JPH01115940A - 半導体封止樹脂用充填材 - Google Patents

半導体封止樹脂用充填材

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JPH01115940A
JPH01115940A JP27327587A JP27327587A JPH01115940A JP H01115940 A JPH01115940 A JP H01115940A JP 27327587 A JP27327587 A JP 27327587A JP 27327587 A JP27327587 A JP 27327587A JP H01115940 A JPH01115940 A JP H01115940A
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JP
Japan
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silica
powder
filler
particle size
alumina
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JP27327587A
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English (en)
Inventor
Kenji Otaguro
太田黒 健次
Noriyuki Kashiwamura
則之 柏村
Takashi Chiba
尚 千葉
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、封止用樹脂組成物に用いた際に優れた耐熱衝
撃性、熱伝導性及び耐湿信頼性を付与することのできる
半導体封止樹脂用充填材に関する。
〔従来の技術〕
従来、シリカ質充填材とエポキシ樹脂とからなる樹脂組
成物は、電気特性、機械的強度、耐熱性、耐湿信頼性及
び成形性に優れるため、信頼性の高い電気絶縁材料とし
て、IC、LSI 、 VLSI 、ダイオード、トリ
オード、サイリスタ、トランジスター、トランスデユー
サ−、コイル、コンデンサー。
抵抗器等の電子部品の封止、含浸、接着などに幅広く利
用されている。
近年、半導体素子自体は高密度化、大型チップ化される
とともに成形品のパッケージ構造も薄型化、小屋化され
てきており、耐熱衝撃性及び熱伝導性に優れた封止材が
望まれている。一方、高密度実装及び実装工程の合理化
のため、半田浸漬もしくは半田す70−法で半田付けす
る比率が高まっておシ、半田浸漬後の耐湿信頼性の確保
が1要になっている。したがって、半導体封止材用樹脂
組成物の耐熱衝撃性、高熱伝導性及び耐湿信頼性のいず
れをも向上させることが1豐になってきている。これら
の問題に対処するために、球状フィラーを充てん材とし
て使用する方法が提案されてい込(%開昭61−647
54号公報)。
この樹脂組成物は確かに破砕フィラーのみを使用した樹
脂組成物よりも耐熱衝撃性は改良されたが、熱伝導性は
まだ充分でなくさらに大幅な改良が求められている。熱
伝導性を向上させる方法として、α−石英を溶融シリカ
と併用する方法が提案されている(特開昭56−109
47号公報)が、ハイブリッドICやパワーIC等の高
集積化に対しては充分に満足できるほどの高熱伝導性を
付与することができず、さらには耐熱衝撃性と耐湿信頼
性は溶融シリカ単独の場合よりも低下する欠点があった
また一方では、樹脂組成物に高熱伝導性と良好な耐熱衝
撃性を付与することができる充填材として窒化珪素が提
案されている(特開昭 61−285247号公報、特
開昭61−221220号公報)が、このものでは半田
浸漬後の耐湿信頼性が不足するので近年の高密度実装化
の要求を満たすことができない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、以上述べた従来の充填材の欠点を解決するこ
とを目的とするものであって、耐熱衝撃性、高熱伝導性
及び耐湿信頼性を付与することのできる半導体封止樹脂
用充填材を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、サイアロン及び/又はシリコンオキシナイト
ライドの粉末を必須成分としてなることを特徴とする半
導体封止樹脂用充填材でおる。
以下、さらに詳しく本発明について説明する。
まず、本発明の充填材の製造法から説明する。
本発明の充填材であるサイアロン粉末はA群の原料粉末
を、筐た、シリコンナイトライド粉床はB群の原料粉末
を高温窒化することによって製造することができる。
A群の例 (1)  アルミナと窒化珪素 (2)  アルミナと金属シリコン (3)シリカと窒化アルミニウム (4)シリカと金属アルミニウム (5)  シリカと金属シリコンと金属アルミニウム(
6)  シリカと窒化珪素と窒化アルミニウム(カ ア
ルミナと窒化珪素と窒化アルミニウム(8)  シリカ
とアルミナとカーボン(9)  シリカと窒化アルミニ
ウムとカーボンαα シリカとアルミナと窒化珪素と窒
化アルミニウム αυ シリカとアルミナと窒化アルミニウムとカーボン 餞 珪酸エステルと窒化アルミニウムとアルミナとカー
ボン 住3 金属アルミニウムとシリカとアルミナと窒化珪素
と窒化アルミニウム I 珪酸アルミニウムとカーボンとリグニンtIS  
シリコン−アルミニウム合金1句 上記(1)〜α9の
粉末のいずれかに、Li、Ca。
Mg、Mn、Y及びランタニド金属の酸化物、炭酸塩及
び蓚酸塩から選ばれた少なくとも1種をさらに配合 なお、(1)〜α9はβ型サイアロン、αeはα型サイ
アロンの例である。
B群の例 (1)多孔質シリカ (2)金属シリカとシリカ (3)  シリカと窒化珪素 (4)  シリカとカーボン (5)  金属シリコンとシリカと窒化珪素本発明の充
填材を製造するために使用される上記原料粉末は、65
メツシュ以下好ましくは200メツシユ以下特に好まし
くは325メツシユ以下である。65メツシユよシも粗
粒であると未反応分が残り、熱伝導性、耐熱衝撃性、電
気絶縁性及び耐湿信頼性の少なくとも1つが損なわれる
金属シリコンは、通常市販されている純度95係以上好
ましくは97%以上のものでよいが、256に以上の高
集積度DRAM等にはウラン含有率が11)l)”未満
である高純度金属シリコンが好ましく、具体的には半導
体用の金属シリコン及びその製造工程で生ずる加工残や
切粉等である。
金属アルミニウムも通常市販されている純度90%以上
好ましくは99%以上のものでよいが、低、ウランが要
求される場合には、純度99.999係以上の半導体用
超高純度アルミニウムが使用される。製法的には、金属
アルミニウム地金を粉砕してもよいが、反応性を高めた
シネ細物の混入を防ぐためにアトマイズ粉や鱗片状の粉
末の方がさらに好ましい。
シリカとしては、珪石、珪砂、水晶等の天然原料及び該
天然原料を溶融して得られる溶融シリカ、さらには珪酸
アンモニウム、アルカリ金属珪酸塩、アルコキシシラン
化合物及びハロゲン化シラン化合物をイオン父換、加水
分解、熱分解及び/又は噴霧熱分解して得られる合成シ
リカ、またさらにはこれらのシリカを1200℃以上に
加熱して得られるクリストバラスト構造のシリカ、並び
に以上のシリカもしくはフェロシリコン等を製造する際
に得られるフユームドシリカ等が挙げられる。
低アルカリ、低塩素、低ウランが特に要求される場合に
は、特に厳選、精製された天然原料、溶融シリカ及び合
成シリカが使用される。
アルミナとしては、ベーマイト、ダイアスボア。
バイアライト、ヤプサイト等の水利アルミナ、さらには
軽焼アルミナ、焼結アルミナ、溶融アルミナ、揮発性ア
ルミニウム化合物を気相反応させて得られ為超微粒子酸
化アルミニウム、高純度の金属アルミニウムを酸化して
得られる高純度アルミナ、アルコキシアルミニウム化合
物やハロゲン化アルミニウム化合物等を加水分解、熱分
解及び/又は噴霧熱分解して得られるアルミナ等が挙げ
られるが、好ましくはNa+等のイオン性不純物の少な
いアルミナである。低ウラン用途には、半導体用超高純
度アルミニウムを酸化して得られるアルミナ及びアルコ
キシアルミニウム化合物やハロビン化アルミつウムから
得られるアルミナが好ましい。
珪酸アルミニウムとしては、カオリン、メタカオリン、
ムライト、モンモリロナイト、シリマナイト、パイロフ
ィライト、アルミノシリカデル、さらにはアルコキシシ
ラン化合物もしくはハロゲン化シラン化合物の少くとも
いずれか1つとアルコキシアルミニウム化合物もしくは
ハロゲン化アルミニウム化合物の少くともいずれか1つ
とを同時に加水分解、熱分解及び/又は噴霧熱分解して
得られる珪酸アルミニウム等が挙げられる。低ウランと
いう点からは、アルコキシシラン化合物もしくはハロゲ
ン化シラン化合物から得られる珪酸アルミニウムが最も
好ましい。
窒化珪素としては、非晶質、α型、β型のいずれでもよ
く、また、窒化アルミニウムは、通常市販されているも
のでよいが、これらは反応性が良好な比表面積の大きな
粉末が好ましい。これらの低ウラン用途には、それぞれ
の高純度の金属シリコン、シリカ、ハロダン化シリコン
化合物、金属アルミニウム、アルミナ等から得られる窒
化物が使用される。
カーボンは、JISK6221−1970 (ゴム用カ
ーボンブラック試験方法)の吸油量B法(ヘラ練り法、
油としてり、B、P使用)による吸油量の測定値が10
01M/100.!i’以上の無定形カーボン粉末が好
ましく、たとえば、アセチレンブラック2.チャンネル
ブラック2、ランプブラック、ファーネスブラック等を
挙げることができる。特に反応性に富むランプブラック
が好ましい。
以上の原料粉末を、■ミキサー、ダブルコーンプレンダ
ー、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー、スーパーミ
キサー、セメントミキサー、振動ミル、ボールミル等の
混合機にて乾式あるいは湿式下で充分混合して、混合粉
末をそのまま高温窒化させてもよいが、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル等のバインダーを添加し、成形後高温窒化させてもよ
く、さらには流動性を高めるべく、振動造粒、転勤造粒
、攪拌造粒、噴霧造粒、流動乾燥造粒もしくはエアレー
ションによる造粒で球状化させた後高温窒化させてもよ
い。
高温窒化するためのガス雰囲気としては、シリコン−ア
ルミニウム合金粉末を原料とする場合のみ、窒素及び酸
素を含む雰囲気を採用するが、他の原料粉末の場合は、
窒素及び/又はアンモニアガス雰囲気下で実施するのが
よい。なお、必要ならは、水素、−酸化炭素を少量共存
させてもよい。
高温窒化する温度としては、アルカリ金属珪酸塩、アル
コキシシラン化合物やハロゲン化シラン化合物から得ら
れる多孔質シリカをアンモニアガス雰囲気で窒化する場
合には、500〜1400℃好ましくは700〜120
06C%に好壕しくけ800〜1100℃であるが、他
の場合には、1200〜1800°C好ましくは160
0〜1600℃特に好ましくは1400〜1500’C
でおる。
本発明の充填材であるサイアロンは、α型及びβ凰の2
つの結晶構造を有し、次式で表現されるものである。
α型 Mz(Si−At)12(0,N)16(13式
M−LitMgsCa、MnmY)7タニド元素β型 
5i6−2AAzozN6−z    −(21式(1
1式で表現されるα−サイアロンにおいて、良好な耐湿
信頼性を得るためのMとしては、リチウム以外の金属元
素特にイツトリウムが好ましい。
また、Xとしては、0くX≦2の値をとりうるが、0.
2≦X≦1%に0.3≦X≦0.7が好ましい。X〈0
.2では、α−サイアロンと共存するβ−8i3N。
の割合が多く、充填材として使用した場合に耐湿信頼性
が低下する。なお、81/AAの好ましい原子比は2〜
40であシ、この範囲からはずれると窒化珪素もしくは
窒化アルミニウムが多く混入するため、耐湿信頼性が低
下する。
(2)式で表現されるβ−サイアロンにおいて、Zの値
としては0〈z≦5の値をとシうるが、好ましくはo 
< z < 4.2である。2が小さいものほど、具体
的にはo<z<iのβ−サイアロンを充填材として使用
するとより高熱伝導性の封止用樹脂組成物が得られ、逆
に、2が太きいものほど、具体的には1≦Z(5好まし
くは1(z(4,2のβ−サイアロンでは、より耐熱衝
撃性及び耐湿信頼性に優れた封止用樹脂組成物を得るこ
とができる。
なお、z−0はβ−8i3N4を意味し、熱伝導性及び
耐熱衝撃性に優れるが耐湿信頼性が充分でない。
(1)式のα−サイアロンには高熱伝導性の付与効果が
犬であるという利点があ〕、一方、(2)式のβ−サイ
アロンには、金型摩耗が少なくてアルカリ金属やアルカ
リ土類金属の含有量が低く、よシ耐熱衝撃性と耐湿信頼
性に優れた樹脂組成物を得ることができるという利点が
ある。
一方、本発明の充填材である、シリコンオキシナイトラ
イドは、通常、8i2ON2で表現されるシリコンオキ
シナイトライド結晶及びたとえばゾル・rル反応等で得
られた多孔質シリカをアンモニアガス雰囲気中で加熱処
理して得られたシリコンオキシナイトライドガラスであ
る。後者のシリコンオキシナイトライドガラスの窒素含
有率は、理論上、281量%まで可能であるが、製造の
しやすさから1〜16重量%特に2〜81量チが好まし
い。
シリコンオキシナイトライド結晶とシリコンオキシナイ
トライドガラスとの比較において、よシ高熱伝導性樹脂
組成物を得るには、前者の方が好ましく、よ)耐熱衝撃
性及び耐湿信頼性に優れた樹脂組成物を得るためには後
者の方が好ましい。
また、ゾル・デル法を採用することによシ、形状が球状
、鱗片状及び繊維状等の粉末を容易に製造することがで
きるので、後者のシリコンオキシナイトライドガラスの
形状を選択することによシ、より高充填することができ
たシ、樹脂組成物の耐湿信頼性を一段と高めたシ、さら
には曲げ強度等の機械的性質を向上させることができる
。なお、シリコンオキシナイトライドガラスにおいて、
窒素含有率が1!t%未満であると、熱伝導性が良好な
樹脂組成物を得難く、一方、16JIUj1%を超える
と、高温窒化に要する反応時間がきわめて長くなったシ
多孔質シリカの製造条件が狭くなって再現性が乏しくな
ったシする。
本発明の充填材でおるα−サイクロン及びβ−サイクロ
ン並びにシリコンオキシナイトライド結晶の純度は、8
0%以上好ましくは90%以上特に好ましくは95%以
上である。純度が80%未満でおると、得られる樹脂組
成物の電気絶縁性、熱伝導性、耐熱衝撃性及び耐湿信頼
性の少くとも1つが損われる。
本発明の上記結晶性粉末の純度はX線回折チャートから
得られる種々の不純物結晶性粉末と本発明の結晶性粉末
との所定位置のピークの高さの和に対する本発明の結晶
性粉末のぎ−りの比で代表させるものとする。具体的な
ピークは以下のとおシである。
本発明の結晶性粉末 α−サイアロンの(210)面〃
      β−サイアロンの(101)面本発明の結
晶性粉末 シリコ檜イトライド    の(110)面
結晶性不純物 α−窒化珪素   の(21D)面I 
   β−窒化珪素    の(101)面〃    
窒化アルミニウム の(101)面’    513N
4・Y2O3の(121)面〃     クリストバラ
イト  の(101)面〃    α−ククオーツ  
 の(101)面〃    α−アルミナ   の(1
13)面〃    ムライト      の(120)
面〃    金属シリコン    の(111)面〃 
   金属アルミニウム の(111)面〃   β−
8iCの(111)面 なお、ショルダーピークはメインピーク(ショールダー
ビークを有する親ぎ−り)のテーリング処理を行なった
ピーク高さとする。また、α−サイアロンとα−窒化珪
素、β−サイアロンとβ−窒化珪素のX線回折チャート
は酷似してお9、α−サイアロン中のα−窒化珪素の含
有率及びβ−サイアロン中のβ−窒化珪素の含有率は測
定し難いが、各々のサイアロンの製造のために使用した
原料ピークの減少で間接的に各々のサイアロンが製造で
きているかどうかによって判断することができる。
本発明におけるシリコンオキシナイトライドガラスは、
本質的には非晶質であるのでシリコンオキシナイトライ
ドガラスそのものk、X線回折で定量するとをはできな
いが、クリストバライト等の不純物の量としては、シリ
コンオキシナイトライドガラス1ooxt部に内部標準
物質としてのα−アルミナを5重量部添加して測定した
場合に、α−アルミナの(113)面ビークよジも高い
不純物ピークが存在しない程度、好ましくはα−アルミ
ナのピーク高さの半分以下の高さのピークが存在する程
度の高純度で、かつ、ケルダール法分析での窒素含有率
が1〜16重量係重量−。
本発明の充填材を特性面で分類すると次のようになる。
→の方向に従い耐熱衝撃性及び耐湿信頼性に優れ、逆方
向に熱伝導性に優れる。したがって、封止用樹脂組成物
の要求される特性に応じて、これらを使い分けたシ併用
したりして熱伝導性、耐熱衝撃性及び耐湿信頼性等の特
性を調節することができる。
本発明の充填材であるサイアロン及びシリコンオキシナ
イトライドの形状としては、いずれも通常の角ばった破
砕粉末でもよいが、樹脂組成物としてより高い流動性が
必要な場合には、長短径比の平均値が1〜1.5好まし
くは1〜1.4%に好ましくは1〜1.6である球状粉
末が好ましく、また、リードピン曲げ時の樹脂クラック
を防止するために曲げ強度や曲げモジュラス等の機械的
強度の高い樹脂組成物が必要な場合には、ウィスカー状
もしくは繊維状特に機械的強度及び純度のより高いウィ
スカー状の粉末が好ましい。機械的強度と共に耐湿信頼
性をさらに高めたい場合には、鱗片状の粉末を併用する
こともできる。
ウィスカー状の充填材は、通常、上記原料粉末を高温窒
化させて得られたサイアロン及び/又はシリコンオキシ
ナイトライドの表層部に選択的に生成する傾向がおるの
で、その表層部を収集することによってウィスカー状の
粉体を得ることができる。しかし、その含有割合は小さ
いので、それを高めたいのであれば、原料粒度、配合割
合、マグネシウム、鉄、銅、ニッケル系等の触媒の添加
、昇温プログラム、雰囲気ガス濃度等の調節で可能とが
る。
一方、繊維状の充填材は、アルコキシシラン化合物やア
ルコキシアルミニウム化合物のゾル・デル法で紡糸して
得られるシリカ及び珪酸アルミニウムをアンモニアガス
雰囲気中で高温窒化させた後、粉砕・篩分け・分級して
得ることができる。
以上のウィスカー状もしくは繊維状の充填材の直径は、
0.01〜15μ扉好ましくは0.05〜10声特に好
ましくは0.1〜5μmであり、長さは0−5〜500
 ttrn好ましくは1〜150μWL特に好ましくけ
3〜75声であ゛る。
鱗片状のサイアロン及びシリコンオキシ、ナイトライド
は、アルコキシシラン化合物、アルカリ金属珪酸塩、ア
ルコキシアルミニウム化合物、コロイド状シリカ及びコ
ロイド状アルミナ等から得られるコロイド液を凍結した
後溶媒を除去する方法、押出機でフィルム状に押出した
後溶媒を乾燥除去する方法等の方法によって得られたフ
ィルム状もしくは粉砕した鱗片状のシリカもしくは珪酸
アルミニウムをアンモニアガス雰囲気中で高温窒化させ
た後粉砕・分級することによって得ることができる。鱗
片状粉末の厚みとしては0.01〜10μ簿好ましくは
0.03〜5μm特に好ましくは0.05〜6声であり
、アスペクト比は5以上好lしくけ8以上特に好ましく
は10以上である。
これらのウィスカー状、繊維状及び鱗片状の粉末の含有
割合は、0〜70!11%好ましくは0〜5ON′fk
%特に好ましくは0〜601量秀である。
’703!1%を超えると素子表面や素子保護膜會傷つ
けたり、ポンディングワイヤの変形や切断をおこしたρ
、さらには成形異方性が大きくなって局部的に大きな応
力が発生したシし、かえって耐熱衝撃性や耐湿信頼性の
低下、粒度分布の調整困難、流動性の低下、パリの増加
、気泡の巻きこみなどの欠点があられれるようになる。
本発明の充填材は、サイアロン及び/又はシリコンオキ
シナイトライドを必須成分とするが、これらの成分以外
に、形状が破砕状、球状、ウィスカー状、繊維状又は鱗
片状である溶融シリカ、化シリカ、シリカチタニアガラ
ス、クリストバライト化シリカ、珪酸゛アルミニウム、
アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素等
の第6成分を含んだものであってもよい。第6成分の割
合は、サイアロン及び/又はシリコンオキシナイトライ
ドの合計重量に対して10倍量以下好ましくは3倍量以
下特に好ましくは1倍量以下である。
10倍量を超えると熱伝導性、耐熱f#隼性、耐湿信頼
性の少くとも1つの特性が損われる。なお、第3成分の
充填材を使用する場合、要求される封止材の特性に応じ
て充填材を使いわけることが大切である。すなわち、耐
熱衝撃性及び耐湿信頼性を1視する場合は溶融シリカや
シリカチタニアガラスを選び、熱伝導性を鬼視する場合
は窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、アルミナ
を選び、金型等の摩耗抑制とほどほどの熱伝導性及びコ
スト低減のためには化シリカ、クリストバライト化シリ
カ、珪酸アルミニウム等を選ぶ。
本発明の充填材の最大粒径としては、小さいほど成型時
における素子表面の配線、パッシベーション膜、ボンデ
ィングワイヤ等に傷をつけ7’(シ破損をさせたシする
ことが少なくなるが、トランスファー成形時のデート詰
りを考慮した最大粒径は、500μm以下好ましくは1
49μm以下特に好ましくは74μm以下である。なお
、ダイボンディング接層用や銅箔接層用には、44声以
下さらに必要により20μ肩以下とすることにより、平
滑性と接層性を向上させた樹脂組成物とすることができ
る。
また、本発明の充填材の平均粒径としては、0.6〜1
00μm好ましくは1〜70μmさらに好ましくけ3〜
50μmでら夛、また、粒度分布としては、ボールミル
1.振動ミル、アトライター。
ローラーミル、ジェットミル、ロールクラッシャー等に
よる粉砕品をそのまま篩で粗粒子を除去したり必要に応
じて分級したものでもよいが、好ましくは、RR8粒度
線図において最大粒径からの累積重量係の10〜30!
量係の1点と70〜901量係の1点とを結んだ直線の
勾配が1.0以下であり、特に好ましくは0.75以下
でおる。勾配が1.0以下特に0.75以下であると、
成形時のパリの発生が少ないのでパリ取り工程の自動化
が容易となる。さらには、流動性が良好でかつ成形物へ
の気泡の巻きこみも少ないため、充填材をより高充填す
ることにより、−段と熱伝導性、耐熱衝撃性及び耐湿信
頼性を高めることができ、しかもピンホール等に起因す
る電気絶縁不良等を抑制することができる。
ここでRR8粒度線図とは、Rosjn−Rammle
rの次式に従う粒度分布を表わす粒度線図のことである
R(Dp) −100ecp(−b Dpn)(但し、
式中R(Dp)は最大粒径から粒径Dpまでの累積重量
幅、Dpは粒径、b及びnは定数である) RR8粒度線図における勾配とは、RR8粒度線図の最
大粒径からの累積重量幅が10〜60重i−%の1点と
70〜90!量係の1点とを結んだ直線で代表されるR
osin−Rammlerの式のn値のことをいう。な
お、実際の粒度測定において、最大粒径からの累積重量
幅の10〜30重量係の範囲の1点と70〜90重it
%の範囲の1点を結ぶ直線が2本以上引き得る場合には
、これらの直線のうちで最小の勾配で代表させることと
する。
さらに、本発明の充填材の比表面積としては、15m2
/!9以下であればよいが好ましくは7 rILz/y
以下特に5m”/i以下である。15m2#を超えると
、充填材が嵩はるため充填材の混合に長時間を要しエポ
キシ樹脂が硬化して成形性が低下するか、または高充填
することができなくなって熱伝導性や耐熱衝撃性が低下
する。
本発明の充填材は、Si 、 At、 O、N及び/又
はSi 、 O、Hの混合物ではなく、化合物又は固溶
体であるため、窒化珪素や窒化アルミニウムと比較して
特に600℃以下における加水分解安定性に優れている
。従って、カップリング剤による表面処理が効果的に行
われるので、樹脂組成物の耐湿信頼性を著しく高めるこ
とができる。
本発明の充填材に含まれるイオン性不純物としては、F
e” 50001)10m以下、Na” 1001)p
m以下、ct”−50ppm以下であシ、好1しくはF
e” 1000 ppm以下、Na” 30 ppm以
下、ct−20ppm以下、特に好ましくはFe” 1
00ppm以下、Na” I Q ppm以下、ct−
i o ppm以下である。特にNa+が1o o p
pmを超えたシCt−が50 ppm t−超えたシす
ると耐湿信頼性が劣る。
本発明の充填材の樹脂組成物中の含有率は、20〜97
重量倦好ましくは30〜95ILit%特に好ましくは
40〜90重量係である。樹脂充填材の含有率が20重
量%未満であると、樹脂組成物の成形性は優れるが、熱
応力が大きく耐熱衝撃性や耐湿信頼性が低下する。一方
、97重量係を超えると、樹脂組成物の成形性、及び/
又は硬化特性が低下する。
本発明の充填材が使用される樹脂としては、ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環凰エポキシ樹脂、グ
リシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型
エポキシ樹脂、ノ・ロデン化エポキシ樹脂などのエポキ
シ樹脂、シリコン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂
、エリア樹脂、不飽和ポリエステル、ポリアミノビスマ
レイミド、ジアリルフタレート樹脂、フッ素樹脂、TP
X樹脂(メチルペンテンポリマー「三菱瓦斯化学社製商
品名」)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテ
ルイミド、6ローナイロン及び辺■−ナイロン等のポリ
アミド、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル、ポリフェニレンスル
フィド、ポリフェニレンエーテルポリアリレート、全芳
香族ポリエステル、ポリスルホン、液晶ポリマー、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリ
カーボネート、マレイミド変性樹脂、ABS樹脂、AA
S(アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン) m
脂、AES (アクリロニトリル−エチレン・プロピレ
ン・ジエンゴム−スチレン)樹脂等が挙げられるが、特
にエポキシ樹脂、BT樹脂(三菱瓦斯化学社製商品名)
等のポリアミノビスマレミド、ポリフェニレンスルフィ
ド等が好ましい。熱衝撃性を高めるために、ブチルゴム
アクリルゴム、エチレンゾロピレンゴム、シリコーンゴ
ム、ポリエステルエラストマー、ポリブタジェン等のゴ
ム成分をこれら樹脂中に含有させることもできる。
本発明の充填材を使用した樹脂組成物には、必要に応じ
て、2,4−ジヒドラジン−6−メチルアミノ−S−ト
リアジン、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−
メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−
4−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、弗化
ホウ素の各種アミン錯体、トリスジメチルアミノメチル
フェノール、1,8−シアず・ビシクロ(5,4,0)
−ウンデセン−7,ベンジルジメチルアミン等の第3級
アミン化合物、ジシアンジアミド、アジピン酸ヒドラジ
ド等の含窒素硬化(促進)剤、フェノールノボラック、
クレゾールノボラック等の7エノール系硬化剤、無水テ
トラヒドロ7タル酸。
無水へキサヒドロフタル酸、無水メチルへキサヒドロフ
タル酸等の酸無水物系硬化剤、トリフェニルホスフィン
、トリシクロヘキシルホスフィン。
メチルジフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、
1.2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、ビス(
ジフェニルホスフィノ)メタン等の有機ホスフィン系硬
化(促進)剤、白金化合物等の重合触媒、カルナウバワ
ックス、モンタナワックス、ポリエステルオリゴマー、
シリコン油、低分子量ポリエチレン、パラフィン、直鎖
脂肪酸の金属塩、酸アミド、エステル等の滑剤・離型剤
、2.6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノール。
1.3.5−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5
−t−ブチルフェノール)ブタン、ジステアリルチオジ
プロピオネート、トリノニル7エ二ルホスフアイト、ト
リデシルホスファイト等の安定剤、2 、2’−ジヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、 2 (2’−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
、4− t−ブチルフェニルサリチレート、エチル−2
−クアノー6゜3−ジフェニルアクリレート等の光安定
剤、ベンガジ、カーボンブラック等の着色剤、三酸化ア
ジチそン、四酸化アンチモン、トリフェニルスチビン、
水利アルミナ、フェロセン、ホスファゼン。
ヘキサデロモベンゼン、テトラブロモ7タル酸無水物、
トリクレジルホスフェート、テトラブロモビスフェノー
ルA、臭素化エポキシ誘導体等の難燃剤、ビニルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロtルトリメトキシ
シラン、r−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N
−β−(アミノエチル)−r−7ミノプロtルトリメト
キシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
エテルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング剤
、イソゾロぎルトリイソステアロイルチタネート、ジク
ミルフェニルオキシアセテ−トナタネ−トウビス(ジオ
クチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネー
ト、イソゾロリルトリデシルベンゼンスルホニルチタネ
ート等のチタン系カップリング剤、アセトアルコキシア
ルミニウムジイソプロピレート等のアルミ系カップリン
グ剤等を配合することができる。なお、カップリング剤
はインテグラルブレンドでもよいが、前もって本発明の
充填材と混合・熱処理しておいた方が耐湿信頼性が向上
する。
本発明の充填材を含有する樹脂組成物は、前記に示した
各成分の所定量をヘンシェルミキサー等によシ光混合合
後、ロール、バンバリーミキサ−。
ニーダ−1らいかい機、アジホモミキサー、2軸押出機
、1軸押出機等の混線手段により加熱混練して製造する
ことができる。
〔実施例〕
本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は以
下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例および比較例において「部」、r%Jとあ
るのは、「重量部J、r!Ji%」を意味する。
α−サイアロンの製造 エチルシリケート31部、エトキーシイットリウム2.
2部を100部のエタノールに溶解し、ランプブラック
5.4部を超音波分散し、硝酸アルミニウム(9水和物
)19部を100部の蒸留水に溶解した液を前記溶液に
徐々に添加した。この混合溶液を80℃で12時間加熱
して沈殿生成を完結させた後、60℃で6時間窒素バブ
リングを続けてエタノールを除去した。これに蒸留水を
加えてなる固形分濃度15%のスラリーを60分間高速
攪拌後、ディスク式及び2流体ノズル式スプレードライ
ヤーで球状化造粒乾燥した。
この造粒粉100部と窒化はう素(電気化学工業社製「
デンカボロンナイトライドGpJ)10部とをVプレン
ダーで混合後室化珪素製ボートに入れ、窒素気流中15
50℃で12時間反応させた。得られた粉末をアルミナ
裂サートに移し替え空気中で600℃で1時間加熱して
残留カーボンを除雲し、室温に冷却後、解砕・篩分け・
粒度調整して粉末A−1及び粉末A−2を得た。X線回
折の測定からα−サイアロンはそれぞれ96%。
93%の純度であった。
なお、融着防止のために添加した窒化はう素はX線回折
による純度測定において計算から除外したO β−サイアロンの製造(z−0,5) 4塩化珪素とアンモニアとを反応させて得られたシリコ
ンジイミドt−1200°Cで熱分解して得られた非晶
質窒化珪素粉末92.3部、α−アルミナ(住友化学工
業社製「AKP−HP j ) 6.1部及び金属アル
ミニウム粉末(最大粒径441un1干均粒径10μm
1純度99.9%)1.6部を混合し、ポリビニルブチ
ラール(電気化学工業社製「デンカブチラール÷300
0−IJ )の6%エタノール溶液を25部添加・混合
・成形後1.窒素雰囲気中で1600℃に加熱し、粉砕
・解砕・篩分け・分級・粒度調整して純度95%の粉末
A−3を得た。
β−サイアロンの製造(Z−2,3e4)金属S1粉末
(最大粒径149μ島、平均粒径10μm、純度99.
9%)42部と溶融シリカ粉末(最大粒径44μm、平
均粒径5μm、純度99.9%)29部を一定とし、こ
れに粉末A−4、粉末A−5及び粉末A−6をつくるべ
く、金属μ粉末(最大粒径44μm1平均粒径1o声、
純度99.9%)とα−アルミナを以下のとおり配合し
た。
粉末A−4:−4:金属床α粉末29−アルミナ0部 粉末A−5;金属AL粉末37部、α−アルミナ66部 粉末A−6:金属At粉末47部、α−アルミナ68部 それらをV型プレンダーにて20分間混合した後、カル
ボキシメチルセルロースのアンモニウム塩の10%水溶
液を外側で8%添加しロールミルにて混線後成形し、そ
れを窒素ガス雰囲気中1400〜1500℃で5時間加
熱して窒化焼結体を製造した。
この窒化焼結体の表面に発生したウィスカー状の多い部
分だけを別に掻き集め、残シをクラッシャーで1次粗砕
後ざ−ルミルで微粉砕し149μmより大きい粒子を除
去し分級・粒度調整によシ表−1に示す粉末A−4、粉
末A−5、粉末A−6を得た。粉末A−4、粉末A−5
、粉末A−6のそれぞれの純度は97%、93%、91
係であった。
なお、粉末A−4を製造する際の成形物の表面層から掻
き集めたウィスカー状の多い部分を2000倍率で8部
M観察したところ、直径が0.2〜2μmのウィスカー
状のものがほとんどで6つた。この部分を粉砕後149
μmの篩網で粗粒を除去して純度98%の粉末A−7を
得た。
Al2O253,7%、Na2Oo、o 5%、他の不
純物≧ S 0.05%の組成を有するカオリナイト粘土65部
、ランプブラック18部及びオガクズ16.7部1にホ
ールミルで混合後蓋留水60部を加えて混線した。これ
をプレス成形で成形後110℃で12時間乾燥し、さら
に1450°Cで20時間、15気圧の窒素雰囲気下で
高声窒化した。得られた窒化焼結体を1次粗砕・微粉砕
後149tnnの篩網で粗粒を除去し、分級・粒度調整
して純度86%の粉末A−8を得た。
シリコンオキシナイトライド結晶の製造金属Si粉末(
最大粒径74μm1平均粒径12辱、純度99.9%)
60部と化シリカ粉末(最大粒径44μm1平均粒径1
0μ扉、純度99.9%)40部をV型デレンダーにて
20分間混合した後カルボキシメチルセルロースのアン
モニウム塩の10%水浴液を外側で8%添加しロールミ
ルにて混練した。これをプレス成型により成形し乾燥後
窒素ガス雰囲気中1450〜1500℃で5時間加熱し
て窒化焼結体を製造した。この焼結体をクラッシャーで
1次粗砕後ざ−ルミルで微粉砕し、74μの篩網で粗粒
を除去し、分級・粒度調整して表−1に示す粉末B−1
及び粉末B−2を得た。
この粉末B−1及び粉末B−2のXs回折による純度は
いずれも96%であった。
シリコンオキシナイトライドガラスの製造珪酸ナトリウ
ム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られた
粒径12mμのシリカコロイドの10%溶液を60秒間
凍結させ、次いで凍結乾燥を行ない、厚さ約1声の鱗片
状のシリカ粉末を得、この鱗片状粉末を1.5気圧のア
ンモニアガス雰囲気下、900°Cで5時間窒化させ、
冷却後、粉砕・篩分け・分級・粒度調整を行なって粉末
B−3を得た。ケルプール法による窒素含有率は6.7
%であった。
一方、シリカコロイド10%溶液を40%にろ過濃縮後
、トレーに入れ熱風乾燥し厚さ約1crnの板状シリカ
粉末を得、1.5気圧のアンモニアガス雰囲気下、90
0℃で5時間窒化させ、冷却後、粉砕・篩分け・分級・
粒度調整して粉末B−4を得た。その窒素含有率は5.
3%であった。
粉末B−3及び粉末B−4それぞれ100部にα−アル
ミナ5部を混合しX線回折を行なったところ、α−アル
ミナの(113)面ピーク高さよシも半分以上高い−一
りを示す不純物はなかつ九。
樹脂組成物の製造 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量21
5)150部、臭素化クレゾールノボラックエポキシ樹
脂(エポキシ当量350)45部、フェノールノボラッ
ク樹脂(フェノール当量107)87部からなる樹脂組
成物に表−・2で示す充填状三酸化アンチモン5.6部
、カーボンブラック6部、カルナバワックス4.4部お
よび硬化促進剤として2−フェニル−4−メチル−5−
ヒドロキシメチルイミダゾール2.5部、γ−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン5部、5−ヒドロキシ
メチルイミダゾール2.5部をミキシングロールで混練
後粉砕してエポキシ樹脂組成物を調整した。これらの樹
脂組成物を次に示す評価試験を実施した。
その結果を表−2に示す。
表−1〜2において記載した測定値は次の方法によった
(1)  平均粒径 粉末B−2以外の粉末はレーザー回折式法による粒度測
定(シーラス社製Granulome tarモデル7
15型〕。粉末B−2はレーデ−散乱法による測定(日
機装社梨マイクロトラック粒度分析計7991−3型)
(2)比表面積 カンタンーゾを使用し、BgTI点法で測定(カンタ−
クロム社製比表面積測定機)。
(3)長短径比 JIS R6002の顕微鏡拡大法に準拠した方法であ
って、倍率500倍のSFM写真の100〜200個の
粒子の長軸/短軸の比の平均値で゛示す。但し、α−サ
イアロンの融着防止及び高熱伝導化のために使用した鱗
片状窒化はう素は評価の対象外とした。
(4)  Na+不純物 粉末の一定量を純水中に浸漬し100℃の温度で24H
r放置した際に水中に抽出されたNa”を原子吸光法に
て測定。
(5)流動性(スパイラル70−) EMMI規格に準じた金型を使用し成形温度170°G
、成形圧カフ 0 klil / cm2で測定した。
この値は大きいほど成形性が優れていることを示すもの
である。
(6)  パリ 2.5,10.30μmの所定厚みのスリットを持つ金
型を用い成形温度170°C9成形圧カフ0kg/cr
n”で流動長を測定し、その最大値を示した。
(力 耐熱衝撃性(耐T/S性) アイランドサイズ4x7.5mの16ピンリードフレー
ムを各組成物によりトランスファー成形し、その16ビ
ンDIP型成形体を一196°Cの液体と260℃の液
体に30秒ずつ浸漬を200回繰り返し、25個以上の
成形体表面にクラックが発生するまでの回数を求めた。
試料価数は50個である。
(8)耐湿信頼性 アルミニウム配線を有する16ぎンモニターICをトラ
ンスファー成形し硬化後260°Cのハンダ浴に10秒
間浸漬したのち120°C,2気圧の水蒸気中で10V
印加してアルミニウム配線のオープン不良率(断線率)
とリーク不良率(アルミニウム線間の漏れ電流値がi 
Q nA以上になった率)との和が50%以上になるま
での時間を求めた。試料価数は20個である。
(9)  熱伝導率 熱伝導率測定装置(アグネ社製「ARC−TC−1型」
)を用い、室温において温度傾斜法で測定した。
〔発明の効果〕
本発明の充填材を使用した樹脂組成物は、耐熱衝撃性、
高熱伝導性及び半田浸漬後の耐湿信頼性に優れる。
特許出願人 電気化学工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、サイアロン及び/又はシリコンオキシナイトライド
    の粉末を必須成分としてなることを特徴とする半導体封
    止樹脂用充填材。
JP27327587A 1987-10-30 1987-10-30 半導体封止樹脂用充填材 Pending JPH01115940A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004282659A (ja) * 2003-03-19 2004-10-07 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 表面実装用の水晶発振器
WO2013065516A1 (ja) * 2011-10-31 2013-05-10 東レ株式会社 繊維強化複合材料用2液型エポキシ樹脂組成物および繊維強化複合材料
WO2021085593A1 (ja) * 2019-10-30 2021-05-06 三菱ケミカル株式会社 樹脂組成物、硬化物、複合成形体、半導体デバイス

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