JPH0259142B2 - - Google Patents
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- JPH0259142B2 JPH0259142B2 JP56196419A JP19641981A JPH0259142B2 JP H0259142 B2 JPH0259142 B2 JP H0259142B2 JP 56196419 A JP56196419 A JP 56196419A JP 19641981 A JP19641981 A JP 19641981A JP H0259142 B2 JPH0259142 B2 JP H0259142B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/04—Preparation of carboxylic acid amides from ketenes by reaction with ammonia or amines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
1―アセトアセチルアミノ―4―クロル―2,
5―ジメチトキシベンゾールはしばしば使用され
るアゾ染料、特にアゾ顔料用のカツプリング成分
(C.I.アゾイツクカツプリング成分44,C.I.37613)
である。 ドイツ特許第2518984号明細書から1―アセト
アセチルアミノ―4―クロル―2,5―ジメトキ
シベンゾールが2,5―ジメトキシ―4―クロル
アニリンを水中で懸濁化し、ジケテンと反応させ
ることによつて製造されることは公知であり、こ
の際ジケテンを反応の初め、直ちに一度に加え
る。反応は酸による触媒で行う。その際有機酸が
好ましい。アミン1モルあたり酸0.1〜1モルを
使用するのが好ましい。例中では約5%までの酢
酸濃度で操作する。 この方法に於ては生成物が高収率で得られる
が、生成物の純度が高堅牢性アゾ顔料の合成のた
めの原料に課せられた要求を満足させない。 今や本発明者は次の様な簡単な方法で1―アセ
トアセチルアミノ―4―クロル―2,5―ジメト
キシベンゾールが高品質で1―アミノ―4―クロ
ル―2,5―ジメトキシベンゾールとジケテンと
から水性酢酸中で得られることを見出した。すな
わち反応を20〜90℃で60〜90重量%までが先行す
るバツチの母液から成る、30〜70重量%濃度の酢
酸中で行い、その後生成物を0―25℃で結晶化
し、生じた母液の10〜40重量%を分離することよ
りなる。分離された母液を回収する、たとえば蒸
留によつて回収するのが有利である。この際得ら
れた酢酸を再び適量で反応媒体として使用するこ
とができる。 本発明による操作は収率を90%の量で及び精製
することなく高堅牢性アゾ顔料用カツプリング成
分に課せられた要求に対応する生成物品質を生じ
る。 次に本発明による好ましい実施形態を説明す
る:反応温度、酢酸濃度及び反応媒体の母液の割
合並びに反応成分の濃度を反応の最後に生成物が
実質的に完全に溶解する様に相互に調和させるの
が好ましい。不溶性成分を分離するのが好まし
く、それは澄明過の形で行われるのが好まし
い。この場合澄明化助剤、たとえばけいそう土、
特に活性炭を加えるのが好ましい。 次いで澄明化された溶液から生成物を冷却、好
ましくは5〜15℃の温度範囲に冷却して結晶化す
る。 晶出した生成物を母液から分離し、母液のうち
10〜40重量%を除去する。残りを後続のバツチに
導入するのが好ましい。母液の一部の除去によつ
て不純物の蓄積が回避され、生成物の一様の品質
が保証される。 単離された生成物を反応媒体と同一濃度の酢酸
で洗滌するのが好ましい。洗滌酢酸を母液と同様
に再使用する、すなわち工程に循環及び(又は)
回収するのが好ましい。 生成物を直ちに次の工程に使用しない場合、付
着する酢酸を水洗して除去し、この形で次の工程
に使用するか又は乾燥することができる。 前述の様に酢酸の濃度及び反応温度は一定の範
囲内で変化することができる。45〜60重量%の酢
酸濃度及び25〜75℃の反応温度が好ましい。この
パラメーターに依存してアミンの濃度を生成物が
反応の最後に溶解する程度に選ぶ。他方結晶化に
於て生成物を高純度でかつ良好な収率で生じなけ
ればらない。この場合酢酸は溶解助剤の役割をは
たす。これをアミン1モルあたり少なくとも5モ
ル、好ましくは約7.5〜約13モルの量で使用する。 ジケテンを好ましくは5〜10、特に約6〜8重
量%の少過剰で使用するのが有利である。 反応―及び冷却―容器として非腐食性部材、た
とえばエナメル又はステンレス鋼から成る通常の
撹拌容器が適当である。処理は連続的に又は非連
続的に実施することができる。 次の例中その他に明記しない限りパーセントの
記載は重量に関するものである。技術上純粋なジ
ケテン(約98%)を使用する。 例 1 8.5m3容量のステンレス鋼―撹拌容器中に(新
鮮な又は回収されれた)50%酢酸1200及び先行
のバツチ(50%酢酸に相当する)からの母液3600
を予め仕込み、1―アミノ―4―クロル―2,
5―ジメトキシベンゾール700Kgを導入する。混
合物を25℃に加熱する。次いで30分以内でジケテ
ン345Kgを導入し、反応混合物を15分間反応させ
る。活性炭20Kgを加え、混合物を50℃に加熱し、
2番目の8.5m3容量のステンレス鋼―撹拌容器中
にフイルタを通して澄明に過する。反応の終了
を確かめた後、混合物を10℃に冷却し、晶出した
反応生成物を取する。過残渣を50%酢酸500
mlで洗滌し、液を母液と一緒にする。このうち
3600mlを次のバツジに供給し、残りを蒸留塔に導
き、そこで再び工程に循環するか又は生成物の洗
滌のために使用することができる50%酢酸に加工
する。その後過残渣を少量の水で酢酸不含にな
るまで洗滌する。80%湿性製品として純粋生成物
910Kg理論値の89.8%)に相当する1―アセトア
セチルアミノ―4―クロル―2,5―ジメトキシ
ベンゾール1140Kgが得られ、これはこの形で又は
乾燥後更に精製せずに高堅牢性アゾ顔料の製造に
使用することができる。次の例は例1に従つて実
施される: 【表】
5―ジメチトキシベンゾールはしばしば使用され
るアゾ染料、特にアゾ顔料用のカツプリング成分
(C.I.アゾイツクカツプリング成分44,C.I.37613)
である。 ドイツ特許第2518984号明細書から1―アセト
アセチルアミノ―4―クロル―2,5―ジメトキ
シベンゾールが2,5―ジメトキシ―4―クロル
アニリンを水中で懸濁化し、ジケテンと反応させ
ることによつて製造されることは公知であり、こ
の際ジケテンを反応の初め、直ちに一度に加え
る。反応は酸による触媒で行う。その際有機酸が
好ましい。アミン1モルあたり酸0.1〜1モルを
使用するのが好ましい。例中では約5%までの酢
酸濃度で操作する。 この方法に於ては生成物が高収率で得られる
が、生成物の純度が高堅牢性アゾ顔料の合成のた
めの原料に課せられた要求を満足させない。 今や本発明者は次の様な簡単な方法で1―アセ
トアセチルアミノ―4―クロル―2,5―ジメト
キシベンゾールが高品質で1―アミノ―4―クロ
ル―2,5―ジメトキシベンゾールとジケテンと
から水性酢酸中で得られることを見出した。すな
わち反応を20〜90℃で60〜90重量%までが先行す
るバツチの母液から成る、30〜70重量%濃度の酢
酸中で行い、その後生成物を0―25℃で結晶化
し、生じた母液の10〜40重量%を分離することよ
りなる。分離された母液を回収する、たとえば蒸
留によつて回収するのが有利である。この際得ら
れた酢酸を再び適量で反応媒体として使用するこ
とができる。 本発明による操作は収率を90%の量で及び精製
することなく高堅牢性アゾ顔料用カツプリング成
分に課せられた要求に対応する生成物品質を生じ
る。 次に本発明による好ましい実施形態を説明す
る:反応温度、酢酸濃度及び反応媒体の母液の割
合並びに反応成分の濃度を反応の最後に生成物が
実質的に完全に溶解する様に相互に調和させるの
が好ましい。不溶性成分を分離するのが好まし
く、それは澄明過の形で行われるのが好まし
い。この場合澄明化助剤、たとえばけいそう土、
特に活性炭を加えるのが好ましい。 次いで澄明化された溶液から生成物を冷却、好
ましくは5〜15℃の温度範囲に冷却して結晶化す
る。 晶出した生成物を母液から分離し、母液のうち
10〜40重量%を除去する。残りを後続のバツチに
導入するのが好ましい。母液の一部の除去によつ
て不純物の蓄積が回避され、生成物の一様の品質
が保証される。 単離された生成物を反応媒体と同一濃度の酢酸
で洗滌するのが好ましい。洗滌酢酸を母液と同様
に再使用する、すなわち工程に循環及び(又は)
回収するのが好ましい。 生成物を直ちに次の工程に使用しない場合、付
着する酢酸を水洗して除去し、この形で次の工程
に使用するか又は乾燥することができる。 前述の様に酢酸の濃度及び反応温度は一定の範
囲内で変化することができる。45〜60重量%の酢
酸濃度及び25〜75℃の反応温度が好ましい。この
パラメーターに依存してアミンの濃度を生成物が
反応の最後に溶解する程度に選ぶ。他方結晶化に
於て生成物を高純度でかつ良好な収率で生じなけ
ればらない。この場合酢酸は溶解助剤の役割をは
たす。これをアミン1モルあたり少なくとも5モ
ル、好ましくは約7.5〜約13モルの量で使用する。 ジケテンを好ましくは5〜10、特に約6〜8重
量%の少過剰で使用するのが有利である。 反応―及び冷却―容器として非腐食性部材、た
とえばエナメル又はステンレス鋼から成る通常の
撹拌容器が適当である。処理は連続的に又は非連
続的に実施することができる。 次の例中その他に明記しない限りパーセントの
記載は重量に関するものである。技術上純粋なジ
ケテン(約98%)を使用する。 例 1 8.5m3容量のステンレス鋼―撹拌容器中に(新
鮮な又は回収されれた)50%酢酸1200及び先行
のバツチ(50%酢酸に相当する)からの母液3600
を予め仕込み、1―アミノ―4―クロル―2,
5―ジメトキシベンゾール700Kgを導入する。混
合物を25℃に加熱する。次いで30分以内でジケテ
ン345Kgを導入し、反応混合物を15分間反応させ
る。活性炭20Kgを加え、混合物を50℃に加熱し、
2番目の8.5m3容量のステンレス鋼―撹拌容器中
にフイルタを通して澄明に過する。反応の終了
を確かめた後、混合物を10℃に冷却し、晶出した
反応生成物を取する。過残渣を50%酢酸500
mlで洗滌し、液を母液と一緒にする。このうち
3600mlを次のバツジに供給し、残りを蒸留塔に導
き、そこで再び工程に循環するか又は生成物の洗
滌のために使用することができる50%酢酸に加工
する。その後過残渣を少量の水で酢酸不含にな
るまで洗滌する。80%湿性製品として純粋生成物
910Kg理論値の89.8%)に相当する1―アセトア
セチルアミノ―4―クロル―2,5―ジメトキシ
ベンゾール1140Kgが得られ、これはこの形で又は
乾燥後更に精製せずに高堅牢性アゾ顔料の製造に
使用することができる。次の例は例1に従つて実
施される: 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水性酢酸中で1―アミノ―4―クロル―2,
5―ジメトキシ―ベンゾールとジケテンから1―
アセトアセチルアミノ―4―クロル―2,5―ジ
メトキシベンゾールを製造するにあたり、反応を
20〜90℃で、60〜90重量%までが先行するバツチ
の母液から成る、35〜70重量%濃度の酢酸中で行
い、その後生成物を0―25℃で結晶化し、生じた
母液の10〜40重量%を分離することを特徴とす
る、前記化合物の製造方法。 2 反応を25〜70℃で行うことよりなる、特許請
求の範囲第1項記載の方法。 3 反応を45〜60重量%濃度の酢酸中で行うこと
よりなる、特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の方法。 4 生成物を5〜15℃で結晶化することよりな
る、特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれ
かに記載の方法。 5 生成物溶液を結晶化前に澄明過することよ
りなる、特許請求の範囲第1項ないし第4項のい
ずれかに記載の方法。 6 澄明化助剤を添加することよりなる、特許請
求の範囲第5項記載の方法。 7 澄明化助剤として活性炭を添加することによ
りなる、特許請求の範囲第5項又は第6項記載の
方法。 8 単離された生成物を水性酢酸で洗滌すること
よりなる、特許請求の範囲第1項ないし第7項の
いずれかに記載の方法。 9 酢酸は反応媒体と同一濃度を有することより
なる、特許請求の範囲第8項記載の方法。 10 反応生成物を水で中性洗滌することよりな
る、特許請求の範囲第8項又は第9項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803046367 DE3046367A1 (de) | 1980-12-09 | 1980-12-09 | Verfahren zur herstellung von 1-acetoacetylamino-4-chlor-2,5-dimethoxybenzol |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57122053A JPS57122053A (en) | 1982-07-29 |
JPH0259142B2 true JPH0259142B2 (ja) | 1990-12-11 |
Family
ID=6118701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56196419A Granted JPS57122053A (en) | 1980-12-09 | 1981-12-08 | Manufacture of 1-acetoacetylamino-4-chloro- 2,5-dimethoxybenzole |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0053713B1 (ja) |
JP (1) | JPS57122053A (ja) |
BR (1) | BR8107957A (ja) |
DE (2) | DE3046367A1 (ja) |
MX (1) | MX152439A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3731912A1 (de) * | 1987-02-25 | 1988-09-08 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von acetoacetylarylamiden bzw. -heteroarylamiden desaktivierter aromaten |
CN106588685B (zh) * | 2016-12-14 | 2019-03-01 | 南通醋酸化工股份有限公司 | 一种2,5-二甲氧基-4-氯乙酰乙酰苯胺的制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2519036A1 (de) * | 1975-04-29 | 1976-11-11 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von acetoacetylarylamiden |
DE2518984B1 (de) * | 1975-04-29 | 1976-10-21 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von n-acetoacetyl-2,5-dimethoxy-4-chlor- anilid |
DE2749327A1 (de) * | 1977-11-04 | 1979-05-17 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von acetoacetylaminobenzolen |
-
1980
- 1980-12-09 DE DE19803046367 patent/DE3046367A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-10-29 EP EP81109188A patent/EP0053713B1/de not_active Expired
- 1981-10-29 DE DE8181109188T patent/DE3164604D1/de not_active Expired
- 1981-12-08 BR BR8107957A patent/BR8107957A/pt unknown
- 1981-12-08 JP JP56196419A patent/JPS57122053A/ja active Granted
- 1981-12-09 MX MX190517A patent/MX152439A/es unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3046367A1 (de) | 1982-07-08 |
JPS57122053A (en) | 1982-07-29 |
BR8107957A (pt) | 1982-09-14 |
EP0053713B1 (de) | 1984-07-04 |
MX152439A (es) | 1985-07-15 |
DE3164604D1 (en) | 1984-08-09 |
EP0053713A1 (de) | 1982-06-16 |
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