JP7502217B2 - 真空排気方法および真空排気システム - Google Patents
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Description
一態様では、前記安定速度は、前記真空ポンプ装置の回転速度が定格回転速度であるときの第2安定速度を含んでおり、前記真空ポンプ装置の回転速度が前記第2安定速度に到達した後に、前記ガス導入工程を実行する。
一態様では、前記真空排気方法は、前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインを通じて、前記不活性ガスを加熱するガス加熱工程を含む。
一態様では、前記真空排気方法は、前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインから分岐するバイパスラインを通じて、ゼロ流量を含む第1流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第1導入工程と、前記第1流量よりも大きな第2流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第2導入工程と、を含む。
一態様では、前記安定速度は、前記真空ポンプ装置の回転速度が定格回転速度であるときの第2安定速度を含んでおり、前記制御装置は、前記真空ポンプ装置の回転速度が前記第2安定速度に到達した後に、前記ガス導入装置を制御して、前記不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する。
一態様では、前記ガス導入装置は、前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインと、前記不活性ガス供給ラインを通じて、前記不活性ガスを加熱するガス加熱構造と、を備えている。
一態様では、前記ガス加熱構造は、前記真空ポンプ装置の排気口側の圧縮熱によって加熱されたポンプケーシングである。
一態様では、前記ガス導入装置は、前記不活性ガス供給ラインを開閉する開閉弁を備えており、前記制御装置は、前記開閉弁の開閉動作を制御する。
一態様では、前記ガス導入装置は、前記不活性ガス供給ラインを開閉する開閉弁と、前記不活性ガス供給ラインを流れる不活性ガスの流量を検出する流量センサと、の組み合わせを備えている。
一態様では、前記ガス導入装置は、前記不活性ガス供給ラインから分岐して、前記真空ポンプ装置に接続されたバイパスラインと、前記バイパスラインを通じて、前記真空ポンプ装置に導入される前記不活性ガスの流量を制御する流量制御装置と、を備えており、前記制御装置は、前記流量制御装置を通じて、ゼロ流量を含む第1流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第1導入工程を実行し、前記第1導入工程を実行し、かつ前記真空ポンプ装置の回転速度が前記安定速度に到達した後に、前記第1流量よりも大きな第2流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第2導入工程を実行する。
一態様では、前記流量制御装置は、前記バイパスラインに取り付けられた流量調整弁またはオリフィスを備えている。
図1は、真空排気システムの一実施形態を示す図である。図1に示すように、真空排気システムDSは、半導体製造工程において、エッチングや成膜などの処理を行うための真空チャンバCHを排気する真空ポンプ装置DPと、不活性ガス(例えば、N2ガス)を真空ポンプ装置DPに導入するガス導入装置GIと、真空ポンプ装置DPの動作およびガス導入装置GIの動作を制御する制御装置CTと、を備えている。
CH 真空チャンバ
DP 真空ポンプ装置
BP ブースターポンプ装置
BP1 ブースターポンプ
BP2 モータ
INV1 インバータ
MP メインポンプ装置
MP1 メインポンプ
MP2 モータ
INV2 インバータ
IP 吸気口
EP 排気口
RT1 ロータ
RT2 ロータ
GI ガス導入装置
CT 制御装置
SL 不活性ガス供給ライン
IS ガス供給源
VL1 開閉弁
VL2 開閉弁
TVL 三方弁
OR オリフィス
BL バイパスライン
FS 流量センサ
FC 質量流量センサ
HT ヒーター
PC ポンプケーシング
Claims (16)
- 真空ポンプ装置によって真空チャンバを排気する真空排気方法であって、
前記真空ポンプ装置を起動した後、前記真空ポンプ装置の回転速度を所定の安定速度まで上昇させる上昇工程と、
前記真空ポンプ装置の回転速度が前記安定速度に到達した後に、不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入するガス導入工程と、を含み、
前記安定速度は、前記真空ポンプ装置の現在の回転速度におけるインバータ出力が前記真空ポンプ装置の軸出力よりも大きくなるときの第1安定速度を含んでおり、
前記真空ポンプ装置の回転速度が前記第1安定速度に到達した後に、前記ガス導入工程を実行する、方法。 - 前記安定速度は、前記真空ポンプ装置の回転速度が定格回転速度であるときの第2安定速度を含んでおり、
前記真空ポンプ装置の回転速度が前記第2安定速度に到達した後に、前記ガス導入工程を実行する、請求項1に記載の方法。 - 前記真空排気方法は、前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインを通じて、前記不活性ガスを加熱するガス加熱工程を含む、請求項1または請求項2に記載の方法。
- 前記真空排気方法は、前記ガス導入工程において、前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインに取り付けられた開閉弁を開く開動作工程を含む、請求項1~請求項3のいずれか一項に記載の方法。
- 真空ポンプ装置によって真空チャンバを排気する真空排気方法であって、
前記真空ポンプ装置を起動した後、前記真空ポンプ装置の回転速度を所定の安定速度まで上昇させる上昇工程と、
前記真空ポンプ装置の回転速度が前記安定速度に到達した後に、不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入するガス導入工程と、を含み、
前記真空排気方法は、
前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインから分岐するバイパスラインを通じて、ゼロ流量を含む第1流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第1導入工程と、
前記第1流量よりも大きな第2流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第2導入工程と、を含む、方法。 - 真空排気システムであって、
真空チャンバを排気する真空ポンプ装置と、
不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入するガス導入装置と、
前記真空ポンプ装置の動作および前記ガス導入装置の動作を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記真空ポンプ装置を起動した後、前記真空ポンプ装置の回転速度を所定の安定速度まで上昇させ、
前記真空ポンプ装置の回転速度が前記安定速度に到達した後、前記ガス導入装置を制御して、前記不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入し、
前記安定速度は、前記真空ポンプ装置の現在の回転速度におけるインバータ出力が前記真空ポンプ装置の軸出力よりも大きくなるときの第1安定速度を含んでおり、
前記制御装置は、前記真空ポンプ装置の回転速度が前記第1安定速度に到達した後に、前記ガス導入装置を制御して、前記不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する、真空排気システム。 - 前記安定速度は、前記真空ポンプ装置の回転速度が定格回転速度であるときの第2安定速度を含んでおり、
前記制御装置は、前記真空ポンプ装置の回転速度が前記第2安定速度に到達した後に、前記ガス導入装置を制御して、前記不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する、請求項6に記載の真空排気システム。 - 前記ガス導入装置は、
前記真空ポンプ装置に接続された不活性ガス供給ラインと、
前記不活性ガス供給ラインを通じて、前記不活性ガスを加熱するガス加熱構造と、を備えている、請求項6または請求項7に記載の真空排気システム。 - 前記ガス加熱構造は、前記不活性ガス供給ラインを加熱するヒーターである、請求項8に記載の真空排気システム。
- 前記ガス加熱構造は、前記真空ポンプ装置の排気口側の圧縮熱によって加熱されたポンプケーシングである、請求項8または請求項9に記載の真空排気システム。
- 前記ガス導入装置は、不活性ガス供給ラインを開閉する開閉弁を備えており、
前記制御装置は、前記開閉弁の開閉動作を制御する、請求項6~請求項10のいずれか一項に記載の真空排気システム。 - 前記ガス導入装置は、不活性ガス供給ラインを流れる不活性ガスの流量を検出する流量センサを備えており、
前記制御装置は、前記流量センサから送られる流量信号に基づいて、開閉弁の状態を判断する、請求項6~請求項11のいずれか一項に記載の真空排気システム。 - 前記ガス導入装置は、不活性ガス供給ラインを開閉する開閉弁と、前記不活性ガス供給ラインを流れる不活性ガスの流量を検出する流量センサと、の組み合わせを備えている、請求項6~請求項12のいずれか一項に記載の真空排気システム。
- 真空排気システムであって、
真空チャンバを排気する真空ポンプ装置と、
不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入するガス導入装置と、
前記真空ポンプ装置の動作および前記ガス導入装置の動作を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記真空ポンプ装置を起動した後、前記真空ポンプ装置の回転速度を所定の安定速度まで上昇させ、
前記真空ポンプ装置の回転速度が前記安定速度に到達した後、前記ガス導入装置を制御して、前記不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入し、
前記ガス導入装置は、
不活性ガス供給ラインから分岐して、前記真空ポンプ装置に接続されたバイパスラインと、
前記バイパスラインを通じて、前記真空ポンプ装置に導入される前記不活性ガスの流量を制御する流量制御装置と、を備えており、
前記制御装置は、
前記流量制御装置を通じて、ゼロ流量を含む第1流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第1導入工程を実行し、
前記第1導入工程を実行し、かつ前記真空ポンプ装置の回転速度が前記安定速度に到達した後に、前記第1流量よりも大きな第2流量の不活性ガスを前記真空ポンプ装置に導入する第2導入工程を実行する、真空排気システム。 - 前記流量制御装置は、前記バイパスラインを開閉する開閉弁を備えている、請求項14に記載の真空排気システム。
- 前記流量制御装置は、前記バイパスラインに取り付けられた流量調整弁またはオリフィスを備えている、請求項14または請求項15に記載の真空排気システム。
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