JP7595064B2 - 結晶形iiのソタグリフロジンを連続的に調製する方法 - Google Patents
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Description
a)反応チャンバ内で、トルエン溶液中若しくはキシレン溶液中、又はそれらの混合物溶液中、好ましくはトルエン溶液中の上記式(A)の化合物と、少なくともナトリウムメトキシド及びメタノールとの反応を、メタノールの沸点未満の温度で行って、ナトリウム塩との混合物中にソタグリフロジンを形成する工程と、
b)結晶化チャンバ内で、少なくともトルエン若しくはキシレン、又はそれらの混合物を含み、ナトリウム塩を含まない非水性溶媒媒体中で、形態IIのソタグリフロジンの結晶化温度で、工程a)で形成されたソタグリフロジンの結晶化を実施する工程と、
c)上記結晶形IIのソタグリフロジンを単離する工程と、
を含む、方法に関する。
上記方法は、a)反応チャンバ内で、トルエン溶液中若しくはキシレン溶液中、又はそれらの混合物溶液中、好ましくは少なくともトルエン溶液中の上記式(A)の化合物と、少なくともナトリウムメトキシド及びメタノールとの反応を、メタノールの沸点未満の温度で行って、ナトリウム塩との混合物中にソタグリフロジンを形成する工程a)を含む。
好ましい実施の形態によれば、上記方法は、工程a)と工程(b)との間に、媒体を水性洗浄することによって工程a)の最後に得られた媒体からナトリウム塩を除去する工程、続いて媒体を脱水する工程という追加の工程を含む。
上記方法は、結晶化チャンバ内で、少なくともトルエン、キシレン、又はそれらの混合物、好ましくは少なくともトルエンを含み、ナトリウム塩を含まない非水性溶媒媒体中で、形態IIのソタグリフロジンの結晶化温度で、工程a)で形成されたソタグリフロジンの結晶化を実施する工程b)を含む。
上記方法は、結晶形IIのソタグリフロジンを単離する工程(c)を含む。
工程b)の後又は工程b’)の後に得られた混合物を、好ましくはトルエン若しくはキシレン、又はそれらの混合物、より好ましくはトルエンで濾過及び洗浄することができる。
濾過及び洗浄の後に、乾燥工程を行ってもよい。
特に、較正を20℃~30℃、好ましくは25℃の温度で行う。
[項1]
下記式(A):
の化合物から結晶形IIのソタグリフロジン:
を調製する方法であって、該方法が連続的に実施され、少なくとも以下:
a)反応チャンバ内で、トルエン溶液中若しくはキシレン溶液中、又はそれらの混合物溶液中の前記式(A)の化合物と、少なくともナトリウムメトキシド及びメタノールとの反応を、メタノールの沸点未満の温度で行って、ナトリウム塩との混合物中にソタグリフロジンを形成する工程と、
b)結晶化チャンバ内で、少なくともトルエン若しくはキシレン、又はそれらの混合物を含み、ナトリウム塩を含まない非水性溶媒媒体中で、形態IIのソタグリフロジンの結晶化温度で、工程a)で形成されたソタグリフロジンの結晶化を実施する工程と、
c)前記結晶形IIのソタグリフロジンを単離する工程と、
を含む、方法。
[項2]
工程a)において前記式(A)の化合物がトルエン溶液中に含まれる、項1に記載の方法。
[項3]
工程b)において前記非水性溶媒媒体が少なくともトルエンを含む、項1又は2に記載の方法。
[項4]
前記工程a)の温度が、大気圧で65℃未満、好ましくは63℃未満である、項1~3のいずれか一項に記載の方法。
[項5]
前記反応チャンバ内の滞留時間が少なくとも10分、特に少なくとも15分、好ましくは少なくとも20分、より好ましくは少なくとも30分である、項1~4のいずれか一項に記載の方法。
[項6]
工程a)と工程(b)との間に、前記媒体を水性洗浄することによって工程a)の最後に得られた前記媒体からナトリウム塩を除去する工程、続いて前記媒体を脱水する工程という追加の工程を含む、項1~5のいずれか一項に記載の方法。
[項7]
前記媒体が蒸発により脱水される、項6に記載の方法。
[項8]
前記工程b)の温度が、大気圧で60℃~70℃、好ましくは62℃~67℃であり、より好ましくは65℃である、項1~7のいずれか一項に記載の方法。
[項9]
工程b)において、前記結晶化チャンバに、既存の結晶形IIのソタグリフロジンを播種する、項1~8のいずれか一項に記載の方法。
[項10]
前記結晶化チャンバ内の滞留時間が少なくとも10分、特に少なくとも15分、好ましくは少なくとも20分、より好ましくは少なくとも30分である、項1~9のいずれか一項に記載の方法。
[項11]
前記結晶化チャンバで得られた媒体が採取され、湿式粉砕に供され、前記結晶化チャンバ内に戻される、項1~10のいずれか一項に記載の方法。
[項12]
工程b)と工程(c)との間に、前の結晶化チャンバ内の温度より低い温度で、工程b)の最後に得られた媒体を後続する結晶化チャンバに供給する追加の工程(b’)を含む、項1~11のいずれか一項に記載の方法。
[項13]
前記工程b’)の温度が、大気圧で20℃~30℃、好ましくは20℃~28℃であり、より好ましくは20℃である、項12に記載の方法。
[項14]
工程b)の後又は工程b’)の後に得られた混合物を、好ましくはトルエン若しくはキシレン、又はこれらの混合物、より好ましくはトルエンによる濾過及び洗浄に供する、項1~13のいずれか一項に記載の方法。
[項15]
前記濾過及び洗浄の後に乾燥工程が続く、項14に記載の方法。
[項16]
前記乾燥工程が、45℃~65℃、特に50℃~55℃の温度で行われる、項15に記載の方法。
[項17]
前記反応チャンバ及び/又は結晶化チャンバ(複数の場合もある)が連続撹拌槽型反応器(複数の場合もある)である、項1~16のいずれか一項に記載の方法。
以下の実施例では、形態IIのソタグリフロジンの調製を記載する。これらの例は限定的なものではなく、上記方法を説明するためのものにすぎない。
トルエン中でのソタグリフロジンの合成
室温(25℃)で10体積のトルエンを用いて、化合物(A)のトルエン溶液を調製した。媒体を30℃~40℃で加熱し、化合物(A)を完全に溶解させた。
得られた溶液を66.3kg/時の流量で別の反応器に入れた。
反応媒体の水性洗浄を60℃で行った。
洗浄は1体積の水/反応媒体で行った。
ナトリウム塩を十分に除去した。
溶液を70℃~110℃の大気圧下で蒸発させることにより、反応器内で脱水した。
ソタグリフロジンの結晶化を、2つの連続撹拌槽型反応器のカスケード内で実施した。
懸濁液の濾過を、20℃の回転圧力フィルタで2.5barの圧力で行った。懸濁液を84.9kg/時の流量で入れた。
媒体の洗浄を、20℃で2体積のトルエンを用いて2.5barの圧力で実施した。媒体を12.5l/時の流量で入れた。
次いで、媒体の乾燥を55℃で100mbar未満の圧力下で実施した。
トルエン中でのソタグリフロジンの合成
ソタグリフロジンを、8barの圧力下、113℃にて強化反応器内で合成した。
Claims (18)
- 式(A):
の化合物から結晶形IIのソタグリフロジン:
を調製するための連続的な方法であって、該方法が以下:
(a)反応チャンバ内で、トルエン、キシレン、又はそれらの混合物の溶液中の式(A)の化合物と、ナトリウムメトキシド及びメタノールとを、メタノールの沸点未満の温度で反応させて、ソタグリフロジンとナトリウム塩との混合物を含む媒体を提供する工程、
(b)結晶化チャンバ内で、トルエン、キシレン、又はそれらの混合物を含み、ナトリウム塩を含まない非水性溶媒媒体中で、ソタグリフロジンが結晶形IIのソタグリフロジンとして結晶化する温度で、工程(a)で得られたソタグリフロジンを結晶化する工程、及び
(c)結晶形IIのソタグリフロジンを単離する工程
の連続的な実施を含む、方法。 - 工程(a)において式(A)の化合物がトルエンの溶液中に含まれる、請求項1に記載の方法。
- 工程(b)において非水性溶媒媒体がトルエンを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 工程(a)の温度が65℃未満である、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 反応チャンバ内の滞留時間が少なくとも10分である、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(a)と工程(b)との間に、工程(a)の最後に得られた媒体から該媒体を水性洗浄することによってナトリウム塩を除去する工程、続いて前記媒体を脱水する工程という追加の工程を含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記媒体が蒸発により脱水される、請求項6に記載の方法。
- 工程(b)の温度が60℃~70℃である、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(b)において、結晶化チャンバに、既存の結晶形IIのソタグリフロジンを播種する、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 結晶化チャンバ内の滞留時間が少なくとも10分である、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
- 結晶化チャンバで得られた媒体が採取され、湿式粉砕に供され、前記結晶化チャンバ内に戻される、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(b)と工程(c)との間に、前の結晶化チャンバ内の温度より低い温度で、工程(b)の最後に得られた媒体を後続する結晶化チャンバに供給する追加の工程(b’)を含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(b’)の温度が20℃~30℃である、請求項12に記載の方法。
- 工程(b)の後又は工程(b’)の後に得られた混合物を濾過及び洗浄に供する、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記洗浄が、トルエン、キシレン、又はこれらの混合物でなされる、請求項14に記載の方法。
- 前記濾過及び洗浄の後に乾燥工程が続く、請求項14に記載の方法。
- 前記乾燥工程が45℃~65℃の温度で行われる、請求項16に記載の方法。
- 反応チャンバ及び/又は結晶化チャンバ(複数の場合もある)が連続撹拌槽型反応器(複数の場合もある)である、請求項1~17のいずれか一項に記載の方法。
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