JP7517472B2 - 方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、丸め加工を施す小型変圧器の鉄心材料に好適な方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。
電磁鋼板は変圧器やモータ等の鉄心として広く用いられている材料である。電磁鋼板は方向性電磁鋼板と無方向性電磁鋼板に大別され、方向性電磁鋼板については鉄の磁化容易軸である＜００１＞方位が、鋼板の圧延方向に高度に揃った集合組織を有していることが特徴的である。かかる集合組織は、仕上焼鈍において二次再結晶を起こさせることで形成される。ここで、上記二次再結晶とは、粒界エネルギーを利用して、いわゆるＧｏｓｓ方位と称される｛１１０｝＜００１＞方位の結晶粒を優先的に巨大粒成長させる現象をいう。上記の二次再結晶を生じさせる代表的な技術として、インヒビタと呼ばれる析出物を利用する技術がある。例えば、特許文献１に記載のＡｌＮ、ＭｎＳを使用する方法、特許文献２に記載のＭｎＳ、ＭｎＳｅを使用する方法等が知られており、工業的に実用化されている。これらのインヒビタを用いる方法は安定して二次再結晶粒を発達させるのに有用である。これらの方法においては、インヒビタを鋼中に微細分散させるために、１３００℃以上の高温でのスラブ加熱を行い、インヒビタ成分を一度固溶させることが必要である。
一方、インヒビタ成分を含有しない素材において、Ｇｏｓｓ方位結晶粒を二次再結晶により発達させる技術が特許文献３等で開示されている。これは、インヒビタ成分のような不純物を極力排除する事で、一次再結晶時の結晶粒界が持つ粒界エネルギーの粒界方位差角依存性を顕在化させ、インヒビタを用いずともＧｏｓｓ方位を有する粒を二次再結晶させる技術であり、その効果をテクスチャーインヒビション効果と呼んでいる。この方法では、インヒビタの鋼中微細分散が必要ではないため、必須であった高温スラブ加熱も必要としないことなど、製造面でインヒビタを利用する方法に対するメリットを有する。
電磁鋼板の用途の一例として、図１のように円筒状に丸め加工を行い、丸める径を徐々に変化させて径方向に積層して鉄心とすることが挙げられる。このように製造された鉄心において、励磁される方向は図１の上下の一方向となるため、方向性電磁鋼板を使用すると無方向性電磁鋼板を用いた場合と比較して優れた特性を得ることが期待できる。
特公昭４０－１５６４４号公報 特公昭５１－１３４６９号公報 特開２０００－１２９３５６号公報
しかしながら、方向性電磁鋼板に曲げ加工を施すと、加工精度に問題が生じる場合があることが新たに判明した。例えば、図２に示すように、突き合わされる鋼板端部の二辺Ａ、Ｂ同士が平行にならないこと、及び鋼板の角ａ、ｂの位置がずれることが頻繁に生じた。このように方向性電磁鋼板の加工精度が悪い場合は、鋼板を積層することが困難となり、鉄心を構成することができない。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたもので、優れた磁気特性を維持したまま、丸め加工における加工精度が良好な方向性電磁鋼板およびその製造方法の提供を目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決するために二次再結晶の条件について鋭意検討を重ねた結果、二次再結晶粒を細かくすることにより、丸め加工後の加工精度を向上できることに成功した。
以下、本発明を成功に至らしめた実験について説明する。
＜実験１＞
質量％で、Ｃ：０．０７５％、Ｓｉ：３．４１％、Ｍｎ：０．１２％、Ｓｅ：０．０２０％、Ａｌ：０．０２４％、Ｎ：０．００８２％を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる成分組成を有する鋼スラブを、１４００℃の温度で再加熱し、熱間圧延により２．４ｍｍ板厚の熱延板を作製した。次いで、鋼板のスケールを酸洗で除去した後、１０５０℃で１０秒の熱延板焼鈍を施した。その後、冷間圧延にて１．７ｍｍの板厚とし、その際、圧延速度とクーラント流量を変更することで板温を制御し、冷間圧延時の最高温度を種々変更した。さらに、１０５０℃で１００秒の中間焼鈍を施した。その後２回目の冷間圧延を行い、板厚０．２３ｍｍに仕上げた。その際、圧延速度とクーラント流量を変更することで板温を制御し、圧延時の最高温度を種々変更した。さらに、８２０℃×１２０秒、５５％Ｈ２＋４５％Ｎ２、露点６５℃の脱炭焼鈍を施し、鋼板表面に９０質量％以上のＭｇＯを含む焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃で５時間保定する仕上焼鈍を施した。仕上焼鈍の雰囲気は、昇温中９００℃まではＮ２雰囲気とし、９００℃以上から１２３０℃の保定終了を経て、冷却時の温度が１０００℃までをＨ２雰囲気とし、その後の冷却ではＡｒ雰囲気とした。仕上焼鈍の昇温過程では、５０℃から１０００℃までは平均昇温速度を２０℃／ｈ、１０００℃から１１５０℃までは平均昇温速度を１５℃／ｈ、１１５０℃から１２００℃までは平均昇温速度を１０℃／ｈとした。
得られた鋼板から、磁束密度Ｂ８（磁化力８００Ａ／ｍ時の磁束密度）をJIS Ｃ2550-1(2011)記載の方法で測定した。また、得られた鋼板から６０ｍｍ角のサンプルを切り出し、直径２０ｍｍの鉄ロールと直径３００ｍｍのウレタンロールで形成されたツインロール加工機を用いて丸め加工を行った。丸める方向は圧延直角方向（鋼板幅方向）とした。すなわち、サンプルの圧延直交方向が円弧を描くように丸め加工を施した。かくして得られた丸め加工後のサンプルの加工精度を、図３に示す２つのパラメータＨ、θで評価した。図３に示すように、Ｈは突き合わされるサンプルの角ａ、ｂ間の距離であり、θは突き合わせた二辺Ａ、Ｂのなす角である。本条件では、理想的な形状が得られた場合、各々のパラメータは、Ｈ：２．０ｍｍ、θ：０°となる。この値から乖離するほど、加工精度が悪いことを示す。各パラメータがそれぞれ、Ｈ：１．８～３．０ｍｍ、θ：０～２．５°の範囲内であれば合格とする。丸め加工における加工精度の評価として、両パラメータが合格の場合を〇、片方のみが合格の場合を△、両パラメータが不合格の場合を×とした。また、両パラメータが合格でも二次再結晶不良が生じ磁束密度Ｂ８が１．９００Ｔ未満の場合は×とした。図４に、１回目および２回目の冷間圧延の最高到達温度Ｔ１およびＴ２との関係を示した。図４に示すように、１回目および２回目の冷間圧延の最高到達温度Ｔ１およびＴ２が特定の範囲、すなわち、０≦Ｔ１≦１５０、５０≦Ｔ２≦４００およびＴ１≦Ｔ２を満たす範囲にあれば、丸め加工の形状と磁束密度とが共に良好であることが明らかとなった。
＜実験２＞
質量％で、Ｃ：０．０５５％、Ｓｉ：３．２０％、Ｍｎ：０．０５％、Ｓ：０．０１２％、Ａｌ：０．０３２％、Ｎ：０．００６５％を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる成分組成を有する鋼スラブを、１４００℃の温度で再加熱し、熱間圧延により０．６ｍｍから３．５ｍｍの種々の板厚の熱延板を作製した。次いで、鋼板のスケールを酸洗で除去した後、１０００℃で３０秒の熱延板焼鈍を施した。その後、１回目の冷間圧延にて０．３５ｍｍから２．２ｍｍの種々の板厚に圧延した。その際、圧延速度とクーラント流量とを変更することにより、板温を７０℃に制御した。次いで、１０５０℃で１５０秒の中間焼鈍を施し、その後２回目の冷間圧延を行い、板厚０．２３ｍｍに仕上げた。その際、圧延速度とクーラント流量とを変更することにより、板温を２２０℃に制御した。さらに、８５０℃×１２０秒、５５％Ｈ２＋４５％Ｎ２、露点６３℃の脱炭焼鈍を施し、鋼板表面に９０質量％以上のＭｇＯを含む焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃で５時間、Ｈ２雰囲気下で保持する仕上焼鈍を施した。仕上焼鈍の昇温過程では、５０℃から１０００℃までは平均昇温速度を２５℃／ｈ、１０００℃から１１５０℃までは平均昇温速度を１６℃／ｈ、１１５０℃から１２００℃までの平均昇温速度を１０℃／ｈとした。
得られた鋼板から、磁束密度Ｂ８（磁化力８００Ａ／ｍ時の磁束密度）をJIS Ｃ2550-1(2011)記載の方法で測定した。また、得られた鋼板から６０ｍｍ角のサンプルを切り出し、直径２０ｍｍの鉄ロールと直径３００ｍｍのウレタンロールで形成されたツインロール加工機を用いて丸め加工を行った。丸める方向は圧延直角方向（鋼板幅方向）とした。すなわち、サンプルの圧延直交方向が円弧を描くように丸め加工を施した。かくして得られた丸め加工後のサンプルの加工精度を、図３に示す２つのパラメータＨ、θで評価した。図３に示すように、Ｈは突き合わされるサンプルの角ａ、ｂ間の距離であり、θは突き合わせた二辺Ａ、Ｂのなす角である。本条件では、理想的な形状が得られた場合、各々のパラメータは、Ｈ：２．０ｍｍ、θ：０°となる。この値から乖離するほど、加工精度が悪いことを示す。各パラメータがそれぞれ、Ｈ：１．８～３．０ｍｍ、θ：０～２．５°の範囲内であれば合格とする。丸め加工における加工精度の評価として、両パラメータが合格の場合を〇、片方のみが合格の場合を△、両パラメータが不合格の場合を×とした。また、両パラメータが合格でも二次再結晶不良が生じ磁束密度Ｂ８が１．９００Ｔ未満の場合は×とした。図５に、１回目および２回目の冷間圧延の総圧下率との関係を示した。図５に示すように、１回目の冷間圧延の総圧下率Ｒ１が５０％以下で、２回目の冷間圧延の総圧下率Ｒ２が５０％以上の場合に、丸め加工の形状と磁束密度が良好であることが明らかとなった。
＜実験３＞
質量％で、Ｃ：０．０６５％、Ｓｉ：２．８７％、Ｍｎ：０．２５％、Ｓ：０．０１２％、Ｓｅ：０．０２２％、Ａｌ：０．０１６％、Ｎ：０．００５１％を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる成分組成を有する鋼スラブを、１４１０℃の温度に再加熱し、板厚２．３ｍｍに熱間圧延して熱延板とした。次いで、鋼板のスケールを酸洗で除去した後、１回目の冷間圧延を施して板厚を１．５ｍｍとした。その際、圧延速度とクーラント流量を変更することで板温を５０℃に制御した。１０２５℃で８０秒の中間焼鈍を施し、その後２回目の冷間圧延を行い、板厚０．２３ｍｍに仕上げた。その際、圧延速度とクーラント流量とを変更することにより、板温を３００℃に制御した。さらに８４０℃×８０秒、５０％Ｈ２＋５０％Ｎ２、露点６０℃の脱炭焼鈍を施し、鋼板表面に９０質量％以上のＭｇＯを含む焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃で１０時間、Ｈ２雰囲気下で保持する仕上焼鈍を施した。仕上焼鈍の昇温過程では、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１、および１０００℃から１１５０℃までの平均昇温速度Ｈ２を種々変更した。１１５０℃から１２００℃（最高到達温度）までは、平均昇温速度を５℃／ｈとした。
得られた鋼板から、磁束密度Ｂ８（磁化力８００Ａ／ｍ時の磁束密度）をJIS Ｃ2550-1(2011)記載の方法で測定した。また、得られた鋼板から６０ｍｍ角のサンプルを切り出し、直径２０ｍｍの鉄ロールと直径３００ｍｍのウレタンロールで形成されたツインロール加工機を用いて丸め加工を行った。丸める方向は圧延直角方向（鋼板幅方向）とした。すなわち、サンプルの圧延直交方向が円弧を描くように丸め加工を施した。かくして得られた丸め加工後のサンプルの加工精度を、上記した実験１と同様の方法で評価した。その評価結果と仕上焼鈍の平均昇温速度Ｈ１および平均昇温速度Ｈ２との関係を、図６に示す。図６に示すように、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１が、１０００℃から１１５０℃までの平均昇温速度Ｈ２の１．１倍よりも大きく、かつ５℃／ｈ以上４０℃／ｈ以下の場合に、丸め加工の形状が良好であることが明らかとなった。
上記の条件の際に丸め加工における形状が良好な理由については明らかではないが、発明者らは次のように考えている。
これらの実験で、丸め加工の加工精度が良好であった条件の鋼板と劣位であった条件の鋼板を、９０℃で５％の濃度の熱塩酸に１２０秒浸漬し、下地被膜を除去することにより、二次再結晶粒を露出させた。その後、二次再結晶粒の大きさを比較した。その結果、加工精度が良好であった条件の鋼板では、二次再結晶粒の平均粒径が５．５ｍｍ程度であり、加工精度が劣位であった条件の鋼板での二次再結晶粒の平均粒径１１．５ｍｍ程度と比較すると、二次再結晶粒サイズが明確に小さいことが明らかとなった。すなわち、加工精度が良好であった条件では、二次再結晶粒の粒界が多いことを意味している。
ここで、丸め加工は塑性加工の一種であり、結晶方位依存性があると考えられる。すなわち、一方向に丸め加工を施した場合、各結晶粒で若干の方位のずれがあることから、各々の結晶粒の加工度が若干異なる可能性がある。この加工度の差を吸収するのが、多少の歪の蓄積を許容する粒界であると考えられる。つまり、粒界が少ないと、各結晶粒の加工度の差を粒界が吸収できず、鋼板が歪んでしまい、加工精度が劣ることになる。しかしながら、粒界が多い場合は、その差を吸収できるために、加工精度が良好になると考えられる。二次粒を小さくし粒界を増やすためには、大きく二つの手法がある。一つは、仕上焼鈍前に二次再結晶の源となる結晶粒、すなわちＧｏｓｓ方位を有する粒を増加させることであり、もう一つは、仕上焼鈍において二次再結晶が同時かつあらゆる箇所から発現するように、仕上焼鈍条件をコントロールすることである。本実験に置き換えると、２回の冷間圧延の最高到達温度や各冷間圧延の圧下率を所定の範囲に制御することが前者に当たり、仕上焼鈍の平均昇温速度を規定することが後者に当たると考えられる。
ここに、１回目と２回目の冷間圧延の最高到達温度や各冷間圧延の圧下率を適正に制御することと、仕上焼鈍の平均昇温速度を適正に制御することによって、二次再結晶粒を効果的に小さくし、丸め加工の加工精度を向上できることを新たに知見した。本発明は、この知見に立脚するものである。
すなわち、本発明の要旨構成は次のとおりである。
［１］質量％で、
Ｃ ：０．０１０％以上０．１００％以下、
Ｓｉ：２．００％以上５．００％以下、
Ｍｎ：０．０１％以上０．５０％以下、
Ａｌ：０．０１０％以上０．０４０％以下、
Ｎ ：０．００３０％以上０．０１２０％以下および
ＳおよびＳｅのうちいずれか1種または２種を合計で０．００５％以上０．１００％以
下
を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物である成分組成を有する鋼素材を、１３００℃以上の温度に加熱し、熱間圧延を施して熱延板とし、次いで、熱延板焼鈍を施した後もしくは施すことなく、
前記熱延板に、中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して冷延板とし、
前記冷延板に、脱炭焼鈍を施して脱炭焼鈍板とし、
前記脱炭焼鈍板の表面に焼鈍分離剤を塗布した後、仕上焼鈍を施して方向性電磁鋼板を得る、方向性電磁鋼板の製造方法において、
前記冷間圧延の１回目における最高到達温度Ｔ１（℃）および、前記冷間圧延の２回目における最高到達温度Ｔ２（℃）が下記式（１）から（３）を満たし、
前記冷間圧延の１回目における総圧下率Ｒ１（％）と前記冷間圧延の２回目における総圧下率Ｒ２（％）が下記式（４）を満たし、
さらに、前記仕上焼鈍において、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１（℃／ｈ）、及び１０００℃から（最高到達温度－５０℃）までの平均昇温速度Ｈ２（℃／ｈ）が、下記式（５）および（６）を満足する、方向性電磁鋼板の製造方法。
０≦Ｔ１≦１５０ …（１）
５０≦Ｔ２≦４００ …（２）
Ｔ１≦Ｔ２ …（３）
Ｒ２≧５０≧Ｒ１ …（４）
Ｈ１≧１．１×Ｈ２ …（５）
５≦Ｈ１≦４０ …（６）
［２］前記熱間圧延では、前記鋼素材を加熱後、１１００℃以上１３００℃以下で１パス以上の粗圧延を施し、続いて８００℃以上１１００℃以下で２パス以上の仕上圧延を施し、巻取り温度を４００℃以上７５０℃以下とし、
前記熱延板焼鈍では、前記熱延板を、８００℃以上１２５０℃以下で５秒以上保持した後、８００℃から３５０℃までの平均冷却速度を５℃／ｓ以上１００℃／ｓ以下として冷却し、
前記中間焼鈍では、１回目の前記冷間圧延後の冷延板を、８００℃以上１２５０℃以下で５秒以上保持した後、８００℃から３５０℃までの平均冷却速度を５℃／ｓ以上５０℃／ｓ以下として冷却し、
前記脱炭焼鈍では、Ｈ２とＮ２とを含む雰囲気にて、かつ脱炭焼鈍の少なくとも一部での露点を２０℃以上８０℃以下の湿潤雰囲気として、前記冷延板を７５０℃以上９５０℃以下で１０秒以上保持し、
前記仕上焼鈍前に、ＭｇＯを含む前記焼鈍分離剤を前記脱炭焼鈍板の表面に片面当たり２．５ｇ／ｍ２以上塗布し、
前記仕上焼鈍では、１０５０℃以上の温度範囲内の少なくとも一部における雰囲気がＨ２を含む条件にて、前記脱炭焼鈍板を１０５０℃以上１３００℃以下で３時間以上保持する、前記［１］に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
［３］前記成分組成が、さらに質量％又は質量ｐｐｍで、
Ｎｉ：０％以上１．５０％以下、
Ｃｒ：０％以上０．５０％以下、
Ｃｕ：０％以上０．５０％以下、
Ｐ ：０％以上０．５０％以下、
Ｓｂ：０％以上０．５０％以下、
Ｓｎ：０％以上０．５０％以下、
Ｂｉ：０％以上０．５０％以下、
Ｍｏ：０％以上０．５０％以下、
Ｂ ：０ｐｐｍ以上２５ｐｐｍ以下、
Ｎｂ：０％以上０．０２０％以下、
Ｖ ：０％以上０．０１０％以下および
Ｚｒ：０％以上０．１０％以下
のうちから選ばれる少なくとも一種類を含有する、前記［１］又は［２］に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
［４］前記成分組成が、さらに質量％で、Ｃｏ：Ｃｏ：０％以上０．０５０％以下およびＰｂ：０％以上０．０１００％以下のうちから選ばれる１種または２種を含有する、前記［１］～［３］のいずれかに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
［５］前記成分組成が、さらに質量％で、Ａｓ：０％以上０．０２００％以下、Ｚｎ：０％以上０．０２０％以下、Ｗ：０％以上０．０１００％以下、Ｇｅ：０％以上０．００５０％以下およびＧａ：０％以上０．００５０％以下のうちから選ばれる１種または２種以上を含有する、前記［１］～［４］のいずれかに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
本発明によれば、鉄損特性を維持したまま、丸め加工における加工精度が良好な方向性電磁鋼板およびその製造方法を提供することができる。
丸め加工後の理想的な形状を示す図である。 丸め加工後、加工精度が悪い場合の形状を示す図である。 丸め加工による加工精度を示すパラメータを表した図である。 冷間圧延時の最高到達温度と丸め加工の加工精度との関係を示す図である。 冷間圧延の総圧下率と丸め加工の加工精度との関係を示す図である。 仕上焼鈍の平均昇温速度と丸め加工の加工精度との関係を示す図である。
以下、本発明を詳細に説明する。
＜鋼素材＞
まず初めに、方向性電磁鋼板の鋼素材（鋼スラブ）の成分組成について、本発明では特に限定するものではないが、以下に望ましい成分組成の範囲を記載する。なお、成分に関する「％」および「ｐｐｍ」表示は、特に断らない限り、それぞれ「質量％」および「質量ｐｐｍ」を意味するものとする。
Ｃ：０．０１０％以上０．１００％以下
Ｃは、０．１００％を超えると、脱炭焼鈍後に磁気時効の起こらない０．００５％以下に低減することが困難になるため、０．１００％以下に限定する。一方、０．０１０％に満たないと、Ｃによる粒界強化効果が失われ、スラブにクラックが生じるなど、操業性に支障がでる欠陥を引き起こす。従って、Ｃは０．０１０％以上０．１００％以下に限定する。好ましくは０．０２５％以上、より好ましくは０．０３５％以上である。また好ましくは０．０８５以下、より好ましくは０．０６０％以下である。
Ｓｉ：２．００％以上５．００％以下
Ｓｉは鋼の比抵抗を高め、鉄損を改善させるために必要な元素であるが、２．００％未満であると効果がない。一方、５．００％を超えると、鋼の加工性が劣化し、圧延が困難となる。従って、Ｓｉは２．００％以上５．００％以下に限定する。好ましくは２．９０％以上、より好ましくは３．１０％以上である。また好ましくは３．７０％以下、より好ましくは３．５５％以下である。
Ｍｎ：０．０１％以上０．５０％以下
Ｍｎは熱間加工性を良好にするために必要な元素であるが、０．０１％未満であると効果がない。一方、０．５０％を超えると、製品板の磁束密度が低下する。従って、Ｍｎは、０．０１％以上０．５０％以下とする。好ましくは０．０３％以上、より好ましくは０．０６％以上である。また好ましくは０．２５％以下、より好ましくは０．１５％以下である。
Ａｌ：０．０１０％以上０．０４０％以下、Ｎ：０．００３０％以上０．０１２０％以下
ＡｌとＮは、インヒビタとなるＡｌＮを形成する。しかし、Ａｌ：０．０１０％未満、もしくはＮ：０．００３０％未満では、その効果が十分に発揮されない。一方、Ａｌ：０．０４０％超もしくはＮ：０．０１２０％超の場合は、スラブ加熱で十分に固溶させることができなくなり、鋼中への微細分散が達成されず、磁気特性を大きく劣化させる。よって、Ａｌ：０．０１０％以上０．０４０％以下およびＮ：０．００３０％以上０．０１２０％以下に限定される。好ましくはＡｌ：０．０１３％以上、より好ましくはＡｌ：０．０１７％以上であり、また好ましくはＡｌ：０．０３３％以下、より好ましくはＡｌ：０．０２９％以下である。好ましくはＮ：０．００３９％以上、より好ましくはＮ：０．００５０％以上であり、また好ましくはＮ：０．０１１３％以下、より好ましくはＮ：０．０１００％以下である。
ＳもしくはＳｅのいずれか１種または２種を合計で０．００５％以上０．１００％以下
ＳおよびＳｅは、Ｍｎと結合してインヒビタとなるＭｎＳおよびＭｎＳｅを形成する。しかし、合計で０．００５％に満たないと、その効果が十分に得られない。一方、合計で０．１００％を超えると、スラブ加熱で十分に固溶させることができなくなり、鋼中への微細分散が達成されず、磁気特性を大きく劣化させる。よって、ＳおよびＳｅの含有量は、いずれか１種または２種を合計で０．００５％以上０．１００％以下の範囲とする。好ましくは合計で０．０１０％以上、より好ましくは０．０２０％以上であり、また好ましくは合計で０．０５５％以下、より好ましくは０．０４０％以下である。
以上、本発明の基本成分について説明してきたが、本発明ではその他にも以下に述べる元素を任意成分として適宜含有させることができる。
磁気特性を向上させる目的で、Ｎｉ：０％以上１．５０％以下、Ｃｒ：０％以上０．５０％以下、Ｃｕ：０％以上０．５０％以下、Ｐ：０％以上０．５０％以下、Ｓｂ：０％以上０．５０％以下、Ｓｎ：０％以上０．５０％以下、Ｂｉ：０％以上０．５０％以下、Ｍｏ：０％以上０．５０％以下、Ｂ：０ｐｐｍ以上２５ｐｐｍ以下、Ｎｂ：０％以上０．０２０％以下、Ｖ：０％以上０．０１０％以下およびＺｒ：０％以上０．１０％以下のうちから選ばれる１種を単独でまたは２種以上を複合して添加できる。それぞれ、添加量が下限量より少ない場合には磁気特性向上効果に乏しく、上限量を超えると二次再結晶粒の発達が抑制され磁気特性が劣化する。なお、磁気特性をより向上する観点からは、下限量がＮｉ：０．０１％以上、Ｓｂ：０．００５％以上、Ｓｎ：０．００５％以上、Ｃｕ：０．０１％以上、Ｃｒ：０．０１％以上、Ｐ：０．００５％以上、Ｍｏ：０．００５％以上、Ｎｂ：０．００１％以上、Ｖ：０．００１％以上、Ｂ：０．０００２％以上、Ｂｉ：０．００５％以上およびＺｒ：０．００１％以上のうちから選ばれる１種以上にて添加するのが好ましい。
丸め加工性の内、突き合わせた二辺Ａ、Ｂのなす角を低減する目的で、Ｃｏ：０％以上０．０５０％以下およびＰｂ：０％以上０．０１００％以下のうちから選ばれる１種または２種を添加することができる。上記下限未満であれば、低減効果が発揮されず、上限を超えると磁気特性が劣化する懸念が生じる。下限量がＣｏ：０．００２％以上およびＰｂ：０．０００１％以上から選ばれる１種以上にて添加することが好ましい。
磁気特性向上と丸め加工性の内、突き合わせた二辺Ａ、Ｂのなす角を低減する目的で、Ａｓ：０％以上０．０２００％以下、Ｚｎ：０％以上０．０２０％以下、Ｗ：０％以上０．０１００％以下、Ｇｅ：０％以上０．００５０％以下およびＧａ：０％以上０．００５０％以下のうちから選ばれる１種または２種以上を添加することができる。各々、下限未満であればその効果が認められず、上限を超えると、磁気特性が劣化する懸念が生じる。下限量がＡｓ：０．００１０％以上、Ｚｎ：０．００１％以上、Ｗ：０．００１０％以上、Ｇｅ：０．０００１％以上およびＧａ：０．０００１％以上のうちから選ばれる１種以上にて添加することが好ましい。
＜製造工程＞
上記成分を有する溶鋼は、通常の造塊法、連続鋳造法でスラブを製造してもよいし、１００ｍｍ以下の厚さの薄鋳片を直接鋳造法で製造してもよい。これら鋼素材としてのスラブや薄鋳片を、通常の方法で加熱した後に熱間圧延するが、鋳造後加熱せずに直ちに熱間圧延を施してもよい。上記の加熱温度は、インヒビタを利用する成分系の場合、１３００℃以上で加熱して、インヒビタ成分を固溶させることが望ましい。
上記加熱後は、９００℃以上１２００℃以下で１パス以上の粗圧延を施し、続いて７００℃以上１０００℃以下で２パス以上の仕上圧延を施すことが、熱延板の組織制御の観点から好ましい。また、熱間圧延における巻取り温度を４００℃以上７５０℃以下とすることが、炭化物の組織制御と割れ等の欠陥防止の両方の観点から好ましい。さらに好ましくは巻取り温度が５００℃以上７００℃以下である。なお、熱間圧延における温度条件及び巻取り温度は、巻取り直前の鋼板表面温度を基準とする。
熱間圧延後は、必要に応じて熱延板焼鈍を施すことができる。熱延板焼鈍を施すと、組織を均一化でき、磁気特性のばらつきを小さくすることが可能となる。この組織均一化の観点からの、熱延板焼鈍条件は、８００℃以上１２５０℃以下で５秒以上保持することが好ましい。好ましくは、９００℃以上１１５０℃以下で１０秒以上１８０秒以下保持する条件である。保持後の冷却は、８００℃から３５０℃までの温度域で５℃／ｓ以上１００℃／ｓ以下の平均冷却速度とすることで、第二相や析出物の形態制御の観点で好ましい。さらに好ましくは１５℃／ｓ以上であり、４５℃／ｓ以下である。
次いで、熱間圧延時に生成した鋼板表面のスケールを除去することが好ましい。手法としては、加熱された酸を使用する方法や、機械的にスケールを除去するなど、公知の方法でよい。スケール除去後、中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施し最終板厚とした後、脱炭焼鈍を行う。
この冷間圧延では、上述した実験１および２の結果に示された通り、
・冷間圧延の１回目における最高到達温度Ｔ１（℃）および、冷間圧延の２回目における最高到達温度Ｔ２（℃）が、０≦Ｔ１≦１５０、５０≦Ｔ２≦４００およびＴ１≦Ｔ２を満たすこと、
・冷間圧延の１回目における総圧下率Ｒ１（％）と冷間圧延の２回目における総圧下率Ｒ２（％）が、Ｒ２≧５０≧Ｒ１を満たすこと、
が肝要である。
好ましくは、最高到達温度Ｔ１および最高到達温度Ｔ２が、２０℃≦Ｔ１≦１２０℃および、１００℃≦Ｔ２≦２５０℃である。
同様に、総圧下率Ｒ１および総圧下率Ｒ２が、２０％≦Ｒ１≦３５％および、６０％≦Ｒ２≦９２％であることが好ましい。
なお、冷間圧延における最高到達温度Ｔ１およびＴ２は、圧延の加工発熱を利用する方法や、圧延前に加熱する方法、クーラントや潤滑剤を利用して冷却する方法などで制御することが可能である。また、冷間圧延および中間焼鈍における温度条件および平均冷却速度は、鋼板表面温度を基準とする。
冷間圧延における中間焼鈍は、８００℃以上１２５０℃以下の温度域で５秒以上保持することが好ましい。すなわち、温度が９００℃未満であると、再結晶粒が細かくなり、一次再結晶組織におけるＧｏｓｓ核が減少し磁性が劣化するおそれがある。一方、１２５０℃を超えると、インヒビタの急激な成長や分解が生じるため、磁気特性の劣化を招くおそれがある。温度保持後の冷却では、８００℃から３５０℃までの平均冷却速度を５℃／ｓ以上１００℃／ｓ以下とすることが、第二相や析出物の形態制御の観点から好ましい。さらに好ましくは、前記平均冷却速度が１５℃／ｓ以上４５℃／ｓである。中間焼鈍前には、前工程の圧延油を除去するために鋼板を脱脂する事が好ましい。また、中間焼鈍後は、表面のスケールを除去することが好ましい。その除去手法としては、加熱された酸を使用する方法や、機械的にスケールを除去するなど、公知の方法でよい。
最終冷間圧延後は、脱炭焼鈍に供されるが、その前に、脱脂や酸洗を行い、鋼板表面を清浄化することが好ましい。脱炭焼鈍は、７５０℃以上９５０℃以下の温度域で１０秒以上保持し、雰囲気ガスはＨ２とＮ２とを含み、かつ脱炭焼鈍の一部もしくはすべての範囲で露点が２０℃以上８０℃以下の湿潤雰囲気とすることが好ましい。さらに好ましくは８００℃以上９００℃以下の温度域で、露点を４０℃以上７０℃以下とする脱炭焼鈍条件である。なお、脱炭焼鈍における温度条件は、鋼板表面温度を基準とする。
また、脱炭焼鈍の保定前半を前述の温度域および露点条件の湿潤雰囲気下で行い、脱炭焼鈍の保定後半を８００℃以上９００℃以下の温度域で露点が－５０℃以上３０℃以下の乾燥雰囲気下で行うことが、極表層のサブスケールが還元され、仕上焼鈍でのフォルステライト被膜形成が有利となるので好ましい。
次いで、脱炭焼鈍板の表裏両面に焼鈍分離剤を塗布した後、仕上焼鈍を施す。焼鈍分離剤としては公知の焼鈍分離剤を用いることができる。特に、ＭｇＯを主体とする焼鈍分離剤を、脱炭焼鈍板の表面に片面当たり２．５ｇ／ｍ２以上塗布することが好ましい。ここで、ＭｇＯを主体とするとは、焼鈍分離剤中におけるＭｇＯの含有量が、固形分換算で６０％以上であることを意味する。焼鈍分離剤中におけるＭｇＯの含有量は、好ましくは固形分換算で８０％以上である。焼鈍分離剤を脱炭焼鈍板の表面に塗布する方法は、特に限定されず、公知の方法によればよい。例えば、焼鈍分離剤は、スラリー状で脱炭焼鈍板の表面に塗布されるほか、静電塗装により乾式塗布され得る。スラリー状の焼鈍分離剤を塗布する際は、粘度上昇を抑制するために、スラリー状の焼鈍分離剤は５℃以上３０℃以下の一定温度で保持されることが好ましい。また、スラリー濃度を均一化するために、スラリー状の焼鈍分離剤について、調合用のタンクと、塗布に供するタンクとを分けることが好ましい。
その後に仕上焼鈍を施すことにより、二次再結晶粒を発達させると共にフォルステライト被膜を形成させることが可能である。一般的に、仕上焼鈍は長時間費やすためにコイルはアップエンド状態で焼鈍される。そこで、仕上焼鈍前にコイルの周囲にバンド等を巻き付けることで、アップエンドコイルの外巻が巻ほぐれることを防止することが好ましい。
この仕上焼鈍では、上述した実験３の結果に示された通り、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１（℃／ｈ）、及び１０００℃から（最高到達温度－５０℃）までの平均昇温速度Ｈ２（℃／ｈ）が、Ｈ１≧１．１×Ｈ２および５≦Ｈ１≦４０を満足することが肝要である。好ましくは、Ｈ１≧１．２×Ｈ２および１０≦Ｈ１≦３０とする。
なお、仕上焼鈍における温度条件及び平均昇温速度は、アップエンドの鋼板コイルが焼鈍炉の床と接地する面のうち、内巻と外巻の中間の位置での鋼板温度を基準とする。
また、仕上焼鈍において、インヒビタ形成元素等を鋼中から純化させて良好な鉄損特性を得るために、１１００℃以上１３００℃以下の温度で３時間以上保持し、かつ１０００℃以上の温度範囲内の一部もしくはすべてでＨ２を含む雰囲気を導入することが好ましい。仕上焼鈍の最高到達温度は、１１５０℃以上１３００℃以下とすることが好ましい。仕上焼鈍後には、付着した焼鈍分離剤を除去するため、水洗やブラッシング、酸洗を行う事が有用である。その後、平坦化焼鈍を行って形状を矯正することが、鉄損低減のために有効である。
電磁鋼板は鋼板を積層して使用することが多く、絶縁性を確保するために鋼板表面に絶縁コーティングを施すことが有効である。該コーティングは、鉄損低減のために鋼板に張力を付与できるコーティングが好ましい。該コーティングは平坦化焼鈍前にコーティング液を塗布し、平坦化焼鈍で焼き付けを行ってもよい。他にもバインダーを介した張力コーティング塗布方法や物理蒸着法や化学蒸着法により無機物を鋼板表層に蒸着させコーティングとする方法を採用すると，コーティング密着性に優れ，かつ著しい鉄損低減効果があるため好ましい。
質量％で、Ｃ：０．０３０％、Ｓｉ：３．６６％、Ｍｎ：０．０７％、Ｓ：０．００５％、Ｓｅ：０．０１３％、Ａｌ：０．０１６％、Ｎ：０．００５５％を含み、残部がＦe
および不可避的不純物からなる成分組成を有する鋼スラブを、１４３０℃の温度で再加熱し、１２００℃から粗圧延を６パスで行い、１１００℃から仕上圧延を９パスで行う熱間圧延により０．８５ｍｍから２．７０ｍｍまでの種々の板厚の熱延板を作製した。巻取温度は５７５℃とした。次いで、熱延板のスケールを酸洗で除去した後、１０００℃で１００秒の熱延板焼鈍を施した。熱延板焼鈍の８００℃から３５０℃までの温度域での平均冷却速度は４５℃／ｓとした。その後、１回目の冷間圧延にて、０．４５ｍｍから１．９０ｍｍまでの種々の板厚に圧延した。この１回目の冷間圧延における圧下率Ｒ１を、表１に記載する。その際、圧延速度とクーラント流量とを変更することで板温を制御し、最高到達温度Ｔ１を表１に記載のごとく種々変更した。さらに１０５０℃で１００秒の中間焼鈍を施した。中間焼鈍の８００℃から３５０℃までの温度域での平均冷却速度は２５℃／ｓとした。その後２回目の冷間圧延を行い、０．２３ｍｍの板厚に仕上げた。この際の圧下率Ｒ２を表１に記載する。その際、圧延速度とクーラント流量を変更することで板温を制御し、最高到達温度Ｔ２を表1に記載のごとく種々変更した。
次に、冷延板に８２０℃×１２０秒、５５％Ｈ２＋４５％Ｎ２、露点６５℃の脱炭焼鈍を施し、鋼板表面に９０質量％以上のＭｇＯを含む焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃で５時間保定する仕上焼鈍を施した。仕上焼鈍の雰囲気は昇温中９００℃まではＮ２雰囲気とし、９００℃以上から１２００℃の保定終了を経て、冷却時の温度が１０００℃までをＨ２雰囲気とし、その後の冷却ではＡｒ雰囲気とした。仕上焼鈍の昇温過程では、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１と、１０００℃から１１５０℃までの平均昇温速度Ｈ２とを表1記載のごとく種々変更し、１１５０℃から１２００℃までは平均昇温速
度を１０℃／ｈとした。
かくして得られた方向性電磁鋼板の磁束密度Ｂ８をJIS Ｃ2550-1（2011）に準拠して
評価した。その結果を表１に併記する。磁束密度が１．９００Ｔ以上であれば、磁気特性に優れると判断した。
また、得られた鋼板から６０ｍｍ角のサンプルを切り出し、直径２０ｍｍの鉄ロールと直径３００ｍｍのウレタンロールで形成されたツインロール加工機を用いて丸め加工を行った。丸める方向は圧延直角方向（鋼板幅方向）とした。すなわち、サンプルの圧延直交方向が円弧を描くように丸め加工を施した。かくして得られた丸め加工後のサンプルの加工精度を、図３に示した２つのパラメータＨ、θで評価した。各パラメータがそれぞれ、Ｈ：１．８～３．０ｍｍ、θ：０～２．５°の範囲内であれば合格である。この評価結果を表１に併記する。同表から明らかなように、本発明範囲内の製造条件で製造した鋼板は、磁束密度および丸め加工の加工精度が良好であることがわかる。
Figure 0007517472000001
表２に記載の成分を含み、残部がＦeおよび不可避的不純物からなる成分組成を有する
鋼スラブを、１４２５℃の温度に再加熱し、１２７０℃から粗圧延を４パスで行い、１０５０℃から仕上圧延を５パスで行う熱間圧延により２．４ｍｍの板厚に仕上げた。巻取温度は６１５℃とした。次いで、鋼板のスケールを酸洗で除去した後、１０３５℃で２０秒の熱延板焼鈍を施した。熱延板焼鈍の８００℃から３５０℃までの温度域での平均冷却速度は、３０℃／ｓとした。その後、１回目の冷間圧延にて１．６ｍｍの板厚とし（圧下率Ｒ１：３３．３％）、その際、クーラント流量を制御して圧延の最高到達温度Ｔ１を５０℃とした。さらに、１０５０℃で１００秒の中間焼鈍を施し、その際、中間焼鈍の８００℃から３５０℃までの温度域での平均冷却速度は４０℃／ｓとした。その後、２回目の冷間圧延にて０．２３ｍｍ厚に仕上げた（圧下率Ｒ２：８５．６％）。その際、圧延速度とクーラント流量を制御し、圧延の最高到達温度Ｔ２を２２０℃とした。Ｔ１、Ｔ２、Ｒ１およびＲ２は、式（１）～（４）を満足する。
次に、冷延板にさらに、前段を８２０℃で１２０秒、５５％Ｈ２＋４５％Ｎ２、露点６５℃にて、後段を８４０℃で３０秒、５５％Ｈ２＋４５％Ｎ２、露点１５℃にて、脱炭焼鈍を施した。その後、鋼板表面に８５質量％以上のＭｇＯを含む焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃で１２時間保定する仕上焼鈍を施した。仕上焼鈍の雰囲気は、昇温中９００℃まではＮ２雰囲気とし、９００℃以上から１２００℃の保定終了まではＨ２雰囲気とし、その後の冷却はＡｒ雰囲気とした。仕上焼鈍の昇温過程では、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１を２８℃／ｈ、１０００℃から１１５０℃までは平均昇温速度を１８℃／ｈ、１１５０℃から１２００℃までは平均昇温速度を８℃／ｈとした。Ｈ１およびＨ２は、式（５）～（６）を満足する。
かくして得られた方向性電磁鋼板の磁束密度Ｂ８をJIS Ｃ2550-1（2011）に準拠して
評価した。その結果を表２に併記する。磁束密度が１．９００Ｔ以上であれば、磁気特性に優れると判断した。
また、得られた鋼板から６０ｍｍ角のサンプルを切り出し、直径２０ｍｍの鉄ロールと直径３００ｍｍのウレタンロールで形成されたツインロール加工機を用いて丸め加工を行った。丸める方向は圧延直角方向（鋼板幅方向）とした。すなわち、サンプルの圧延直交方向が円弧を描くように丸め加工を施した。かくして得られた丸め加工後のサンプルの加工精度を、図３に示した２つのパラメータＨ、θで評価した。各パラメータがそれぞれ、Ｈ：１．８～３．０ｍｍ、θ：０～２．５°の範囲内であれば合格である。この評価結果を表２に併記する。同表から明らかなように、本発明範囲内の製造条件で製造した鋼板は、磁束密度および丸め加工の加工精度が良好であることがわかる。
Figure 0007517472000002
Figure 0007517472000003

Claims (9)

  1. 質量％で、
    Ｃ ：０．０１０％以上０．１００％以下、
    Ｓｉ：２．００％以上３．７０％以下、
    Ｍｎ：０．０３％以上０．２５％以下、
    Ａｌ：０．０１０％以上０．０４０％以下、
    Ｎ ：０．００３０％以上０．０１２０％以下および
    ＳおよびＳｅのうちいずれか1種または２種を合計で０．００５％以上０．１００％以下
    を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物である成分組成を有する鋼素材を、１３００℃以上の温度に加熱し、熱間圧延を施して熱延板とし、次いで、熱延板焼鈍を施し８００℃から３５０℃までの平均冷却速度を５℃／ｓ以上３０℃／ｓ以下として冷却した後もしくは熱延板焼鈍を施すことなく、
    前記熱延板に、中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して冷延板とし、
    前記冷延板に、脱炭焼鈍を施して脱炭焼鈍板とし、
    前記脱炭焼鈍板の表面に焼鈍分離剤を塗布した後、仕上焼鈍を施して方向性電磁鋼板を得る、方向性電磁鋼板の製造方法において、
    前記冷間圧延の１回目における最高到達温度Ｔ１（℃）および前記冷間圧延の２回目における最高到達温度Ｔ２（℃）が下記式（１）から（３）を満たし、
    前記冷間圧延の１回目における総圧下率Ｒ１（％）と前記冷間圧延の２回目における総圧下率Ｒ２（％）が下記式（４）を満たし、
    さらに、前記仕上焼鈍において、５０℃から１０００℃までの平均昇温速度Ｈ１（℃／ｈ）、及び１０００℃から（最高到達温度－５０℃）までの平均昇温速度Ｈ２（℃／ｈ）が、下記式（５）および（６）を満足する、方向性電磁鋼板の製造方法。
    ０≦Ｔ１≦１５０ …（１）
    ５０≦Ｔ２≦４００ …（２）
    Ｔ１≦Ｔ２ …（３）
    Ｒ２≧６０且つ５０≧Ｒ１ …（４）
    Ｈ１≧１．１×Ｈ２ …（５）
    ５≦Ｈ１≦４０ …（６）
  2. 前記熱間圧延では、前記鋼素材を加熱後、１１００℃以上１３００℃以下で１パス以上の粗圧延を施し、続いて８００℃以上１１００℃以下で２パス以上の仕上圧延を施し、巻取り温度を４００℃以上７５０℃以下とし、
    前記熱延板焼鈍では、前記熱延板を、８００℃以上１２５０℃以下で５秒以上保持した後、冷却し、
    前記中間焼鈍では、１回目の前記冷間圧延後の冷延板を、８００℃以上１２５０℃以下で５秒以上保持した後、８００℃から３５０℃までの平均冷却速度を５℃／ｓ以上５０℃／ｓ以下として冷却し、
    前記脱炭焼鈍では、Ｈ２とＮ２とを含む雰囲気にて、かつ脱炭焼鈍の少なくとも一部での露点を２０℃以上８０℃以下の湿潤雰囲気として、前記冷延板を７５０℃以上９５０℃以下で１０秒以上保持し、
    前記仕上焼鈍前に、ＭｇＯを含む前記焼鈍分離剤を前記脱炭焼鈍板の表面に片面当たり２．５ｇ／ｍ２以上塗布し、
    前記仕上焼鈍では、１０５０℃以上の温度範囲内の少なくとも一部における雰囲気がＨ２を含む条件にて、前記脱炭焼鈍板を１０５０℃以上１３００℃以下で３時間以上保持する、請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  3. 前記成分組成が、さらに質量％又は質量ｐｐｍで、
    Ｎｉ：０．０１％以上１．５０％以下、
    Ｃｒ：０．０１％以上０．５０％以下、
    Ｃｕ：０．０１％以上０．５０％以下、
    Ｐ ：０．００５％以上０．５０％以下、
    Ｓｂ：０．００５％以上０．５０％以下、
    Ｓｎ：０．００５％以上０．５０％以下、
    Ｂｉ：０．００５％以上０．５０％以下、
    Ｍｏ：０．００５％以上０．５０％以下、
    Ｂ ：２ｐｐｍ以上２５ｐｐｍ以下、
    Ｎｂ：０．００１％以上０．０２０％以下、
    Ｖ ：０．００１％以上０．０１０％以下および
    Ｚｒ：０．００１％以上０．１０％以下
    から選ばれる少なくとも一種類を含有する、請求項１又は２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  4. 前記成分組成が、さらに質量％で、Ｃｏ：０．００２％以上０．０５０％以下およびＰｂ：０．０００１％以上０．０１００％以下のうちから選ばれる１種または２種を含有する、請求項１又は２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  5. 前記成分組成が、さらに質量％で、Ｃｏ：０．００２％以上０．０５０％以下およびＰｂ：０．０００１％以上０．０１００％以下のうちから選ばれる１種または２種を含有する、請求項３に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  6. 前記成分組成が、さらに質量％で、Ａｓ：０．００１０％以上０．０２００％以下、Ｚｎ：０．００１％以上０．０２０％以下、Ｗ：０．００１０％以上０．０１００％以下、Ｇｅ：０．０００１％以上０．００５０％以下およびＧａ：０．０００１％以上０．００５０％以下のうちから選ばれる１種または２種以上を含有する、請求項１又は２に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  7. 前記成分組成が、さらに質量％で、Ａｓ：０．００１０％以上０．０２００％以下、Ｚｎ：０．００１％以上０．０２０％以下、Ｗ：０．００１０％以上０．０１００％以下、Ｇｅ：０．０００１％以上０．００５０％以下およびＧａ：０．０００１％以上０．００５０％以下のうちから選ばれる１種または２種以上を含有する、請求項３に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  8. 前記成分組成が、さらに質量％で、Ａｓ：０．００１０％以上０．０２００％以下、Ｚｎ：０．００１％以上０．０２０％以下、Ｗ：０．００１０％以上０．０１００％以下、Ｇｅ：０．０００１％以上０．００５０％以下およびＧａ：０．０００１％以上０．００５０％以下のうちから選ばれる１種または２種以上を含有する、請求項４に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  9. 前記成分組成が、さらに質量％で、Ａｓ：０．００１０％以上０．０２００％以下、Ｚｎ：０．００１％以上０．０２０％以下、Ｗ：０．００１０％以上０．０１００％以下、Ｇｅ：０．０００１％以上０．００５０％以下およびＧａ：０．０００１％以上０．００５０％以下のうちから選ばれる１種または２種以上を含有する、請求項５に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
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