JPH01104727A - 金属還元装置 - Google Patents
金属還元装置Info
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- JPH01104727A JPH01104727A JP62261110A JP26111087A JPH01104727A JP H01104727 A JPH01104727 A JP H01104727A JP 62261110 A JP62261110 A JP 62261110A JP 26111087 A JP26111087 A JP 26111087A JP H01104727 A JPH01104727 A JP H01104727A
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- retort
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Links
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、カルシウム等のアルカリ土類金属またはミ
ツシュメタル等の希土類金属など酸素との親和力の大き
い金属を還元精製するために用いられる金属還元装置に
関する。
ツシュメタル等の希土類金属など酸素との親和力の大き
い金属を還元精製するために用いられる金属還元装置に
関する。
[従来の技術]
カルシウム等のアルカリ土類金属またはネオジウム、サ
マリウム、プラセオジウム等の希土類金属を製錬するに
は、その酸化物、ハロゲン化物等の化合物を加熱炉中に
挿入したレトルトに封入して減圧下で加熱して、この金
属化合物より酸素との親和力の高い元素を用いて気相還
元して金属蒸気とし、レトルトに設けられた凝縮器に凝
縮させてスポンジ状の金属を得るようにしている。この
ような還元装置における凝縮器としては、従来、レトル
トの一部の外周面を水冷または空冷により冷却し、この
冷却部に金属蒸気を析出さH゛るものが使用されていた
。しかし、このような方法では、冷却部の温度制御が厳
密に行えないので析出金属に不純物が多く含まれること
になり、また、析出部の面積が大きいので析出金属の処
理に多大の労力を要するという不具合があった。そこで
、本出願人は、新規な金属蒸気凝縮装置を提案した(特
公昭61−26362号公報)。これは、レトルトの開
口部に円筒を挿入し、凝縮器とこの円筒の間にスリーブ
を挿入して構成としたもので、円筒内部を冷却すること
により、凝縮器の温度の制御が厳密に行なわれ、不純物
の少ない金属を製造することかできるとともに、スリー
ブに金属が凝縮するので金属の取り出しが容易になると
いう効果を持つ。
マリウム、プラセオジウム等の希土類金属を製錬するに
は、その酸化物、ハロゲン化物等の化合物を加熱炉中に
挿入したレトルトに封入して減圧下で加熱して、この金
属化合物より酸素との親和力の高い元素を用いて気相還
元して金属蒸気とし、レトルトに設けられた凝縮器に凝
縮させてスポンジ状の金属を得るようにしている。この
ような還元装置における凝縮器としては、従来、レトル
トの一部の外周面を水冷または空冷により冷却し、この
冷却部に金属蒸気を析出さH゛るものが使用されていた
。しかし、このような方法では、冷却部の温度制御が厳
密に行えないので析出金属に不純物が多く含まれること
になり、また、析出部の面積が大きいので析出金属の処
理に多大の労力を要するという不具合があった。そこで
、本出願人は、新規な金属蒸気凝縮装置を提案した(特
公昭61−26362号公報)。これは、レトルトの開
口部に円筒を挿入し、凝縮器とこの円筒の間にスリーブ
を挿入して構成としたもので、円筒内部を冷却すること
により、凝縮器の温度の制御が厳密に行なわれ、不純物
の少ない金属を製造することかできるとともに、スリー
ブに金属が凝縮するので金属の取り出しが容易になると
いう効果を持つ。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、上記のような金属凝縮装置においては、1回
ごとに原料の装入、処理、製品の取り出しを順次行う、
いわゆるバッチ式にて行なわれるが、上記のような凝縮
装置において製造される金属は一般に酸素との反応性の
高い金属であり、高温状態で大気中に置くと急激に燃焼
するので、炉外に取り出すには加熱を止めてレトルト内
の温度を適当な温度まで低下させなければならない。そ
のため、レトルト内の冷却に長時間を要し、装置の稼動
率が低くなり、生産効率が下がるとともに、炉の熱量原
単位が高くなって生産コストが上昇することになる。
ごとに原料の装入、処理、製品の取り出しを順次行う、
いわゆるバッチ式にて行なわれるが、上記のような凝縮
装置において製造される金属は一般に酸素との反応性の
高い金属であり、高温状態で大気中に置くと急激に燃焼
するので、炉外に取り出すには加熱を止めてレトルト内
の温度を適当な温度まで低下させなければならない。そ
のため、レトルト内の冷却に長時間を要し、装置の稼動
率が低くなり、生産効率が下がるとともに、炉の熱量原
単位が高くなって生産コストが上昇することになる。
この発明は、レトルト部を過度に冷却することなく、生
成した金属のみを短時間で冷却して取り出し、原料を入
れ替えることによって、安全に行わせ、かつ、稼動率を
向上させることを目的とする乙のである。
成した金属のみを短時間で冷却して取り出し、原料を入
れ替えることによって、安全に行わせ、かつ、稼動率を
向上させることを目的とする乙のである。
[問題点を解決するための手段]
上記のような問題点を解決するために、この発明は、加
熱炉内に挿入されたレトルトと、このレトルトの開口部
に連設された冷却室と、この冷却室及びレトルト内を排
気する真空装置と、上記冷却室及びレトルト内に移動自
在に挿入された金属凝縮板と、上記冷却室とレトルトの
間を遮断するゲートとを備えた構成としたものである。
熱炉内に挿入されたレトルトと、このレトルトの開口部
に連設された冷却室と、この冷却室及びレトルト内を排
気する真空装置と、上記冷却室及びレトルト内に移動自
在に挿入された金属凝縮板と、上記冷却室とレトルトの
間を遮断するゲートとを備えた構成としたものである。
[作用 ]
このような金属還元装置においては、レトルト内におい
て高温で還元された金属蒸気は、レトルト内に挿入され
た金属凝縮器の表面に凝縮し付着する。この還元反応が
終了した段階で、金属凝縮器をレトルトから冷却室に移
動し、ゲートを閉鎖して冷却室とレトルトとの間を遮断
する。金属凝縮器は凝縮した金属とともに冷却室内で強
制的に冷却され、これを充分温度が低下した後に外に取
り出し、表面に生成した金属を回収する。この間にレト
ルトを開放して、残渣を除去した後に新たな原料を装入
し、金属凝縮器を冷却室からレトルト内に再度挿入し、
次の操業を行う。凝縮金属をレトルト外に移しておけば
、たとえ残渣の排出時や原料装入時に多少の空気が流入
しても、酸素との親和力の強い金属であっても急激に酸
化することがなく、作業が安全に行える。
て高温で還元された金属蒸気は、レトルト内に挿入され
た金属凝縮器の表面に凝縮し付着する。この還元反応が
終了した段階で、金属凝縮器をレトルトから冷却室に移
動し、ゲートを閉鎖して冷却室とレトルトとの間を遮断
する。金属凝縮器は凝縮した金属とともに冷却室内で強
制的に冷却され、これを充分温度が低下した後に外に取
り出し、表面に生成した金属を回収する。この間にレト
ルトを開放して、残渣を除去した後に新たな原料を装入
し、金属凝縮器を冷却室からレトルト内に再度挿入し、
次の操業を行う。凝縮金属をレトルト外に移しておけば
、たとえ残渣の排出時や原料装入時に多少の空気が流入
しても、酸素との親和力の強い金属であっても急激に酸
化することがなく、作業が安全に行える。
[実施例]
以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
添付図において、lはステンレス鋼などで有底円筒状に
成形されたレトルトであり 横置型の加熱炉2に挿入さ
れ、固定支持されている。レトルトlと加熱炉2の間の
空間は鉄皮2aにより気密に保たれ、排気口3を通して
図示しない排気ポンプに連通されてその圧力をレトルト
1内と同圧まで低下させ、真空加熱処理時におけるレト
ルトIの損傷を防ぐことができるようになっている。レ
トルトlの開口部1aにはフランジ4が形成され、この
フランジ44こはレトルトlと同内径の空間(冷却室)
5を有する円筒状の冷却筒6が気密に接続されている。
成形されたレトルトであり 横置型の加熱炉2に挿入さ
れ、固定支持されている。レトルトlと加熱炉2の間の
空間は鉄皮2aにより気密に保たれ、排気口3を通して
図示しない排気ポンプに連通されてその圧力をレトルト
1内と同圧まで低下させ、真空加熱処理時におけるレト
ルトIの損傷を防ぐことができるようになっている。レ
トルトlの開口部1aにはフランジ4が形成され、この
フランジ44こはレトルトlと同内径の空間(冷却室)
5を有する円筒状の冷却筒6が気密に接続されている。
この冷却筒6の外周には水冷ジャケット7が形成されて
おり、図示しない給水ポンプにより冷却水が給水口8よ
り供給され、排水口9より排出されるようになっている
。冷却筒6の他端には中央に貫通孔lOを宵する鏡板1
1がボルト及びナツトなどにより気密に接合され、この
貫通孔10には先端に凝縮板12を備えたシャフト13
が摺動自在に挿入されており、鏡板11とシャフト13
との間にはへローズ14が設けられて上記貫通孔IOを
密封している。上記冷却室5には通気口15が形成され
、この通気口15は図示しない真空ポンプ及びArなど
の不活性ガス源に切換可能に接続されている。上記凝縮
板12はレトルト1及び冷却室5よりやや小径に形成さ
れ、内部に冷却水流路が形成されており、シャツ、1−
13を通して冷却水が供給されるようになっている。
おり、図示しない給水ポンプにより冷却水が給水口8よ
り供給され、排水口9より排出されるようになっている
。冷却筒6の他端には中央に貫通孔lOを宵する鏡板1
1がボルト及びナツトなどにより気密に接合され、この
貫通孔10には先端に凝縮板12を備えたシャフト13
が摺動自在に挿入されており、鏡板11とシャフト13
との間にはへローズ14が設けられて上記貫通孔IOを
密封している。上記冷却室5には通気口15が形成され
、この通気口15は図示しない真空ポンプ及びArなど
の不活性ガス源に切換可能に接続されている。上記凝縮
板12はレトルト1及び冷却室5よりやや小径に形成さ
れ、内部に冷却水流路が形成されており、シャツ、1−
13を通して冷却水が供給されるようになっている。
上記冷却筒6の内端(加熱炉側端部)の近傍には、冷却
室5を左右に遮断するゲート16が設けられている。こ
、のゲート16は、冷却筒6の外部に上方iこ突出して
設けられた案内部17と、この案内部17に上下移動自
在に嵌装されたゲート板18と、このゲート板18を昇
降させる駆動機構19とを備えており、これらの案内部
I7及び駆動機構19はベローズ(図示路)などにより
気密に構成されているとともに、必要な箇所は水冷など
により冷却されるようになっている。なお、20は、取
り外した鏡板11.凝縮板12などを支える作業台車で
ある。
室5を左右に遮断するゲート16が設けられている。こ
、のゲート16は、冷却筒6の外部に上方iこ突出して
設けられた案内部17と、この案内部17に上下移動自
在に嵌装されたゲート板18と、このゲート板18を昇
降させる駆動機構19とを備えており、これらの案内部
I7及び駆動機構19はベローズ(図示路)などにより
気密に構成されているとともに、必要な箇所は水冷など
により冷却されるようになっている。なお、20は、取
り外した鏡板11.凝縮板12などを支える作業台車で
ある。
次に、上記のように構成された金属還元装置の作用につ
いて述べる。
いて述べる。
まず、ゲート16を開き鏡板11を外した状態で、レト
ルトl内に製造すべき金属の原料である金属化合物と還
元剤である金属を装入し、凝縮板12のシャフト13を
嵌装した鏡板11を冷却筒6の外端に接合する。真空ポ
ンプを作動して冷却室5及びレトルト1内を排気して真
空に近付ける一方、加熱炉2によりレトルト1を加熱す
る。このとき、レトルトlに内外の圧力差による力がか
かるのを防ぐため、排気ポンプを作動して加熱炉2内の
圧力をレトルトl内の圧力とほぼ同じにする。さらにシ
ャフト13を貫通孔10より押し込んで、凝縮板I2を
冷却室5からレトルトl内の所定位置まて移動させると
ともに、冷却水ポンプを作動して冷却水をシャフト13
から凝縮板12の冷却水流路に流通させ、凝縮板12の
表面を所定のM!度に保つ。この場合、凝縮板I2に温
度センサを埋設してその検出値により冷却水流量を変化
させて凝縮板12の温度を制御するようにしてもよい。
ルトl内に製造すべき金属の原料である金属化合物と還
元剤である金属を装入し、凝縮板12のシャフト13を
嵌装した鏡板11を冷却筒6の外端に接合する。真空ポ
ンプを作動して冷却室5及びレトルト1内を排気して真
空に近付ける一方、加熱炉2によりレトルト1を加熱す
る。このとき、レトルトlに内外の圧力差による力がか
かるのを防ぐため、排気ポンプを作動して加熱炉2内の
圧力をレトルトl内の圧力とほぼ同じにする。さらにシ
ャフト13を貫通孔10より押し込んで、凝縮板I2を
冷却室5からレトルトl内の所定位置まて移動させると
ともに、冷却水ポンプを作動して冷却水をシャフト13
から凝縮板12の冷却水流路に流通させ、凝縮板12の
表面を所定のM!度に保つ。この場合、凝縮板I2に温
度センサを埋設してその検出値により冷却水流量を変化
させて凝縮板12の温度を制御するようにしてもよい。
これにより、凝縮板12の表面には、還元された金属蒸
気が析出して、クラウンメタルと呼ばれろスポンジ状の
金属が成長する。所定の時間が経過して反応がほぼ終了
した後、加熱炉2の加熱を停止し、シャフト13を引き
出して凝縮板12を冷却室5に移動させ、駆動装置19
を作動してゲート板’18を降下させ、冷却室5とレト
ルトl内部の空間とを遮断する。そして冷却室l内にA
rガスなどの不活性ガスを充満させ、ガスの伝熱作用に
より冷却を速める、あるいはジャケット7へ供給する冷
却水流量を増やすなどして、冷却室5内のクラウンメタ
ルを冷却し、所定の温度以下に到達したときに、鏡板1
1と冷却筒6との接続を外し、凝縮板12と鏡板11を
一体に取り外し、クラウンメタルを除去する。一方、レ
トルト1内の温度がある程度下がった状態で、ゲート1
6を開き、レトルトl内の残渣を排出する。このとき、
レトルトl内に析出した金属が空気と反応して燃焼する
が、これはわずかな量であるので、Arガスによりパー
ジしながら行えば、安全上、歩留り上ともに問題がない
。そして、レトルトl内に新たな原料を装入し、凝縮板
12及びシャツ)13を装着した鏡板11を再度冷却筒
6に接続して、新たな操業に入る。
気が析出して、クラウンメタルと呼ばれろスポンジ状の
金属が成長する。所定の時間が経過して反応がほぼ終了
した後、加熱炉2の加熱を停止し、シャフト13を引き
出して凝縮板12を冷却室5に移動させ、駆動装置19
を作動してゲート板’18を降下させ、冷却室5とレト
ルトl内部の空間とを遮断する。そして冷却室l内にA
rガスなどの不活性ガスを充満させ、ガスの伝熱作用に
より冷却を速める、あるいはジャケット7へ供給する冷
却水流量を増やすなどして、冷却室5内のクラウンメタ
ルを冷却し、所定の温度以下に到達したときに、鏡板1
1と冷却筒6との接続を外し、凝縮板12と鏡板11を
一体に取り外し、クラウンメタルを除去する。一方、レ
トルト1内の温度がある程度下がった状態で、ゲート1
6を開き、レトルトl内の残渣を排出する。このとき、
レトルトl内に析出した金属が空気と反応して燃焼する
が、これはわずかな量であるので、Arガスによりパー
ジしながら行えば、安全上、歩留り上ともに問題がない
。そして、レトルトl内に新たな原料を装入し、凝縮板
12及びシャツ)13を装着した鏡板11を再度冷却筒
6に接続して、新たな操業に入る。
上記のような金属製造方法においては、析出した金属を
取り出すのに、加熱炉2及びレトルト1の内部が低温に
なるのを待つ必要がなく、従って、処理の間隔が短縮さ
れる。発明台らの経験においては、従来lサイクル33
時間を要していたが、これを15時間に半減することが
できた。これは、還元終了からレトルト1開放までの時
間を20時間から2時間に短縮できたからである。また
、これにより、加熱炉2ての熱量原単位を50%低下さ
せ、コストを下げることができた。
取り出すのに、加熱炉2及びレトルト1の内部が低温に
なるのを待つ必要がなく、従って、処理の間隔が短縮さ
れる。発明台らの経験においては、従来lサイクル33
時間を要していたが、これを15時間に半減することが
できた。これは、還元終了からレトルト1開放までの時
間を20時間から2時間に短縮できたからである。また
、これにより、加熱炉2ての熱量原単位を50%低下さ
せ、コストを下げることができた。
[発明の効果]
以上詳述したように、この発明は、加熱炉内に挿入され
たレトルトと、このレトルトの開口部に連設された冷却
室と、この冷却室及びレトルト内を排気する真空装置と
、上記冷却室及びレトルト内に移動自在に挿入された金
属凝縮板と、上記冷却室とレトルトの間を遮断するゲー
トとを備えた構成とした乙のであるので1、生成した金
属を凝縮板とともに冷却室に移動し、これを強制的に冷
却して取り出すことができるので、加熱炉の稼動率を向
上させるとともに熱量原単位を低下させ、コストを低下
させることができるという優れた効果を奏するものであ
る。
たレトルトと、このレトルトの開口部に連設された冷却
室と、この冷却室及びレトルト内を排気する真空装置と
、上記冷却室及びレトルト内に移動自在に挿入された金
属凝縮板と、上記冷却室とレトルトの間を遮断するゲー
トとを備えた構成とした乙のであるので1、生成した金
属を凝縮板とともに冷却室に移動し、これを強制的に冷
却して取り出すことができるので、加熱炉の稼動率を向
上させるとともに熱量原単位を低下させ、コストを低下
させることができるという優れた効果を奏するものであ
る。
添付の図面はこの発明の一実施例を示す断面図である。
■・・・・・・レトルト、Ia・・・・・・開口部、2
・・・・・加熱炉、5・・・・・・冷却室、12・・・
・・・凝縮板、13・・・・・・シャフト、I6・・・
・・・ゲート。
・・・・・加熱炉、5・・・・・・冷却室、12・・・
・・・凝縮板、13・・・・・・シャフト、I6・・・
・・・ゲート。
Claims (1)
- 加熱炉内に挿入されたレトルトと、このレトルトの開
口部に連設された冷却室と、この冷却室及びレトルト内
を排気する真空装置と、上記冷却室及びレトルト内に移
動自在に挿入された金属凝縮板と、上記冷却室とレトル
トの間を遮断するゲートとを具備することを特徴とする
金属還元装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62261110A JPH066758B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 金属還元装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62261110A JPH066758B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 金属還元装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01104727A true JPH01104727A (ja) | 1989-04-21 |
JPH066758B2 JPH066758B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=17357225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62261110A Expired - Fee Related JPH066758B2 (ja) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | 金属還元装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH066758B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009054217A1 (ja) * | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 高純度イッテルビウム、高純度イッテルビウムからなるスパッタリングターゲット、高純度イッテルビウムを含有する薄膜及び高純度イッテルビウムの製造方法 |
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WO2008022546A1 (fr) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Mg Century Mining Corporation | Réducteur, procédé de réalisation, et four réducteur permettant la fusion de métal sous vide au moyen du réducteur |
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1987
- 1987-10-16 JP JP62261110A patent/JPH066758B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2009054217A1 (ja) * | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 高純度イッテルビウム、高純度イッテルビウムからなるスパッタリングターゲット、高純度イッテルビウムを含有する薄膜及び高純度イッテルビウムの製造方法 |
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JP5160554B2 (ja) * | 2007-10-23 | 2013-03-13 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 高純度イッテルビウム、高純度イッテルビウムからなるスパッタリングターゲット、高純度イッテルビウムを含有する薄膜及び高純度イッテルビウムの製造方法 |
US8668785B2 (en) | 2007-10-23 | 2014-03-11 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | High purity ytterbium, sputtering target made thereof, thin film containing the same, and method of producing the same |
CN104232946A (zh) * | 2007-10-23 | 2014-12-24 | Jx日矿日石金属株式会社 | 高纯度镱、包含高纯度镱的溅射靶、含有高纯度镱的薄膜及高纯度镱的制造方法 |
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