JPH01116514A - ポストオブジエクテイブ型光偏向器 - Google Patents
ポストオブジエクテイブ型光偏向器Info
- Publication number
- JPH01116514A JPH01116514A JP62274436A JP27443687A JPH01116514A JP H01116514 A JPH01116514 A JP H01116514A JP 62274436 A JP62274436 A JP 62274436A JP 27443687 A JP27443687 A JP 27443687A JP H01116514 A JPH01116514 A JP H01116514A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotation
- optical deflector
- scanning
- paraboloid
- point
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 34
- 229920000535 Tan II Polymers 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000013041 optical simulation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ポリゴンミラーを用いたポストオブジェクテ
ィブ型光偏向器に関するものである。
ィブ型光偏向器に関するものである。
従来の技術
レーザープリンタ等に用いられる光走査装置には、ビー
ムが収束レンズにより収束光束とされた後に光偏向器に
入射されるポストオブジェクティブ型の光走査装置と、
偏向器により偏向された後に収束レンズを通るプレオブ
ジェクト型の光走査装置とが知られている。
ムが収束レンズにより収束光束とされた後に光偏向器に
入射されるポストオブジェクティブ型の光走査装置と、
偏向器により偏向された後に収束レンズを通るプレオブ
ジェクト型の光走査装置とが知られている。
これらのうち、プレオブジェクト型の光走査装置は収束
レンズにより像面湾曲やfθ特性を補正し易く、収束位
置を平面とすることも容易であるために現在多く用いら
れている。しかしながら、収束レンズは偏向角をカバー
した広角レンズとして構成しなければならないため、そ
の構成が複雑となり、高価になる傾向がある。このよう
なことから簡単な構造の収束レンズを用いる必要がある
場合には、ポストオブジェクティブ型が選択される。
レンズにより像面湾曲やfθ特性を補正し易く、収束位
置を平面とすることも容易であるために現在多く用いら
れている。しかしながら、収束レンズは偏向角をカバー
した広角レンズとして構成しなければならないため、そ
の構成が複雑となり、高価になる傾向がある。このよう
なことから簡単な構造の収束レンズを用いる必要がある
場合には、ポストオブジェクティブ型が選択される。
発明が解決しようとする問題点
ポストオブジェクティブ型の光走査装置は、収束レンズ
の構成は簡単になるが、収束点が一般に湾曲した面上に
ある。そのため、像面湾曲を補正しなければならない。
の構成は簡単になるが、収束点が一般に湾曲した面上に
ある。そのため、像面湾曲を補正しなければならない。
そこで、特開昭61−156020号公報に記載されて
いるように、ポリゴンミラーの反射面を球面又は円筒面
とすることにより像面湾曲を小さくすることが行われて
いる。これにより、像面湾曲の補正は実用上問題のない
ところまで行われているが、走査非直線性の補正まで行
うことはできず、電気的手段によりその走査非直線性の
補正を行っているものである。例えば、レーザープリン
タ等では信号のクロックを連続的又は段階的に変化させ
る等の手段により補正を行なっている。
いるように、ポリゴンミラーの反射面を球面又は円筒面
とすることにより像面湾曲を小さくすることが行われて
いる。これにより、像面湾曲の補正は実用上問題のない
ところまで行われているが、走査非直線性の補正まで行
うことはできず、電気的手段によりその走査非直線性の
補正を行っているものである。例えば、レーザープリン
タ等では信号のクロックを連続的又は段階的に変化させ
る等の手段により補正を行なっている。
問題点を解決するための手段
反射面が凸の放物面または放物筒面であるポリゴン光偏
向器であり、原点を回転中心としたポリゴン光偏向器の
回転平面内で放物線となる反射面の2次係数なa、回転
角をθとする時θ=Oでの放物線の回転中心Oから入射
光線が反射面で反射する位置までの距離をRm、回転軸
から走査面までの距離をR1有効走査長をり0、入射光
線を反射面の回転平面へ斜影した時、斜影された入射光
線を線対称軸とする反射面の回転角θ=O1二の時の走
査面上の位置をy=Qとし、y=L。/2となる前記ポ
リゴン光偏向器の回転角θ=θ0とし、放物面へのX軸
と回転角θをなす入射点のX座標をx0とし、その入射
点のX座標をy0とし、放物面の入射点での法線がX軸
となす角度をβとし、走査面上のスポットの振れ位置を
Xとし、回転中心と放物面に入射するビームの位置収束
点との距離なQとし、回転中心と入射点との距離をrと
し、像点の位置をxc、ycとし、回転中心から入射光
線の方向に沿って計った像点との距離をXcとした時、 一〇。≦θ≦θ。
向器であり、原点を回転中心としたポリゴン光偏向器の
回転平面内で放物線となる反射面の2次係数なa、回転
角をθとする時θ=Oでの放物線の回転中心Oから入射
光線が反射面で反射する位置までの距離をRm、回転軸
から走査面までの距離をR1有効走査長をり0、入射光
線を反射面の回転平面へ斜影した時、斜影された入射光
線を線対称軸とする反射面の回転角θ=O1二の時の走
査面上の位置をy=Qとし、y=L。/2となる前記ポ
リゴン光偏向器の回転角θ=θ0とし、放物面へのX軸
と回転角θをなす入射点のX座標をx0とし、その入射
点のX座標をy0とし、放物面の入射点での法線がX軸
となす角度をβとし、走査面上のスポットの振れ位置を
Xとし、回転中心と放物面に入射するビームの位置収束
点との距離なQとし、回転中心と入射点との距離をrと
し、像点の位置をxc、ycとし、回転中心から入射光
線の方向に沿って計った像点との距離をXcとした時、 一〇。≦θ≦θ。
で定められるポリゴン光偏向器の回転角θの範囲におい
て、 2βm yo =Xs janθ β=tan−’ (2ay、 ) x=(呵τ鵡、”)tan2(θ−β)dθ cos(
θ−β) dθ cos(θ−β) dθ(1+4a” y、’ )cos(θ−β)xC=
xC′cO8θ+yc°sinθとして →、02L、≦X−θlθ。・L/2≦0.02L、(
走査直線性誤差)−O,05R≦Xc−R≦0.05R
(像面湾曲誤差)を満足する放物面または放物面筒であ
るようにした。
て、 2βm yo =Xs janθ β=tan−’ (2ay、 ) x=(呵τ鵡、”)tan2(θ−β)dθ cos(
θ−β) dθ cos(θ−β) dθ(1+4a” y、’ )cos(θ−β)xC=
xC′cO8θ+yc°sinθとして →、02L、≦X−θlθ。・L/2≦0.02L、(
走査直線性誤差)−O,05R≦Xc−R≦0.05R
(像面湾曲誤差)を満足する放物面または放物面筒であ
るようにした。
作用
ポリゴン光偏向器の反射面は、放物面または放物筒面で
あるため、従来の半径Rの反射面に対してその面の曲率
を変化させることができ、これにより、設計の自由度が
広がり、像面湾曲と走査非直線性とを補正することがで
きるものである。
あるため、従来の半径Rの反射面に対してその面の曲率
を変化させることができ、これにより、設計の自由度が
広がり、像面湾曲と走査非直線性とを補正することがで
きるものである。
実施例
本発明の一実施例を第1図乃至第4図に基づいて説明す
る。まず、ポリゴン光偏向器1は第1図に示すように頂
点を有する放物面または放物筒面からなる反射面2を備
え、この反射面2が0を中心として回転するように設け
られている。また、第3図に示すように軸光線と微分光
線とはS。に収束するように入射し、反射面2上で反射
して8点に結像する。ポリゴン光偏向器1の回転中心O
よりQの位置に収束する2本の光線を考え、これらが放
物面または放物筒面による反射面2で反射された後に収
束する点Sにより像面を定義する。
る。まず、ポリゴン光偏向器1は第1図に示すように頂
点を有する放物面または放物筒面からなる反射面2を備
え、この反射面2が0を中心として回転するように設け
られている。また、第3図に示すように軸光線と微分光
線とはS。に収束するように入射し、反射面2上で反射
して8点に結像する。ポリゴン光偏向器1の回転中心O
よりQの位置に収束する2本の光線を考え、これらが放
物面または放物筒面による反射面2で反射された後に収
束する点Sにより像面を定義する。
以下、反射面2に固定した回転座標系xyで議論し、収
束点5(xc、yc)を求め、最後に固定座標へ変換す
る。
束点5(xc、yc)を求め、最後に固定座標へ変換す
る。
放物筒の方程式は
x+ay”−Rm=0 (1)で表され
、軸光線、微分光線は以下のように表することができる
。
、軸光線、微分光線は以下のように表することができる
。
y = x tanθ (2)y+ff1si
nθ=(x+Acosθ)tan(θ荀θ)(3)また
、反射軸光線、反射微分光線は以下のように表せる。
nθ=(x+Acosθ)tan(θ荀θ)(3)また
、反射軸光線、反射微分光線は以下のように表せる。
y −yo =(x −x、)tan(2β−θ)(4
)−dxtan(2β−θ)(5) (4)(5’)式から反射軸光線と反射微分光線の交点
(収束点S)を求めると。
)−dxtan(2β−θ)(5) (4)(5’)式から反射軸光線と反射微分光線の交点
(収束点S)を求めると。
(dy/dθ−dx/dθtan(2β−θ))cos
”(2β−θ)xc=x、
(6)1−2・dβ/dθ (′l) ここで、X*+V*はθの関数として表すと、V* =
Xs tanθ (9)であ
り、βは β=tan−“(2ay。)
(10)である。微係数d x / dθ、dy
/dθは、第4図かられかるように と表わすことができる。ここで、dβ/dθは(8)(
9)(−to)式から となり、固定座標系での収束点s (Xc、Yc)を求
めると、 XC:xc−cosθ+yc−sinθ
(14)Yc=−xc−sinθ+yc’cosθ
(15)となる。以上の関係を用い、
光学シミュレーションを行い、走査直線性誤差が±2%
以内、像面湾曲が走査光路長:Rの5%以内となる条件
を捜した。ポリゴン光偏向器1の6面の反射面2の回転
角は60’で一走査に対応するので、およそ20〜30
°付近で結像スポット位置が220mm幅とれて、走査
直線性誤差がOとなるような条件で、放物面の2次係数
a、内接円半径Rm、及びポリゴン回転中心からスポッ
ト位置までの距離Rを決定し、走査直線性誤差が±2%
以内、像面湾曲が±0.05R以内(走査光路長の5%
以内)となるような条件を算出したものである。
”(2β−θ)xc=x、
(6)1−2・dβ/dθ (′l) ここで、X*+V*はθの関数として表すと、V* =
Xs tanθ (9)であ
り、βは β=tan−“(2ay。)
(10)である。微係数d x / dθ、dy
/dθは、第4図かられかるように と表わすことができる。ここで、dβ/dθは(8)(
9)(−to)式から となり、固定座標系での収束点s (Xc、Yc)を求
めると、 XC:xc−cosθ+yc−sinθ
(14)Yc=−xc−sinθ+yc’cosθ
(15)となる。以上の関係を用い、
光学シミュレーションを行い、走査直線性誤差が±2%
以内、像面湾曲が走査光路長:Rの5%以内となる条件
を捜した。ポリゴン光偏向器1の6面の反射面2の回転
角は60’で一走査に対応するので、およそ20〜30
°付近で結像スポット位置が220mm幅とれて、走査
直線性誤差がOとなるような条件で、放物面の2次係数
a、内接円半径Rm、及びポリゴン回転中心からスポッ
ト位置までの距離Rを決定し、走査直線性誤差が±2%
以内、像面湾曲が±0.05R以内(走査光路長の5%
以内)となるような条件を算出したものである。
以下に各種の条件の基に実測した実例を説明する。
[実例1]
まず、第5図はポリゴン光偏向器の回転軸の方向から見
た光線図である。そして、第6図(a)は主走査側の像
面湾曲と走査位置を表し、第6図(b)はfθ誤差と走
査位置の関係である。
た光線図である。そして、第6図(a)は主走査側の像
面湾曲と走査位置を表し、第6図(b)はfθ誤差と走
査位置の関係である。
しかして、内接円半径:Rm=22.7419画、放物
線の2次係数:a=2.8082X10−3、入射光線
の仮想収束点: y=−44,411鴫、走査面は(0
,296,079,O)を通り、θ=0の時の光線に垂
直な平面で有効走査長220mmで25.22度の回転
角を利用すると、主走査側の像面湾曲は最大で3.55
2mm、fθ誤差の最大値は−1,921mmとなる。
線の2次係数:a=2.8082X10−3、入射光線
の仮想収束点: y=−44,411鴫、走査面は(0
,296,079,O)を通り、θ=0の時の光線に垂
直な平面で有効走査長220mmで25.22度の回転
角を利用すると、主走査側の像面湾曲は最大で3.55
2mm、fθ誤差の最大値は−1,921mmとなる。
第9図は第5図及び第6図の実例と略同じ光路長、ミラ
ー利用角で平面ポリゴンを用いた像面湾曲とfθ誤差で
、それぞれ−19,178mm、−2,118+nmと
なる。この結果、明らかに放物面の方が像面湾曲もfθ
誤差も小さく押えられていることがわかる。
ー利用角で平面ポリゴンを用いた像面湾曲とfθ誤差で
、それぞれ−19,178mm、−2,118+nmと
なる。この結果、明らかに放物面の方が像面湾曲もfθ
誤差も小さく押えられていることがわかる。
し実例2]
第7図(a)(b)は第二の実例を表し、内接円半径:
Rm=22.995866mm、放物線の2次係数:a
=3,50326X10−’、入射光線ノ仮想収束点:
y=−31,087胴、走査面は(0,246,361
,O)を通り、θ=0の時の光線に垂直な平面で有効走
査長220mmで31.458度の回転角を利用すると
、主走査側の像面湾曲は最大で7.691mm、fθ誤
差の最大値は−2゜730mmとなる。第10図は第7
図の実例と略同じ光路長、ミラー利用角で平面ポリゴン
を用いた像面湾曲とfθ誤差で、それぞれ−22,44
5mm、−3,912avとなる。この結果、前述の実
例1と同様に放物面の方が像面湾曲もfθ誤差も小さく
押えられていることがわかる。
Rm=22.995866mm、放物線の2次係数:a
=3,50326X10−’、入射光線ノ仮想収束点:
y=−31,087胴、走査面は(0,246,361
,O)を通り、θ=0の時の光線に垂直な平面で有効走
査長220mmで31.458度の回転角を利用すると
、主走査側の像面湾曲は最大で7.691mm、fθ誤
差の最大値は−2゜730mmとなる。第10図は第7
図の実例と略同じ光路長、ミラー利用角で平面ポリゴン
を用いた像面湾曲とfθ誤差で、それぞれ−22,44
5mm、−3,912avとなる。この結果、前述の実
例1と同様に放物面の方が像面湾曲もfθ誤差も小さく
押えられていることがわかる。
[実例3]
第8図(a)(b)は第三の実例を表し、内接円半径:
Rm=19.9mm、放物線の2次係数; a=2゜6
368X10−’、入射光線の仮想収束点:y=−50
,9346mm、走査面は(0,299,9979、O
)を通り、θ=Oの時の光線に垂直な平面で有効走査長
220mmで24.02度の回転角を利用すると、主走
査側の像面湾曲は最大で1゜32mm、fθ誤差の最大
値は−1,861mmとなる。ポリゴン回転中心から走
査面までの距離がほぼ等しい平面ポリゴンの例(第9図
)と比べて各誤差がよく補正できていることがわかる。
Rm=19.9mm、放物線の2次係数; a=2゜6
368X10−’、入射光線の仮想収束点:y=−50
,9346mm、走査面は(0,299,9979、O
)を通り、θ=Oの時の光線に垂直な平面で有効走査長
220mmで24.02度の回転角を利用すると、主走
査側の像面湾曲は最大で1゜32mm、fθ誤差の最大
値は−1,861mmとなる。ポリゴン回転中心から走
査面までの距離がほぼ等しい平面ポリゴンの例(第9図
)と比べて各誤差がよく補正できていることがわかる。
発明の効果
本発明は上述のように構成したので、fθレンズのいら
ない像面湾曲のみならず、走査直線性をも小さく押えた
ポストオブジェクティブ型光偏向器を構成することがで
き、また、fθレンズを使わないので、光学系全体とし
て安価に構成することができ、とくに、ポリゴン光偏向
器の反射面は、放物面または放物筒であるため、従来の
半径Rの反射面に対してその面の曲率を変化させること
ができ、これにより、設計の自由度が広がり、像面湾曲
と走査非直線性とを補正することができる等の効果を有
するものである。
ない像面湾曲のみならず、走査直線性をも小さく押えた
ポストオブジェクティブ型光偏向器を構成することがで
き、また、fθレンズを使わないので、光学系全体とし
て安価に構成することができ、とくに、ポリゴン光偏向
器の反射面は、放物面または放物筒であるため、従来の
半径Rの反射面に対してその面の曲率を変化させること
ができ、これにより、設計の自由度が広がり、像面湾曲
と走査非直線性とを補正することができる等の効果を有
するものである。
図面は本発明の一実施例を示すもので、第1図は放物面
に入射・反射する光線の関係を示す線図、第2図はポリ
ゴン光偏向器の平面図、第3図及び第4図は光線の関係
を示す線図、第5図は実例1の光線図、第6図(a)は
走査位置と主走査側像面位置の関係を示すグラフ、第6
図(b)は走査位置とfθ誤差の関係を示すグラフ、第
7図(&)は実例2の走査位置と主走査側像面位置の関
係を示すグラフ、第7図(b)は走査位置とfθ誤差の
関係を示すグラフ、第8図(a)は実例3の走査位置と
主走査側像面位置の関係を示すグラフ、第8図(b)は
走査位置とfθ誤差の関係を示すグラフ、第9図(a)
は平面ポリゴンミラーの走査位置・と主走査側像面位置
の関係を示すグラフ、第9図(b)は走査位置とfθ誤
差の関係を示すグラフ、第10図(a)は別の条件の平
面ポリゴンミラーの走査位置と主走査側像面位置の関係
を示すグラフ、第10図(b)は走査位置とfθ誤差の
関係を示すグラフである。 1・・・ポリゴン光偏向器、2・・・反射面出 願 人
東京電気株式会社 ici:′、”’+’、Q;’。 / \
に入射・反射する光線の関係を示す線図、第2図はポリ
ゴン光偏向器の平面図、第3図及び第4図は光線の関係
を示す線図、第5図は実例1の光線図、第6図(a)は
走査位置と主走査側像面位置の関係を示すグラフ、第6
図(b)は走査位置とfθ誤差の関係を示すグラフ、第
7図(&)は実例2の走査位置と主走査側像面位置の関
係を示すグラフ、第7図(b)は走査位置とfθ誤差の
関係を示すグラフ、第8図(a)は実例3の走査位置と
主走査側像面位置の関係を示すグラフ、第8図(b)は
走査位置とfθ誤差の関係を示すグラフ、第9図(a)
は平面ポリゴンミラーの走査位置・と主走査側像面位置
の関係を示すグラフ、第9図(b)は走査位置とfθ誤
差の関係を示すグラフ、第10図(a)は別の条件の平
面ポリゴンミラーの走査位置と主走査側像面位置の関係
を示すグラフ、第10図(b)は走査位置とfθ誤差の
関係を示すグラフである。 1・・・ポリゴン光偏向器、2・・・反射面出 願 人
東京電気株式会社 ici:′、”’+’、Q;’。 / \
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 反射面が凸の放物面または放物筒面であるポリゴン光偏
向器であり、原点を回転中心としたポリゴン光偏向器の
回転平面内で放物線となる反射面の2次係数をa、回転
角をθとする時θ=0での放物線の回転中心Oから入射
光線が反射面で反射する位置までの距離をRm、回転軸
から走査面までの距離をR、有効走査長をL_0、入射
光線を反射面の回転平面へ斜影した時、斜影された入射
光線を線対称軸とする反射面の回転角θ=0、この時の
走査面上の位置をy=0とし、y=L_0/2となる前
記ポリゴン光偏向器の回転角θ=θ_0とし、放物面へ
のx軸と回転角θをなす入射点のx座標をx_0とし、
その入射点のy座標をy_0とし、放物面の入射点での
法線がx軸となす角度をβとし、走査面上のスポットの
振れ位置をXとし、回転中心と放物面に入射するビーム
の位置収束点との距離をlとし、回転中心と入射点との
距離をrとし、像点の位置をxc、ycとし、回転中心
から入射光線の方向に沿つて計つた像点との距離をXc
とした時、 −θ_0≦θ≦θ_0 で定められるポリゴン光偏向器の回転角θの範囲におい
て、 x_0=2Rm/1+√(1+4aRm・tan^2θ
)y_0=x_0tanθ β=tan^−^1(2ay_0) X=(R−√[x_0^2+y_0^2])tan2(
θ−β)dx/dθ=−(l+r)sinβ/cos(
θ−β)dy/dθ=(l+r)cosβ/cos(θ
−β)dβ/dθ=2a(l+r)cosβ/(1+4
a^2y_0^2)cos(θ−β)xc=x_0+{
dy/dθ−(dx/dθ)tan(2β−θ)}co
s^2(2β−θ)/1−2・dβ/dθyc=yc+
{dy/dθ−(dx/dθ)tan(2β−θ)}c
os^2(2β−θ)tan(2β−θ)/1−2・d
β/dθXc=xc・cosθ+yc・sinθ として −0.02L_0≦X−θ/θ_0・L_0/2≦0.
02L_0(走査直線性誤差)−0.05R≦Xc−R
≦0.05R(像面湾曲誤差)を満足する放物面または
放物面筒であることを特徴とするポストオブジエクテイ
ブ型光偏向器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62274436A JPH01116514A (ja) | 1987-10-29 | 1987-10-29 | ポストオブジエクテイブ型光偏向器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62274436A JPH01116514A (ja) | 1987-10-29 | 1987-10-29 | ポストオブジエクテイブ型光偏向器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01116514A true JPH01116514A (ja) | 1989-05-09 |
Family
ID=17541653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62274436A Pending JPH01116514A (ja) | 1987-10-29 | 1987-10-29 | ポストオブジエクテイブ型光偏向器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01116514A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5551149A (en) * | 1993-05-13 | 1996-09-03 | Yazaki Corporation | Method of making busbars |
US6712623B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-03-30 | Sumitomo Wiring Systems, Ltd. | Junction box |
-
1987
- 1987-10-29 JP JP62274436A patent/JPH01116514A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5551149A (en) * | 1993-05-13 | 1996-09-03 | Yazaki Corporation | Method of making busbars |
US6712623B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-03-30 | Sumitomo Wiring Systems, Ltd. | Junction box |
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