JPH01102718A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体、特にＣＯ系の円板状垂直磁気記
録媒体に関する。

［開示の概要］ 未明Ｓ書及び図面は、金属薄膜型磁気記録媒体において
、非磁性基体の第一面に金属薄膜磁気記録層を形成し、
この非磁性基体の第二面に、第一面の金属８膜磁気記録
層より薄い薄膜層を形成することにより、記録媒体に生
じたカールを相殺し、全体として薄く剛性の低いヘッド
タッチの良好な垂直磁気記録媒体を実現する技術を開示
するものである。

［従来の技術］ 最近、塗布型磁気記録媒体に代って、高い保磁力と残留
磁束密度を有する金属薄膜型磁気記録媒体が注目されて
いる。特に高密度記録を達成する方法として、磁気記録
媒体の膜面に垂直方向の磁化容易軸を持つ記録媒体を用
いて厚み方向に信号を記録する垂直磁気記録方式がＣｏ
−Ｃｒ１ｌｉ等のＣＯ系合金ｇｊＭを用いて開発が進め
られている。

このような金属薄膜型磁気記録媒体は、非磁性基体、例
えば高分子フィルムから成る基体上に、真空蒸着、イオ
ンブレーティング、スパッタ等の物理蒸着法の手段によ
って直接金属薄膜の磁性層を形成して得られる。

このような薄１１り堆積法によって形成された金属薄１
１り型磁気記録媒体は、金属ｉｊｊ膜に残留する強い内
部応力により、成膜後磁性層側を凹とするカールが発生
することが多い。カールが生じると、磁気テープのよう
な磁気記録媒体では走行性悪化、巻き乱れ、ヘッドタッ
チ不良等の問題が生じ、また磁気シートのような記録媒
体では全く使用できなくなるという欠点がある。

そこで、従来は高分子フィルム基体のもう一方の面にも
同材質、同厚の金属薄膜層を形成し、このカールを防止
している。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、このように高分子フィルム基体の表衷両
面に金属Ｒ膜層を同時に形成すると、全厚が厚くなり、
剛性が高くなるため結果として良好なヘッドタッチがと
れなくなるという問題点を生ずる。

さらに、高分子フィルム基体の両面に金属薄膜層を形成
する際、各々の面のデポジットにプロセス上の時間差が
あると、両面の金属薄膜層を等厚としだのでは過剰補正
となり、カールが発生することがある。これは、第一面
へ金属薄膜を形成する際、フィルムが加熱され、これに
よりフィルムの厚み方向の熱物性の対称性がくずれるた
めと考えられる。

本発明は、上述した金属薄膜型磁気記録媒体の欠点を除
去し、剛性の上昇を押え、カールを克服したヘッドタッ
チの良好な、磁気記録媒体を提供することを目的として
いる。

［問題点を解決するための手段及び作用］本発明は、高
分子フィルム基体の第一面に金属薄膜磁気記録層を物理
蒸着法により形成した磁気記録媒体において、高分子フ
ィルム基体の第二面に、第一面の金属薄膜層よりも薄く
無機物の薄膜層を形成したものである・ 本発明の基本的構成を第１図及び第２図に示す、第１図
は高分子フィルム基体ｌの第一面の金属薄膜磁気記録層
２の金属とは異なる無機物より構成された無機膜層３を
第二面に備えた構造を、第２図は高分子フィルム基体ｌ
の両面に同種の金属薄膜を形成した構造を示している。

高分子フィルム基体ｌは、金属薄膜形成時における熱損
傷を避けるため、耐熱性の高分子フィル　　　・ム、例
えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリイ
ミドアミド、ポリエーテルイミド等を用いるのが好まし
い。さらに走行性を良くするため、不活性粒子を添加し
てもよい。不活性粒子としては、カーボン、ＣａＣＯ３
，Ｂａ５ｏａ、　５ｉ０２゜ＴｉＯ２等が用いられるが
、その粒子径は０．００５〜０．２井膿が好ましい。

また、第一面の金属Ｒ膜磁気記録層は、　Ｇｏ−Ｎｉ。

Ｃｏ−Ｃｒ、　Ｆｅ、　Ｎｉ等の金属あるいは合金の薄
膜で、真空蒸着イオンブレーティング、スパッタ等の物
理蒸着法の手段によって形成する。

第二面の無機薄膜層としては、第一面と同種の金属ある
いは合金薄膜を、第一面より薄く形成するか、又は、引
っばり応力を持った膜質であればよく、特に熱膨張係数
が大きな膜は、成膜後の冷却時に収縮が大となり、カー
ルを減らしながら、剛性も低くおさえることができる。

例えば、Ｚｎ。

Ａｌｌ、　Ｉｎ、　Ａｇ、　Ｓｕ、　Ｐｂ等の金属ある
いは合金、さらにＳｅ、　Ｔｅ等の半金属が好ましい。

また、成膜法はスパッタリングより基若法の方が好まし
い、スパッタリングによると、Ａｒガスのゼーニングの
ため、膜応力が圧縮方向に変化しやすく、カール相殺の
効果が薄れるからである。

さらにここで、無機薄ｎλ層の厚さを外側に行くに従っ
て厚く又は薄くすることにより、さらにその効果を増大
させることも可能である。

［実施例］ 本発明を、以下に示す実施例に基づいて、さらに詳細に
説明する。

実施例１ 本実施例は、磁気ヘッドに当る面の磁性層材料と同一の
材料を逆側のパッド接触面上のＦｊ膜にも用いている。

磁気ヘッド接触面にはＲＦマグネトロンスパッタリング
によりＧｏ−Ｃｒ合金膜を０．３　ｇｍ厚に形成した。

用いたフィルムはガラス転移点２８０℃、２０ＪＬｍ厚
のポリイミドフィルムで磁性層形成時には１２０℃にて
基板加熱を行なっている。

結果的に得られた磁気特性はＵＳＭで測定したところＨ
”ｃ＝　８７０　ｘルステッド、４　πＭｓ＝　４．８
ＫＧであった。一方パッド接触面には、０．２３４　ｍ
厚のＧｏ−Ｃｒ合金膜を形成したところシート全体のカ
ールがバランスした。この膜厚条件は成膜時の基板加熱
温度、フィルムに印加する張力、フィルムの熱物性（特
にガラス転移点）により微妙に変化する。−般にガラス
転移点の低いフィルムはど第１の成膜によりフィルム物
性の変質がおこりやすく、表裏両面に形成するＣ　ｏ　
−Ｃｒ　膜厚のアンバランスが大となる。また、ガラス
転移点が低いフィルムはど成膜時に強い張力を印加しな
いとフィルムにシワを生ずる傾向があり、張力で伸張さ
れた寸法がヒートセットされて物性に影響を及ぼすので
この点でも膜厚のアンバランスが促進される。さらに、
この様な構成により全体の厚さを押えることができる結
果、剛性の低減効果もあがり、機能性の高い両面成膜シ
ートが得られる。

実施例２ フィルム厚３０ｇｍ、ガラス転移点２１０℃のポリアミ
ドフィルムを用い磁気ヘッド接触面側にＲＦマグネトロ
ンスパッタリング番こより０．４　ｇ層厚のＧｏ−Ｃｒ
磁性膜を形成した。基板加熱温度は１２０°Ｃである。

パッド接触面のＧｏ−Ｃｒ合金膜厚を０．２２　、ＬＬ
　ｒａとしたとき、カールがバランスした。この結果、
剛性的にも良好なディスクが得られた。

［発明の効果］ 以北説明したように、本発明によれば、金属薄膜磁気記
録層形成後に生ずる磁気記録媒体のカールを相殺すると
同時に、この記録媒体の剛性の増大量を低減することが
でき、ヘッドタッチの良好な磁気記録媒体を得ることが
可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第二面に無機薄膜層を形成した本発明の説明図
、第２図は第二面に第一面と同種の金属薄膜層を形成し
た場合の説明図である。 ｌ・・・高分子フィルム基体、 ２・・・金属薄膜磁気記録層、 ３・・・無機薄膜層、 ４・・・２と同種の金属の薄膜層。 第１図 第２図

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体の第一面に金属薄膜磁気記録層を形成
   した磁気記録媒体において、前記非磁性基体の第二面に
   前記第一面の金属薄膜磁気記録層より薄い薄膜層を形成
   してなることを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）第一面の金属薄膜磁気記録層と第二面の薄膜層と
   が同種の金属で形成されていることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
3. （３）第二面の薄膜層が、第一面の金属薄膜磁気記録層
   の金属とは異なる無機物より構成された無機膜層である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
   媒体。
4. （４）非磁性基体が円板状で第二面の薄膜層の厚さが、
   円板の中心からの距離によって変化することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
5. （５）非磁性基体が粒径０．００５〜０．２μｍの不活
   性粒子を添加した高分子フィルムであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
6. （６）非磁性基体が円板状で、その直径が５０ｍｍ以下
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
   気記録媒体。
7. （７）金属薄膜磁気記録層が、コバルトもしくはコバル
   トを主体とする合金であることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の磁気記録媒体。
8. （８）金属薄膜磁気記録層がコバルトおよびクロムを主
   体とする合金であることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の磁気記録媒体。