TWI651471B - 真空泵系統中的泵送方法和真空泵系統 - Google Patents

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Abstract

本發明有關泵送系統(SP)中的泵送方法，包含：主要乾式螺桿型真空泵(3)，設有連接至真空室(1)之氣體進入孔口(2)、及在出現進入該泵送系統(SP)的氣體出口(8)之前導入導管(5)的氣體離開孔口(4)；止回閥(6)，被定位於該氣體離開孔口(4)與該氣體出口(8)間之導管(5)中；及噴射器(7)，與該止回閥(6)平行地連接。根據此方法，該主要乾式螺桿型真空泵(3)係投入操作，以便將該真空室(1)中所含有之氣體泵送經過該氣體離開孔口(4)；以同時的方式，該噴射器(7)被以工作流體餵入；及該噴射器(7)持續被以工作流體餵入，該主要乾式螺桿型真空泵(3)一直泵送該真空室(1)中所含有之氣體及/或該主要乾式螺桿型真空泵(3)在該真空室(1)中一直維持經定義的壓力。本發明亦有關能夠被使用於實施此方法之泵送系統(SP)。

Description

真空泵系統中的泵送方法和真空泵系統
本發明有關能夠以真空泵系統中之流率及最後真空的觀點使該性能被改善之泵送方法，其中該主要泵係螺桿型之乾式真空泵，且這同時減少該離開氣體的溫度及該系統之電能消耗量。本發明亦有關真空泵系統，其能被使用於達成根據本發明的方法。
以該等驅動器中之性能、能量節省、大小等的觀點，於工業、諸如該化學工業、該製藥工業、真空沈積、半導體等中，增加真空泵之性能、減少安裝與能量消耗量的成本之一般趨勢已帶來顯著的發展。
該尖端技術顯示為改善該最後之真空，其必需於該多級的根型或多級的爪型之真空泵中加入附加級。用於該螺桿型的乾式真空泵，附加轉動必需被給予至該螺桿及/或內部壓縮之比率必需被增加。
該泵的旋轉之速率扮演很重要的角色，其於該室之排 空的不同階段界定該泵之操作。以在該市場上可用的泵之內部壓縮的比率(其範圍係譬如於2及20之間)，在大氣壓力及約100毫巴或以別的方式被稱為強質量流率間之吸入壓力，於泵送之階段中所需要的電力將為很高。該平常之解決方法係使用可變速率驅動器，其允許該速率及因此該容量的減少或增加，並當作壓力型之不同準則、最大流量、限制扭矩、溫度等的函數。但於操作之時期期間，在減少的轉速，於高壓下在流率中有下降，該流率係與旋轉之速率成比例。藉由可變頻率驅動器的速率中之變動強加附加成本及笨重的性質。另一平常之解決方法係在根或爪型之多級真空泵中的某些階段、或沿著該螺桿於螺桿型之乾式真空泵中分別在某些很好地界定的位置使用旁通型閥門。此解決方法需要極多零件及呈現可靠性之問題。
瞄準該最後真空的改善及該流率之增加，關於真空泵系統的尖端技術顯示由主要乾式泵被配置在上游之根型增壓泵。此種系統係笨重的，且以呈現可靠性問題之旁通閥、或藉由採用測量、檢查、調整或自動控制的機構操作。然而，這些檢查、調整或自動控制之機構必需以主動的方式被引導式操作，其必定導致該系統之零組件的數目、其複雜性及其成本中之增加。
本發明具有於真空泵系統中提出一泵送方法當作其目的，並使其可能獲得比於真空室中以螺桿型之單一乾式真 空泵的輔助所能獲得者更好之真空。
本發明亦具有於真空泵系統中提出一泵送方法當作目的，並能夠使在低壓力所獲得之流率大於在真空室的泵送期間以螺桿型之單一乾式真空泵的輔助所能獲得者。
同樣地，本發明具有於真空泵系統中提出一泵送方法當作目的，而能夠使用於將真空室放置在真空之下與維持真空以及能夠使該離開氣體的溫度中之減少所需要的電能減少。
本發明之這些目的係以泵送方法之輔助所獲得，該泵送方法係在泵送系統的構架內達成，其組構本質上在於配備有連接至真空室之氣體進入孔口及導通進入導管的氣體離開孔口之主要乾式螺桿型真空泵，該導管係在出現進入該大氣或進入其它設備之前配備有止回閥。噴射器的吸入通口係平行於此止回閥被連接，其出口通到該大氣或於該止回閥之後再接合該主要泵的導管。
此一泵送方法尤其是該申請專利範圍第1項之獨立項的主題。本發明之不同較佳實施例再者係該等申請專利範圍附屬項的主題。
該方法本質上在於以工作流體餵入該噴射器，並使得其持續地操作，該主要乾式螺桿型真空泵一直泵送該真空室中所含有之氣體經過該氣體進入孔口，而且該主要乾式螺桿型真空泵在該真空室中藉由經過其出口釋放該上升氣體一直維持經定義的壓力(例如該最後真空)。
根據第一態樣，本發明存在於該主要乾式螺桿型真空 泵與該噴射器之耦接不需要特定手段及設備(譬如用於壓力、溫度、電流等的感測器)、自動控制器或資料之管理及計算的事實。因此，被設計成適用於施行根據本發明之泵送方法的真空泵系統包含最小數目之零組件、具有大簡單性及相對於現存系統非常少的成本。
根據第二態樣，由於新的泵送方法，本發明存在於該主要乾式螺桿型真空泵能在該輸電網路之單一恆定速率下操作、或根據其自身之操作模式在可變速率下轉動的事實。因此，被設計成適用於施行根據本發明之泵送方法的真空泵系統之複雜性及成本可被進一步減少。
藉由其本質，整合於該真空泵系統中之噴射器總是能起作用，而依據此泵送方法沒有損壞。其尺寸標注取決於用於該裝置的操作之工作流體的最小消耗量。其通常為單級的。其額定流率被選擇為該主要乾式螺桿型真空泵之出口導管的圍起空間之函數，該真空泵係藉由該止回閥所限制。其流動可為該主要乾式螺桿型真空泵的額定流率之1/500至1/20，但其亦可為比這些值較少或更多。用於該噴射器的工作流體可為壓縮空氣，但亦可為其他氣體、譬如氮。在該主要乾式螺桿型真空泵之出口被放置於該導管中的止回閥可為市售之標準元件。其尺寸根據該主要乾式螺桿型真空泵的額定流率被設計。尤其是，其被預知當在該主要乾式螺桿型真空泵之吸入端的壓力係於500毫巴絕對壓力及該最後真空(譬如100毫巴)之間時，該止回閥關閉。
根據另一變型，該噴射器係多級的。
根據又另一變型，該噴射器可為由對於該半導體工業中所一般使用之物質及氣體具有增加的耐化學性之材料所製成，這是在該單級噴射器變型中以及於該多級噴射器中。
該噴射器較佳地係小尺寸。
根據另一變型，該噴射器被整合在匣體中，該匣體併入該止回閥。
根據又另一變型，該噴射器被整合在匣體中，該匣體併入該止回閥，且此匣體本身被容納在排氣消音器中，該排氣消音器被固定至該主要乾式螺桿型真空泵之氣體離開孔口。
根據本發明，根據真空泵系統的操作，該噴射器總是在該主要乾式螺桿型真空泵的氣體離開孔口及該止回閥間之圍起空間中泵送。
根據本發明之又另一變型，該氣體在用於該噴射器之操作所需要的壓力之流率係藉由壓縮機所提供。以值得注意的方式，此壓縮機可為藉由該主要乾式螺桿型泵之軸桿的至少一者所驅動、或另一選擇或另外地，可被以自主之方式驅動，而與該主要乾式螺桿型泵無關。此壓縮機能於該氣體離開導管中在該止回閥之後抽空該大氣空氣或氣體。此一壓縮機的存在使得螺桿泵之系統與壓縮氣體來源無關，其可為適合用於某些工業環境。
由該室之排空的循環開始，該壓力在此被增加至譬如 等於該大氣壓力。由於該主要乾式螺桿型真空泵中之壓縮，在其出口所釋放的氣體之壓力係高於該大氣壓力(如果在該真空泵的出口之氣體係直接釋放進入該大氣)、或高於在下游所連接的另一設備之入口的壓力。這造成該止回閥之打開。
當此止回閥係打開時，該噴射器的作用被稍微感覺到，因為在其入口之壓力係幾乎等於其出口的壓力。於對比下，當該止回閥在某一壓力關閉時(因為該室中之壓力已同時降低)，該噴射器的作用造成該室及在該閥之後的導管間之壓力中的差異之漸進減少。在該主要乾式螺桿型真空泵的出口之壓力變成該噴射器的入口之壓力，其出口的壓力總是為該導管中在該止回閥之後的壓力。於藉由該關閉的止回閥所限制之圍起空間中，該噴射器泵越多，則在該主要乾式螺桿型真空泵之出口的壓力減少更多，且因此於該室及該主要乾式螺桿型真空泵的出口間之壓力差異減少。此輕微差異減少該主要乾式螺桿型真空泵的內部滲漏，且造成該室中之壓力的低下，其改善該最後真空。再者，用於該壓縮，該主要乾式螺桿型真空泵消耗更少之能量，且產生更少的壓縮熱。
在另一方面，其亦為明顯的是該機械概念之研究針對減少該主要乾式螺桿型真空泵的氣體離開孔口及該止回閥間之圍起空間，而具有更迅速地降低在此的壓力之目標。
1‧‧‧室
2‧‧‧吸入口
3‧‧‧真空泵
4‧‧‧圍起空間
5‧‧‧導管
6‧‧‧止回閥
7‧‧‧噴射器
8‧‧‧導管
9‧‧‧餵入管
10‧‧‧壓縮機
SP‧‧‧真空泵系統
本發明的特異性及優點將在該敘述之上下文內以更多細節來變得明顯，該敘述隨後有通過說明及以非限制方式參考所附圖面所給與的實施例範例，該等圖面表示：圖1圖樣地表示被設計成適於達成根據本發明之第一實施例的泵送方法之真空泵系統；及圖2圖樣地表示被設計成適於達成根據本發明之第二實施例的泵送方法之真空泵系統。
圖1表示被設計成適於施行根據本發明的第一實施例之泵送方法的真空泵系統SP。
此真空泵系統SP包含室1，其被連接至主要乾式螺桿型真空泵3之吸入孔口或吸入口2。該主要乾式螺桿型真空泵3的氣體離開孔口被連接至該導管5。逆止釋放閥6被放置於該導管5中，在此止回閥之後，其持續進入該氣體離開導管8。該止回閥6當其被關上時允許該主要真空泵3的氣體離開孔口及該閥本身之間所含有的圍起空間4之形成。該真空泵系統SP亦包含平行於該止回閥6連接的噴射器7。該噴射器之吸入口被連接至該導管5的圍起空間4，且其釋放孔口被連接至該導管8。該餵入管9提供用於該噴射器7之工作流體。
以該主要乾式螺桿型真空泵3的操作中之設定，用於該噴射器7的工作流體係藉由該餵入管9所注射。該主要乾式螺桿型真空泵3經過在其入口所連接的導管2吸入該 室1中之氣體、並壓縮它們，以便在後來於其出口在該導管5中經過該止回閥6釋放它們。當用於該止回閥6的關閉之壓力被抵達時，該閥關閉。由此瞬間開始，該噴射器7的泵送將該圍起空間4中之壓力漸進地減少至其壓力限制值。同時，藉由該主要乾式螺桿型真空泵3所消耗的電力漸進地下降。這在短時期中發生，譬如達在5至10秒中之某一週期。
以噴射器7之流率與該止回閥6的關閉壓力的合適調整，而當作該主要乾式螺桿型真空泵3之流率及該室的圍起空間之函數，其再者係可能在關於該排空循環的期間關閉該止回閥6之前減少該時間，且如此於該噴射器7的操作之此時期間減少工作流體中的損失，而在該泵送上無影響。再者，於總能量消耗量之評估中，這些微小的“損失”被考慮。於對比下，該簡單性之優點導致用於該系統的優異可靠性、以及比較於配備有可程式化自動裝置及/或可變速率驅動單元、控制閥、感測器等之類似泵10%至20%較低的價格。
圖2表示被設計成適於施行根據本發明之第二實施例的泵送方法之真空泵系統SP。
相對於圖1中所表示的系統，圖2中所表示之系統另包含壓縮機10，其在用於該噴射器7的起作用所需要之壓力下提供該氣體流率。實際上，此壓縮機10可於該氣體離開導管8中在該止回閥6之後吸入該大氣空氣或氣體。其存在造成該真空泵系統與壓縮氣體來源無關，並可 為適合用於某些工業環境。該壓縮機10可為藉由該主要乾式螺桿型泵3的至少一軸桿或藉由其自身之電動馬達所驅動，如此以與該泵3完全無關的方式驅動。在所有案例中，關於該主要泵3的能量消耗中所達成之節省，能夠使其在所需要之壓力下提供該氣體流率以便造成該噴射器7操作的其能量消耗量係遠加較小(譬如約3%至5%)。
當然，本發明關於其實施係遭受極多變動。雖然不同實施例已被敘述，其被很好地了解的是其不可能以徹底之方式認知所有該等可能實施例。當然，其能夠預見的是以同等機構替換所敘述之一機構，而未由本發明的範圍脫離。在真空技術之領域中，所有這些改良形成熟諳此技藝者之普通知識的一部份。

Claims (18)

  1. 一種真空泵系統(SP)中的泵送方法，該真空泵系統包含：主要乾式螺桿型真空泵(3)，設有連接至真空室(1)之氣體進入孔口(2)、及在出現進入該真空泵系統(SP)的氣體出口(8)之前導入導管(5)的氣體離開孔口(4)；止回閥(6)，被定位於該氣體離開孔口(4)與該氣體出口(8)間之導管(5)中，及噴射器(7)，與該止回閥(6)並聯地連接；該方法的特徵在於操作該主要乾式螺桿型真空泵(3)，以便將該真空室(1)中所含有之氣體泵送經過該氣體離開孔口(4)；同時將工作流體供給至該噴射器(7)；及該主要乾式螺桿型真空泵(3)一直泵送該真空室(1)中所含有之氣體、或該主要乾式螺桿型真空泵(3)在該真空室(1)中一直維持經定義的壓力、或上述兩者同時實施，以便將工作流體持續供給至該噴射器(7)，其中藉由壓縮機(10)提供在用於該噴射器(7)之起作用所需要的壓力之氣體流率，其中該壓縮機(10)被該主要乾式螺桿型泵(3)之軸桿的至少一者所驅動。
  2. 如申請專利範圍第1項的泵送方法，其中該噴射器出口(7)在該止回閥(6)之後再接合該導管(5)。
  3. 如申請專利範圍第1項的泵送方法，其中該噴射器(7)之流率係由該主要乾式螺桿型真空泵(3)的額定流率之1/500至1/20。
  4. 如申請專利範圍第1或2項的泵送方法，其中該噴射器(7)的工作流體係壓縮空氣、或氮、或上述兩者。
  5. 如申請專利範圍第1或2項的泵送方法，其中或該噴射器(7)係單級或多級的。
  6. 如申請專利範圍第1或2項的泵送方法，其中當在該主要乾式螺桿型真空泵(3)的吸入端之壓力係於500毫巴絕對壓力及最後真空之間時，該止回閥(6)關閉。
  7. 如申請專利範圍第1或2項的泵送方法，該真空泵系統另外包含匣體，該噴射器(7)被整合在該匣體中，該止回閥(6)被併入該匣體中。
  8. 如申請專利範圍第7項的泵送方法，該真空泵系統另外包含排氣消音器，該排氣消音器被固定至該主要乾式螺桿型真空泵(3)之氣體離開孔口(5)，其中該匣體被容納在排氣消音器中。
  9. 如申請專利範圍第1項的泵送方法，其中該壓縮機(10)排空在該止回閥(6)之後的該氣體離開導管(8)中之該大氣空氣或氣體。
  10. 一種真空泵系統(SP)，包含：主要乾式螺桿型真空泵(3)，設有連接至真空室(1)之氣體進入孔口(2)、及在出現進入該真空泵系統(SP)的氣體出口(8)之前導入導管(5)的氣體離開孔口(4)；止回閥(6)，被定位於該氣體離開孔口(4)與該氣體出口(8)間之導管(5)中，及噴射器(7)，與該止回閥(6)並聯地連接；該真空泵系統(SP)的特徵在於該主要乾式螺桿型真空泵(3)一直泵送該真空室(1)中所含有之氣體、或該主要乾式螺桿型真空泵(3)在該真空室(1)中一直維持經定義的壓力、或上述兩者同時實施，以便能夠以工作流體供給該噴射器(7)，其中該系統包含壓縮機(10)，其提供在用於該噴射器(7)之起作用所需要的壓力之氣體流率，其中該壓縮機(10)被該主要乾式螺桿型泵(3)之軸桿的至少一者所驅動。
  11. 如申請專利範圍第10項的真空泵系統，其中該噴射器出口(7)在該止回閥(6)之後再接合該導管(5)。
  12. 如申請專利範圍第10項的真空泵系統，其中該噴射器之流率係由該主要乾式螺桿型真空泵(3)的額定流率之1/500至1/20。
  13. 如申請專利範圍第10或11項的真空泵系統，其中該噴射器(7)的工作流體係壓縮空氣、或氮、或上述兩者。
  14. 如申請專利範圍第10或11項的真空泵系統，其中該噴射器(7)係單級或多級的。
  15. 如申請專利範圍第10或11項的真空泵系統，其中當在該主要乾式螺桿型真空泵(3)的吸入端之壓力係於500毫巴絕對壓力及最後真空之間時，該止回閥(6)關閉。
  16. 如申請專利範圍第10或11項的真空泵系統，該真空泵系統另外包含匣體，該噴射器(7)被整合在該匣體中，該止回閥(6)被併入該匣體中。
  17. 如申請專利範圍第16項的真空泵系統，另外包含排氣消音器，該排氣消音器被固定至該主要乾式螺桿型真空泵(3)之氣體離開孔口(5)，其中該匣體被容納在排氣消音器中。
  18. 如申請專利範圍第10項的真空泵系統，其中該壓縮機(10)排空在該止回閥(6)之後的該氣體離開導管(8)中之該大氣空氣或氣體。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018178846A (ja) * 2017-04-12 2018-11-15 株式会社荏原製作所 真空ポンプ装置の運転制御装置、及び運転制御方法
DE102021107055A1 (de) * 2021-03-22 2022-09-22 Inficon Gmbh Funktionsprüfung einer Leckdetektionsvorrichtung für die Dichtheitsprüfung eines mit einer Flüssigkeit gefüllten Prüflings

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007100562A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Shinko Seiki Co Ltd 真空装置
US20120261011A1 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Young Man Cho Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump
WO2014012896A2 (fr) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3536418A (en) * 1969-02-13 1970-10-27 Onezime P Breaux Cryogenic turbo-molecular vacuum pump
FR2822200B1 (fr) * 2001-03-19 2003-09-26 Cit Alcatel Systeme de pompage pour gaz a faible conductivite thermique
SE519647C2 (sv) * 2002-05-03 2003-03-25 Piab Ab Vakuumpump och sätt att tillhandahålla undertryck
FR2952683B1 (fr) * 2009-11-18 2011-11-04 Alcatel Lucent Procede et dispositif de pompage a consommation d'energie reduite
CA2944825C (fr) * 2014-05-01 2021-04-27 Ateliers Busch Sa Methode de pompage dans un systeme de pompage et systeme de pompes a vide
ES2785202T3 (es) * 2014-10-02 2020-10-06 Ateliers Busch S A Sistema de bombeo para generar un vacío y procedimiento de bombeo por medio de este sistema de bombeo

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007100562A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Shinko Seiki Co Ltd 真空装置
US20120261011A1 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Young Man Cho Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump
WO2014012896A2 (fr) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes

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