JP7535749B2

JP7535749B2 - 処理システム

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Publication number: JP7535749B2
Application number: JP2020146053A
Authority: JP
Inventors: 茂都築; 裕一三由
Original assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Current assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date: 2020-08-31
Filing date: 2020-08-31
Publication date: 2024-08-19
Anticipated expiration: 2040-08-31
Also published as: JP2022041048A

Description

本開示は、処理システムに関し、より詳細には、処理用の溶液を利用して対象物を処理する処理システムに関する。

特許文献１は、表面処理方法として、少なくとも片面に金属層を有する長尺状のフィルム状部材をロールツーロール方式で搬送しながらその表面を連続的に処理する方法を開示している。

特許文献１に記載された表面処理方法では、ほぼ密閉された空間内でフィルム状部材の金属層を有する面に酸を含む液体を塗布するとともに、１秒当たり空間内に存在するガスの１５～５０％を置換する。

また、特許文献１は、ロールツーロール方式で搬送される長尺フィルム状部材に連続的に電気めっきを施す電気めっき部と、電気めっき部で電気めっきを施す前に長尺フィルム状部材に連続的に表面処理を施す前処理部とからなる電気めっき装置を開示している。前処理部は、長尺フィルム状部材に浸漬により塗布させる酸を含む液体が貯められたほぼ密閉された容器と、１秒当たり容器内の空間に存在するガスの１５～５０％を置換するガス置換手段と、を有している。

容器には、長尺フィルム状部材の容器への搬入及び搬出がそれぞれ行われる入口及び出口が設けられている。また、容器には、酸性ミストを含んだガスを排気するための排気口が設けられている。

特開２０１５－１２４４１８号公報

処理用の溶液を利用して対象物の処理を行う処理システム及び処理方法では、溶液から溶液の成分が揮発して溶液の成分が変化してしまうことがあった。

本開示の目的は、溶液からの溶液の成分の揮発を抑制することが可能な処理システムを提供することにある。

本開示の一態様に係る処理システムは、対象物を処理するための溶液が入れられる容器を備える。前記容器は、前記対象物を通過させる複数の通過口と、前記溶液からの揮発ガスを排気するための排気口と、を有する。前記処理システムは、内側壁部を更に備える。前記内側壁部は、前記容器の内壁面と前記容器内の前記溶液の液面との間に位置する。前記内側壁部は、少なくとも一部が前記排気口に対向している。前記複数の通過口は、前記容器の外側から前記容器の内側に前記対象物を通過させる第１通過口と、前記容器の内側から前記容器の外側に前記対象物を通過させる第２通過口と、を含む。前記内側壁部は、前記内側壁部の厚さ方向から見て前記第１通過口に重なり前記対象物を通過させる第１内側通過口と、前記内側壁部の厚さ方向から見て前記第２通過口に重なり前記対象物を通過させる第２内側通過口と、を有する。
本開示の一態様に係る処理システムは、対象物を処理するための溶液が入れられる容器を備える。前記容器は、前記対象物を通過させる複数の通過口と、前記溶液からの揮発ガスを排気するための排気口と、を有する。前記処理システムは、内側壁部を更に備える。前記内側壁部は、前記容器の内壁面と前記容器内の前記溶液の液面との間に位置する。前記内側壁部は、少なくとも一部が前記排気口に対向している。前記複数の通過口は、前記容器の外側から前記容器の内側に前記対象物を通過させる第１通過口と、前記容器の内側から前記容器の外側に前記対象物を通過させる第２通過口と、を含む。前記容器は、開口を更に有する。前記排気口と前記開口との最短距離が、前記排気口と前記第１通過口との最短距離及び前記排気口と前記第２通過口との最短距離それぞれよりも短い。

本開示の処理システムでは、溶液からの溶液の成分の揮発を抑制することが可能となる。

図１は、実施形態に係る処理システムの要部斜視図である。図２は、同上の処理システムの要部断面図である。図３は、同上の処理システムのブロック構成図である。図４は、同上の処理システムの動作説明図である。図５は、比較例に係る処理システムの動作説明図である。図６は、実施形態の変形例１に係る処理システムの要部断面図である。図７は、実施形態の変形例２に係る処理システムの要部断面図である。図８は、実施形態の変形例３に係る処理システムの要部斜視図である。

下記の実施形態等において説明する図１、２、４～８は模式的な図であり、図中の各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。

（実施形態）
以下、実施形態に係る処理システム１について、図１～４に基づいて説明する。

（１）概要
処理システム１は、例えば、工場等に設置され、処理用の溶液９を利用して対象物８を処理（例えば、化学的被覆又は化学的処理）する。対象物８を用いて製造されるデバイスは、例えば、プリント配線基板、半導体装置、コンデンサ、機能性フィルム状デバイス等であるが、これらに限らない。また、溶液９は、例えば、めっき液、重合液、エッチング液、現像液、剥離液、コーティング液、触媒スラリー及び洗浄液の群から選択される１種類の溶液であるが、これらに限らない。溶液９の濃度は、対象物８の処理条件等に応じて予め決められている。

処理システム１は、例えば、容器２内に溶液９としてめっき液が入れられている場合、対象物８を処理することによって、対象物８にめっき膜を形成する。処理システム１は、例えば、容器２内に溶液９として重合液が入れられている場合、対象物８を処理することによって、対象物８に導電性高分子膜を形成する。

（２）処理システムの構成
処理システム１は、対象物８を処理するための溶液９が入れられる容器２を備える。容器２は、対象物８を通過させる通過口２１と、溶液９からの揮発ガスを排気するための排気口２４と、を有する。溶液９からの揮発ガスは、溶液９から揮発した成分を含むガスである。処理システム１は、通過口２１を開放した状態で、対象物８を容器２内で溶液９に浸漬させることによって対象物８を処理する。

処理システム１では、容器２は、通過口２１を複数（例えば、２つ）有する。複数の通過口２１は、容器２の外側から容器２の内側に対象物８を通過させる第１通過口２２と、容器２の内側から容器２の外側に対象物８を通過させる第２通過口２３と、を含む。容器２において、第１通過口２２は、処理前の対象物８の入口となり、第２通過口２３は、処理後の対象物８の出口となる。

処理システム１は、例えば、ロールツーロール方式の処理システムであり、巻き出しロール１１と、巻き取りロール１２と、を更に備える。巻き出しロール１１は、ロール状に巻回された対象物８を巻き出す。巻き取りロール１２は、対象物８をロール状に巻き取る。対象物８は、フィルム状であるが、これに限らず、例えば、帯状であってもよい。処理システム１は、巻き出しロール１１及び巻き取りロール１２を駆動する駆動装置１０（図３参照）と、駆動装置１０を制御する制御装置７（図３参照）と、を更に備える。

処理システム１では、図２に示すように、巻き出しロール１１が第１回転方向Ｒ１に回転し、巻き取りロール１２が第２回転方向Ｒ２に回転する。容器２の第１通過口２２及び第２通過口２３の各々は、対象物８の幅方向に長いスリット状である。

処理システム１は、巻き出しロール１１と巻き取りロール１２との間で対象物８を容器２に出し入れするためのガイドロールセットを備えている。ガイドロールセットは、第１ガイドロール１３と、第２ガイドロール１４と、第３ガイドロール１５と、第４ガイドロール１６と、を含む。第１ガイドロール１３は、巻き出しロール１１の側方において容器２の第１通過口２２の上方に位置している。第２ガイドロール１４は、容器２内において溶液９中で第１通過口２２の下方に位置している。第３ガイドロール１５は、容器２内において溶液９中で第２通過口２３の下方に位置している。第４ガイドロール１６は、第２通過口２３の上方において巻き取りロール１２の側方に位置している。

ガイドロールセットでは、第１ガイドロール１３と第２ガイドロール１４とによって、巻き出しロール１１から巻き出された対象物８が第１通過口２２を通過するように対象物８をガイドする。ガイドロールセットでは、第２ガイドロール１４と第３ガイドロール１５とによって、対象物８を溶液９中において第１通過口２２の下方の位置から第２通過口２３の下方の位置にガイドする。ガイドロールセットでは、第３ガイドロール１５と第４ガイドロール１６とによって、対象物８が第２通過口２３を通過するように対象物８をガイドする。また、ガイドロールセットでは、第４ガイドロール１６によって対象物８を巻き取りロール１２にガイドする。

処理システム１は、容器２内に配置される内側壁部５を更に備える。内側壁部５は、容器２の内壁面２０と容器２内の溶液９の液面９１との間に位置する。実施形態に係る処理システム１では、内側壁部５は、内側壁部５の厚さ方向において容器２の内壁面２０のうち液面９１に対向する部位及び液面９１から離れている。言い換えれば、内側壁部５は、内側壁部５の厚さ方向において容器２の内壁面２０のうち液面９１に対向する部位から所定距離（例えば、１ｃｍ～２ｃｍ）を開けて配置されており、液面９１とは接していない。内側壁部５は、排気口２４に対向している。内側壁部５は、排気口２４の正面から見て（図２の上側から見て）、排気口２４の全域に重なっている。内側壁部５は、例えば、ステンレス鋼によって形成されているが、これに限らない。

容器２は、溶液槽３と、カバー４と、を含む。溶液槽３は、上面３３に開口部３４を有する箱状であり、溶液９が入れられる。カバー４は、複数の通過口２１及び排気口２４を有し、溶液槽３の開口部３４の一部を覆う。したがって、容器２の内外は、複数の通過口２１及び排気口２４それぞれによって連通している。溶液槽３は、例えば、ステンレス鋼によって形成されているが、これに限らない。また、カバー４は、例えば、ステンレス鋼によって形成されているが、これに限らない。

溶液槽３は、例えば、矩形箱状である。溶液槽３は、底壁３１と、底壁３１の外周から全周にわたって上方に延びる外周壁３２と、を有する。底壁３１は、矩形板状である。外周壁３２は、矩形枠状である。溶液槽３に入れられる溶液９の液面９１の液位は、溶液槽３の上面３３よりも低い基準高さレベル以下である。基準高さレベルは、溶液槽３に入れられる溶液９の液面９１の液位に関して許容される高さレベルである。基準高さレベルは、対象物８に対して溶液９による処理が行われるように決められる。また、処理システム１では、対象物８が溶液９に浸漬されたとき溶液９が溶液槽３から溢れないように決められる。処理システム１では、基準高さレベルは、第２ガイドロール１４及び第３ガイドロール１５の上端の高さレベルよりも高い。

カバー４は、上壁４１と、上壁４１の外周から全周にわたって下方に延びる外周壁４２と、を有する。上壁４１は、矩形板状である。外周壁４２は、矩形枠状である。容器２では、２つの通過口２１が、カバー４の上壁４１に形成されている。２つの通過口２１は、カバー４の短手方向において互いに離れている。カバー４の上側から見て、第１通過口２２及び第２通過口２３は、カバー４の上壁４１の短手方向の第１端及び第２端にそれぞれ形成されている。第１通過口２２及び第２通過口２３は、カバー４の上側から見て、第１通過口２２と第２通過口２３との並んでいる方向に直交する方向に長いスリット状である。カバー４は、上壁４１の一部を上方に延出させた円筒状の延出部４４を有しており、延出部４４の先端に上述の排気口２４を有する。カバー４の上側から見て、排気口２４は、第１通過口２２と第２通過口２３との間に位置している。カバー４では、カバー４の上側から見て、排気口２４と第１通過口２２との距離と、排気口２４と第２通過口２３との距離と、が同じである。

処理システム１では、延出部４４に、排気ダクトを接続することが可能となっている。排気ダクトの内部空間は、排気口２４を通して容器２の内部空間とつながる。また、処理システム１は、排気装置６（図３参照）を更に備えている。排気装置６は、例えば、排気ポンプ６１であり、排気ダクトを通して容器２内の揮発ガスを含む気体を排気する。これにより、処理システム１では、容器２内の空間を負圧状態に減圧可能であり、揮発ガスが第１通過口２２及び第２通過口２３それぞれを通過して容器２の外へ漏れるのを抑制できる。排気装置６は、例えば、上述の制御装置７によって制御される。

処理システム１は、センサ部１９（図３参照）を更に備える。センサ部１９は、複数の風速センサを含む。複数の風速センサは、容器２の複数の通過口２１に一対一に対応しており、対応する通過口２１を通して容器２の外側から容器２の内側へ向かう気流の風速を検出する。この風速は、排気装置６の排気速度等に依存し得る。制御装置７は、センサ部１９の出力に基づいて、複数の通過口２１それぞれでの気流の風速が所定速度（例えば、０．４ｍ／ｓｅｃ）以上となるように排気装置６の排気速度等を制御するように構成されていてもよい。制御装置７は、複数の風速センサそれぞれの出力に基づいて容器２内の気体が複数の風速センサそれぞれに対応する通過口２１を通して漏れているか否かを判断することもできる。揮発ガスの成分の種類によっては、排気装置６が、排気ポンプ６１に加えて、揮発ガスの成分を捕獲するフィルタと、揮発ガスの成分を分解する分解装置と、の少なくとも一方を含んでいてもよい。また、排気装置６は、排気ポンプ６１に限らず、排気ファンであってもよい。

制御装置７は、コンピュータシステムを含んでいる。コンピュータシステムは、１又は複数のコンピュータを有している。コンピュータシステムは、ハードウェアとしてのプロセッサ及びメモリを主構成とする。コンピュータシステムのメモリに記録されたプログラムをプロセッサが実行することによって、本開示における制御装置７としての機能が実現される。プログラムは、コンピュータシステムのメモリに予め記録されていてもよいが、電気通信回線を通じて提供されてもよいし、コンピュータシステムで読み取り可能なメモリカード、光学ディスク、ハードディスクドライブ（磁気ディスク）等の非一時的記録媒体に記録されて提供されてもよい。コンピュータシステムのプロセッサは、半導体集積回路（ＩＣ）又は大規模集積回路（ＬＳＩ）を含む１乃至複数の電子回路で構成される。複数の電子回路は、１つのチップに集約されていてもよいし、複数のチップに分散して設けられていてもよい。複数のチップは、１つの装置に集約されていてもよいし、複数の装置に分散して設けられていてもよい。

内側壁部５は、カバー４と溶液槽３内の溶液９の液面９１との間においてカバー４及び液面９１から離れて位置し、排気口２４に対向している。これにより、処理システム１では、第１通過口２２及び第２通過口２３と排気口２４とが、容器２（のカバー４）と内側壁部５との間の隙間Ｓ１を通してつながっている。処理システム１は、内側壁部５を保持する保持部を更に備える。内側壁部５は、保持部を介して、カバー４から所定の距離を空けた状態を維持しつつ、カバー４に保持される。保持部の構造は特に限定されず、例えば内側壁部５と連続一体となって形成されてもよい。保持部は、例えば、ボルトを通す孔が設けられていて、ボルト及びナットを利用してカバー４に保持されてもよい。また、処理システム１は、内側壁部５を含む内側カバーを備え、内側カバーが内側カバーを容器２に取り付けるためのフランジ部を有していてもよい。この場合、フランジ部が、保持部に相当する。

処理システム１では、排気口２４が溶液槽３の底壁３１の上方に位置しており、液面９１の上方に位置している。内側壁部５は、カバー４の内側に位置している。内側壁部５は、平板状である。内側壁部５の厚さ方向から見た内側壁部５の外周形状は、矩形状である。内側壁部５は、カバー４の上壁４１よりも小さい。内側壁部５は、内側壁部５の厚さ方向が上下方向と揃うように容器２内に配置されている。内側壁部５は、内側壁部５の厚さ方向において第１通過口２２及び第２通過口２３には重ならない。これにより、処理システム１は、内側壁部５が対象物８に接触するのを抑制することができる。

内側壁部５は、上下方向において、カバー４の上壁４１から上記所定距離（例えば、１ｃｍ～２ｃｍ）だけ離れて位置している。上記所定距離は、容器２の内壁面２０のうち液面９１に対向する部位（上壁４１において液面９１に対向する面）と内側壁部５との距離であり、内側壁部５と液面９１との距離よりも短い。また、内側壁部５は、カバー４の外周壁４２の内側において、外周壁４２から離れて位置している。第１通過口２２と第２通過口２３との並んでいる方向における内側壁部５の長さは、第１通過口２２と第２通過口２３との距離と同じである。容器２の上側から見て、内側壁部５の矩形状の外周に含まれる２つの長辺のうち一方の長辺は、第１通過口２２における第２通過口２３側の開口縁と揃っており、他方の長辺は、第２通過口２３における第１通過口２２側の開口縁と揃っている。つまり、内側壁部５は、第１通過口２２及び第２通過口２３のいずれとも重ならないように配置されている。処理システム１では、排気口２４の正面から見て（又は内側壁部５の厚さ方向から見て）、内側壁部５の外周と第１通過口２２との最短距離が、内側壁部５の外周と排気口２４との最短距離よりも短い。実施形態に係る処理システム１では、排気口２４の正面から見て内側壁部５の外周と第１通過口２２との最短距離は、ゼロであるが、ゼロである場合に限らない。また、処理システム１では、排気口２４の正面から見て（又は内側壁部５の厚さ方向から見て）、内側壁部５の外周と第２通過口２３との最短距離が、内側壁部５の外周と排気口２４との最短距離よりも短い。実施形態に係る処理システム１では、排気口２４の正面から見て内側壁部５の外周と第２通過口２３との最短距離は、ゼロであるが、ゼロである場合に限らない。

内側壁部５は、排気口２４の正面から見て円形状の排気口２４の全域に重なっている。処理システム１では、内側壁部５は、上下方向において排気口２４の全域に重なっている。

処理システム１では、内側壁部５は、排気口２４の正面から見て排気口２４よりも大きい。処理システム１では、排気口２４を内側壁部５の厚さ方向において内側壁部５に投影すると、内側壁部５の矩形状の外周の内側に、円形状の排気口２４が投影される。

（３）処理システムの動作
処理システム１では、巻き出しロール１１から巻き出された対象物８が第１通過口２２を通過し、溶液９により処理された対象物８が第２通過口２３を通過して巻き取りロール１２に巻き取られる。例えば、溶液９がめっき液の場合、溶液９により処理された対象物８には、めっき膜が形成されている。例えば、溶液９がピロール（Ｃ_４Ｈ_５Ｎ）を含む重合液の場合、溶液９により処理された対象物８には、導電性高分子膜が形成されている。

処理システム１では、容器２内で溶液９からの揮発ガスは、排気口２４を通して排気される。図４は、実施形態に係る処理システム１において気体の流れる方向を矢印で模式的に示した図である。これに対して、図５は、比較例に係る処理システム１ｒにおいて気体の流れる方向を矢印で模式的に示した図である。比較例に係る処理システム１ｒは、実施形態に係る処理システム１の内側壁部５を備えていない点のみ、実施形態に係る処理システム１と相違する。

比較例に係る処理システム１ｒでは、排気口２４から容器２内の気体が排出されるので、複数の通過口２１それぞれから容器２内に流入して液面９１近くの空間を通って排気口２４に向かう気流が発生しやすい。このため、比較例に係る処理システム１ｒでは、溶液９中の成分の揮発量が増加しやすく、溶液９から揮発した成分に関する溶液９中の濃度が低下して、溶液９による処理により形成される生成物（例えば、めっき膜、導電性高分子膜等）の品質が低下してしまう可能性がある。生成物がめっき膜の場合、品質としては、例えば、めっき膜の膜質、厚さ、膜中成分、対象物８への密着性等が挙げられる。生成物が導電性高分子膜の場合、導電性高分子膜の膜質、導電率、厚さ、対象物８への密着性等が挙げられる。

これに対して、実施形態に係る処理システム１は、排気口２４から容器２内の気体が排出される点は比較例に係る処理システム１ｒと同じであるが、内側壁部５を備えているので、複数の通過口２１それぞれから容器２内に流入して容器２の内壁面２０と内側壁部５との間の隙間Ｓ１を通って排気口２４に向かう気流が発生しやすい。これにより、実施形態に係る処理システム１では、液面９１の近くの空間（内側壁部５と液面９１との間の空間等）を通って排気口２４に向かう気流が発生しにくくなる。言い換えれば、実施形態に係る処理システム１では、液面９１付近の空気の動きを抑制することが可能となり、溶液９からの溶液９の成分の揮発が気流の影響で促進されることを抑制することが可能となる。空気の動きを抑制するとは、空気の循環を抑制することと、空気の風速を遅くすることと、同様の意味である。よって、実施形態に係る処理システム１は、溶液９の成分の揮発を抑制することが可能となり、溶液９の経時変化を抑制することが可能となる。実施形態に係る処理システム１は、溶液９の成分の揮発を抑制することにより、溶液９において揮発した成分の補充量を抑制することも可能となる。

（４）まとめ
（４－１）処理システム
実施形態に係る処理システム１は、対象物８を処理するための溶液９が入れられる容器２を備える。容器２は、対象物８を通過させる複数の通過口２１と、溶液９からの揮発ガスを排気するための排気口２４と、を有する。処理システム１は、内側壁部５を更に備える。内側壁部５は、容器２の内壁面２０と容器２内の溶液９の液面９１との間に位置する。内側壁部５は、少なくとも一部が排気口２４に対向している。

実施形態１に係る処理システム１は、溶液９からの溶液９の成分の揮発を抑制することが可能となる。

実施形態に係る処理システム１は、排気口２４からの排気量を少なくすることが可能となる。これにより、実施形態に係る処理システム１は、排気装置６の消費電力を低減することが可能となり、低消費電力化を図ることが可能となる。

（４－２）処理方法
実施形態に係る処理方法は、対象物８を処理するための溶液９が入れられた容器２の通過口２１（第１通過口２２）から対象物８を容器２内に入れ、溶液９を利用して対象物８を処理する。処理方法では、溶液９の揮発ガスを、容器２の内壁面２０と溶液９の液面９１との間に位置し容器２の排気口２４に対向している内側壁部５と、内壁面２０と、の間の隙間Ｓ１を通して、排気口２４から排気させる。

実施形態に係る処理方法では、溶液９からの溶液９の成分の揮発を抑制することが可能となる。

（５）変形例
上記の実施形態は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記の実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。

（５－１）変形例１
実施形態の変形例１に係る処理システム１ａについて、図６を参照して説明する。変形例１に係る処理システム１ａに関し、実施形態に係る処理システム１と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。

変形例１に係る処理システム１ａでは、実施形態１に係る処理システム１と比べて、内側壁部５の厚さ方向から見た内側壁部５の外形サイズが大きい。

変形例１に係る処理システム１ａでは、内側壁部５は、内側壁部５の厚さ方向から見て第１通過口２２に重なり対象物８を通過させる第１内側通過口５２と、内側壁部５の厚さ方向から見て第２通過口２３に重なり対象物８を通過させる第２内側通過口５３と、を有する。排気口２４、第１通過口２２及び第２通過口２３を内側壁部５の厚さ方向において内側壁部５に投影すると、内側壁部５の矩形状の外周の内側に、円形状の排気口２４とスリット状の第１通過口２２及び第２通過口２３が投影される。第１内側通過口５２は、第１通過口２２の内側壁部５への投影領域の全域にわたって形成されている。第１内側通過口５２は、スリット状であり、第１通過口２２と同じ大きさである。また、第２内側通過口５３は、第２通過口２３の内側壁部５への投影領域の全域にわたって形成されている。第２内側通過口５３は、スリット状であり、第２通過口２３と同じ大きさである。

変形例１に係る処理システム１ａは、実施形態１に係る処理システム１と比べて、溶液９からの溶液９の成分の揮発を抑制することが可能となる。

（５－２）変形例２
実施形態の変形例２に係る処理システム１ｂについて、図７を参照して説明する。変形例２に係る処理システム１ｂに関し、実施形態に係る処理システム１と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。

変形例２に係る処理システム１ｂでは、実施形態１に係る処理システム１と比べて、内側壁部５の厚さ方向から見た内側壁部５の外形サイズが小さい。

変形例２に係る処理システム１ｂにおいても、内側壁部５の一部が排気口２４に対向しており、排気口２４の正面から見て、排気口２４の全域が内側壁部５に重なっている。

変形例２に係る処理システム１ｂは、実施形態に係る処理システム１と同様、溶液９からの溶液９の成分の揮発を抑制することが可能となる。ただし、液面９１付近の空気の動きを抑制する観点では、内側壁部５の外形サイズがより大きいほうが好ましく、変形例２に係る処理システム１ｂよりも内側壁部５の外形サイズの大きな、実施形態に係る処理システム１、変形例１に係る処理システム１ａのほうが有利である。

（５－３）変形例３
実施形態の変形例３に係る処理システム１ｃについて、図８を参照して説明する。変形例３に係る処理システム１ｃに関し、実施形態に係る処理システム１と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。

変形例３に係る処理システム１ｃは、容器２が開口２５を更に有する点で、実施形態に係る処理システム１と相違する。開口２５は、カバー４の上壁４１と外周壁４２とに跨って形成されている。

変形例３に係る処理システム１ｃでは、排気口２４と開口２５との距離が、排気口２４と第１通過口２２との距離及び排気口２４と第２通過口２３との距離よりも短い。これにより、変形例３に係る処理システム１ｃでは、容器２の外側から開口２５を通して容器２内に電気配線やセンサの接続ケーブルを通すことができるとともに、排気口２４を通して排気する気体の排気量を少なくすることが可能となる。

また、変形例３に係る処理システム１ｃでは、容器２が排気口２４を複数（図示例では、２つ）有している。２つの排気口２４は、上側から見て、第１通過口２２と第２通過口２３との並んでいる方向とは直交する方向において互いに離れて位置している。また、変形例３に係る処理システム１ｃは、容器２が開口２５を複数（図示例では、２つ）有しており、複数の開口２５と複数の排気口２４とが一対一に対応している。変形例３に係る処理システム１ｃでは、容器２の上側から見て、２つの排気口２４及び２つの開口２５が、一方の開口２５、一方の排気口２４、他方の排気口２４及び他方の開口２５の順に並んでいる。内側壁部５は、容器２の上側から見て、複数の排気口２４の全域に重なるように配置されている。

変形例３に係る処理システム１ｃは、容器２が複数の排気口２４及び複数の開口２５を有するので、容器２からの排気量を少なくすることが可能となる。

（５－４）その他の変形例
例えば、排気口２４は、容器２において溶液９の液面９１よりも高い位置（基準高さレベルよりも高い位置）にあればよく、カバー４の上壁４１から上方に延出させた延出部４４が有する場合に限らない。排気口２４は、カバー４の上壁４１に形成されていてもよいし、カバー４の外周壁４２に形成されていてもよいし、カバー４の上壁４１と外周壁４２とに跨って形成されていてもよいし、カバー４の外周壁４２と溶液槽３の外周壁３２とに跨って形成されていてもよい。

また、内側壁部５は、少なくとも一部が排気口２４に対向していればよい。また、内側壁部５は、平板状に限らず、例えば、湾曲した板状であってもよいし、波板状であってもよい。また、内側壁部５は、厚さ方向に交差する２つの主面のうち一方の主面が平面状で、他方の主面が凸曲面状又は凹曲面状であってもよいし、２つの主面が凸曲面状であってもよいし、２つの主面が凹曲面状であってもよい。

また、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、巻き出しロール１１と巻き取りロール１２とのペアを複数ペア有し、２つ１ペアの通過口２１（第１通過口２２、第２通過口２３）を複数ペア有していてもよい。これにより、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、複数の巻き出しロール１１から巻き出される複数の対象物８を同時に処理することが可能となり、タクトタイムの短縮化を図れる。

また、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、巻き出しロール１１及び巻き取りロール１２の各々がそれぞれの軸方向において離れて複数の対象物８を巻回可能であり、２つ１ペアの通過口２１（第１通過口２２、第２通過口２３）を複数ペア有していてもよい。

また、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、ロールツーロール方式の処理システムに限らず、対象物８の形状も、フィルム状、リボン状等に限らない。また、処理システムは、処理前の対象物８の容器２内への投入、処理後の対象物８の容器２からの取り出しをロボットによって行うように構成されていてもよい。例えば、この場合、容器２における通過口２１の数は、複数に限らず、１つであってもよい。

また、対象物８の処理は、容器２内で溶液９に浸漬されることによって行われる処理に限らず、溶液９の蒸気によって行われる処理（例えば、蒸気エッチング）であってもよい。

また、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、操作表示装置を更に備えていてもよい。操作表示装置は、表示装置とタッチパッドとを含むタッチパネルを備え、ユーザインターフェイス（GUI：Graphic User Interface）として機能する。制御装置は、操作表示装置の表示装置に情報を出力し、操作表示装置のタッチパッドから入力される情報を受け付ける。

操作表示装置には、必要に応じて様々な画面が表示される。操作表示装置は、専用でなくても、パーソナルコンピュータ等であってもよい。処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃでは、操作表示装置が、作業者等が操作可能な操作部を構成している。また、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、操作表示装置の代わりに、表示装置と操作装置とを個別に備えていてもよい。この場合、操作装置が、ユーザが操作可能な操作部を構成する。操作部は、種々のスイッチとタッチパネルとの少なくとも一方を備えていればよい。種々のスイッチには、例えば、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃの運転の開始を指示する押釦スイッチ、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃの運転の停止を指示する押釦スイッチ、緊急停止用の押釦スイッチ等が含まれている。

処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃでは、作業者等が操作表示装置を利用して、制御装置による制御内容等を設定できるように構成されている。これにより、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃでは、作業者等が、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃでの対象物８に対する溶液９での処理の条件（例えば、対象物８を溶液９に浸漬させている時間）等を適宜設定できるようになっている。

なお、処理システム１、１ａ、１ｂ、１ｃは、溶液９を用いたウェット処理を行うシステムであるが、容器２の内側において排気口の少なくとも一部に対向する内側壁部５を配置する構成は、チャンバ（容器）内でドライ処理を行うシステムにも適用可能である。

（態様）
本明細書には、以下の態様が開示されている。

第１の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、対象物（８）を処理するための溶液（９）が入れられる容器（２）を備える。容器（２）は、対象物（８）を通過させる通過口（２１）と、溶液（９）からの揮発ガスを排気するための排気口（２４）と、を有する。処理システム（１）は、内側壁部（５）を更に備える。内側壁部（５）は、容器（２）の内壁面（２０）と容器（２）内の溶液（９）の液面（９１）との間に位置する。内側壁部（５）は、少なくとも一部が排気口（２４）に対向している。

第１の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、溶液（９）からの溶液（９）の成分の揮発を抑制することが可能となる。

第２の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、第１の態様において、対象物（８）を容器（２）内で溶液（９）に浸漬させることによって対象物（８）を処理する。

第２の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、対象物（８）を浸漬させる溶液（９）の成分の経時変化を抑制することが可能となる。

第３の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１又は２の態様において、容器（２）は、溶液槽（３）と、カバー（４）と、を含む。溶液槽（３）は、上面（３３）に開口部（３４）を有する箱状であり、溶液（９）が入れられる。カバー（４）は、通過口（２１）及び排気口（２４）を有し、溶液槽（３）の開口部（３４）の一部を覆う。内側壁部（５）は、カバー（４）と溶液槽（３）内の溶液（９）の液面（９１）との間に位置し、少なくとも一部が排気口（２４）に対向している。

第３の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、溶液（９）からの溶液（９）の成分の揮発を抑制することが可能となる。

第４の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１～３の態様のいずれか一つにおいて、内側壁部（５）は、排気口（２４）の正面から見て排気口（２４）の全域に重なっている。

第４の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、液面（９１）付近での気流の発生を、より抑制することが可能となり、溶液（９）からの溶液（９）の成分の揮発を、より抑制することが可能となる。

第５の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第４の態様において、内側壁部（５）は、排気口（２４）の正面から見て排気口（２４）よりも大きい。

第５の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、溶液（９）からの溶液の成分の揮発を、より抑制することが可能となる。

第６の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１～５の態様のいずれか一つにおいて、容器（２）は、通過口（２１）を複数有する。複数の通過口（２１）は、容器（２）の外側から容器（２）の内側に対象物（８）を通過させる第１通過口（２２）と、容器（２）の内側から容器（２）の外側に対象物（８）を通過させる第２通過口（２３）と、を含む。

第６の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、タクトタイムの短縮を図れる。

第７の態様に係る処理システム（１）では、第６の態様において、排気口（２４）の正面から見て、内側壁部（５）の外周と第１通過口（２２）との最短距離が、内側壁部（５）の外周と排気口（２４）との最短距離よりも短い。排気口（２４）の正面から見て、内側壁部（５）の外周と第２通過口（２３）との最短距離が、内側壁部（５）の外周と排気口（２４）との最短距離よりも短い。

第７の態様に係る処理システム（１）では、溶液（９）からの溶液の成分の揮発を、より抑制することが可能となる。

第８の態様に係る処理システム（１ａ）では、第６又は７の態様において、内側壁部（５）は、内側壁部（５）の厚さ方向から見て第１通過口（２２）に重なり対象物（８）を通過させる第１内側通過口（５２）と、内側壁部（５）の厚さ方向から見て第２通過口（２３）に重なり対象物（８）を通過させる第２内側通過口（５３）と、を有する。

第８の態様に係る処理システム（１ａ）では、溶液（９）からの溶液の成分の揮発を、より抑制することが可能となる。

第９の態様に係る処理システム（１ｃ）では、第６～８の態様のいずれか一つにおいて、容器（２）は、開口（２５）を更に有する。排気口（２４）と開口（２５）との最短距離が、排気口（２４）と第１通過口（２２）との最短距離及び排気口（２４）と第２通過口（２３）との最短距離それぞれよりも短い。

第９の態様に係る処理システム（１ｃ）では、容器（２）内に電気配線やセンサの接続ケーブルを通しつつ排気量を抑制できる。

第１０の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、第６～９の態様のいずれか一つにおいて、巻き出しロール（１１）と、巻き取りロール（１２）と、を更に備える。巻き出しロール（１１）は、ロール状に巻回された対象物（８）を巻き出す。巻き取りロール（１２）は、対象物（８）をロール状に巻き取る。処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、巻き出しロール（１１）から巻き出された対象物（８）が第１通過口（２２）を通過し、溶液（９）により処理された対象物（８）が第２通過口（２３）を通過して巻き取りロール（１２）に巻き取られる。

第１０の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、対象物（８）を連続的に処理することが可能となる。

第１１の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１～１０の態様のいずれか一つにおいて、内側壁部（５）の厚さ方向において内側壁部（５）と容器（２）の内壁面（２０）との最短距離は、内側壁部（５）と液面（９１）との距離よりも短い。

第１１の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、溶液（９）からの溶液（９）の成分の揮発を抑制することが可能となる。

第１２の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、第１～１１の態様のいずれか一つにおいて、排気装置（６）を更に備える。排気装置（６）は、排気口（２４）を通して揮発ガスを排気する。

第１２の態様に係る処理システム（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、容器（２）内の溶液（９）からの揮発ガスを排気装置（６）によって排気することができる。

第１３の態様に係る処理システム（１ｃ）は、第１～１２の態様において、容器（２）は、排気口（２４）を複数有する。

第１３の態様に係る処理システム（１ｃ）は、排気口（２４）ごとの排気量を抑制することが可能となる。

第１４の態様に係る処理システム（１ｃ）は、第１３の態様において、複数の排気口（２４）は、２つの排気口（２４）である。２つの排気口（２４）を正面から見たときに、２つの排気口（２４）が容器（２）の外壁面（容器２の上面）の中心を基準として点対称に配置されている。

第１４の態様に係る処理システム（１ｃ）は、排気口（２４）ごとの排気量を抑制することができる。

第１５の態様に係る処理方法は、対象物（８）を処理するための溶液（９）が入れられた容器（２）の通過口（２１）から対象物（８）を容器（２）内に入れ、溶液（９）を利用して対象物（８）を処理する。処理方法では、溶液（９）からの揮発ガスを、容器（２）の内壁面（２０）と溶液（９）の液面（９１）とから離れて位置し少なくとも一部が容器（２）の排気口（２４）に対向している内側壁部（５）と、内壁面（２０）と、の間の隙間（Ｓ１）を通して、排気口（２４）から排気させる。

第１５の態様に係る処理方法では、溶液（９）からの溶液（９）の成分の揮発を抑制することが可能となる。

１、１ａ、１ｂ、１ｃ処理システム
２容器
２０内壁面
２１通過口
２２第１通過口
２３第２通過口
２４排気口
２５開口
３溶液槽
３１底壁
３２外周壁
３３上面
３４開口部
４カバー
４１上壁
４２外周壁
４４延出部
５内側壁部
５２第１内側通過口
５３第２内側通過口
６排気装置
６１排気ポンプ
７制御装置
８対象物
９溶液
９１液面
１１巻き出しロール
１２巻き取りロール
１３第１ガイドロール
１４第２ガイドロール
１５第３ガイドロール
１６第４ガイドロール
Ｓ１隙間

Claims

対象物を処理するための溶液が入れられる容器を備える処理システムであって、
前記容器は、
前記対象物を通過させる複数の通過口と、
前記溶液からの揮発ガスを排気するための排気口と、を有し、
前記処理システムは、
前記容器の内壁面と前記容器内の前記溶液の液面との間に位置し、少なくとも一部が前記排気口に対向している内側壁部を更に備え、
前記複数の通過口は、
前記容器の外側から前記容器の内側に前記対象物を通過させる第１通過口と、
前記容器の内側から前記容器の外側に前記対象物を通過させる第２通過口と、を含み、
前記内側壁部は、
前記内側壁部の厚さ方向から見て前記第１通過口に重なり前記対象物を通過させる第１内側通過口と、
前記内側壁部の厚さ方向から見て前記第２通過口に重なり前記対象物を通過させる第２内側通過口と、を有する、
処理システム。
対象物を処理するための溶液が入れられる容器を備える処理システムであって、
前記容器は、
前記対象物を通過させる複数の通過口と、
前記溶液からの揮発ガスを排気するための排気口と、を有し、
前記処理システムは、
前記容器の内壁面と前記容器内の前記溶液の液面との間に位置し、少なくとも一部が前記排気口に対向している内側壁部を更に備え、
前記複数の通過口は、
前記容器の外側から前記容器の内側に前記対象物を通過させる第１通過口と、
前記容器の内側から前記容器の外側に前記対象物を通過させる第２通過口と、を含み、
前記容器は、開口を更に有し、
前記排気口と前記開口との最短距離が、前記排気口と前記第１通過口との最短距離及び前記排気口と前記第２通過口との最短距離それぞれよりも短い、
処理システム。
前記対象物を前記容器内で前記溶液に浸漬させることによって前記対象物を処理する、
請求項１又は２に記載の処理システム。
前記容器は、
上面に開口部を有する箱状であり、前記溶液が入れられる溶液槽と、
前記通過口及び前記排気口を有し、前記溶液槽の前記開口部の一部を覆うカバーと、を含み、
前記内側壁部は、
前記カバーと前記溶液槽内の前記溶液の液面との間に位置し、少なくとも一部が前記排気口に対向している、
請求項１～３のいずれか一項に記載の処理システム。
前記内側壁部は、前記排気口の正面から見て前記排気口の全域に重なっている、
請求項１～４のいずれか一項に記載の処理システム。
前記内側壁部は、前記排気口の正面から見て前記排気口よりも大きい、
請求項５に記載の処理システム。
前記排気口の正面から見て、
前記内側壁部の外周と前記第１通過口との最短距離が、前記内側壁部の前記外周と前記排気口との最短距離よりも短く、
前記内側壁部の前記外周と前記第２通過口との最短距離が、前記内側壁部の前記外周と前記排気口との最短距離よりも短い、
請求項１～６のいずれか一項に記載の処理システム。
ロール状に巻回された前記対象物を巻き出す巻き出しロールと、
前記対象物をロール状に巻き取る巻き取りロールと、を更に備え、
前記処理システムでは、
前記巻き出しロールから巻き出された前記対象物が前記第１通過口を通過し、
前記溶液により処理された前記対象物が前記第２通過口を通過して前記巻き取りロールに巻き取られる、
請求項１～７のいずれか一項に記載の処理システム。
前記内側壁部の厚さ方向において前記内側壁部と前記容器の前記内壁面との最短距離は、前記内側壁部と前記液面との距離よりも短い、
請求項１～８のいずれか一項に記載の処理システム。
前記排気口を通して前記揮発ガスを排気する排気装置を更に備える、
請求項１～９のいずれか一項に記載の処理システム。
前記容器は、前記排気口を複数有する、
請求項１～１０のいずれか一項に記載の処理システム。
前記複数の排気口は、２つの排気口であり、
前記２つの排気口を正面から見たときに、前記２つの排気口が前記容器の外壁面の中心を基準として点対称に配置されている、
請求項１１に記載の処理システム。