JPH01110141A - ゴム積層体の製造方法 - Google Patents

ゴム積層体の製造方法

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JPH01110141A
JPH01110141A JP26750187A JP26750187A JPH01110141A JP H01110141 A JPH01110141 A JP H01110141A JP 26750187 A JP26750187 A JP 26750187A JP 26750187 A JP26750187 A JP 26750187A JP H01110141 A JPH01110141 A JP H01110141A
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rubber
nbr
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vulcanization
compound
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Takashi Nakagawa
中川 魏
Osamu Sugimoto
修 杉本
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はゴム積層体の製造方法に関し、さらに詳しくは
、特定の配合剤を含有するフッ素ゴムとニトリル基含有
高飽和重合体ゴムとを接触させて加硫接着することから
なる該積層体の製造方法に関する。
(従来の技術〕 近年、燃料ホースに要求される特性として耐ガソホール
性及び耐サワーガソリン性が一段と重視されつつあるO フッ素ゴムは耐熱性、耐油性、耐溶剤性、耐薬品性など
に優れた性能を有しており、耐ガンホール性及び耐サワ
ーガソリン性に優れたゴムとして使用されているoしか
し、フッ素ゴムはこれらの優れた性能を有する反面、ア
クリルニトリル−ブタジェンゴム、エピクロルヒドリン
ゴム、ニトリル基含有高飽和重合体ゴム(以下、H−N
BRと略す)等の他のゴム材料と比較し高価であり、耐
寒性が劣るという欠点を有している。
そのため、一般のゴム配合物層に上記特性の特に優れた
フッ素ゴム配合物層を積層させた材料が注目されている
0しかし、フッ素ゴムと他のゴムとは通常の方法では加
硫接着しないか、または接着力が非常に弱く、必ずしも
接着力の優れた積層体は得られていない。
このためアクリロニトリル−ブタジェンゴムに金属酸化
物、シリカ系充てん剤および/またはエポキシ樹脂を含
有させる方法(公開特許公報、昭56−53066 )
や更にカルボン酸の1.8−ジアザビシクロ(5,4,
0]ウンデセン−7塩を配合する方法(公開特許公報、
昭5B−162555)などが提案されているが、フッ
素ゴムとH−NBRとからなる積層体の製造において、
強固に加硫接着する技術はいまだ見い出されていない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明者らはフッ素ゴムとH−NBRとからなる強固に
加硫接着された積層体を得るべく鋭意研究の結果、フッ
素ゴムに金属酸化物を含有せしめた配合物とH−NBR
に(1)特定のホスホニウム塩、(2)有機過酸化物お
よび(3)スルフェンアミド系化合物を含有せしめた配
合物とを加硫接着させることにより、フッ素ゴム加硫物
とH−NBR加硫物が強固に接着された積層体が得られ
ることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成す
るに到った。
C問題点を解決するための手段) かくして本発明によれば、フッ素ゴムに金属酸化物を含
有せしめた未加硫配合物と、ヨウ素価が120以下のH
−NBRに(1)下記一般式で示されるホスホニウム塩
、(2)有機過酸化物および(3)スルフェンアミド系
化合物を含有せしめた未加硫配合物とを接触させて加硫
することを特徴とするゴム積層体の製造方法が提供され
る。
(R4+R2、R31R4は置換基を含んでも良い炭素
数1〜20の炭化水素残基である0ただしR1゜R2+
 R3+ R4のうちの3個までは1〜3級アミノ基又
はフルオロアルキル基でも良いoR5は水素又は炭素数
1〜20のアルキル基である)本発明に用いられるフッ
素ゴムは、ビニリデンフルオライド、ヘキサフルオロプ
ロペン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロ
ペン、トリフルオロエチレン、トリフルオロクロロエチ
レン、ビニルフルオライド、パーフルオロメチルビニル
エーテル、パーフルオロメチルビニルエーテルなどの含
フツ素不飽和単量体の重合体ゴム又は該単量体と共重合
可能な他の単量体との共重合体ゴムである。これらのう
ち、特にビニリデンフルオライド−へキサフルオロプロ
ペンの二元共重合体およびビニリデンフルオライド−へ
キサフルオロプロペン−テトラフルオロエチレンの三元
共重合体ゴムが好ましい。
本発明で用いられるH−NBRは、耐熱性および耐サワ
ー燃料油性の改善の観点から、ヨウ素価が120以下、
好ましくは0〜100であることが必要とされる0なお
、ヨウ素価はJISK0070に従って求めた値である
−も − このH−NBRは、不飽和ニトリル−共役ジエン共重合
ゴムの共役ジエン単位部分を水素化したもの:不飽和ニ
トリルー共役ジエンーエチレン型不飽和モノマー三元系
共重合ゴム及びこのゴムの共役ジエン単位部分を水素化
したもの;不飽和ニトリル−エチレン型不飽和モノマー
系共重合ゴム等が挙げられ、不飽和ニトリル−エチレン
型不飽和モノマー系共重合ゴムにおいては、該エチレン
型不飽和モノマーの一部をビニルノルボーネン、ジシク
ロペンタジェン、1,4−へキサジエンのヨウな非共役
ジエンで置換して共重合させたものであってもよい。
これらのH−NBRとしては、具体的にはブタジェン−
アクリロニトリル共重合ゴム、イソプレン−ブタジェン
−アクリロニトリル共重合ゴム・イソプレン−アクリロ
ニド、リル共重合ゴムなどを水素化したもの;ブタジェ
ン−メチルアクリレート−7クリロニトリル共重合ゴム
、ブタジェン−アクリル酸−アクリロニトリル共重合ゴ
ム、及びこれらを水素化したもの:ブタジエンーエチレ
ンーアクリロニトリル共重合ゴム、ブチルアクリレート
−エトキシエチルアクリレート−とニルクロロアセテー
ト−アクリロニトリル共重合ゴム、ブチルアクリレート
−エトキシエチルアクリレート−ビニルノルボーネン−
アクリロニトリル共重合−tムなどが例示でき、通常の
重合手法及び通常の水素化方法を用いることにより得ら
れる。
フッ素ゴムの加硫系の成分として用いられる金属酸化物
としては、CaO,MgO,Pt)O,Pb3O4。
BaO,A/203 等が用いられるが、特にMgOが
好ましい。その使用量はフッ素ゴム100重量部に対し
て1〜30重量部であり、フッ素ゴムの加硫系に応じ適
宜に変量せしめる0また、該金属酸化物をH−NBRに
同時に含有させても、同様に強固に加硫接着した積層体
が得られる。
本発明に用いられるホスホニウム塩は前記一般式で示さ
れる化合物から選択される。
ここでR1* R2+ R3+ R4を構成する炭化水
素残基としては、メチル、エチル、ブチル、エチルヘキ
シル、ドデシルなどのアルキル基、シクロヘキシルなど
のシクロアルキル基、ベンジル、メチルベンジルなどの
アラルキル基、フェニル、ナフチル、ブチルフェニルな
どのアリール基又は置換アリール基などが例示される。
2〜3級アミン基としては、メチルアミノ、エテルアミ
ノ、アニリノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどが
、フルオロアルキル基としてトリフルオロメチル、テト
ラフルオロプロピル、オクタフルオロペンチルなどが例
示される。R5はメチル、エチル、ブチル、エチルヘキ
シル、ドデシルなどのアルキル基が例示される。
上記化合物の具体例としては、テトラブチル−、テトラ
オクチル−、メチルトリオクチル−、ブチルトリオクチ
ル−、フェニルトリブチル−、ベンジルトリブチル−、
ベンジルトリシクロへキシル−、ベンジルトリオクチル
、ブチルトリフェニル−、オクチルトリフェニル−、ベ
ンジルトリフェニル−、テトラフェニル−、ジフェニル
ジ(ジエチルアミノ)−、フェニルペンジルジ(ジメチ
ルアミノ)−’1 フェニルベンジルシ(ジエチルアミ
ノ)−、ト’Jフルオロメチルベンジル−、テトラフル
オログロピルトリオクチルーホスホニウムベンゾトリア
ゾラート又はホスホニウムトリルトリアゾラードなどが
挙げられる。使用量はH−NBR100重量部当たり1
〜10重量部であり、1重量部未満では良好な接着強度
を有する該積層体が得られず、10重量部を超えるとH
−NBRの加硫速度を大幅に低下させ実用に供し得ない
。また該ホスホニウム塩はフッ素ゴムに同時に含有させ
ても、同様に強固な接着加硫物が得られる。
本発明に使用される有機過酸化物は未加硫ゴムの天然ゴ
ム、合成ゴムの加硫に使用される公知のものでよ(,2
,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシ
ド、ジクミルペルオキシド、t−プチルクミルペルオキ
シド、ベンゾイルペルオキシド、m −)ルイルペルオ
キシド、p−クロロベンゾイルペルオキシド、2,4−
ジクロロベンゾイルペルオキシ)”、 1.1−シー 
(t−7’チルペルオキシ)−3,5,5−トリメチル
シクロヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジー(t
−ブチルペルオー 9〜 キシ)ヘキサン、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−
プチルペルオキシ)ヘキシン−3,1,5−ジ(t−ブ
チルペルオキシイソプロビル)ベンゼン、2.5−ジメ
チル−2,5−ジベンゾイルペルオキシヘキサン、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(ペルオキシベンゾイル)ヘ
キシン−6、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルペ
ルオキシ)バレレート、t−ブチルペルオキシ−2−エ
チルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシベンゾエー
ト、ジ(t−ブチルペルオキシ)アジペート、t−ブチ
ルペルオキシイソプロビルカルボナートなどが例示され
る。
なお、トリアリルイソシアヌレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレートなどの活性剤を併用してもよ
い。
有機過酸化物の使用量はH−NBR100重量部当り1
〜20重量部であり、1重量部未満では架橋反応が遅く
実用に供しうるゴム加硫物が得られない020重量部を
超えるとH−NBRの架橋反応がはやすぎ、成形加工が
困難となり実用に供し得ない。
本発明に使用されるスルフェンアミド系化合物は、通常
天然ゴム、合成ゴムの加硫促進剤として用いられている
公知のものでよ<、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチ
アゾリルスル7エンアミド、N−オキシジエチレン−2
−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N、N’−ジシ
クロへキシル−2−ベンゾチアゾリルスル7エンアミド
、N−t−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンア
ミド、N、N′−ジエチル−2−ベンゾチアゾリルスル
フェンアミド、N、N’−ジイソプロピル−2−ベンゾ
チアゾイルスルフェンアミド、2−(4’−モルホリノ
−ジチオ)ベンゾチアゾリルスルフェンアミドなどが例
示される。使用量はH−NBR100重量部当り0.5
〜10重量部であり、0.5重量部未満では良好な接着
強度を有する該積層体が得られず、10重量部を超える
とH−NBRの加硫速度を大幅に低下させ、実用に供し
得ない。
フッ素ゴム配合物は目的に応じて他の公知の添加剤、例
えば、架橋剤、架橋促進剤、カーボンブラックやシリカ
などの補強剤、充填剤、軟化剤、可塑剤、老化防止剤、
安定剤及び加工助剤などを含むことができる。
同様にH−NBR配合物は目的に応じて他の添加剤、例
えばカーボンブラックやシリカなどの補強剤、充填剤、
軟化剤、可塑剤、老化防止剤、安定剤及び加工助剤など
を含むことができる。
本発明のゴム積層体の製造方法の具体例を示せば、フッ
素ゴム加硫用配合物およびH−NBR加硫用配合物をそ
れぞれ公知の方法で混練し、適宜の厚みのシートに成形
する。ついで両配合物層を未加硫の状態で接触させ、ホ
ットプレスまたは加硫缶を用いて加圧加硫を行ない両ゴ
ムシートを加硫接着させる。
また、上記両配合物を2層押出法により積層チューブに
成形後、加硫缶を用いて加圧加硫させる方法も可能であ
る〇 ホットプレスは通常140〜200℃の温度で20〜1
50 Q/cs+”の圧力下、5〜60分間行なわれる
。加硫缶による場合は通常130〜160℃の温度、1
.8〜5.5ゆ/l2Ifの圧力下で30〜120分間
加圧加硫が実施される0又得られた積層体を熱処理(ボ
ストキエア)することによって−次加硫時間の短縮、圧
縮永久ひずみの改良を図ることも可能である〇 (発明の効果) かくして本発明によれば、フッ素ゴム加硫物とH−NB
R加硫物とが強固に接着された積層体が得られるので、
フッ素ゴムのすぐれた性能を保持しつつ、価格および低
温特性を太幅に改善することができる。
本発明の積層体は、耐ガソリン性、特に耐サワーガソリ
ン性にすぐれた性能を示し、この性質を利用して燃料系
のホース材料、ダイアフラム材料として用いることがで
きるはか、耐油性、耐薬品性にすぐれた各種ゴム部品に
用いることができる。
(実施例) 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。なお、実施例及び比較例中の部及びチはとくに断りの
ないかぎり重量基準である。
実施例1 第1表に示すH−NBR配合物および第2表に示すフッ
素ゴム配合物をそれぞれ6インチオープンロールで混練
して約2Bの均一な厚みのシートを作成した0ついで各
シートを6cIIL×10ctL角の短冊に切り、第3
表に示す組合せで積層しプレス圧40 kg/rxi”
で170℃、15分間加硫接着することにより積層体を
調製した。なお、剥離試験時にチャックでつかむ部分に
あらかじめセロ717紙をはさみ両シートが接着しない
ようにした。次にこの試験片についてJXBK6501
に準じて剥離試験を引張速度50 wvm in で行
い剥離強度を測定した。得られた結果を第3表に示す。
第3表より本発明によりフッ素ゴムとH−NBRとが強
固な接着力で積層されていることがわかる。
第2表 ネ1テクノフロンNM(モンテフロス社製)*2 モン
テフロス社製 第3表 実施例2 第4表に示すH−NBR配合物および第2表に示すフッ
素ゴム配合物を実施例1に示した方法で混線後、試験片
を成形し剥離強度を測定した〇結果を第5表に示した。
この結果から明らかなとおり、本発明によりH−NBR
とフッ素ゴムが強固に加硫接着されたゴム積層体を得る
ことができる。
第4表 第5表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フッ素ゴムに金属酸化物を含有せしめた未加硫配合
    物と、ヨウ素価が120以下のニトリル基含有高飽和重
    合体ゴムに(1)下記一般式で示されるホスホニウム塩 ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_1、R_2、R_3、R_4は置換基を含んでも
    良い炭素数1〜20の炭化水素残基である。ただし、R
    _1、R_2、R_3、R_4のうちの3個までは1〜
    3級アミノ基又はフルオロアルキル基でも良い。R_5
    は水素又は炭素数1〜20のアルキル基である。)(2
    )有機過酸化物、および(3)スルフェンアミド系化合
    物を含有せしめた未加硫配合物とを接触させて加硫する
    ことを特徴とするゴム積層体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0759354A4 (en) * 1994-01-24 1997-05-14 Nippon Zeon Co LAMINATE FROM VULCANIZABLE RUBBER MIXING LAYERS, METHOD FOR PRODUCING RUBBER RUBBER LAMINATES AND RUBBER RUBBER LAMINATE
US10381320B2 (en) 2014-07-10 2019-08-13 Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. Silver bonding wire for semiconductor device containing indium, gallium, and/or cadmium

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63317340A (ja) * 1987-06-22 1988-12-26 Nippon Zeon Co Ltd ゴム積層体の製造方法

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