応性からメチル基または
ビニル基が好ましい。
aはO〜3の整数である。このようなメトキシシラン化
合物としては、テトラメトキシシランのような4官能性
シラン;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシランのような3官能性シラン;ジメチルジメト
キシシラン、メチルフエニルジメトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン
のような2官能性シラン;トリメチルメトキシシラン、
ジメチルビニルメトキシシランのような1官能性シラン
が例示され、反応性および生成物の有用性から、メチル
トリメトキシシラン、ビニルト・リメトキシシランなど
が好ましい。
合物としては、テトラメトキシシランのような4官能性
シラン;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシランのような3官能性シラン;ジメチルジメト
キシシラン、メチルフエニルジメトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン
のような2官能性シラン;トリメチルメトキシシラン、
ジメチルビニルメトキシシランのような1官能性シラン
が例示され、反応性および生成物の有用性から、メチル
トリメトキシシラン、ビニルト・リメトキシシランなど
が好ましい。
本発明に用いられるオキシム類において、XはR2R3
CまたはR4Cで表わされ、Cのところに2個の原子価
をもつ2価の炭化水素基である。
CまたはR4Cで表わされ、Cのところに2個の原子価
をもつ2価の炭化水素基である。
R2およびR3は互いに同一または相異なる1価の炭化
水素基であり、それぞれメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基のような
アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基のよ
ウナシクロアルキル基;2−フェニルエチル基、2−フ
ェニルプロピル基のようなアラルキル基;フェニル基、
トリル基のようなアリール基などが例示される。またR
4は2価の炭化水素基で、テトラメチレン基、ペンタメ
チレン基などが例示される。
水素基であり、それぞれメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基のような
アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基のよ
ウナシクロアルキル基;2−フェニルエチル基、2−フ
ェニルプロピル基のようなアラルキル基;フェニル基、
トリル基のようなアリール基などが例示される。またR
4は2価の炭化水素基で、テトラメチレン基、ペンタメ
チレン基などが例示される。
このようなオキシム化合物としては、アセトンオキシム
、2−ブタノンオキシム、2−ペンタノンオキシム、2
−ノナノンオキシム、ジイソプロピルケトオキシム、ア
セトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム、シク
ロヘキサノンオキシムなどが例示される。
、2−ブタノンオキシム、2−ペンタノンオキシム、2
−ノナノンオキシム、ジイソプロピルケトオキシム、ア
セトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム、シク
ロヘキサノンオキシムなどが例示される。
本発明に用いられるアルコール類またはフェノール類に
おいて、Yは1価の炭化水素基である。Yとしてはエチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデ
シル基のようなアルキル基;シクロペンチル基、シクロ
−ヘキシル基のようなシクロアルキル基;2−フェニル
エチル基、2−フェニルプロピル基のようなアラルキル
基;フェニル基、トリル基のようなアリール基などが例
示される。
おいて、Yは1価の炭化水素基である。Yとしてはエチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデ
シル基のようなアルキル基;シクロペンチル基、シクロ
−ヘキシル基のようなシクロアルキル基;2−フェニル
エチル基、2−フェニルプロピル基のようなアラルキル
基;フェニル基、トリル基のようなアリール基などが例
示される。
このようなアルコール類またはフェノール類としては、
エタノール、n−プロパツール、インプロパツール、n
−フタノール、ペンタノール、ヘキサノール、デカノー
ル、2−フェニルエタノール、フェノールなどが例示さ
れる。
エタノール、n−プロパツール、インプロパツール、n
−フタノール、ペンタノール、ヘキサノール、デカノー
ル、2−フェニルエタノール、フェノールなどが例示さ
れる。
これらのヒドロキシ化合物のうち、反応性、取扱の容易
なことおよび生成物の有用性から、2−ブタノンオキシ
ム、n−ブタノール、フェノールが特に好ましい。
なことおよび生成物の有用性から、2−ブタノンオキシ
ム、n−ブタノール、フェノールが特に好ましい。
本発明に用いられるモレキュラーシーブは、反応系およ
び生成系からメタノールを選択的に吸着しうるもので、
細孔径が3〜13Aのものが選ばれる。選択吸収能力か
らは細孔径が3〜6人のものが好ましく、4〜5人のも
のが特に好ましい。
び生成系からメタノールを選択的に吸着しうるもので、
細孔径が3〜13Aのものが選ばれる。選択吸収能力か
らは細孔径が3〜6人のものが好ましく、4〜5人のも
のが特に好ましい。
反応は、メトキシシラン化合物を、ヒドロキシル化合物
ならびにモレキュラーシーブとともに反応容器に仕込み
、好ましくは0〜95℃、更に好ましくは20〜80℃
の温度で行う。0℃未満では反応速度が遅<、95℃を
越えると副反応が起こって収率が低下する。なお、相互
の接触を高めるために撹拌などの手段を用いることもで
きる。
ならびにモレキュラーシーブとともに反応容器に仕込み
、好ましくは0〜95℃、更に好ましくは20〜80℃
の温度で行う。0℃未満では反応速度が遅<、95℃を
越えると副反応が起こって収率が低下する。なお、相互
の接触を高めるために撹拌などの手段を用いることもで
きる。
仕込量はとくに限定されないが、メトキシシラン化合物
のエステル交換したいメトキシ基1モルに対して、1〜
5モルのヒドロキシル化合物を用いることが好ましい。
のエステル交換したいメトキシ基1モルに対して、1〜
5モルのヒドロキシル化合物を用いることが好ましい。
また、モレキュラーシーブの量は、生成するメタノール
の量に対して5〜20倍(重量)量が好ましい。モレキ
ュラーシーブの量が5倍量未満ではメタノールを完全に
吸着しえないので反応速度が遅くなり、200倍量越え
て用いても、その量に見合う効果が得られないからであ
る。
の量に対して5〜20倍(重量)量が好ましい。モレキ
ュラーシーブの量が5倍量未満ではメタノールを完全に
吸着しえないので反応速度が遅くなり、200倍量越え
て用いても、その量に見合う効果が得られないからであ
る。
本発明の方法により、オキシムシラン化合物、アルコキ
シシラン化合物、またはフェノキシシラン化合物などが
、比較的低い反応温度で反応を行うことにより収率よく
得られ、精製にも煩雑な工程を必要としない。
シシラン化合物、またはフェノキシシラン化合物などが
、比較的低い反応温度で反応を行うことにより収率よく
得られ、精製にも煩雑な工程を必要としない。
本発明の方法で得られたシラン化合物は、各種の有機ケ
イ素化合物の中間原料、シリコーンゴムや有機高分子の
架橋剤、無機質微粉末の表面処理剤、接着剤やプライマ
ーの成分などとして有用である。
イ素化合物の中間原料、シリコーンゴムや有機高分子の
架橋剤、無機質微粉末の表面処理剤、接着剤やプライマ
ーの成分などとして有用である。
以下、本発明を実施例によって説明するが、本発明はこ
れらの実施例によって限定されるものではない。尚、実
施例中、部はいずれも重量部である。
れらの実施例によって限定されるものではない。尚、実
施例中、部はいずれも重量部である。
実施例1〜3、比較例1
撹拌装置を備えた反応容器に、27.2部のメチルトリ
メトキシシランと69.6部の2−ブタノンオキシムを
仕込み、さらに細孔径が4人のモレキュラーシーブ10
0部を仕込んで、温度25℃で12時間の反応を行った
。反応後、モレキュラーシーブを濾過して、無色透明の
反応生成物を得た。
メトキシシランと69.6部の2−ブタノンオキシムを
仕込み、さらに細孔径が4人のモレキュラーシーブ10
0部を仕込んで、温度25℃で12時間の反応を行った
。反応後、モレキュラーシーブを濾過して、無色透明の
反応生成物を得た。
この反応生成物をガスクロマトグラフィーにかけたとこ
ろ、第1表に示す組成のものが得られていることが判っ
た。これを精留して、それぞれのオキシマド基含有シラ
ンを単離することができた(以上、実施例1)。
ろ、第1表に示す組成のものが得られていることが判っ
た。これを精留して、それぞれのオキシマド基含有シラ
ンを単離することができた(以上、実施例1)。
モレキュラーシーブの量を増した実施例2、細孔径5人
のモレキュラーシーブを用い、反応温度を上げた実施例
3、モレキュラーシーブを用いず、高温でメタノールを
系外に留去しながら反応を行う比較例1を行った。これ
らの反応条件と結果を第1表に示す。
のモレキュラーシーブを用い、反応温度を上げた実施例
3、モレキュラーシーブを用いず、高温でメタノールを
系外に留去しながら反応を行う比較例1を行った。これ
らの反応条件と結果を第1表に示す。
実施例4.比較例2
実施例、1と同じ反応装置に29.6部のビニルトリメ
トキシシランと52.2部の2−ブタノンオキシム、お
よび細孔径が4人のモレキュラーシーブ100部を仕込
み、第2表に示す条件で反応を行って、黄色透明の反応
生成物を得た。ガスクロマトグラフィーによる組成比は
第2表のとおりであった。なお、比較例2としてモレキ
ュラーシーブを用いないでメタノールを留去しつつ同様
の反応を行ったことろ、淡黄色透明の反応生成物を得た
。その組成比は第2表に示すとおりであった。
トキシシランと52.2部の2−ブタノンオキシム、お
よび細孔径が4人のモレキュラーシーブ100部を仕込
み、第2表に示す条件で反応を行って、黄色透明の反応
生成物を得た。ガスクロマトグラフィーによる組成比は
第2表のとおりであった。なお、比較例2としてモレキ
ュラーシーブを用いないでメタノールを留去しつつ同様
の反応を行ったことろ、淡黄色透明の反応生成物を得た
。その組成比は第2表に示すとおりであった。
第2表
実施例5
実施例1と同じ反応装置に27.2部のメチルトリメト
キシシラン、75.2部のフェノール、および細孔径が
4人のモレキュラーシーブ100部を仕込んで、温度5
5℃で12時間反応させたところ、無色透明の反応生成
物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる組成比は
第3表のとおりであった。精留により、容易にフェノキ
シ基含有シランを得ることができた。
キシシラン、75.2部のフェノール、および細孔径が
4人のモレキュラーシーブ100部を仕込んで、温度5
5℃で12時間反応させたところ、無色透明の反応生成
物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる組成比は
第3表のとおりであった。精留により、容易にフェノキ
シ基含有シランを得ることができた。
第3表
実施例6
実施例1と同じ反応装置に27.2部のメチルトリメト
キシシラン、66.6部のn−ブタノーノへおよび細孔
径が4人のモレキュラーシーブ150部を仕込んで、温
度50℃で8時間反応させたところ、無色透明の反応生
成物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる組成比
は第4表のとおりであった。精留により、容易にn−ブ
トキシ基含有シランを得ることができた。
キシシラン、66.6部のn−ブタノーノへおよび細孔
径が4人のモレキュラーシーブ150部を仕込んで、温
度50℃で8時間反応させたところ、無色透明の反応生
成物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる組成比
は第4表のとおりであった。精留により、容易にn−ブ
トキシ基含有シランを得ることができた。
第4表
実施例7
実施例1と同じ反応装置に24.0部のジメチルジメト
キシシラン、52.2部の2−ブタノンオキシム、およ
び細孔径が4人のモレキ二う−シーブ100部を仕込ん
で、温度40℃で8時間反応させたところ、無色透明の
反応生成物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる
組成比は第5表のとおりであった。精留により、容易に
オキシマド基含有シランを得ることができた。
キシシラン、52.2部の2−ブタノンオキシム、およ
び細孔径が4人のモレキ二う−シーブ100部を仕込ん
で、温度40℃で8時間反応させたところ、無色透明の
反応生成物を得た。そのガスクロマトグラフィーによる
組成比は第5表のとおりであった。精留により、容易に
オキシマド基含有シランを得ることができた。
第5表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 R^1_aSi(OCH_3)_4_−_a(式中、R
^1は互いに同一または相異なる置換または非置換の1
価の炭化水素基、aは0〜3の整数を示す)で表わされ
るメトキシシラン化合物と、一般式 X=NOHまたはYOH (式中、XはR^2R^3CまたはR^4Cで示される
2価の基、R^2およびR^3は互いに同一または相異
なる1価の炭化水素基、R^4は2価の炭化水素基、Y
はメチル基よりも大きな分子量をもつ1価の炭化水素基
を示す)で表わされるヒドロキシル化合物とを反応させ
て、一般式 R^1_aSi(OCH_3)_b(OZ)_4_−_
a_−_b(式中、R^1、aは前述のとおり、ZはX
=NまたはYで示される1価の基、X、Yは前述のとお
り、bは0〜3の整数を示し、かつa+bは0〜3の整
数である)で示されるシラン化合物を製造する方法にお
いて、反応を細孔径3〜13Åのモレキュラーシーブの
存在下に行うことを特徴とするシラン化合物の製造方法
。 2 モレキュラーシーブの細孔径が4〜5Åである特許
請求の範囲第1項記載のシラン化合物の製造方法。 3 反応温度が0〜95℃である特許請求の範囲第1項
記載のシラン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62275216A JPH0753742B2 (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | シラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62275216A JPH0753742B2 (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | シラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01117890A true JPH01117890A (ja) | 1989-05-10 |
JPH0753742B2 JPH0753742B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=17552317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62275216A Expired - Lifetime JPH0753742B2 (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | シラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0753742B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009131038A1 (ja) * | 2008-04-22 | 2009-10-29 | 東亞合成株式会社 | 硬化性組成物及び有機ケイ素化合物の製造方法 |
US7914657B2 (en) | 2005-12-01 | 2011-03-29 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Controlling the thickness of wafers during the electroplating process |
WO2014136822A1 (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | アルコキシシラン類の製造方法 |
CN115028839A (zh) * | 2022-07-11 | 2022-09-09 | 桂林宝龙达新材料有限公司 | 一种甲基苯氧基硅油的制备方法 |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP62275216A patent/JPH0753742B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7914657B2 (en) | 2005-12-01 | 2011-03-29 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Controlling the thickness of wafers during the electroplating process |
WO2009131038A1 (ja) * | 2008-04-22 | 2009-10-29 | 東亞合成株式会社 | 硬化性組成物及び有機ケイ素化合物の製造方法 |
JPWO2009131038A1 (ja) * | 2008-04-22 | 2011-08-18 | 東亞合成株式会社 | 硬化性組成物及び有機ケイ素化合物の製造方法 |
US8829142B2 (en) | 2008-04-22 | 2014-09-09 | Toagosei Co., Ltd. | Curable composition and process for production of organosilicon compound |
JP5625182B2 (ja) * | 2008-04-22 | 2014-11-19 | 東亞合成株式会社 | 硬化性組成物及び有機ケイ素化合物の製造方法 |
WO2014136822A1 (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | アルコキシシラン類の製造方法 |
JPWO2014136822A1 (ja) * | 2013-03-07 | 2017-02-16 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | アルコキシシラン類の製造方法 |
US9657039B2 (en) | 2013-03-07 | 2017-05-23 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Production method for alkoxysilanes |
DE112014001149B4 (de) * | 2013-03-07 | 2019-05-23 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen |
CN115028839A (zh) * | 2022-07-11 | 2022-09-09 | 桂林宝龙达新材料有限公司 | 一种甲基苯氧基硅油的制备方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0753742B2 (ja) | 1995-06-07 |
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