JP2008029990A - 基材洗浄装置及び基材洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フレキシブルな基材に付着した異物を効率よく除去し、また除去した異物が再付着しにくい基材洗浄装置、及び当該基材洗浄装置を用いた基材洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基材洗浄装置は、搬送されてくるフレキシブルな基材１を洗浄する洗浄部２０と、洗浄部２０の下流側に配置され、洗浄された前記基材１を乾燥させる乾燥部４０とを備えている。前記基材１は、少なくとも洗浄部２０に搬送される際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送される。
【選択図】図１

Description

本発明は、フレキシブルな基材を洗浄する基材洗浄装置及び基材洗浄方法に係り、とりわけ、フレキシブルな基材に付着した異物を効率よく除去し、また除去した異物が再付着しにくい基材洗浄装置及び当該基材洗浄装置を用いた基材洗浄方法に関する。

近年、プラスチックフィルムからなるフレキシブルな基材が、エレクトロニクス関連分野で使用されるケースが増えている。これに伴い、プラスチックフィルムの品質に対する要求も厳しくなってきている。特に、異物や粉塵等が、プラスチックフィルムに付着したり混入したりすると、致命的な品質欠陥となる。このため、このような異物や粉塵等を除去するために用いられるプラスチックフィルムの洗浄技術は、特に重要になってきている。

ガラス等の枚葉基板については、既に多くの洗浄装置が開発されているが、ロール状のブラスチックフィルムを高度に洗浄する洗浄装置は、未だあまり知られていない。

例えば、特許文献１には、ロールtoロールのフィルム洗浄装置についての発明が記載されており、具体的には、複数の箇所に設けられたガイドロールで、プラスチックフィルム（フレキシブルな基材）を搬送させながら、洗浄液でプラスチックフィルムを洗浄する方法が記載されている。

また、特許文献２にも同様に、複数の箇所に設けられたガイドロールでプラスチックフィルム（フレキシブルな基材）を支持しつつ搬送しながら、純水を噴霧して、プラスチックフィルムを洗浄する方法が記載されている。
特開２００２−３１６１１６号公報 特開２００５−２７９５７７号公報

しかしながら、これら従来技術のように、プラスチックフィルムを、複数箇所に設けられたガイドロールで搬送しながら洗浄すると、プラスチックフィルムとガイドロールとの接触箇所で、プラスチックフィルムに異物や粉塵等が付着したり、プラスチックフィルムにキズがついたりすることがある。

また、プラスチックフィルムを水平方向に配置して搬送するため、プラスチックフィルムの上面を洗浄液で洗浄した後、その洗浄液を除去しないと、異物や粉塵等が再度、プラスチックフィルムに付着する可能性もある。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、フレキシブルな基材に付着した異物を効率よく除去し、また除去した異物が再付着しにくい基材洗浄装置、及び当該基材洗浄装置を用いた基材洗浄方法を提供することを目的とする。

本発明は、搬送されてくるフレキシブルな基材を洗浄する洗浄部と、洗浄部の下流側に配置され、洗浄された前記基材を乾燥させる乾燥部とを備え、前記基材が、少なくとも前記洗浄部に搬送される際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送されることを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材の両面を同時に洗浄することができ、洗浄により浮遊した異物等がそのまま下方へ流されるため、当該基材に付着した異物を効率よく除去することができる。また、除去した異物が再付着しにくくすることができ、高い洗浄効率を実現することができる。また、基材洗浄装置の幅方向の大きさを小さくすることができる。さらに、基材洗浄装置内を通過するフレキシブルな基材の長さを短くすることができるため、当該基材の品質が低下することを防止することができる。

本発明は、洗浄部の上流側に、前記基材を巻き出す巻出部が配置され、乾燥部の下流側に、乾燥された前記基材を巻き取る巻取部が配置されたことを特徴とする基材洗浄装置である。

本発明は、巻出部が、巻き出す前記基材を巻き付けて保持する巻出軸を有し、巻取部が、巻き取った前記基材を巻き付けて保持する巻取軸を有し、当該巻出部の巻出軸及び巻取部の巻取軸が各々、垂直方向を向いて延在することを特徴とする基材洗浄装置である。

本発明は、巻出部が、巻き出す前記基材を巻き付けて保持する巻出軸を有し、当該巻出部の巻出軸が、水平方向に延在するか、又は垂直方向に対して傾斜して延在し、巻出部と洗浄部との間に、洗浄部に搬入される前記基材を、幅方向が垂直方向を向くよう回転させる基材回転部を設けたことを特徴とする基材洗浄装置である。

本発明は、洗浄部と乾燥部との間に、洗浄された前記基材をさらに洗浄するリンス部を設けたことを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、洗浄部によって、フレキシブルな基材から浮遊された異物や粉塵等、又はフレキシブルな基材に残留した異物や粉塵等を、効率よく洗い流すことができる。

本発明は、巻出部の下流側近傍に、前記基材を送るフィードローラが設けられ、巻出部と巻取部の間において、当該フィードローラのみが前記基材に接触することを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材がフィードローラ以外の部材に接触しないため、当該部材に付着した異物や粉塵等の汚れが当該基材に付着することを防止することができる。

本発明は、フィードローラ近傍に、前記基材に加わるテンションを検出する検出部を設け、フィードローラは、当該検出部からの信号に基づいて、前記基材の搬送速度を調整し、巻出部と巻取部の間において、フィードローラのみ、又はフィードローラと検出部のみが前記基材に接触することを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材を最適なテンション及び速度で搬送することができ、かつフレキシブルな基材がフィードローラ、又はフィードローラと検出部以外の部材に接触することによって、当該部材に付着した異物や粉塵等の汚れが当該基材に付着することを防止することができる。

本発明は、洗浄部下方に、前記基材を支持する搬送用コロが設けられたことを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、搬送用コロが、フレキシブルな基材を下方から支持することができるので、当該基材が、重力の影響で下方に落ち込むことを、確実に防止することができる。また、搬送用コロは、上方からの洗浄用液体によって、常に清潔に保たれているため、搬送用コロと接触するフィルムに異物や粉塵等の汚れが付着することを防止することができる。

本発明は、洗浄部が、前記基材に洗浄用液体を吹き付ける吹付洗浄部を有することを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材に洗浄用液体を吹き付け、当該基材に付着した異物、粉塵等のパーティクルを浮き出させることができる。

本発明は、洗浄部が、前記基材に洗浄用液体を膜状に流下させる流下洗浄部を有することを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材に洗浄用液体を膜状に流下させることができるので、当該基材を広い面積で一度に洗浄することができる。

本発明は、乾燥部が、前記基材に空気を吹き付けて、前記基材を乾燥させるエアーナイフを有することを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材に熱的負荷等を与えずに、当該基材上の洗浄用液体を除去することができる。

本発明は、前記基材が、前記洗浄部及び前記乾燥部に搬送される際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送されることを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材上に付着した洗浄用液体が重力により下方へ落ちるため、当該基材を効率よく乾燥することができる。

本発明は、乾燥部が、垂直方向に延在するとともに、前記基材の一方の面に空気を吹き付けて、前記基材を乾燥させるエアーナイフと、当該エアーナイフに対向して垂直方向に延在するとともに、前記基材の他方の面に空気を吹き付ける支持エアー供給部とを有し、前記基材が、エアーナイフから吹き付けられる空気と、支持エアー供給部から吹き付けられる空気によって、幅方向が垂直方向を向いて延在することを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、フレキシブルな基材を接触させることなく乾燥させることができるので、当該基材に異物や粉塵等の汚れが付着したり、当該基材にキズがついたりすることを防止することができる。

本発明は、乾燥部が、前記基材の温度を上昇させて、前記基材を乾燥させる加熱装置を有することを特徴とする基材洗浄装置である。

本発明は、洗浄部と乾燥部の間に、互いを仕切る仕切板が設けられ、当該仕切板には、搬送される前記基材が通過する搬送スリットが設けられたことを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、洗浄部でフレキシブルな基材から洗い流された異物や粉塵等が、洗浄部の下流側に配置された乾燥部内に拡散するおそれがなく、当該基材に異物や粉塵等が再付着することを防止することができる。

本発明は、洗浄部とリンス部の間、及びリンス部と乾燥部の間に、互いを仕切る仕切板が設けられ、当該仕切板の各々には、搬送される前記基材が通過する搬送スリットが設けられたことを特徴とする基材洗浄装置である。

このような構成により、洗浄部でフレキシブルな基材から洗い流された異物や粉塵等が、洗浄部の下流側に配置されたリンス部内で拡散するおそれがなく、当該基材に異物や粉塵等が再付着することを防止することができ、かつリンス部でフレキシブルな基材から洗い流された異物や粉塵等が、リンス部の下流側に配置された乾燥部内で拡散するおそれがなく、当該基材に異物や粉塵等が再付着することを防止することができる。

本発明は、巻取部が、巻き取った前記基材を巻き付けて保持する巻取軸を有し、当該巻取部の巻取軸が、水平方向に延在するか、又は垂直方向に対して傾斜して延在し、洗浄部と乾燥部との間に、洗浄部から搬出される前記基材を、幅方向が巻取軸と平行になるよう再度回転させる基材再回転部を設けたことを特徴とする基材洗浄装置である。

本発明は、巻取部が、巻き取った前記基材を巻き付けて保持する巻取軸を有し、当該巻取部の巻取軸が、水平方向に延在するか、又は垂直方向に対して傾斜して延在し、乾燥部と巻取部との間に、乾燥部から搬出される前記基材を、幅方向が巻取軸と平行になるよう再度回転させる基材再回転部を設けたことを特徴とする基材洗浄装置である。

本発明は、洗浄部により、搬送されてくるフレキシブルな基材を洗浄する洗浄工程と、洗浄部の下流側に配置された乾燥部により、洗浄された前記基材を乾燥させる乾燥工程とを備え、前記基材が、少なくとも前記洗浄部に搬入される際に、垂直方向を向いて延在した状態で搬送されることを特徴とする基材洗浄方法である。

このような構成により、フレキシブルな基材の両面を同時に洗浄することができ、洗浄により浮遊した異物等がそのまま下方へ流されるため、当該基材に付着した異物を効率よく除去することができる。また、除去した異物が再付着しにくくすることができ、高い洗浄効率を実現することができる。また、基材洗浄装置の幅方向の大きさを小さくすることができる。さらに、基材洗浄装置内を通過するフレキシブルな基材の長さを短くすることができるため、当該基材の品質が低下することを防止することができる。

本発明によれば、フレキシブルな基材を、少なくとも洗浄部に搬入する際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送することによって、フレキシブルな基材の両面を同時に洗浄することができ、洗浄により浮遊した異物等がそのまま下方へ流されるため、当該基材に付着した異物を効率よく除去することができる。また、除去した異物が再付着しにくくすることができ、高い洗浄効率を実現することができる。また、基材洗浄装置の幅方向の大きさを小さくすることができる。さらに、基材洗浄装置内を通過するフレキシブルな基材の長さを短くすることができるため、当該基材の品質が低下することを防止することができる。

第１の実施の形態
以下、本発明に係る基材洗浄装置の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図４は本発明の第１の実施の形態を示す図である。

図１に示すように、基材洗浄装置は、フィルム（フレキシブルな基材）１を巻き出す巻出部１０と、巻出部１０の下流側に配置され、巻出部１０から巻き出されたフィルム１を洗浄する洗浄部２０と、洗浄部２０の下流側に配置され、洗浄されたフィルム１を乾燥させる乾燥部４０と、乾燥部４０の下流側に配置され、乾燥されたフィルム１を巻き取る巻取部５０とを備えている。なお、基材洗浄装置は、床面５上に配置されている。

また、本願において、「下流」とは、フィルム１の搬送方向（ＭＤ方向）に沿った下流を意味する。例えば、乾燥部４０が、洗浄部２０の下流側に配置されているとは、乾燥部４０が、フィルム１の搬送方向に沿って洗浄部２０の下流に位置することを意味し、すなわち、乾燥部４０が、洗浄部２０を通過した後のフィルム１が到達する位置に配置されていることを意味する。他方、「上流」とは、フィルム１の搬送方向（ＭＤ方向）に沿った上流を意味する。

なお、本願において「幅方向」とはＴＤ方向を意味し、すなわち、フィルム１の搬送方向（ＭＤ方向）に垂直な方向であって、フィルム１が延在している方向を意味する。

このうち、巻出部１０は、図１に示すように、巻き出すフィルム１を巻き付けて保持する巻出軸１１を有している。また、巻取部５０は、巻き取ったフィルム１を巻き付けて保持する巻取軸５１を有している。そして、当該巻出部１０の巻出軸１１及び巻取部５０の巻取軸５１は各々、垂直方向を向いて延在している。なお、本願において「垂直方向」とは、床面５に対して略垂直であることを意味する。また、「水平方向」とは、床面５に平行な面内にある一方向を意味する。

また、図１に示すように、洗浄部２０と乾燥部４０との間には、洗浄されたフィルム１を、リンス水によって、さらに洗浄するリンス部３０が設けられている。

また、図１に示すように、巻出部１０の下流側近傍には、フィルム１を送るフィードローラ１５が設けられている。

また、図１に示すように、フィードローラ１５近傍には、フィルム１に加わるテンションを検出する検出ローラ（検出部）１６が設けられている。また、フィードローラ１５及び検出ローラ１６には、制御部１９が接続されている。なお、巻出部１０と巻取部５０の間において、フィードローラ１５と検出ローラ１６のみがフィルム１に接触している。

なお、本実施の形態においては、検出部として検出ローラ１６を用いて説明するが、これに限ることなく、検出部として、空気圧を用いてフィルム１に加わるテンションを検出する非接触式のものを用いても良い。このように、検出部として非接触式のものを用いた場合には、巻出部１０と巻取部５０の間において、フィードローラ１５のみがフィルム１と接触することになる。

また、図１に示すように、洗浄部２０は、垂直方向を向いて延在し、フィルム１に洗浄水（洗浄用液体）を吹き付ける吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄを有している。

この洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄは、フィルム１に洗浄水を吹き付けて、フィルム１に付着したパーティクルを浮き出たせるものである。

なお、洗浄部２０は、後述するリンス部３０と同様に、垂直方向に対して傾斜して延在し、フィルム１に洗浄水を膜状に流下させる流下洗浄部（図示せず）を有してもよい。このような流下洗浄部は、フィルム１に洗浄水を膜状に流下させるので、フィルム１を広い面積で一度に洗浄することができる。

また、図１に示すように、洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｃは、フィルム１の表面１ｓ側（図１の手前側）に設けられ、吹付洗浄部２１ｂ，２１ｄは、フィルム１の裏面１ｒ側（図１の奥側）に設けられている。また、洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄは各々、複数の噴射ノズル（図示せず）を有している。そして、これら複数の噴射ノズルは、フィルム１の幅方向全体をカバーする長さで、配列されている。

ところで、吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄの噴射ノズルからの洗浄水の噴射方法は幾つか考えられ、例えば、エアレス（洗浄水のみ）を連続的に噴射する方法、２流体（洗浄水とエアの混合したもの）を連続的に噴射する方法、エアレス（洗浄水のみ）を断続的に高圧で噴射する方法、２流体（洗浄水とエアの混合したもの）を断続的に噴射する方法などが用いることができ、フィルム１の種類によって適宜、選定することができる。

また、吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄの噴射ノズルから噴射された洗浄水は水膜を形成する。そして、当該洗浄水は、純水や、フィルム１に影響を与えない薬剤等を含む洗浄液からなることが好ましい。

また、図１及び図２に示すように、リンス部３０は、垂直方向に対して傾斜して延在し、フィルム１にリンス水を膜状に流下させる流下リンス部３１ａ，３１ｂを有している。ここで、図１に示すように、リンス部３０の流下リンス部３１ａは、フィルム１の表面１ｓ側（図１の手前側）に設けられ、流下リンス部３１ｂは、フィルム１の裏面１ｒ側（図１の奥側）に設けられている。

このリンス部３０の流下リンス部３１ａ，３１ｂは、フィルム１にリンス水を供給して、フィルム１の表面１ｓ及び裏面１ｒで浮き出たパーティクルを流して落とすものである。

なお、リンス水としては、純水または超純水を用いることが好ましいが、適宜、水素や酸素などの気体をリンス水内に混合させても良い。

また、図１及び図２に示すように、洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄと、リンス部３０の流下リンス部３１ａ，３１ｂは、洗浄リンス筐体２５内に収容されている。また、図１及び図２に示すように、フィルム１の搬送方向に直交する当該洗浄リンス筐体２５の側壁２５ａ，２５ｂの各々には、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット２６ａ，２６ｂが設けられている。すなわち、洗浄リンス筐体２５の上流側の側壁２５ａには、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット２６ａが設けられ、洗浄リンス筐体２５の下流側の側壁２５ｂには、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット２６ｂが設けられている。なお、図２は、洗浄部２０、リンス部３０及び乾燥部４０の斜視図であるが、説明のためフィルム１及び吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄは、図示されていない。

また、図１及び図２において、洗浄リンス筐体２５内であって、吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄと流下リンス部３１ａ，３１ｂの間には、洗浄部２０とリンス部３０を区切る仕切板６１が設けられている。なお、当該仕切板６１には、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット６２が設けられている。

また、図１及び図３に示すように、乾燥部４０は、垂直方向に延在し、フィルム１の表面１ｓに空気Ａ１を吹き付けて、フィルム１を乾燥させるエアーナイフ４１ａと、エアーナイフ４１ａに対向して垂直方向に延在するとともに、フィルム１の裏面１ｒに空気Ａ２を吹き付ける支持エアー供給部４２ａと、垂直方向に延在し、フィルム１の裏面１ｒに空気Ａ１を吹き付けて、フィルム１を乾燥させるエアーナイフ４１ｂと、エアーナイフ４１ｂに対向して垂直方向に延在するとともに、フィルム１の表面１ｓに空気Ａ２を吹き付ける支持エアー供給部４２ｂを有している。なお、図３は、乾燥部４０を図１の矢印IIIから見た平面図である。

なお、図１に示すように、エアーナイフ４１ａは、支持エアー供給部４２ｂの上流側に設けられている。また、エアーナイフ４１ｂは、支持エアー供給部４２ａの下流側に設けられている。

また、図１及び図２に示すように、エアーナイフ４１ａ，４１ｂ及び支持エアー供給部４２ａ，４２ｂは、乾燥筐体４５内に収容されている。また、図１及び図２に示すように、フィルム１の搬送方向に直交して設けられた、乾燥筐体４５の側壁４５ａ，４５ｂの各々には、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット４６ａ，４６ｂが設けられている。すなわち、乾燥筐体４５の上流側の側壁４５ａには、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット４６ａが設けられ、乾燥筐体４５の下流側の側壁４５ｂには、搬送されるフィルム１が通過する搬送スリット４６ｂが設けられている。

なお、図１及び図２に示すように、洗浄リンス筐体２５の乾燥部４０側の側壁２５ｂと、乾燥筐体４５のリンス部３０側の側壁４５ａは、リンス部３０と乾燥部４０の間を仕切る仕切板を構成している。

ところで、このようなエアーナイフ４１ａ，４１ｂを用いることによって、フィルム１に熱的負荷等を与えずにフィルム１上の液体を除去することができる。また、エアーナイフ４１ａ，４１ｂから吹き付けられる空気Ａ１は、フィルターを通して無塵化されることが好ましい。

なお、乾燥部４０は、フィルム１の温度を上昇させて、フィルム１を乾燥させる加熱装置を有してもよい。このような加熱装置は、熱風、赤外線、プラズマなどを用いて、フィルム１を乾燥させることができる。また、加熱装置は、フィルム１に接触することなくフィルム１を乾燥させることができるため、フィルム１に異物や粉塵等が付着したり、キズがついたりすることを防止することができる。

なお、加熱装置は、上述したエアーナイフ４１ａ，４１ｂによってフィルム１が十分に乾燥しない場合に、当該エアーナイフ４１ａ，４１ｂの補助として用いることもできる。このように、エアーナイフ４１ａ，４１ｂと加熱装置の両方を用いることによって、フィルム１をより確実に乾燥させることができる。

また、巻出部１０とフィードローラ１５との間に、フィルム１の表面１ｓ及び裏面１ｒに付着したゴミを除去するゴミ取りローラ（図示せず）を設けても良い。このことにより、フィードローラ１５によって、フィルム１の表面１ｓや裏面１ｒに付着したゴミが、圧着されることを防止することができる。

また、上述した基材搬送装置によって搬送されるフィルム１は、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂からなっている。このうち熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、例えば、ナイロン等のポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール等が挙げられる。

また、上記では基材としてフィルム１を用いて説明したが、これに限ることなく、基材として銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、チタン箔などの金属箔を用いることもできる。

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。

まず、巻出部１０の巻出軸１１から、フィルム１が巻き出される（巻出工程８１）（図１及び図４参照）。

このとき、フィードローラ１５によってフィルム１が案内される。そして、フィードローラ１５近傍に設けられた検出ローラ１６が、フィルム１によって押圧される力を検出して、巻出部１０及び巻取部５０によってフィルム１に加えられるテンションを検出する（テンション検出工程８２）（図１及び図４参照）。

そして、このように検出ローラ１６によって検出されたフィルム１に加わるテンションに関する信号が制御部に送信され、制御部１９が、当該信号に基づいて、フィードローラ１５によるフィルム１の搬送速度を調整する（搬送速度調整工程８３）（図１及び図４参照）。このため、フィードローラ１５は、フィルム１を最適な速度で搬送することができる。

次に、巻出部１０から巻き出されたフィルム１は、洗浄リンス筐体２５の側壁２５ａに設けられた搬送用スリット２６ａを経由して、巻出部１０の下流側に配置された洗浄部２０内に導かれる（図１及び図２参照）。

次に、洗浄部２０によって、巻出部１０から巻き出されたフィルム１が洗浄される（洗浄工程８５）（図１及び図４参照）。このとき、洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄは、フィルム１に洗浄水を吹き付けるので、フィルム１に付着した異物、粉塵等のパーティクルを浮き出させることができる。

具体的には、まず、吹付洗浄部２１ａから吹き付けられる洗浄水により、フィルム１の表面１ｓに付着したパーティクルが浮き出され、その後、吹付洗浄部２１ｂから吹き付けられる洗浄水によりフィルム１の裏面１ｒに付着したパーティクルが浮き出される。そして、さらに同様に、吹付洗浄部２１ｃから吹き付けられる洗浄水によりフィルム１の表面１ｓで浮き出されたパーティクルが洗い流され、その後、吹付洗浄部２１ｄから吹き付けられる洗浄水によりフィルム１の裏面１ｒで浮き出されたパーティクルが洗い流される（図１参照）。

このとき、図１に示すように、フィルム１は幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送されているので、洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄから吹き付けられる洗浄水は、フィルム１の表面１ｓ及び裏面１ｒに付着することなく、下方に流れていき、洗浄水により浮遊した異物等がそのまま下方へ流される。このため、フィルム１に付着した異物を効率よく除去することができる。また、洗浄水によって除去した異物が、フィルム１に再付着することを防止することができ、高い洗浄効率を実現することができる。

このように洗浄部２０で洗浄されたフィルム１は、洗浄部２０とリンス部３０とを区切る仕切板６１に設けられた搬送用スリット６２を経由して、洗浄部２０の下流側に配置されたリンス部３０内に導かれる（図１及び図２参照）。

その後、リンス部３０の流下リンス部３１ａ，３１ｂによって、洗浄されたフィルム１がさらに洗浄される（リンス工程８６）（図１及び図４参照）。このように、流下リンス部３１ａ，３１ｂが、洗浄されたフィルム１を、リンス水によってさらに洗浄することによって、吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄによりフィルム１に残存したパーティクル、又はフィルム１に再付着したパーティクルを、完全によく洗い流すことができる。

具体的には、まず、流下リンス部３１ａによりフィルム１の表面１ｓのパーティクルが洗い流され、その後、流下リンス部３１ｂによりフィルム１の裏面１ｒのパーティクルが洗い流される（図１参照）。

このとき、リンス部３０の流下リンス部３１ａ，３１ｂは、フィルム１にリンス水を膜状に流下させるので、フィルム１を広い面積で一度に洗浄することができる（図１参照）。

また、図１に示すように、フィルム１は幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送されているので、リンス部３０の流下リンス部３１ａ，３１ｂから流下されるリンス水は、フィルム１の表面１ｓ及び裏面１ｒに付着することなく、下方に流れていく。このため、フィルム１から洗い流されたパーティクルが、フィルム１の表面１ｓ及び裏面１ｒに再度付着する可能性を低くすることができる。

さらに、図２に示すように、洗浄部２０とリンス部３０の間に、互いを仕切る仕切板６１が設けられている。このため、洗浄部２０でフィルム１から浮き出された異物等のパーティクルが、隣接するリンス部３０内に拡散するおそれがなく、フィルム１にパーティクルが再付着することを防止することができる。

このようにリンス部３０で洗浄されたフィルム１は、洗浄リンス筐体２５の側壁２５ｂに設けられた搬送用スリット２６ｂ、及び乾燥筐体４５の側壁４５ａに設けられた搬送用スリット４６ａを経由して、リンス部３０の下流側に配置された乾燥部４０内に導かれる（図１及び図２参照）。

次に、洗浄部２０の下流側に配置された乾燥部４０によって、洗浄されたフィルム１が乾燥され、フィルム１に残存する液体が除去される（乾燥工程８７）（図１及び図４参照）。

具体的には、まず、乾燥部４０のエアーナイフ４１ａが、フィルム１の表面１ｓに空気Ａ１を吹き付け、フィルム１の表面１ｓを乾燥させる。このとき、乾燥部４０の支持エアー供給部４２ａが、フィルム１の裏面１ｒに空気Ａ２を吹き付けるので、エアーナイフ４１ａから吹き付けられる空気Ａ１と、支持エアー供給部４２ａから吹き付けられる空気Ａ２によって、フィルム１をばたつかせることなく、幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送することができる（図１及び図３参照）。

その後、乾燥部４０のエアーナイフ４１ｂが、フィルム１の裏面１ｒに空気Ａ１を吹き付け、フィルム１の裏面１ｒを乾燥させる。このときもやはり、乾燥部４０の支持エアー供給部４２ｂが、フィルム１の表面１ｓに空気Ａ２を吹き付けるので、エアーナイフ４１ｂから吹き付けられる空気Ａ１と、支持エアー供給部４２ｂから吹き付けられる空気Ａ２によって、フィルム１をばたつかせることなく、幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送することができる（図１及び図３参照）。

このように、エアーナイフ４１ａ，４１ｂ及び支持エアー供給部４２ａ，４２ｂは、フィルム１を接触させることなく、乾燥させることができるので、フィルム１に異物や粉塵等の汚れが付着することを防止することができる。

また、フィルム１は、幅方向が垂直方向に向いた状態で乾燥されるため、フィルム１上に付着した洗浄水やリンス水が重力により下方へ落とすことができる。このため、フィルム１を効率よく乾燥することができる。

ここで、図１及び図２に示すように、リンス部３０は、洗浄リンス筐体２５内に収容され、乾燥部４０は乾燥筐体４５内に収容されている。このため、リンス部３０と乾燥部４０との間には、リンス部３０と乾燥部４０を互いに仕切る洗浄リンス筐体２５の側壁２５ｂ及び乾燥筐体４５の側壁４５ａ（仕切板）が設けられている。このため、リンス部３０で、フィルム１表面から洗い流された異物等のパーティクルが、隣接する乾燥部４０内に拡散するおそれがなく、フィルム１にパーティクルが再付着することを防止することができる。

次に、乾燥部４０の下流側に配置された巻取部５０の巻取軸５１によって、乾燥されたフィルム１が巻き取られる（巻取工程８９）（図１及び図４参照）。

上述した一連の工程において、フィルム１は、巻出部１０と巻取部５０の間を、垂直方向に配置された状態で搬送される（図１参照）。このため、フィルム１を水平方向に配置して搬送する場合と比較して、基材洗浄装置の幅方向（水平方向）の大きさを小さくすることができる。

また、上述した一連の工程において、巻出部１０と巻取部５０の間において、巻出部１０の下流側近傍に配置されたフィードローラ１５と検出ローラ１６のみがフィルム１に接触している（図１参照）。このため、フィルム１がフィードローラ１５及び検出ローラ１６以外の部材に接触することによって、当該部材に付着した異物や粉塵等の汚れがフィルム１に付着することを防止することができる。

また、上述した一連の工程において、フィルム１の表面１ｓと裏面１ｒを反転させる必要がないため、基材洗浄装置内を通過するフィルム１の長さを短くすることができる。このため、フィルム１の品質が低下することを防止することができる。

上記では、基材洗浄装置が、巻出部１０と巻取部５０とを有し、基材洗浄装置が単体として用いられる態様を用いて説明したが、これに限ることなく、本発明の基材洗浄装置は、コーターシステム、印刷システム、ラミネートシステムなどの一部に組み込まれてもよい。

変形例
次に図５及び図６により本発明の第１の実施の形態の変形例について説明する。図５及び図６に示す変形例は、乾燥部４０において、支持エアー供給部４２ａ，４２ｂを用いる代わりに、円筒形支持エアー供給部４９ａ，４９ｂを用いたものであり、他は図１乃至図４に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、円筒形支持エアー供給部４９ａ，４９ｂは、床面５に対して回転せずに固定されている。また、図６は、乾燥部を図５の矢印ＶＩから見た平面図である。

なお、本変形例では、横断面が円筒形の円筒形支持エアー供給部４９ａ，４９ｂを用いて説明したが、これに限ることなく、様々な形状の横断面からなるものを用いることができる。

図５及び図６に示す変形例において、図１乃至図４に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図５及び図６を用いて、円筒形支持エアー供給部４９ａ，４９ｂを有する乾燥部４０によって、フィルム１を乾燥する工程（乾燥工程８７）について、説明する（図４参照）。

まず、乾燥部４０のエアーナイフ４１ａが、フィルム１の表面１ｓに空気Ａ１を吹き付け、フィルム１の表面１ｓを乾燥させる。このとき、乾燥部４０の円筒形支持エアー供給部４９ａが、フィルム１の裏面１ｒに空気Ａ２を吹き付けるので、エアーナイフ４１ａから吹き付けられる空気Ａ１と、支持エアー供給部４２ａから吹き付けられる空気Ａ２によって、フィルム１をばたつかせることなく、幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送することができる（図５及び図６参照）。なお、このとき、フィルム１の裏面１ｒには、円筒形支持エアー供給部４９ａから空気Ａ２が吹き付けられるため、フィルム１の裏面１ｒは、円筒形支持エアー供給部４９ａに接触しない。

その後、乾燥部４０のエアーナイフ４１ｂが、フィルム１の裏面１ｒに空気Ａ１を吹き付け、フィルム１の裏面１ｒを乾燥させる。このときもやはり、乾燥部４０の円筒形支持エアー供給部４９ｂが、フィルム１の表面１ｓに空気Ａ２を吹き付けるので、エアーナイフ４１ｂから吹き付けられる空気Ａ１と、支持エアー供給部４９ｂから吹き付けられる空気Ａ２によって、フィルム１をばたつかせることなく、幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送することができる（図５及び図６参照）。なお、このとき、フィルム１の表面１ｓには、円筒形支持エアー供給部４９ｂから空気Ａ２が吹き付けられるため、フィルム１の表面１ｓは、円筒形支持エアー供給部４９ｂと接触しない。

なお、図５及び図６に示すように、フィルム１は、円筒形支持エアー供給部４９ａ，４９ｂの周縁に、空気Ａ２を介して巻き付きつつ、搬送される。このため、円筒形支持エアー供給部４９ａ，４９ｂを有する乾燥部４０は、フィルム１をより安定した状態で保持しつつ、乾燥させることができる。

第２の実施の形態
次に図７（ａ）（ｂ）により本発明の第２の実施の形態について説明する。図７（ａ）（ｂ）に示す第２の実施の形態は、洗浄部２０下方に、フィルム１を支持する搬送用コロ２９が設けたものであり、他は図１乃至図４に示す第１の実施の形態と略同一である。

図７（ａ）（ｂ）に示す第２の実施の形態において、図１乃至図４に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図７（ａ）（ｂ）に示すように、洗浄部２０下方に、フィルム１を支持する搬送用コロ２９が設けられている。このため、搬送用コロ２９は、フィルム１を下方から支持することができる。この結果、フィルム１が、重力の影響で下方に落ち込むことを、確実に防止することができる。また、図７（ａ）（ｂ）に示すように、搬送用コロ２９の中央部２９ｃは、凹んでいる。このため、搬送用コロ２９は、当該中央部２９ｃによって、フィルム１を確実に支持することができる。なお、図７（ｂ）は、搬送用コロ２９を上方から見た平面図である。

なお、図７（ａ）（ｂ）に示すように、搬送用コロ２９は、洗浄部２０内の下方に配置されている。このため、搬送用コロ２９は、洗浄部２０の吹付洗浄部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄから吹き付けられる洗浄水によって、常に洗浄されている。この結果、搬送用コロ２９は、常に清潔に保たれているため、搬送用コロ２９と接触するフィルム１に、異物や粉塵等の汚れが付着することはない。

第３の実施の形態
次に図８乃至図１０（ａ）−（ｃ）により本発明の第３の実施の形態について説明する。図８乃至図１０（ａ）−（ｃ）に示す第３の実施の形態は、巻出部１０の巻出軸１１が水平方向（ｙ方向）に延在し、巻出部１０と洗浄部２０との間に、洗浄部２０に搬入されるフィルム１を、幅方向が垂直方向を向くよう回転させる基材回転部７０を設けたものである。なお、巻出部１０の巻出軸１１が水平方向に延在していることに合わせて、フィードローラ１５と検出ローラ１６は、図８に示すように、水平方向に延在している。その他の構成は、図１乃至図４に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図８乃至図１０（ａ）―（ｃ）において、水平方向であって、巻出部１０から巻取部５０へ向かう方向をｘ方向とし、水平方向であって、ｘ方向と直交する方向をｙ方向とし、垂直方向をｚ方向とする。

図８乃至図１０（ａ）−（ｃ）に示す第３の実施の形態において、図１乃至図４に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

基材回転部７０は、例えば図９（ａ）−（ｃ）に示すように、ｙ方向に延在する水平ローラ７２と、水平ローラ７２の下流側に配置され、ｙｚ平面上であって、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜する方向に延在する垂直傾斜ローラ７３と、傾斜ローラ７３の下流側に配置され、ｚ方向に延在する垂直ローラ７４とを有している。なお、図９（ａ）は、このような構成を有する基材回転部７０の斜視図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）の矢印Ｂ１から基材回転部７０を見た側方図であり、図９（ｃ）は図９（ａ）の矢印Ｃ１から基材回転部７０を見た側方図である。但し、図９（ｂ）（ｃ）においては、説明のため、フィルム１を省略しており図示していない。

図９（ａ）―（ｃ）に示した構成を有する基材回転部７０に、水平方向で搬入されたフィルム１（幅方向がｙ方向に向かって延在した状態で搬入されたフィルム１）は、まず、水平ローラ７２によってｚ方向（正方向）に折曲され、水平ローラ７２のｚ方向（正方向）に向かって搬送される。次に、水平ローラ７２を経てｚ方向（正方向）に向かって搬送されたフィルム１は、垂直傾斜ローラ７３によってｙ方向（正方向）に向かって折り返された後、ｙ方向（正方向）に向かって搬送される。次に、ｙ方向（正方向）に向かって搬送されたフィルム１は、垂直ローラ７４によってｘ方向（正方向）に向かって搬送される。

このため、図９（ａ）―（ｃ）に示した構成を有する基材回転部７０によって、水平方向で搬入されたフィルム１を、幅方向が垂直方向に向かった状態で搬出することができる。

また、図１０（ａ）−（ｃ）に示すように、基材回転部７０は、ｘｙ平面上であって、ｘ方向及びｙ方向に対して傾斜する方向に延在する水平傾斜ローラ７６と、水平傾斜ローラ７６の下流側に配置され、ｘ方向に延在する第一水平ローラ７７と、第一水平ローラ７７の下流側に配置され、ｘ方向に延在する第二水平ローラ７８と、第二水平ローラ７８の下流側に配置され、ｘｚ平面上であって、ｘ方向及びｚ方向に対して傾斜する方向に延在する垂直傾斜ローラ７９とを有してもよい。なお、図１０（ａ）は、このような構成を有する基材回転部７０の斜視図であり、図１０（ｂ）は図１０（ａ）の矢印Ｂ２から基材回転部７０を見た側方図であり、図１０（ｃ）は図１０（ａ）の矢印Ｃ２から基材回転部７０を見た側方図である。但し、図１０（ｂ）（ｃ）においては、説明のため、フィルム１を省略しており図示していない。

図１０（ａ）―（ｃ）に示した構成を有する基材回転部７０に、水平方向で搬入されたフィルム１（幅方向がｙ方向に向かって延在した状態で搬入されたフィルム１）は、まず、水平傾斜ローラ７６によってｙ方向（正方向）に折曲され、ｙ方向（正方向）に向かって搬送される。次に、ｙ方向（正方向）に向かって搬送されたフィルム１は、第一水平ローラ７７によってｙ方向（負方向）に折り返され、ｙ方向（負方向）に向かって搬送される。次に、ｙ方向（負方向）に向かって搬送されたフィルム１は、第二水平ローラ７７によってｚ方向（正方向）に折曲され、ｚ方向（正方向）に向かって搬送される。次に、ｚ方向（正方向）に向かって搬送されたフィルム１は、垂直傾斜ローラ７９によってｘ方向（正方向）に折曲され、ｘ方向（正方向）に向かって搬送される。

このため、図１０（ａ）―（ｃ）に示した構成を有する基材回転部７０によって、水平方向で搬入されたフィルム１を、幅方向が垂直方向に向かった状態で搬出することができる。

なお、上記では、巻出部１０の巻出軸１１が水平方向に延在している態様を用いて説明したが、これに限らず、巻出部１０の巻出軸１１は垂直方向に対して傾斜して延在してもよい。

第４の実施の形態
次に図１１により本発明の第４の実施の形態について説明する。図１１に示す第４の実施の形態は、巻取部５０の巻取軸５１が水平方向に延在し、乾燥部４０と巻取部５０との間に、乾燥部４０から搬出されるフィルム１を、幅方向が巻取軸５１と平行に延在するよう再度回転させる基材再回転部７１を設けたものである。その他の構成は、図８乃至図１０（ａ）−（ｃ）に示す第３の実施の形態と略同一である。

図１１に示す第４の実施の形態において、図８乃至図１０（ａ）−（ｃ）に示す第３の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図１１に示した基材再回転部７１は、例えば、図９（ａ）−（ｃ）や図１０（ａ）−（ｃ）に示した基材回転部７０と略同一の構成を有している。

なお上記では、乾燥部４０と巻取部５０との間に、基材再回転部７１を設けた態様を用いて説明したが、これに限ることなく、リンス部３０と乾燥部４０との間に、基材再回転部７１を設けてもよい。

また、上記では、巻取部５０の巻取軸５１が水平方向に延在している態様を用いて説明したが、これに限らず、巻取部５０の巻取軸５１は垂直方向に対して傾斜して延在してもよい。

本発明による基材搬送装置の第１の実施の形態を示す構成図。 本発明の基材搬送装置の第１の実施の形態による、洗浄部、リンス部及び乾燥部を示す斜視図。 本発明の基材搬送装置の第１の実施の形態による、乾燥部を図１の矢印IIIから見た平面図。 本発明の基材搬送装置の第１の実施の形態による、基材洗浄方法を示すフロー図。 本発明による基材搬送装置の第１の実施の形態の変形例を示す構成図。 本発明の基材搬送装置の第１の実施の形態の変形例による、乾燥部を図５の矢印ＶＩから見た平面図。 本発明の基材搬送装置の第２の実施の形態による、洗浄部を示す斜視図。 本発明による基材搬送装置の第３の実施の形態を示す部分構成図。 本発明の第３の実施の形態による基材搬送装置の基材回転部の一例を示す構成図。 本発明の第３の実施の形態による基材搬送装置の基材回転部の他の例を示す構成図。 本発明による基材搬送装置の第４の実施の形態を示す部分構成図。

符号の説明

１ フィルム（フレキシブルな基材）
１０ 巻出部
１１ 巻出軸
１５ フィードローラ
１６ 検出ローラ（検出部）
２０ 洗浄部
２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ 吹付洗浄部
２６ａ，２６ｂ，４６ａ，４６ｂ，６２ 搬送スリット
２９ 搬送用コロ
３０ リンス部
４０ 乾燥部
４１ａ，４１ｂ エアーナイフ
４２ａ，４２ｂ 支持エアー供給部
５０ 巻取部
５１ 巻取軸
６１ 仕切板
７０ 基材回転部
７１ 基材再回転部
８１ 巻出工程
８２ テンション検出工程
８３ 搬送速度調整工程
８５ 洗浄工程
８６ リンス工程
８７ 乾燥工程
８９ 巻取工程

Claims (19)

1. 搬送されてくるフレキシブルな基材を洗浄する洗浄部と、
   洗浄部の下流側に配置され、洗浄された前記基材を乾燥させる乾燥部とを備え、
   前記基材は、少なくとも前記洗浄部に搬送される際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送されることを特徴とする基材洗浄装置。
2. 洗浄部の上流側に、前記基材を巻き出す巻出部が配置され、
   乾燥部の下流側に、乾燥された前記基材を巻き取る巻取部が配置されたことを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
3. 巻出部は、巻き出す前記基材を巻き付けて保持する巻出軸を有し、
   巻取部は、巻き取った前記基材を巻き付けて保持する巻取軸を有し、
   当該巻出部の巻出軸及び巻取部の巻取軸は各々、垂直方向を向いて延在したことを特徴とする請求項２記載の基材洗浄装置。
4. 巻出部は、巻き出す前記基材を巻き付けて保持する巻出軸を有し、
   当該巻出部の巻出軸は、水平方向に延在するか、又は垂直方向に対して傾斜して延在し、
   巻出部と洗浄部との間に、洗浄部に搬入される前記基材を、幅方向が垂直方向を向くよう回転させる基材回転部を設けたことを特徴とする請求項２記載の基材洗浄装置。
5. 洗浄部と乾燥部との間に、洗浄された前記基材をさらに洗浄するリンス部を設けたことを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
6. 巻出部の下流側近傍に、前記基材を送るフィードローラが設けられ、
   巻出部と巻取部の間において、当該フィードローラのみが前記基材に接触することを特徴とする請求項２記載の基材洗浄装置。
7. フィードローラ近傍に、前記基材に加わるテンションを検出する検出部を設け、
   フィードローラは、当該検出部からの信号に基づいて、前記基材の搬送速度を調整し、
   巻出部と巻取部の間において、フィードローラのみ、又はフィードローラと検出部のみが前記基材に接触することを特徴とする請求項６記載の基材洗浄装置。
8. 洗浄部下方に、前記基材を支持する搬送用コロが設けられたことを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
9. 洗浄部は、前記基材に洗浄用液体を吹き付ける吹付洗浄部を有することを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
10. 洗浄部は、前記基材に洗浄用液体を膜状に流下させる流下洗浄部を有することを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
11. 乾燥部は、前記基材に空気を吹き付けて、前記基材を乾燥させるエアーナイフを有することを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
12. 前記基材は、前記洗浄部及び前記乾燥部に搬送される際に、幅方向が垂直方向に向いた状態で搬送されることを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
13. 乾燥部は、垂直方向に延在するとともに、前記基材の一方の面に空気を吹き付けて、前記基材を乾燥させるエアーナイフと、当該エアーナイフに対向して垂直方向に延在するとともに、前記基材の他方の面に空気を吹き付ける支持エアー供給部とを有し、
    前記基材は、エアーナイフから吹き付けられる空気と、支持エアー供給部から吹き付けられる空気によって、幅方向が垂直方向を向いて延在することを特徴とする請求項１２記載の基材洗浄装置。
14. 乾燥部は、前記基材の温度を上昇させて、前記基材を乾燥させる加熱装置を有することを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
15. 洗浄部と乾燥部の間に、互いを仕切る仕切板が設けられ、
    当該仕切板には、搬送される前記基材が通過する搬送スリットが設けられたことを特徴とする請求項１記載の基材洗浄装置。
16. 洗浄部とリンス部の間、及びリンス部と乾燥部の間に、互いを仕切る仕切板が設けられ、
    当該仕切板の各々には、搬送される前記基材が通過する搬送スリットが設けられたことを特徴とする請求項５記載の基材洗浄装置。
17. 巻取部は、巻き取った前記基材を巻き付けて保持する巻取軸を有し、
    当該巻取部の巻取軸は、水平方向に延在するか、又は垂直方向に対して傾斜して延在し、
    洗浄部と乾燥部との間に、洗浄部から搬出される前記基材を、幅方向が巻取軸と平行に延在するよう再度回転させる基材再回転部を設けたことを特徴とする請求項４記載の基材洗浄装置。
18. 巻取部は、巻き取った前記基材を巻き付けて保持する巻取軸を有し、
    当該巻取部の巻取軸は、水平方向に延在するか、又は垂直方向に対して傾斜して延在し、
    乾燥部と巻取部との間に、乾燥部から搬出される前記基材を、幅方向が巻取軸と平行に延在するよう再度回転させる基材再回転部を設けたことを特徴とする請求項４記載の基材洗浄装置。
19. 洗浄部により、搬送されてくるフレキシブルな基材を洗浄する洗浄工程と、
    洗浄部の下流側に配置された乾燥部により、洗浄された前記基材を乾燥させる乾燥工程とを備え、
    前記基材は、少なくとも前記洗浄部に搬入される際に、幅方向が垂直方向を向いた状態で搬送されることを特徴とする基材洗浄方法。

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