JP6125242B2 - 真空ポンプ装置およびその運転方法 - Google Patents
真空ポンプ装置およびその運転方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6125242B2 JP6125242B2 JP2013010756A JP2013010756A JP6125242B2 JP 6125242 B2 JP6125242 B2 JP 6125242B2 JP 2013010756 A JP2013010756 A JP 2013010756A JP 2013010756 A JP2013010756 A JP 2013010756A JP 6125242 B2 JP6125242 B2 JP 6125242B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- sealed chamber
- vacuum
- vacuum pump
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 28
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 18
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000011017 operating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 81
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 20
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 19
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
Description
前記密閉室は、螺旋状に形成されていることを特徴とする。
ドライ真空ポンプと、前記ドライ真空ポンプを駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、前記ドライ真空ポンプは、1対のポンプロータと、前記ポンプロータを収容するポンプケーシングとを備えており、前記ポンプケーシングには、前記ポンプロータを囲むように密閉室が形成されており、前記真空ポンプ装置は、前記密閉室内に真空を形成することで前記ポンプケーシングの保温性を高めるように構成されており、前記ドライ真空ポンプの吸気ポートと前記密閉室とを連通する第1の流路と、前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、前記ドライ真空ポンプの周囲空間と前記密閉室とを連通する第2の流路と、前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする。
前記ポンプケーシングを加熱する発熱体を前記密閉室の内周面に接触するように配置したことを特徴とする。
前記発熱体はシート状のヒーターであることを特徴とする。
前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、前記メインポンプの周囲空間と前記第2の密閉室とを連通する第2の流路と、前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする。
ブースターポンプと、前記ブースターポンプの排気ポートに接続されたメインポンプと、前記ブースターポンプおよび前記メインポンプをそれぞれ駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、前記ブースターポンプのポンプケーシングには、前記ブースターポンプのポンプロータを囲むように第1の密閉室が形成されており、前記メインポンプのポンプケーシングには、前記メインポンプのポンプロータを囲むように第2の密閉室が形成されており、前記真空ポンプ装置は、前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内に真空を形成することで前記ブースターポンプのポンプケーシングおよび前記メインポンプのポンプケーシングの保温性を高めるように構成されており、前記第1の密閉室と前記メインポンプの吸気ポートとを連通する第1の流路と、前記第1の密閉室と前記第2の密閉室とを連通する連通流路を備えたことを特徴とする。
前記第2の密閉室と前記メインポンプの周囲空間とを連通する第2の流路と、前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする。
前記第1の開閉弁を閉じ、前記第2の開閉弁を開くことで、前記密閉室内を大気開放することを特徴とする。
前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、前記密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該密閉室に導入して、前記ドライ真空ポンプの温度を低下させることを特徴とする。
前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、前記第1の密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該第1の密閉室および前記第2の密閉室に導入して、前記ブースターポンプおよび前記メインポンプの温度を低下させることを特徴とする。
前記ポンプロータは多段ポンプロータであり、前記密閉室は、前記多段ポンプロータの配置方向に沿って延びていることを特徴とする。
2 ポンプ、メインポンプ
3,67 モータ
4,68 インバータ
5 制御装置
6 電源
10,83 吸気ポート
11,84 排気ポート
20,80 ポンプケーシング
21,82 ポンプロータ(ルーツロータ)
23 回転軸
24,25 軸受
27 タイミングギヤ
28 ギヤケース
30 モータケーシング
31 モータロータ
32 ステータコア
33 コイル
40 密閉室、第2の密閉室
41,95 発熱体
45 第1の流路
46 第2の流路
47 第1の開閉弁
48 圧力計
49 第2の開閉弁
50,91 ガス導入管
51,90 ガス導入バルブ
61 メインポンプユニット
62 ブースターポンプユニット
66 ブースターポンプ
81 第1の密閉室
92 第1の流路
93 第1の開閉弁
100 連通流路
101 第1の流路
102 第1の開閉弁
105 第2の流路
106 第2の開閉弁
Claims (18)
- ドライ真空ポンプと、
前記ドライ真空ポンプを駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記モータは、モータロータとステータコアと前記ステータコアに巻かれたコイルとをモータケーシングに収容して構成され、
前記ドライ真空ポンプは、1対のポンプロータと、前記ポンプロータを収容するポンプケーシングと、前記1対のポンプロータを同期回転させるタイミングギヤと、前記タイミングギヤを収容するギヤケースとを備えており、
前記ポンプケーシングの外壁面と内壁面との間には、前記ポンプロータを囲むように密閉室が形成されており、
前記密閉室内に真空を形成することで前記ポンプケーシングの保温性を高めるように構成されたことを特徴とする真空ポンプ装置。 - 前記ドライ真空ポンプの吸気ポートと前記密閉室とを連通する第1の流路をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ装置。
- 前記密閉室は、螺旋状に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の真空ポンプ装置。
- ドライ真空ポンプと、
前記ドライ真空ポンプを駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記ドライ真空ポンプは、1対のポンプロータと、前記ポンプロータを収容するポンプケーシングとを備えており、
前記ポンプケーシングには、前記ポンプロータを囲むように密閉室が形成されており、
前記真空ポンプ装置は、前記密閉室内に真空を形成することで前記ポンプケーシングの保温性を高めるように構成されており、
前記ドライ真空ポンプの吸気ポートと前記密閉室とを連通する第1の流路と、
前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、
前記ドライ真空ポンプの周囲空間と前記密閉室とを連通する第2の流路と、
前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする真空ポンプ装置。 - 前記ポンプケーシングを加熱する発熱体を前記密閉室の内周面に接触するように配置したことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の真空ポンプ装置。
- 前記発熱体はシート状のヒーターであることを特徴とする請求項5に記載の真空ポンプ装置。
- ブースターポンプと、
前記ブースターポンプの排気ポートに接続されたメインポンプと、
前記ブースターポンプおよび前記メインポンプをそれぞれ駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記ブースターポンプのポンプケーシングには、前記ブースターポンプのポンプロータを囲むように第1の密閉室が形成されており、
前記メインポンプのポンプケーシングには、前記メインポンプのポンプロータを囲むように第2の密閉室が形成されており、
前記真空ポンプ装置は、前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内に真空を形成することで前記ブースターポンプのポンプケーシングおよび前記メインポンプのポンプケーシングの保温性を高めるように構成されており、
前記第1の密閉室と前記第2の密閉室とを連通する連通流路と、
前記メインポンプの吸気ポートと前記連通流路とを連通する第1の流路とをさらに備えていることを特徴とする真空ポンプ装置。 - 前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、
前記メインポンプの周囲空間と前記第2の密閉室とを連通する第2の流路と、
前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする請求項7に記載の真空ポンプ装置。 - ブースターポンプと、
前記ブースターポンプの排気ポートに接続されたメインポンプと、
前記ブースターポンプおよび前記メインポンプをそれぞれ駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記ブースターポンプのポンプケーシングには、前記ブースターポンプのポンプロータを囲むように第1の密閉室が形成されており、
前記メインポンプのポンプケーシングには、前記メインポンプのポンプロータを囲むように第2の密閉室が形成されており、
前記真空ポンプ装置は、前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内に真空を形成することで前記ブースターポンプのポンプケーシングおよび前記メインポンプのポンプケーシングの保温性を高めるように構成されており、
前記第1の密閉室と前記メインポンプの吸気ポートとを連通する第1の流路と、
前記第1の密閉室と前記第2の密閉室とを連通する連通流路を備えたことを特徴とする真空ポンプ装置。 - 前記第2の密閉室と前記メインポンプの周囲空間とを連通する第2の流路と、
前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする請求項9に記載の真空ポンプ装置。 - 請求項4に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記ドライ真空ポンプを駆動し、前記第1の開閉弁を開くことで、前記ドライ真空ポンプにより前記密閉室内の気体を吸引することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 前記第1の開閉弁を閉じ、前記第2の開閉弁を開くことで、前記密閉室内を大気開放することを特徴とする請求項11に記載の真空ポンプ装置の運転方法。
- 前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、
前記密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該密閉室に導入して、前記ドライ真空ポンプの温度を低下させることを特徴とする請求項11に記載の真空ポンプ装置の運転方法。 - 請求項8に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記メインポンプを駆動し、前記第1の開閉弁を開き、前記第1の密閉室および前記第2の密閉室の気体を前記メインポンプにより吸引して前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内に真空を形成することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、
前記第1の密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該第1の密閉室および前記第2の密閉室に導入して、前記ブースターポンプおよび前記メインポンプの温度を低下させることを特徴とする請求項14に記載の真空ポンプ装置の運転方法。 - 請求項9に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記メインポンプを駆動し、前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁を開くことで、前記メインポンプにより前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内の気体を吸引することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 請求項10に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁および前記第2の開閉弁を開き、気体を前記第2の流路を通じて前記第2の密閉室に導入して該気体を加熱し、
前記加熱された気体を、前記連通流路を通じて前記第2の密閉室から前記第1の密閉室に移送して、前記ブースターポンプを加熱することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 前記ポンプロータは多段ポンプロータであり、
前記密閉室は、前記多段ポンプロータの配置方向に沿って延びていることを特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013010756A JP6125242B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 真空ポンプ装置およびその運転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013010756A JP6125242B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 真空ポンプ装置およびその運転方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014141925A JP2014141925A (ja) | 2014-08-07 |
JP6125242B2 true JP6125242B2 (ja) | 2017-05-10 |
Family
ID=51423406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013010756A Active JP6125242B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 真空ポンプ装置およびその運転方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6125242B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114542425A (zh) * | 2020-11-26 | 2022-05-27 | 中国科学院微电子研究所 | 半导体加工工艺、抽真空装置和半导体工艺设备 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0742693A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-10 | Hitachi Ltd | ドライ真空ポンプ |
JPH10318168A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | T D Giken:Kk | 容積移送型ポンプ |
JP2003090285A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ebara Corp | ドライ真空ポンプ |
-
2013
- 2013-01-24 JP JP2013010756A patent/JP6125242B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014141925A (ja) | 2014-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4218756B2 (ja) | 真空排気装置 | |
TWI554684B (zh) | 真空泵 | |
JP2014074380A (ja) | ドライ真空ポンプ装置 | |
JP2008088879A (ja) | 真空排気装置 | |
TW201804083A (zh) | 用於降低負載鎖定件內的壓力的方法及相關的幫浦單元 | |
JP4180265B2 (ja) | 真空排気装置の運転方法 | |
JP6125242B2 (ja) | 真空ポンプ装置およびその運転方法 | |
JP6615132B2 (ja) | 真空ポンプシステム | |
TWI753219B (zh) | 乾式真空泵及用於控制真空泵的同步馬達之方法 | |
JP2004263635A (ja) | 真空装置および真空ポンプ | |
WO2005078281A1 (ja) | 真空装置 | |
JP2008088880A (ja) | 真空排気装置 | |
WO2015172720A1 (zh) | 蜗轮蜗杆传动装置 | |
TWI651471B (zh) | 真空泵系統中的泵送方法和真空泵系統 | |
JP3930297B2 (ja) | ターボ分子ポンプ | |
CN115355180A (zh) | 真空泵系统及真空泵 | |
KR20150024754A (ko) | 반도체 제조설비의 진공펌프용 히팅장치 | |
JP2005171766A (ja) | ドライポンプ及びドライポンプの運転方法 | |
CN111412734A (zh) | 一种安全高效的谷物干燥机 | |
CN110806065B (zh) | 一种电机的除湿方法 | |
JP2007198392A (ja) | 油拡散ポンプの運転方法及び真空排気装置と真空排気装置の制御方法 | |
JP2008144766A (ja) | 真空装置 | |
JP2010229832A (ja) | ドライ真空ポンプおよびそれを用いた処理室減圧方法 | |
TW202235750A (zh) | 真空排氣方法及真空排氣系統 | |
JP2017031892A (ja) | 真空排気装置及びその運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160816 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161014 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170314 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170405 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6125242 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |