JPH01104486A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
- Publication number
- JPH01104486A JPH01104486A JP62260565A JP26056587A JPH01104486A JP H01104486 A JPH01104486 A JP H01104486A JP 62260565 A JP62260565 A JP 62260565A JP 26056587 A JP26056587 A JP 26056587A JP H01104486 A JPH01104486 A JP H01104486A
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- Japan
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- laser
- pulse
- beam positioner
- speed
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- Pending
Links
- 238000003754 machining Methods 0.000 title abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 12
- 238000009966 trimming Methods 0.000 abstract description 9
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910008903 TmF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
炎丘且1
本発明はレーザ加工装置に関し、特にトリミング時のレ
ーザ光強度の制御に関する。
ーザ光強度の制御に関する。
従来技術
従来、レーザトリミング装置においては、通常一定のQ
スイッチパルスレートでトリミング加工が行われるが、
レーザ光の照射位置の調整を行うビームポジショナの加
速など速度が変化するときには加工のバイトサイズも変
化するので、均一なトリミング加工が困難であった。
スイッチパルスレートでトリミング加工が行われるが、
レーザ光の照射位置の調整を行うビームポジショナの加
速など速度が変化するときには加工のバイトサイズも変
化するので、均一なトリミング加工が困難であった。
そのため、加工条件の厳しいものに対してはQスイッチ
パルスをビームポジショナのエンコーダから得られる位
置パルスに同期させて加工のバイトサイズを一定にする
ことが行われている。
パルスをビームポジショナのエンコーダから得られる位
置パルスに同期させて加工のバイトサイズを一定にする
ことが行われている。
このような従来のレーザトリミング装置では、Qスイッ
チパルスをビームポジショナのエンコーダから得られる
位置パルスに同期させた場合、ビームポジショナの加速
時などの速度の変化に応じてQスイッチパルスレートが
変化し、一般的にビームポジショナの加速初期の速度が
小さいときにはレーザ光のピーク値が大きくなり、定速
に近づくに従ってピーク値が小さくなっていく。そのた
め、レーザ光による加工幅が変化したり、ffi悪の場
合には被加工物上に大きな損傷を与えることがあるとい
う欠点がある。
チパルスをビームポジショナのエンコーダから得られる
位置パルスに同期させた場合、ビームポジショナの加速
時などの速度の変化に応じてQスイッチパルスレートが
変化し、一般的にビームポジショナの加速初期の速度が
小さいときにはレーザ光のピーク値が大きくなり、定速
に近づくに従ってピーク値が小さくなっていく。そのた
め、レーザ光による加工幅が変化したり、ffi悪の場
合には被加工物上に大きな損傷を与えることがあるとい
う欠点がある。
また、これを避けるために、ビームポジショナの速度が
定速に達するまでのQスイッチパルスレートの変化に対
してレーザ光のピーク値が変化しない程度の速度でビー
ムポジショナを走らせる場合には、必然的にトリミング
加工の加工速度が遅くなるという欠点がある。
定速に達するまでのQスイッチパルスレートの変化に対
してレーザ光のピーク値が変化しない程度の速度でビー
ムポジショナを走らせる場合には、必然的にトリミング
加工の加工速度が遅くなるという欠点がある。
1匪立旦j
本発明は上記めような従来のものの欠点を除去ずべくな
されたもので、ビームポジショナの加速時などにおける
速度の変化によるレーザ光のピーク値の変化を補償し、
均一な加工を行うことができるレーザ加工装置の提供を
目的とする。
されたもので、ビームポジショナの加速時などにおける
速度の変化によるレーザ光のピーク値の変化を補償し、
均一な加工を行うことができるレーザ加工装置の提供を
目的とする。
発明の構成
本発明によるレーザ加工装置は、レーデ出力を加工位置
に移動させるビームポジショナの速度に応じて前記レー
ザ出力を可変する可変手段を有することを特徴とする。
に移動させるビームポジショナの速度に応じて前記レー
ザ出力を可変する可変手段を有することを特徴とする。
実施例
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例の構成を示すブロック図であ
る。図において、本発明の一実施例によるレーザ加工装
置は、オア回路1と、F−V(frequcncy−v
oltage )変換器2と、関数器3と、増幅器4と
、遅延回路5と、Qスイッチドライバ6と、レーザ発振
器7と、光減衰器8とにより構成されている。
る。図において、本発明の一実施例によるレーザ加工装
置は、オア回路1と、F−V(frequcncy−v
oltage )変換器2と、関数器3と、増幅器4と
、遅延回路5と、Qスイッチドライバ6と、レーザ発振
器7と、光減衰器8とにより構成されている。
第2図は本発明の一実施例の動作を示すタイムチャート
である。これら第1図と第2図とを用いて本発明の一実
施例の動作について説明する。
である。これら第1図と第2図とを用いて本発明の一実
施例の動作について説明する。
図示せぬビームポジショナのエンコーダからのアップパ
ルス101およびダウンパルス102(以下エンコーダ
パルスとする)はオア回路1で論理和演算され、その演
算結果はF−V変換器2と、遅延回路5とに入力される
。
ルス101およびダウンパルス102(以下エンコーダ
パルスとする)はオア回路1で論理和演算され、その演
算結果はF−V変換器2と、遅延回路5とに入力される
。
F−V変換器2ではオア回路1からの論理和出力のパル
スレートが電圧に変換されて関数器3に送られる。F−
V変換器2で変換された電圧は関数器3で所定の関数に
変換され、この関数変換された値は増幅器4で増幅され
て光減衰器8に印加される。
スレートが電圧に変換されて関数器3に送られる。F−
V変換器2で変換された電圧は関数器3で所定の関数に
変換され、この関数変換された値は増幅器4で増幅され
て光減衰器8に印加される。
光減衰器8ではレーザ発振器7からのレーザ光を関数器
3からの関数に応じて減衰し、この減衰されたレーザ光
はビームポジショナを通じて図示せぬ被加工物上に照射
される。
3からの関数に応じて減衰し、この減衰されたレーザ光
はビームポジショナを通じて図示せぬ被加工物上に照射
される。
一方、遅延回路5にオア回路1を介して入力されたビー
ムポジショナのエンコーダからのエンコーダパルスは適
当な遅れが与えられてQスイッチドライバ6に出力され
、このQスイッチドライバ6ではエンコーダパルスに同
期したQスイッチパルスが生成される。
ムポジショナのエンコーダからのエンコーダパルスは適
当な遅れが与えられてQスイッチドライバ6に出力され
、このQスイッチドライバ6ではエンコーダパルスに同
期したQスイッチパルスが生成される。
遅延回路5でエンコーダパルスに与えられる遅れは、エ
ンコーダパルスがF−V変換器2に入った直後の出力電
圧■と光減衰器8との整定時間を考慮したものであり、
F−V変換器2の出力電圧■が安定し、光減衰器8の透
過率が正しく設定された後にQスイッチパルスが出力さ
れるように、この遅れ時間がその整定時間よりも大きく
選ばれている。
ンコーダパルスがF−V変換器2に入った直後の出力電
圧■と光減衰器8との整定時間を考慮したものであり、
F−V変換器2の出力電圧■が安定し、光減衰器8の透
過率が正しく設定された後にQスイッチパルスが出力さ
れるように、この遅れ時間がその整定時間よりも大きく
選ばれている。
エンコーダパルスのパルスレートはビームポジショナの
速度に比例しているので、F−V変換器2で得られる電
圧はビームポジショナの速度に比例している(第2図参
照)。
速度に比例しているので、F−V変換器2で得られる電
圧はビームポジショナの速度に比例している(第2図参
照)。
またQスイッチドライバ6の駆動によるQスイッチパル
スはビームポジショナのエンコーダからのエンコーダパ
ルスに同期しているので、F−V変換器2で得られる電
圧はQスイッチパルスレートにも比例していることとな
る。
スはビームポジショナのエンコーダからのエンコーダパ
ルスに同期しているので、F−V変換器2で得られる電
圧はQスイッチパルスレートにも比例していることとな
る。
したがって、レーザ発振器7の励起レベルなどの条件が
一定であるとすると、レーザ発振器7からのレーザ光の
ピーク値はF−V変換器2の出力電圧の関数となり、レ
ーザ光のピーク値をPiとし、F−V変換器2の出力電
圧を■とすると次式%式% また、F−V変換器2の出力電圧■が関数器3でl:2
(V)に変換され、さらに増幅器4でA・F2
(V)(Aは定数)に増幅されるとすると、光減衰器8
の透過率TはF−V変換器2の出力電圧■に対して次式
で表される。
一定であるとすると、レーザ発振器7からのレーザ光の
ピーク値はF−V変換器2の出力電圧の関数となり、レ
ーザ光のピーク値をPiとし、F−V変換器2の出力電
圧を■とすると次式%式% また、F−V変換器2の出力電圧■が関数器3でl:2
(V)に変換され、さらに増幅器4でA・F2
(V)(Aは定数)に増幅されるとすると、光減衰器8
の透過率TはF−V変換器2の出力電圧■に対して次式
で表される。
TmF3 (F2 (V)) ・・・・
・・(2)したがって、光減衰器8を通ったレーザ発振
器7からのレーザ光のピーク値は、このピーク値をPt
とすると次式で表される。
・・(2)したがって、光減衰器8を通ったレーザ発振
器7からのレーザ光のピーク値は、このピーク値をPt
とすると次式で表される。
Pt=T−Pi
=F3 (F2 (V)) ・Pi=F3 (
F2 (V)) ・ Fl (V)・ ・・
・・・・ (3) (1)式〜(3)式により関数器3で変換される関数F
2 (V)は次式で表される。
F2 (V)) ・ Fl (V)・ ・・
・・・・ (3) (1)式〜(3)式により関数器3で変換される関数F
2 (V)は次式で表される。
F2 (V)
=F3−1(Pt /F1 (V))・・−・・・(
4)上述の(1)弐〜(4)式により明らかなように、
F−V変換器2の出力電圧Vを関数器3においてF2
(V)なる関数に変換し、これを増幅器4で増幅した
後に光減衰器8に印加することにより、ビームポジショ
ナの加速時においてもレーザ光のピーク値を一定に保つ
ことができる(第2図参照)。
4)上述の(1)弐〜(4)式により明らかなように、
F−V変換器2の出力電圧Vを関数器3においてF2
(V)なる関数に変換し、これを増幅器4で増幅した
後に光減衰器8に印加することにより、ビームポジショ
ナの加速時においてもレーザ光のピーク値を一定に保つ
ことができる(第2図参照)。
第3図は本発明の他の実施例の構成を示すブロック図で
ある。図において、本発明の他の実施例によるレーザ加
工装置では、第1図に示した本発明の一実施例によるレ
ーザ加工装置と同一の構成部品には同一符号が付しであ
る。また、その同一の構成部品の動作も本発明の一実施
例と同様である。
ある。図において、本発明の他の実施例によるレーザ加
工装置では、第1図に示した本発明の一実施例によるレ
ーザ加工装置と同一の構成部品には同一符号が付しであ
る。また、その同一の構成部品の動作も本発明の一実施
例と同様である。
本発明の他の実施例では、F−V変換回路2の出力電圧
■を関数器3でF2 (V)なる関数に変換し、これ
を増幅器4で増幅した後にレーザ電源9に印加するよう
にしている。すなわち、エンコーダパルスのパルスレー
トに応じてレーザ電源9の出力値を可吻し、レーザ発振
器7におけるレーザの励起レベルを変調することによっ
てレニザ光出力を減衰させ、レーザ光のピーク値をビー
ムポジショナの加速時においても一定に保つようにして
いる。
■を関数器3でF2 (V)なる関数に変換し、これ
を増幅器4で増幅した後にレーザ電源9に印加するよう
にしている。すなわち、エンコーダパルスのパルスレー
トに応じてレーザ電源9の出力値を可吻し、レーザ発振
器7におけるレーザの励起レベルを変調することによっ
てレニザ光出力を減衰させ、レーザ光のピーク値をビー
ムポジショナの加速時においても一定に保つようにして
いる。
本発明の他の実施例では、本発明の一実施例のようにレ
ーザ発振器7の外部に光減衰器8を必要としないので、
安価に装置を構成することができるという利点があるが
、一般にレーザの励起レベルを変化させるとレーザ出力
が不安定になるので、大幅にレーザ出力を変化させるこ
とはできない。
ーザ発振器7の外部に光減衰器8を必要としないので、
安価に装置を構成することができるという利点があるが
、一般にレーザの励起レベルを変化させるとレーザ出力
が不安定になるので、大幅にレーザ出力を変化させるこ
とはできない。
このように、ビームポジショナのエンコーダからのエン
コーダパルスに応じて出力されるF−V変換器2の出力
電圧Vを関数器3においてF2(V)なる関数に変換し
、これを増幅器4で増幅した後に光減衰器8あるいはレ
ーザTi源9に印加してレーザ発振器7からのレーザ出
力を変化させるようにすることによって、Qスイッチパ
ルスをビームポジショナのエンコーダパルスに同期させ
てトリミングを行う場合に、ビームポジショナの加速時
などにおける速度の変化によるレーザ光のピーク値の変
化を補償し、均一なI・リミング加工を行うことができ
る。
コーダパルスに応じて出力されるF−V変換器2の出力
電圧Vを関数器3においてF2(V)なる関数に変換し
、これを増幅器4で増幅した後に光減衰器8あるいはレ
ーザTi源9に印加してレーザ発振器7からのレーザ出
力を変化させるようにすることによって、Qスイッチパ
ルスをビームポジショナのエンコーダパルスに同期させ
てトリミングを行う場合に、ビームポジショナの加速時
などにおける速度の変化によるレーザ光のピーク値の変
化を補償し、均一なI・リミング加工を行うことができ
る。
尚、本発明の一実施例および他の実施例においてはレー
ザトリミング装置について述べたが、これは他の加工装
置でもよく、これらに限定されない。
ザトリミング装置について述べたが、これは他の加工装
置でもよく、これらに限定されない。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、レーザ出力を加工位
置に移動させるビームポジショナの速度に応じてこのレ
ーザ出力を可変するようにすることによって、ビームポ
ジショナの加速時などにおける速度の変化によるレーザ
光の゛ビーク値の変化を補償し、均一な加工を行うこと
ができるという効果がある。
置に移動させるビームポジショナの速度に応じてこのレ
ーザ出力を可変するようにすることによって、ビームポ
ジショナの加速時などにおける速度の変化によるレーザ
光の゛ビーク値の変化を補償し、均一な加工を行うこと
ができるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例の構成を示すブロック図、第
2図は本発明の一実施例の動作を示すタイムチャート、
第3図は本発明の他の実施例の構成を示すブロック図で
ある。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・オア回路 2・・・・・・F−V変換器 3・・・・・・関数器 4・・・・・・増幅器 7・・・・・・レーザ発@器 8・・・・・・光減衰器 9・・・・・・レーザ電源
2図は本発明の一実施例の動作を示すタイムチャート、
第3図は本発明の他の実施例の構成を示すブロック図で
ある。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・オア回路 2・・・・・・F−V変換器 3・・・・・・関数器 4・・・・・・増幅器 7・・・・・・レーザ発@器 8・・・・・・光減衰器 9・・・・・・レーザ電源
Claims (1)
- レーザ出力を加工位置に移動させるビームポジショナの
速度に応じて前記レーザ出力を可変する可変手段を有す
ることを特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62260565A JPH01104486A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62260565A JPH01104486A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01104486A true JPH01104486A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=17349714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62260565A Pending JPH01104486A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01104486A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6177648B1 (en) * | 1999-03-30 | 2001-01-23 | Laser Machining, Inc. | Steered laser beam system with laser power control |
JP2007531314A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | アイシン精機株式会社 | パルス高パワーファイバ増幅器システムを制御し保護するための方法と装置。 |
JP7250231B1 (ja) * | 2022-09-15 | 2023-03-31 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置、レーザ加工装置、学習装置、推論装置、レーザ加工システムおよびレーザ加工方法 |
-
1987
- 1987-10-15 JP JP62260565A patent/JPH01104486A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6177648B1 (en) * | 1999-03-30 | 2001-01-23 | Laser Machining, Inc. | Steered laser beam system with laser power control |
JP2007531314A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | アイシン精機株式会社 | パルス高パワーファイバ増幅器システムを制御し保護するための方法と装置。 |
US8537459B2 (en) | 2004-03-31 | 2013-09-17 | Imra America, Inc. | Method and apparatus for controlling and protecting pulsed high power fiber amplifier systems |
US9680280B2 (en) | 2004-03-31 | 2017-06-13 | Imra America, Inc. | Method and apparatus for controlling and protecting pulsed high power fiber amplifier systems |
JP7250231B1 (ja) * | 2022-09-15 | 2023-03-31 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置、レーザ加工装置、学習装置、推論装置、レーザ加工システムおよびレーザ加工方法 |
WO2024057493A1 (ja) * | 2022-09-15 | 2024-03-21 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置、レーザ加工装置、学習装置、推論装置、レーザ加工システムおよびレーザ加工方法 |
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