JP7520659B2 - 画像形成方法および画像形成装置 - Google Patents

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Description

本発明は、画像形成方法および画像形成装置に関する。
配線基板が有する導電パターンを保護することを目的として、配線基板にレジスト膜が形成される場合がある。レジスト膜は、後工程のはんだ塗布の際に、はんだが導体配線等の領域に付着することを防止する役割も有し、「ソルダレジスト」とも呼ばれる。レジスト膜を形成する一手法として、インクジェット方式にてソルダレジストのインクの液滴を配線基板に向けて吐出する方法が知られている。このような技術は、例えば、特許文献1および2に開示されている。
特開平9-283893号公報 特開2008-4820号公報
インクジェット方式の画像形成装置では、副走査方向に並ぶ複数のノズルを有するヘッド部を基材に対して主走査方向に移動させつつ、各ノズルからインクを吐出させる主走査によって、基材にインクが付与される。ここで、複数のノズル間における、吐出特性のばらつきによる画質劣化を防ぐため、マルチパス印字が行われる場合がある。マルチパス印字では、主走査を行うごとに、ヘッド部を、一度の主走査で記録可能な幅よりも小さい送り量で副走査方向に移動させつつ、同一の単位領域について、複数回主走査を行って画像を完成させる。マルチパス印字では、単位領域間のつなぎ目が、オーバーラップするように主走査が行われる。
また、副走査方向の解像度を高めるため、インターレース方式で画像が形成される場合もある。インターレース方式では、所定の、比較的狭い送り量でヘッド部が副走査方向に移動される。
ところで、基材の表面において、先にインクが付与された領域と、インクが付与されていない領域とでは、後に付与されるインクの定着に違いが生じ得る。例えば、ソルダレジストのインクは、一般的に流動性が高い。このため、先に付与されたインクが広がることによって、後に付与されるインクと混ざることにより、後のインクが凹凸などを形成する可能性がある。また、主走査時にUV照射等でインクを硬化させる場合にも、先のインクの表面形状や硬化具合などによって、後に付与されるインクが凹凸などを形成する可能性があった。
例えば、マルチパス印字で画像を形成する場合、単位領域ごとに複数回の主走査が行われる。このため、1つの単位領域に対してインクが付与され始めてから、隣接する単位領域にインクが付与され始めるまでの時間が、単位領域に対する主走査の回数に応じて長くなる。そうすると、隣接する2つの単位領域間のつなぎ目では、後に付与されたインクが、先に付与されたインクと干渉することによって、凹凸を形成しやすくなる。インク間の干渉によってインクに凹凸が形成された場合、単位領域間のつなぎ目において、最終的に、主走査方向に延びる筋状のムラが形成されるおそれがあった。
本発明の目的は、マルチパス印字で画像を形成する場合に、単位領域間のつなぎ目に筋状のムラが形成されることを抑制する技術を提供することにある。
上記課題を解決するため、第1態様は、副走査方向に並ぶ複数のノズルを有するヘッド部を基材に対して主走査方向に移動させる主走査において、前記複数のノズルから前記基材にインクを吐出させることによって、前記基材に画像を形成する画像形成方法であって、(a)前記主走査によって、前記基材の表面のうち、第1単位領域と、前記第1単位領域に対して副走査方向一方側に隣接する第1つなぎ目領域にインクを付与する工程と、(b)前記工程(a)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向一方側に移動させる工程と、(c)前記工程(b)の後に、前記主走査によって、前記基材の表面のうち、前記第1つなぎ目領域と、前記第1つなぎ目領域に対して副走査方向一方側に隣接する第2単位領域とにインクを付与する工程と、(d)前記工程(c)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向他方側に移動させる工程と、(e)前記工程(d)の後に、前記主走査によって、前記第1単位領域と前記第1つなぎ目領域とにインクを付与する工程とを含む。
第2態様は、第1態様の画像形成方法であって、(f)前記工程(c)の後に、前記主走査によって、前記第2単位領域と前記第1つなぎ目領域とにインクを付与する工程をさらに含む。
第3態様は、第2態様の画像形成方法であって、(g)前記工程(e)の後に、前記ヘッド部を副走査方向一方側に移動させる工程、をさらに含み、前記工程(f)が、前記工程(g)の後に実行される。
第4態様は、第2態様の画像形成方法であって、前記工程(f)が、前記工程(d)よりも前に実行される。
第5態様は、第2態様から第4態様のいずれか1つの画像形成方法であって、(h)前記工程(c)の後に、前記ヘッド部を副走査方向一方側に移動させる工程と、(i)前記工程(h)の後に、前記主走査によって、前記基材の表面のうち、前記第2単位領域に対して副走査方向一方側に隣接する第2つなぎ目領域と、前記第2つなぎ目領域に対して副走査方向一方側に隣接する第3単位領域とにインクを付与する工程と、(j)前記工程(i)の後、前記ヘッド部を副走査方向他方側に移動させる工程と、をさらに含み、前記工程(f)が前記工程(j)の後に実行され、前記工程(c)および前記工程(f)において、前記第2つなぎ目領域にインクが付与される。
第6態様は、第1態様から第5態様のいずれか1つの画像形成方法であって、前記工程(a)は、前記第1単位領域および前記第1つなぎ目領域に付与されたインクを硬化させるエネルギー線を照射する工程を含む。
第7態様は、第1態様から第6態様のいずれか1つの画像形成方法であって、前記工程(c)において前記基材におけるインクが付与される位置が、前記工程(a)において前記基材におけるインクが付与される位置に対して、前記ノズル間の間隔よりも小さい距離だけ副走査方向にずれている。
第8態様は、第1態様から第7態様のいずれか1つの画像形成方法であって、前記工程(c)における前記ヘッド部の位置が、前記工程(a)における前記ヘッド部の位置に対して、前記ノズル間の間隔と同じかそれ以上の距離だけ副走査方向にずれている。
第9態様は、画像形成装置であって、基材を保持する保持部と、副走査方向に間隔をあけて並ぶ複数のノズルを有するヘッド部と、前記保持部に保持された前記基材に対して、前記ヘッド部を主走査方向と副走査方向とに移動させる移動機構と、前記移動機構および前記ヘッド部を制御することによって、前記基材に対して前記ヘッド部を主走査方向に移動させる主走査を行いつつ、前記複数のノズルからインクを吐出させる制御部と、を備え、前記制御部は、(A)前記主走査によって、前記基材の表面のうち、第1単位領域と、前記第1単位領域に対して副走査方向一方側に隣接する第1つなぎ目領域にインクを付与する処理と、(B)前記処理(A)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向一方側に移動させる処理と、(C)前記処理(B)の後に、前記主走査によって、前記基材の表面のうち、前記第1つなぎ目領域と、前記第1つなぎ目領域に対して副走査方向一方側に隣接する第2単位領域とにインクを付与する処理と、(D)前記処理(C)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向他方側に移動させる処理と、(E)前記処理(D)の後に、前記主走査によって、前記第1単位領域と前記第1つなぎ目領域とにインクを付与する処理とを実行可能である。
第1態様の画像形成方法によると、第1単位領域および第1つなぎ目領域に対する主走査を連続して行わないことによって、第2単位領域および第1つなぎ目領域に対する主走査で、前記第1つなぎ目領域に付与されるインクと、第2単位領域に付与されるインクとの間で、表面形状に差異が生じにくくなる。これにより、第1つなぎ目領域に筋状のムラが形成されることを抑制できる。
第2態様の画像形成方法によると、第1単位領域および第2単位領域の両方に対して、複数回の主走査により画像を形成できる。
第3態様の画像形成方法によると、第1単位領域の主走査と第2単位領域の主走査とを交互に行うため、第1単位領域と第2単位領域とに対して、画像を均質に形成できる。
第4態様の画像形成方法によると、第2単位領域の主走査が行われた後、第1単位領域の主走査が行われる前に、再び第2単位領域の主走査が行われる。これによって、ヘッド部の副走査方向への移動量が軽減されるため、画像形成の速度を向上できる。
第5態様の画像形成方法によると、第2単位領域と第3単位領域との間の第2つなぎ目領域に筋状のムラが形成されることを抑制できる。
第6態様の画像形成方法によると、第1単位領域に付着したインクを硬化させることができる。
第7態様の画像形成方法によると、ノズルの間隔よりも小さくずらして画像を形成することによって、副走査方向の解像度を大きくすることができる。
第8態様の画像形成方法によると、複数のノズル間における、吐出特性のばらつきによる画質劣化を抑制できる。
第9態様の画像形成装置によると、第1単位領域および第1つなぎ目領域に対する主走査を連続して行わないことによって、第2単位領域および第1つなぎ目領域に対する主走査で、前記第1つなぎ目領域に付与されるインクと、第2単位領域に付与されるインクとの間で、表面形状に差異が生じにくくなる。これにより、第1つなぎ目領域に筋状のムラが形成されることを抑制できる。
第1実施形態の画像形成装置を示す斜視図である。 ヘッド部の下面を示す図である。 制御部の構成を示す図である。 配線基板の表面における領域配置を概念的に示す平面図である。 配線基板の表面に対する主走査を概念的に示す平面図である。 第1つなぎ目領域にインクが付与される様子を概念的に示す図である。 比較例に係る、制御基板の表面に対する主走査を概念的に示す図である。 比較例に係る、第1つなぎ目領域にインク付与される様子を概念的に示す図である。 インク液滴が配線基板の表面に着弾した後の挙動を示す模式図である。 第2実施形態に係る、配線基板の表面に対する主走査を概念的に示す平面図である。
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張又は簡略化して図示されている場合がある。
また、図面には、説明の便宜上、互いに直交するX,Y,およびZ軸を示す矢印を付記している場合がある。Z方向を鉛直方向と平行とし、X方向およびY方向を水平面と平行とする。また、以下の説明では、各矢印の先端が向く方向を+(プラス)方向とし、その逆方向を-(マイナス)方向とする。+Z側を上側とし、-Z側を下側とする。Y方向は主走査方向に対応する。X方向は副走査方向に対応する。
<1. 第1実施形態>
図1は、第1実施形態の画像形成装置1を示す斜視図である。画像形成装置1は、例えば、ソルダレジストのインクにてプリント配線基板(以下、単に「配線基板」と称する。)9の表面9aにレジスト膜の画像(パターン)を形成する。画像形成装置1は、インクジェット方式にて画像を形成する。配線基板9は、例えば、ガラスエポキシ樹脂で構成された矩形板状の基材である。ただし、配線基板9は、可撓性を有するシート状の部材などであってもよい。レジスト膜は、例えば、配線基板9上の導電パターンを保護する。導電パターンには、例えば、配線またはランドが含まれる。レジスト膜は、後工程にてはんだペーストが塗布される領域や、レジスト膜が設けられるべきではない他の領域には形成されなくてもよい。
画像形成装置1は、装置本体10と、制御部12とを備える。装置本体10は、ステージ20と、移動機構30と、ヘッド部40と、タンク50と、UV照射部60とを備える。
ステージ20は、配線基板9を保持する保持部の例である。ステージ20は、配線基板9が載置される上面を有する。ステージ20の上面には、例えば、多数の孔が形成されている。各孔は図示しない吸引装置に接続される。各孔から空気の吸引が行われることによって、配線基板9がステージ20の上面に吸着される。なお、ステージ20の上面において各孔が溝で繋げられていることによって、配線基板9が溝に吸着されるようにしてもよい。また、ステージ20の上面を多孔質部材で構成し、多孔質部材を介して配線基板9を吸着してもよい。また、ステージ20は、配線基板9を機械的に保持する保持具を備えていてもよい。
移動機構30は、配線基板9に対して、ヘッド部40をX方向およびY方向に相対的に移動させる。移動機構30は、例えば、主走査移動部31と、副走査移動部33とを備える。主走査移動部31は、ヘッド部40に対して、配線基板9を、配線基板9の表面9aに平行なY方向(主走査方向)に移動させる。副走査移動部33は、ステージ20に保持された配線基板9に対して、ヘッド部40をX方向(副走査方向)に移動させる。X方向は、Y方向に垂直であり、かつ配線基板9の表面9aに平行な方向である。主走査移動部31および副走査移動部33の駆動機構として、例えば、モータを含むボールねじ機構、または、リニアモータ機構が採用され得る。
なお、移動機構30は、ヘッド部40をX方向およびY方向の両方に移動させるように構成されていてもよい。また、移動機構30は、ステージ20をX方向およびY方向の両方に移動させるように構成されていてもよい。
ヘッド部40は、移動途上の配線基板9に向けてソルダレジストのインク(以下、単に「インク」と称する。)の微小液滴を吐出する。タンク50は、ヘッド部40に供給されるインクを貯留する。インクは、タンク50からチューブ51を介してヘッド部40に供給される。ヘッド部40に供給されるインクは、例えば、エネルギー線(粒子線および電磁波を含む放射線)の照射によって硬化するインクであり、具体的には、UVインクである。
図2は、ヘッド部40の下面41を示す図である。ヘッド部40は、X方向に等間隔で並ぶ複数のノズル43を有する。複数のノズル43は、ヘッド部40の下面41に設けられている。なお、図2に示す例では、複数のノズル43が、直線状に配置されているが、これは必須ではない。複数のノズル43は、例えば、ステップ状や千鳥状に配置されていてもよい。以下の説明では、隣接する2つのノズル43間の間隔(ピッチ)を「d1」とする。また、複数のノズル43のうち、最も-X側にあるノズル43と、最も+X側にあるノズル43との間隔を「d2」とする。ヘッド部40は、(d2/d1)+1個のノズルを有する。
ヘッド部40は、インクジェット方式にて、各ノズル43からインクの液滴を吐出する。インクは、配線基板9の表面9aに向かう-Z方向に吐出される。インクジェット方式としては、例えば、ピエゾ方式またはサーマル方式が採用され得る。
主走査移動部31が配線基板9を保持したステージ20をY方向に移動させつつ、ヘッド部40が複数のノズル43からインクを吐出することによって、配線基板9におけるY方向に延びる領域に、インクが付与される。以下では、配線基板9に対するヘッド部40のY方向の移動を「主走査」と称する。また、配線基板9に対するヘッド部40のX方向の移動を「副走査」と称する。
UV照射部60は、UVランプを備えている。UV照射部60は、ヘッド部40よりも+Y側に位置する。UV照射部60は、ヘッド部40に固定されている。副走査移動部33は、ヘッド部40とともにUV照射部60を、X方向に移動させる。UV照射部60は、配線基板9に紫外線を照射することによって、ヘッド部40が配線基板9に付与したインクを硬化させる。UV照射部60は、エネルギー線を照射する照射部の例である。
UV照射部60でインクを硬化させるため、主走査では、ヘッド部40に対してステージ20に保持された配線基板9を+Y方向に移動させる。これにより、1回の主走査において、ヘッド部40が配線基板9にインクを付与できるとともに、配線基板9に付与されたインクをUV照射部60の紫外線で硬化させることができる。なお、UV照射部60がヘッド部40に固定されていることは必須ではない。例えば、UV照射部60は、ヘッド部40から分離して設けられていてもよい。
なお、UV照射部60は、後述する幅d2と同一のX方向幅の紫外線を配線基板9に照射してもよい。また、UV照射部60は、幅d2よりもX方向および-X方向に若干広い幅の紫外線を配線基板9に照射してもよい。
図3は、制御部12の構成を示す図である。制御部12は、例えば、コンピュータとしての構成を備える。具体的には、制御部12は、プロセッサ71と、RAM72と、固定ディスク73と、機器インターフェース74と、通信部75と、バス77とを備える。プロセッサ71は、バス77を介して、RAM72と、固定ディスク73と、機器インターフェース74と、通信部75とに電気的に接続されている。
プロセッサ71は、例えば、CPUまたはGPUで構成される。プロセッサ71は、各種演算処理を行う。固定ディスク73は、例えば、ハードディスクなど、各種情報を記憶する非一過性の記憶媒体である。
機器インターフェース74には、ディスプレイ81と、入力デバイス82と、読取装置83とが接続される。ディスプレイ81は、文字情報や画像情報を表示する。入力デバイス82は、操作者の入力を受け付けるマウスやキーボードで構成される。読取装置83は、記録媒体84に記録された情報を読み取る。記録媒体84は、例えば、光ディスク、磁気ディスク、光磁気ディスク、またはメモリカードである。通信部75は、装置本体10との間で信号の送受信を行う。制御部12は、装置本体10に制御信号を出力することによって、移動機構30およびヘッド部40を制御する。
制御部12は、事前に読取装置83を介して、記録媒体84からプログラムPを読み出し、該プログラムPを固定ディスク73に記憶させる。プログラムPは、ネットワークを介して固定ディスク73に記憶されてもよい。プロセッサ71は、プログラムPに従ってRAM72を利用しつつ、演算処理を実行する。
<画像形成処理について>
図4は、配線基板9の表面9aに対する主走査を概念的に示す平面図である。図4に示すように、配線基板9の表面9aのX方向幅d3は、間隔d2(図2参照)よりも大きい。このため、制御部12は、配線基板9の表面9aに対して、第1単位領域91と第2単位領域92とを定義し、各領域に対応する画像データを生成する。そして、制御部12は、各画像データに基づいて、第1単位領域91および第2単位領域92に画像を形成する。
ここで、配線基板9の表面9aをX方向に等分する中心線Cを定義する。中心線Cにより分割される配線基板の表面9aの一方側を一方分割領域9Lといい、他方側を他方分割領域9Rという。
中心線Cの近傍領域は、一方分割領域9Lに位置するヘッド部40と他方分割領域9Rに位置するヘッド部40とにより記録される領域がある。この領域を第1つなぎ目領域901とする。また、一方分割領域9Lから第1つなぎ目領域901を除いた領域を第1単位領域91とする。他方分割領域9Rから第1つなぎ目領域901を除いた領域を第2単位領域92とする。第1単位領域91は一方分割領域9Lに位置するヘッド部40により記録される。第2単位領域92は他方分割領域9Rに位置するヘッド部40により記録される。
第1つなぎ目領域901は第1単位領域91に対してX方向の一方側に隣接する。また、第2単位領域92は第1つなぎ目領域901に対してX方向の他方側に隣接する。
また、制御部12は、マルチパス印字によって、画像を形成してもよい。具体的には、第1単位領域91と、第2単位領域92とに対して、それぞれ4回ずつ、計8回の主走査(主走査SC1~SC8)を行う。また、制御部12は、ヘッド部40を、ノズル間隔d1よりも小さい送り量でずらすことにより、副走査方向に関して、ノズル間隔d1よりも細かいピッチで画像を形成する。
第1つなぎ目領域901に対しては、第1単位領域91に対する主走査(主走査SC3,SC5,SC7)と、第2単位領域92に対する主走査(主走査SC2,SC4,SC6)とによって、配線基板9の表面9aに画像が形成される。図5中、下部に示す付与範囲53は、ヘッド部40が各主走査SC1~SC8において、インクを付与する範囲を示している。
図6は、第1つなぎ目領域901にインクが付与される様子を示す図である。図6には、制御部12が実行する主走査SC1~SC8の様子を、上から順に並べて示している。上述したように、主走査SC1,SC3,SC5,SC7は、第1単位領域91にインクを付与する処理に相当し、主走査SC2,SC4,SC6,SC8は、第2単位領域92にインクを付与する処理に相当する。
図6では、ヘッド部40は、10本のノズルa乃至jを備えるとしており、これらのノズルa乃至jを選択的に使用することにより表面9aに対して画像記録を行う。
また、図6中、各主走査SC1~SC8において、インクの付与により形成途上であるドットラインDL1を、+Y方向(主走査方向)に延びる矢印で示している。また、主走査SC2~SC8において、先に実行された主走査SC1~SC7で形成されたインクのドットラインDL2を実線で示している。ドットラインDL1間および、ドットラインDL2間の間隔は、理想的には、ノズル間隔d1に一致する。なお、インクは、実際には、必要な部分にだけ付与されるため、必ずしも線状にインクが付与されるわけではない。
また、図6中、主走査SC1~SC8の各間に示すX方向(副走査方向)に延びる矢印は、ヘッド部40の副走査S1~S7を概念的に示している。
制御部12は、まず、10本のノズルa乃至jのうちの、+X側に位置する6本のノズルe乃至jを使用して、第1単位領域91の全範囲に複数本のドットラインDL1を形成する(主走査SC1)。主走査SC1では、第1つなぎ目領域901および第2単位領域92にはドットラインDL1が形成されない。
制御部12は、主走査SC1を完了すると、ヘッド部40を+X側に移動させる(副走査S1)。副走査S1では、制御部12は、ヘッド部40の最も-X側に位置するノズルaを、第1単位領域91と第1つなぎ目領域901との境界から+X側にノズル間隔d1の1/4の大きさだけずれた位置に配置させる。
制御部12は、ヘッド部40を+X側へ移動させた後、10本のノズルa乃至j全てを使用して、第2単位領域92の全範囲と第1つなぎ目領域901の全範囲とに、ドットラインDL1を形成する(主走査SC2)。本例では、主走査SC2によって、第1つなぎ目領域901に、4つのドットラインDL1が形成される。主走査SC1,SC2によって、第1単位領域91と、第1つなぎ目領域901と、第2単位領域92との3領域にわたって、ノズル間隔d1のピッチでドットラインDL2が途切れなく形成される。
制御部12は、主走査SC2を完了すると、ヘッド部40を、主走査のスタート位置へ戻すとともに、-X方向(副走査方向他方側)に移動させる(副走査S2)。
制御部12は、副走査S2を完了すると、10本のノズルa乃至jのうちの、+X側に位置する7本のノズルd乃至jを使用して、第1単位領域91の全範囲と第1つなぎ目領域901の一部とに、複数本のドットラインDL1を形成する(主走査SC3)。
主走査SC3におけるヘッド部40の位置は、主走査SC1におけるヘッド部40の位置に対して、+X側に距離Δxだけずれている。距離Δxは、ノズル間隔d1を整数倍した値(=N・d1)と、ノズル間隔よりも小さい距離d1/4とを合計した値(=N・d1+d1/4)である。図6に示す例では、Δx=d1+d1/4(すなわち、N=1)である。これにより、主走査SC3では、主走査SC1で形成されたドットラインDL2に対して、+X側に(d1/4)にずれた位置に、ドットラインDL1が形成される。なお、制御部12は、インクを吐出するノズル群を、(N-1)個だけ-X側にずらす。これにより、図6に示すように、本例では、主走査SC3により、第1つなぎ目領域901内の-X側端部に1本のドットラインDL1が形成される。
なお、距離Δxの大きさは、画像解像度とヘッド解像度との比率に基づいて適宜設定される。例えば、本実施形態では、画像解像度2400dpiとヘッド解像度600dpiの比率に基づいて距離Δxがd1+d1/4に設定されている。
制御部12は、主走査SC3を完了すると、ヘッド部40を、主走査のスタート位置へ戻すとともに、+X側(副走査方向一方側)に移動させる(副走査S3)。
制御部12は、副走査S3を完了すると、10本のノズルa乃至jのうちの、-X側に位置する8本のノズルa乃至iを使用して、第2単位領域92の全範囲と第1つなぎ目領域901の一部とに、ドットラインDL1を形成する(主走査SC4)。本例では、主走査SC4によって、第1つなぎ目領域901に3本のドットラインDL1が形成される。主走査SC4におけるヘッド部40の位置は、主走査SC2におけるヘッド部40の位置に対して、+X側に距離Δxだけずれている。
主走査SC3,SC4によって、第1単位領域91、第1つなぎ目領域901、および第2単位領域92の全範囲にわたって、主走査SC1,SC2によって形成された各ドットラインDL2に対して+X側にd1/4だけ離れた位置に、ドットラインDL2が形成される。
制御部12は、主走査SC4を完了すると、ヘッド部40を、主走査のスタート位置へ戻すとともに、-X側に移動させる(副走査S4)。
制御部12は、副走査S4を完了すると、10本のノズルa乃至jのうちの、+X側に位置する8本のノズルc乃至jを使用して、第1単位領域91の全範囲と第1つなぎ目領域901の一部とにドットラインDL1を形成する(主走査SC5)。主走査SC5におけるヘッド部40の位置は、主走査SC3におけるヘッド部40の位置に対して、+X側に距離Δxだけずれている。したがって、主走査SC5では、主走査SC3で形成されたドットラインDL2に対して、+X側にd1/4だけずれた位置にドットラインDL1が形成される。また、主走査SC5では、第1つなぎ目領域901内に、2本のドットラインDL1が形成される。
制御部12は、主走査SC5を完了すると、ヘッド部40を、主走査のスタート位置へ戻すとともに、+X側に移動させる(副走査S5)。
制御部12は、副走査S5を完了すると、10本のノズルa乃至jのうちの、-X側に位置する8本のノズルa乃至hを使用して、第2単位領域92の全範囲と第1つなぎ目領域901の一部とにドットラインDL1を形成する(主走査SC6)。
主走査SC6では、主走査SC5で形成されたドットラインDL2に対して+X側にd1だけ離れた位置に、d1のピッチでドットラインDL1が形成される。すなわち、主走査SC5,SC6によって、第1単位領域91、第1つなぎ目領域901、および第2単位領域92の全てに、d1のピッチでドットラインDL2が形成される。主走査SC5,SC6によって、第1単位領域91、第1つなぎ目領域901、および第2単位領域92の全範囲にわたって、主走査SC3,SC4によって形成された各ドットラインDL2に対して+X側にd1/4だけ離れた位置に、ドットラインDL2が形成される。主走査SC6におけるヘッド部40の位置は、主走査SC4におけるヘッド部40の位置に対して、+X側に距離Δxだけずれている。
制御部12は、主走査SC6を完了すると、ヘッド部40を、主走査のスタート位置へ戻すとともに、-X側に移動させる(副走査S6)。制御部12は、副走査S6を完了すると、10本のノズルa乃至jのうちの、+X側に位置する9本のノズルb乃至hを使用して、第1単位領域91の全範囲と、第1つなぎ目領域901の全範囲とに、ドットラインDL1を形成する(主走査SC7)。主走査SC7において形成されるドットラインDL1の位置は、主走査SC5で形成されるドットラインDL1に対して+X側にd1/4だけずれている。また、主走査SC7では、第1つなぎ目領域901内に、3本のドットラインDL1が形成される。
制御部12は、主走査SC7を完了すると、ヘッド部40を、主走査のスタート位置へ戻すとともに、+X側に移動させる(副走査S7)。制御部12は、副走査S7を完了すると、10本のノズルa乃至jのうちの-X側に位置する7本のノズルa乃至gを使用して第2単位領域92の全範囲に、複数本のドットラインDL1を形成する(主走査SC8)。すなわち、主走査SC8では、第1単位領域91および第1つなぎ目領域901にはドットラインDL1は形成されない。主走査SC8では、主走査SC7で形成されたドットラインDL2に対して+X側にd1だけ離れた位置に、複数本のドットラインDL1が形成される。主走査SC7,SC8によって、第1単位領域91、第1つなぎ目領域901、および第2単位領域92の全範囲にわたって、d1のピッチでドットラインDL2が形成される。主走査SC8におけるヘッド部40の位置は、主走査SC6におけるヘッド部40の位置に対して、+X側に距離Δxだけずれている。
以上の主走査SC1~SC8によって、第1単位領域91と、第1つなぎ目領域901と、第2単位領域92との全範囲にわたって、X方向にd1/4のピッチでドットラインDL2が形成される。第1単位領域91に対する主走査SC3,SC5,SC7では、第1つなぎ目領域901に対して、第2単位領域92に対する主走査SC2、SC4、SC6とは異なる部分にドットラインDL1が形成される。
<効果>
図7は、比較例に係る、制御基板の表面に対する主走査を概念的に示す図である。図8は、比較例に係る、第1つなぎ目領域にインク付与される様子を概念的に示す図である。図7および図8に示す比較例では、まず、第1単位領域91に対して主走査SCと副走査Sとを交互に実行する。すなわち、主走査SC1の後に副走査S1を、主走査SC3の後にS3を、主走査SC5の後にS5を行った後、主走査SC7を行う。
次に、第2単位領域92に対して主走査SCと副走査Sとを交互に実行する。すなわち、副走査S2の後に主走査SC2を、副走査S4の後に主走査SC4を、副走査S6の後に主走査SC6を、副走査S8の後に主走査SC8を、実行する。なお、各副走査S1~S8におけるヘッド部40の副走査方向への移動量は距離Δxである。
この比較例の場合、第2単位領域92対する最初の主走査SC2が開始されるまでに、第1つなぎ目領域901に対して、計3回の主走査SC3,SC5,SC7によって、インクが付与される。すなわち、主走査SC3,SC5,SC7が連続して行われることによって、第1つなぎ目領域901にインクが付与され始めてから、主走査SC2が開始されるまでに、比較的長い時間が経過することとなる。そうすると、例えば、主走査SC2において、第1つなぎ目領域901に対して付与されるインクと、第2単位領域92に対して付与されるインクとの間で、表面の形状に違いが生じやすくなる。このため、第1つなぎ目領域901において、最終的に、主走査方向に延びる筋状のムラが形成されるおそれがある。
これに対して、本実施形態では、図5及び図6に示すように、制御部12は、主走査SC3の後、主走査SC4を行ってから、主走査SC5を行う。また、制御部12は、主走査SC5の後、主走査SC6を行ってから、主走査SC7を行う。すなわち、第1単位領域91および第1つなぎ目領域901に対する主走査SC3,SC5,SC7が連続して行われることが抑制されている。こうすることによって、各主走査SC3,SC5,SC7において、第1つなぎ目領域901に付与されたインクと、第2単位領域92に付与されたインクとの間で、表面形状に差異が生じにくくなる。したがって、第1つなぎ目領域901に筋状のムラが形成されることを抑制できる。
次に、本実施形態および変形例におけるインク液滴の配線基板9の表面9aでの挙動について図9を用いつつ説明する。図9は、表面9aに着弾した液滴インク液滴dr1およびdr2の断面の模式図である。
なお、図9a~図9dは、先に着弾した先行インク液滴dr1が紫外線を2回照射された後に、後続のインク液滴dr2が着弾した様子を表している。また、図9e~図9gは、先行インク液滴dr1が紫外線を1回照射された後に、後続のインク液滴dr2が着弾した様子を表している。
図9aは、インク液滴dr1が表面9aのドットラインL1に着弾した直後の模式図である。インク液滴dr1はその後、UV照射部60の紫外線が照射されて半硬化する(図9b)。
インク液滴dr1は、他のドットラインLのインク液滴を硬化させるための紫外線の影響を受けることがある。図9cに示すように、インク液滴dr1は他のドットラインLのインク液滴を硬化させるための紫外線を受けてさらに硬化する。その後、このドットラインL1に隣接する隣接ドットラインL2に別のインク液滴dr2が着弾する(図9d)る。
本実施形態および変形例におけるドットライン間隔(ノズルピッチ)は、着弾後のインク液滴の半径の2倍とほぼ等しいかそれよりも小さい距離に設定されている。例えば、ドットライン間隔が10μm、インク液滴の半径が20μmに設定されている。したがって、隣接するドットラインに着弾した2つのインク液滴は相互に干渉する。図9dおよび図9gの例では、ドットラインL1のインク液滴dr1とドットラインL2のインク液滴dr2の周縁部分が重なりあっている。2つのインク液滴dr1、dr2の干渉の度合いは先行インク液滴dr1の硬化度に影響される。すなわち、先行インク液滴dr1が紫外線を多数回照射されて硬化が進行している場合には2つのインク液滴dr1、dr2は混ざりにくい(図9d参照)。他方、先行インク液滴dr1が少数回しか紫外線照射されておらず半硬化の場合には2つのインク液滴dr1、dr2は混ざりやすい(図9g参照)。
以上の観点から記録領域においては、各ドットラインDLに先行インク滴が着弾してから、そのドットラインDLに隣接する隣接ドットラインDLに後続インク滴が着弾するまでの期間における、当該隣接ドットラインDLへの紫外線照射回数をできるだけ均一にすることが望ましい。これにより、各ドットラインDLの先行インク液滴とその隣接ドットラインDLの後続インク液滴との相互干渉の度合いを記録領域全域において均一化し、当該記録領域におけるムラを抑制することができる。
先に図5および図6を用いて説明した本実施形態では第1つなぎ目領域901において主走査SCを1回行う度にヘッド部40およびUV照射部60を副走査方向に大きく移動させている。このため、第1つなぎ目領域901における任意のドットラインDLに隣接する隣接ドットラインDLに紫外線が連続して照射されることが回避できる。このため、第1つなぎ目領域におけるムラを抑制することができる。
これに対して図7および図8の比較例では第1つなぎ目領域901において、主走査SCを連続して行う間にヘッド部40およびUV照射部60の副走査方向位置はほとんど移動しない。このため、第1つなぎ目領域901における注目ドットラインDLの隣接ドットラインDLに紫外線が連続して照射される傾向にある。このため、第1つなぎ目領域におけるムラが発生しやすいという問題がある。
図5および図6に示す例では、制御部12は、同じ単位領域に対する主走査を2回以上連続して行わないように、かつ、第1単位領域91に対する主走査と、第2単位領域92に対する主走査とを、交互に行う。この場合、第1単位領域91、第1つなぎ目領域901、および第2単位領域92に付与される各インク間で、表面形状の差異が生じにくくなる。したがって、配線基板9の表面9aに対して、均質な画像を形成できる。
なお、主走査SC1~SC8を実行する順番は、図6に示すものに限定されない。例えば、制御部12は、主走査SC3,SC4を行った後に、主走査SC1,SC2を行ってもよいし、主走査SC5,SC6を行った後に、主走査SC1,SC2または主走査SC3,SC4を行ってもよい。また、制御部12は、主走査SC7,SC8を行った後に、主走査SC1,SC2、主走査SC3,SC4、または、主走査SC5,SC6を行ってもよい。
また、制御部12は、同じ単位領域に対する主走査を2回連続して行ってもよい。例えば、制御部12は、主走査SC1,SC2,SC4,SC3の順、主走査SC3,SC4,SC6,SC5の順、または、主走査SC5,SC6,SC8,SC7の順で処理を行ってもよい。これらの場合、第2単位領域92に対する主走査SC2,SC4、主走査SC4,SC6、または、主走査SC6,SC8を、それぞれ連続して行うため、X方向(副走査方向)におけるヘッド部40の移動量が軽減される。したがって、画像形成の速度を向上できる。
図6に示した例では、主走査SC1~SC8において、それぞれX方向(副走査方向)において異なる位置にインクが付与されている。しかしながら、主走査SC1~SC8のうち、いくつかの主走査において、X方向の同じ位置にインクが付与されてもよい。例えば、Y方向(主走査方向)およびX方向(副走査方向)に関して、同じ位置にインクを付与するように複数回の主走査を行うことによって、単位面積当たりのインク量を大きくすることができる。また、主走査SC1~SC8のうち、いくつかの主走査において、Y方向(主走査方向)に関して、異なる位置にインクが付与されてもよい。これにより、Y方向における画像の解像度を高めることができる。
<2. 第2実施形態>
次に、第2実施形態について説明する。なお、以降の説明において、既に説明した要素と同様の機能を有する要素については、同じ符号又はアルファベット文字を追加した符号を付して、詳細な説明を省略する場合がある。
図5または図6に示す例では、配線基板9の表面9aが、2つの領域(第1単位領域91および第2単位領域92)に分割されているが、表面9aが3つ以上の領域に分割されてもよい。図10は、第2実施形態に係る、配線基板9の表面9aに対する主走査を概念的に示す図である。図10に示す例では、表面9aが、第1単位領域91と、第2単位領域92と、第3単位領域93とに分割されている。第3単位領域93は、第2単位領域92よりも+X側に位置する。第2つなぎ目領域902は、第2単位領域92と第3単位領域93の間に位置する。第2つなぎ目領域902は、第2単位領域92に対して+X側に隣接する。第3単位領域93は、第2つなぎ目領域902に対して+Xに隣接する。第2つなぎ目領域902は、第1つなぎ目領域901と同様に、第2単位領域92に対する複数回の主走査と、第3単位領域93に対する複数回の主走査とでインクが付与される領域である。
配線基板9の表面9aに画像を形成する場合、制御部12は、第1単位領域91および第1つなぎ目領域901に対する主走査(以下、「第1重複主走査」と称する)と、第2単位領域92、第1つなぎ目領域901、および第2つなぎ目領域902に対する主走査(以下、「第2重複主走査」と称する。)と、第3単位領域93および第2つなぎ目領域902に対する主走査(以下、「第3重複主走査」と称する。)とを、それぞれ複数回ずつ実行する。このとき、制御部12は、第1重複主走査を行った後、第2重複主走査を行ってから、再び第1重複主走査を行う。また、制御部12は、第2重複主走査を行った後、第3重複主走査を行ってから、再び第2重複主走査を行う。これにより、第1つなぎ目領域901および第2つなぎ目領域902に、筋状のムラが形成されることを抑制できる。
なお、配線基板9の表面9aを、4つ以上の領域に分割した場合であっても、同様に主走査を行うことによって、各領域間のつなぎ目に筋状のムラが形成されることを抑制できる。
この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。
1 画像形成装置
9 配線基板
9a 表面
12 制御部
20 ステージ
30 移動機構
31 主走査移動部
33 副走査移動部
40 ヘッド部
43 ノズル
60 UV照射部
83 読取装置
91 第1単位領域
92 第2単位領域
93 第3単位領域
901 第1つなぎ目領域
902 第2つなぎ目領域

Claims (9)

  1. 副走査方向に並ぶ複数のノズルを有するヘッド部を基材に対して主走査方向に移動させる主走査において、前記複数のノズルから前記基材にインクを吐出させることによって、前記基材に画像を形成する画像形成方法であって、
    (a) 前記主走査によって、前記基材の表面のうち、第1単位領域と、前記第1単位領域に対して副走査方向一方側に隣接する第1つなぎ目領域にインクを付与する工程と、
    (b) 前記工程(a)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向一方側に移動させる工程と、
    (c) 前記工程(b)の後に、前記主走査によって、前記基材の表面のうち、前記第1つなぎ目領域と、前記第1つなぎ目領域に対して副走査方向一方側に隣接する第2単位領域とにインクを付与する工程と、
    (d) 前記工程(c)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向他方側に移動させる工程と、
    (e) 前記工程(d)の後に、前記主走査によって、前記第1単位領域と前記第1つなぎ目領域とにインクを付与する工程と、
    を含む、画像形成方法。
  2. 請求項1に記載の画像形成方法であって、
    (f) 前記工程(c)の後に、前記主走査によって、前記第2単位領域と前記第1つなぎ目領域とにインクを付与する工程、
    をさらに含む、画像形成方法。
  3. 請求項2に記載の画像形成方法であって、
    (g)前記工程(e)の後に、前記ヘッド部を副走査方向一方側に移動させる工程、
    をさらに含み、
    前記工程(f)が、前記工程(g)の後に実行される、画像形成方法。
  4. 請求項2に記載の画像形成方法であって、
    前記工程(f)が、前記工程(d)よりも前に実行される、画像形成方法。
  5. 請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の画像形成方法であって、
    (h) 前記工程(c)の後に、前記ヘッド部を副走査方向一方側に移動させる工程と、
    (i) 前記工程(h)の後に、前記主走査によって、前記基材の表面のうち、前記第2単位領域に対して副走査方向一方側に隣接する第2つなぎ目領域と、前記第2つなぎ目領域に対して副走査方向一方側に隣接する第3単位領域とにインクを付与する工程と、
    (j) 前記工程(i)の後、前記ヘッド部を副走査方向他方側に移動させる工程と、
    をさらに含み、
    前記工程(f)が前記工程(j)の後に実行され、
    前記工程(c)および前記工程(f)において、前記第2つなぎ目領域にインクが付与される、画像形成方法。
  6. 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の画像形成方法であって、
    前記工程(a)は、前記第1単位領域および前記第1つなぎ目領域に付与されたインクを硬化させるエネルギー線を照射する工程、
    を含む、画像形成方法。
  7. 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の画像形成方法であって、
    前記工程(c)において前記基材におけるインクが付与される位置が、前記工程(a)において前記基材におけるインクが付与される位置に対して、前記ノズル間の間隔よりも小さい距離だけ副走査方向にずれている、画像形成方法。
  8. 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の画像形成方法であって、
    前記工程(c)における前記ヘッド部の位置が、前記工程(a)における前記ヘッド部の位置に対して、前記ノズル間の間隔と同じかそれ以上の距離だけ副走査方向にずれている、画像形成方法。
  9. 画像形成装置であって、
    基材を保持する保持部と、
    副走査方向に間隔をあけて並ぶ複数のノズルを有するヘッド部と、
    前記保持部に保持された前記基材に対して、前記ヘッド部を主走査方向と副走査方向とに移動させる移動機構と、
    前記移動機構および前記ヘッド部を制御することによって、前記基材に対して前記ヘッド部を主走査方向に移動させる主走査を行いつつ、前記複数のノズルからインクを吐出させる制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、
    (A) 前記主走査によって、前記基材の表面のうち、第1単位領域と、前記第1単位領域に対して副走査方向一方側に隣接する第1つなぎ目領域にインクを付与する処理と、
    (B) 前記処理(A)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向一方側に移動させる処理と、
    (C) 前記処理(B)の後に、前記主走査によって、前記基材の表面のうち、前記第1つなぎ目領域と、前記第1つなぎ目領域に対して副走査方向一方側に隣接する第2単位領域とにインクを付与する処理と、
    (D) 前記処理(C)の後に、前記ヘッド部を前記基材に対して副走査方向他方側に移動させる処理と、
    (E) 前記処理(D)の後に、前記主走査によって、前記第1単位領域と前記第1つなぎ目領域とにインクを付与する処理と、
    を実行可能である、画像形成装置。
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