JPH01102046A - ジフエニルアミンの製造方法 - Google Patents

ジフエニルアミンの製造方法

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JPH01102046A
JPH01102046A JP62257491A JP25749187A JPH01102046A JP H01102046 A JPH01102046 A JP H01102046A JP 62257491 A JP62257491 A JP 62257491A JP 25749187 A JP25749187 A JP 25749187A JP H01102046 A JPH01102046 A JP H01102046A
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aniline
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diphenylamine
pores
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Russell E Malz Jr
ラッセル イー.マルツ,ジュニア
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Uniroyal Chemical Co Inc
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/64Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by disproportionation

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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 公男立盆肚 本発明はアニリンからジフェニルアミンを製造するため
の改良方法に向けられたものであり、その方法は全多孔
度の少なくとも約30容量%を約120と約200オン
グストロームの間の直径を有する気孔の形で有しそして
SOの形で測定した硫黄含量が約0.02重量るよりも
少ないアルミナ触媒の使用を含む。
3四しΔ七教 ジフェニルアミンはゴムの酸化防止剤および促進剤、プ
ラスチック用安定剤、並びに殺虫剤、爆薬、染料および
酸化防止剤用の中間体を含めた種々の用途を有するもの
であることがよく知られている。慣例的には、ジフェニ
ルアミンはアニリンを450℃以上の甚だ高温度でアル
ミナ触媒と接触させて製造される。かくて、Kirk 
−Othmer。
Encyclopedia of Chemical 
Technology 、 2巻、311頁(3版、1
978 )は[アニリン蒸気を加圧および450’C以
上の温度で活性アルミナ上に通すとジフェニルアミンを
生じ自と開示している。
ある程度類似的に、Addisに対する米国特許第3.
118,944号はダラム当り約100−400平方米
の表面々積およびダラム当り約0.50立方センチメー
トルの気孔容積を有するアルミナ触媒とアニリンとを反
応させることによってジフェニルアミンを製造する方法
を開示している。Addisが「しかし450°以下で
はその結果は貧弱すぎて有用ではない」(3欄、32 
+ aa行)と指摘していることは特に注目すべきこと
である。
慣用の工業用の方法はその全多孔度(容量で)の1/3
以上が比較的小気孔(約36と約60オングストローム
の間の直径を有する)の形を有しそして当初の硫黄含量
が(So、の形で測定して)3重量%以上であるアルミ
ナ触媒を典型的に使用する。しかし、典型的にそのよう
な硫黄含量は反応工程中に減少するであろう。
そのような既知の方法は約90%までの収率(アニリン
の転化率を基にして)でアニリンを有効にジフェニルア
ミンに転化するけれども、それにもかかわらず高められ
た効率でアニリンからジフェニルアミンを製造する方法
が望まれるであろう。
更に、そのような高温度の先行技術は比較的多量のエネ
ルギーの消費を要し従って経済的にも望ましくないこと
は明らかである。従って、減少したエネルギー量を必要
とするジフェニルアミンの製造方法を得るか、または別
法として、そのような高温度においてより効果的にジフ
ェニルアミンを製造する方法か望まれるであろう。
従って、アニリンからジフェニルアミンを製造するため
の増加した転化効率を示す方法を提供することが本発明
の目的である。
一定量の製品をつくるために減少したエネルギー量しか
必要としないジフェニルアミンの製造方法を提供するこ
とが本発明のそれ以上の目的である。
上記の目的およびそれらに付加される目的は以下の記述
およびそれに付は加えた例からより完全に明らかになる
であろう。
公盟2占宣 本発明はその全多孔度の少なくとも約30容量うを約1
20と約200オングストロームの間の直径を有する気
孔の形で有しそしてSO4の形で測定して約0.02重
量%よりも少ない硫黄含量のアルミナ触媒とアニリンを
接触させることを含むジフェニルアミンを製造する方法
に向けられたものである。
本発明の方法に用いるアルミナ触媒はその多孔度の少な
くとも約30容量%、好ましくは少なくとも約旬容量%
、そして最も好ましくは少なくとも約50容量%を約1
20と約200オングストロームの間の直径を有する気
孔の形で有する。本願中で使用する術語「直径」は水銀
ポロシメトリーで測定した平均気孔直径を意味する。例
え14、H,RootareのrA 5hort Li
tarature Reviewor Mercury
 Porosimeh7 J 、(Am1nco Ia
boratoryNewg、 ) 4A −4H頁、1
968年を参照。
更に、本発明の方法で使用する触媒はSO4の形で測定
して約0.02重量%よりもダない硫黄含量を有する。
本発明の方法に従えば、アニリンを上記アルミナ触媒と
典型的には約380°と約470℃の間、好ましくは約
400@と約465℃の間で接触させることによって下
記の反応に従ってジフェニルアミンとアンモニアを生じ
る: 反応圧力は減圧から加圧までにおよびそして大気圧から
10 psigにおよぶ圧力が好ましい。
本発明の方法は典型的に次のように行なわれる。典型的
には鋼でつくられそして触媒床を有する反応器を反応温
度まで予熱する。アニリンを計量して装入するが、典型
的には触媒床との接触が約1分と約2分の間維持される
ような速度であるが、より長いまたより短かい接触時間
を用いてもよい。
ジフェニルアミン生成物は次に生じた反応混合物から当
業者がよく知っている方法によって単離されるが普通は
蒸留による。もしも望むならば未反応アニリンは反応混
合物から分離して再循環してもよい。
アルミナ触媒は当業者が周知の方法に従って三弗化ほう
素による処理によって当初に活性化しまたは周期的に再
活性化することができる。典型的にはそのような処理に
は流れ中のアニリンの重量を基にして約0.5重量%の
量でBF、−アニリン塩またはガス状BP、を含有する
アニリン流を通すことを含む。
更に、アルミナ触媒は典型的には空気の存在において約
500 ’Cと約625℃の間の温度に蓄積したタール
を焼き払うためにそのような触媒を加熱することによっ
て周期的に再生することができる。
本発明の方法は現在の商業的ジフェニルアミン法のもの
よりも大きい効率および低い温度でジフェニルアミンを
生成する。
下記の例は本発明をさらに説明する意図であり従って如
何なる方法においてでも本発明の範囲を限定する意図で
はない。
1および2および比   AおよびB 本発明の方法を商業的に用いられるアニリンからジフェ
ニルアミンを製造する方法と比較するために、約0.2
重量%のアニリン−弗化ほう素塊を含有するアニリン流
で処理されたBF、で前処理したアルミナを用いて、下
記の反応温度においていくつかの実験を行った。これら
の実験は反応器(aChemical Data Sy
stem Micro Pilot Plant Mo
de1804G )中で行ったが、これは12インチ×
1インチ管で床を通して取付けた6個の熱電対を有し3
個の独立した加熱器を有する中央縦穴を装備しである。
反応器は各実験において第1表中に示した温度に維持し
た。総ての実験において中央縦穴は50gの触媒を装入
した。
更に、総ての実験においてアニリンは0.11のWH8
V(時当重量空間速度・・・触媒重量で割った時間当た
りアニリン重量)で計量装入した。アニリンは触媒と約
1.5分接触させた。
例1と2および比較実験AとBに用いた触媒は下記の当
初特性を有していた: 表面面積      184     299(m”/
g) asAまで   0.009    0.0956o 
A      O,0140,29990A     
 O,0830,325120人     0.199
    0.331200A      O,6870
,339350A      O,7150,3496
00人     0.726    0.3671.0
0OA      O,7330,3955,00OA
      O,7340,48810,00OA  
    O,7340,512115,300人   
  G、734    0.54080(重量%)  
   0.01     3.7申水銀ポロシメトリー
によって測定。
得られたジフェニルアミン流れはVarian 870
0を使用し内部標準と比較してガス液クロマトグラフィ
ーによって分析した。、各側および比較実験に対して数
回の実験を行った。各側および比較実験について得られ
た平均値は第1表中に記した。
洟」」匡 例または 」1上土工上 反応温度(’C)  400 450 425 450
収率1      94  98  90  90転化
率”      41  44  32  36(註記
)1.収率=(生じたジフェニルアミンのモル数の2倍
を消費したアニリンのモル 数で割る)X100゜ 2、転化率=(生じたジフェニルアミンのモル数の2倍
を装入したアニリンのモル 数で割る)X100゜ 上記のデータは本発明の方法&二よって達成された収率
および転化率の予期しるかった増加を示す。特に注目す
べきことは例1を比較試験Bと比べると本発明の方法は
工業的方法で用いるジフェニルアミン製造法より50℃
低い温度における本発明の方法が増加した収率を与える
ことである。
氷 例1に用いたのと同一の反応を用いて、数回の追加実験
を4506Cの温度で例工の手順に従った、但し触媒(
これは例1および2に用いたものと同じであった)は三
弗化ほう素によって前処理しなかった。ジフェニルアミ
ンの平均収率は86%でありそして平均転化率は36%
であった。この事は本発明の方法においてはBF、前処
理(これは工業的ジフェニルアミンの方法で必要な段階
である)は不要であることを示す。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)その全多孔度の少なくとも約30容量%を約12
    0と約200オングストロームの間の直径を有する気孔
    の形で有しそしてSO_4の形で測定して約0.02重
    量%よりも少ない硫黄含量のアルミナ触媒とアニリンと
    を接触させることを含むジフェニルアミンの製造方法。
  2. (2)該触媒が三弗化ほう素および三弗化ほう素−アニ
    リン塩から成る群から選ばれる少なくとも一つの化合物
    によって前処理される特許請求の範囲第(1)項に記載
    の方法。
  3. (3)該方法が約380゜と約475℃の間において実
    施される特許請求の範囲第(1)項に記載の方法。
  4. (4)該方法が約400゜と約465℃の間において実
    施される特許請求の範囲第(3)項に記載の方法。
  5. (5)該触媒がその全多孔度の少なくとも約40容量%
    を約120と約200オングストロームの間の直径を有
    する気孔の形で有する特許請求の範囲第(1)項に記載
    の方法。
  6. (6)該触媒がその全多孔度の少なくとも約50容量%
    を約120と約200オングストロームの間の直径を有
    する気孔の形で有す、る特許請求の範囲第(1)項に記
    載の方法。
  7. (7)A)その全多孔度の少なくとも約50容量%を約
    120と約200オングストロームの直径を有する気孔
    の形で有しそしてSO_4の形において約0.02重量
    %より少ない硫黄含量の触媒を、三弗化ほう素および三
    弗化ほう素− アニリン塩から成る群から選ばれる少なく とも一化合物によって前処理し;そして B)アニリンをそのように処理した触媒と約400゜と
    約465℃の間において接触させるの段階を含むジフェ
    ニルアミンの製造方法。
JP62257491A 1986-09-03 1987-10-14 ジフエニルアミンの製造方法 Granted JPH01102046A (ja)

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US06/903,354 US4814504A (en) 1986-09-03 1986-09-03 Process for the production of diphenylamine

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JPH0420423B2 JPH0420423B2 (ja) 1992-04-02

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EP0308552B1 (en) 1991-05-22
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ZA877208B (en) 1988-04-21

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