KR20160137596A - 진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법 - Google Patents
진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 1 에는 본 발명의 제1 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템이 개략적으로 도시되어 있고;
도 2 에는 본 발명의 제2 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템이 개략적으로 도시되어 있다.
Claims (30)
- 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법으로서, 상기 진공 펌프 시스템(SP)은:
진공 챔버(vacuum chamber; 1)에 연결된 가스 진입 구멍(gas entry orifice; 2) 및 상기 진공 펌프 시스템(SP)의 가스 배출부(gas outlet; 8)로 나오기 전에 도관(conduit; 5)으로 이어지는 가스 이탈 구멍(gas exit orifice; 4)을 구비한 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(primary dry screw-type vacuum pump; 3);
상기 가스 이탈 구멍(4)과 가스 배출부(8) 사이에서 도관(5) 안에 배치된 비-복귀 밸브(non-return valve; 6); 및
상기 비-복귀 밸브(6)에 대해 병렬적으로 연결된 이젝터(ejector; 7);를 포함하고,
상기 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법은:
진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 가스 이탈 구멍(4)을 통하여 펌핑하기 위하여 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 작동됨;
동시에, 이젝터(ejector; 7)에 작동 유체(working fluid)가 공급됨; 및
스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 상기 진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 펌핑하는 모든 시간 동안 및/또는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 내의 정해진 압력을 유지하는 모든 시간 동안에, 이젝터(7)에는 계속하여 작동 유체가 공급됨;을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항에 있어서,
이젝터 배출부(7)는 비-복귀 밸브(6) 뒤에서 상기 도관(5)에 다시 연결되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 이젝터(7)는 작동 유체의 소비 최소화를 위하여 정해진 규격을 가진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
이젝터(7)의 공칭 유량(nominal flow rate)은, 비-복귀 밸브(6)에 의하여 한정되는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 이탈 도관(5)의 포위 공간(enclosed space)의 함수로서 선택되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제4항에 있어서,
상기 이젝터의 유량은 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 사이인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)의 작동 유체는 압축된 공기 및/또는 질소인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)는 단일 스테이지(single-stage) 또는 복수 스테이지의 구조로 된 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 흡입 단부(suction end)에서의 압력이 절대 압력 500 mbar 내지 최종 진공(final vacuum) 사이인 때에 비-복귀 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)는 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 가스 및 물질에 대한 증가된 화학적 저항성을 갖는 재료로 만들어진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)는, 비-복귀 밸브(6)를 포함하는 카트리지(cartridge)에 통합되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제10항에 있어서,
상기 카트리지는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 가스 이탈 구멍(5)에 고정된 배기 머플러(exhaust muffler)에 수용되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
이젝터(7)의 기능에 필요한 압력의 가스의 유량은 압축기(10)에 의하여 제공되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제12항에 있어서,
압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)의 샤프트들 중 적어도 하나에 의하여 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제12항에 있어서,
상기 압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)와는 독립적으로, 자체적인 방식(autonomous manner)으로 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압축기(10)는, 비-복귀 밸브(6) 뒤에 있는 가스 이탈 도관(8) 안의 가스 또는 대기 공기를 비워내는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법. - 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3), 비-복귀 밸브(6), 및 이젝터(7)를 포함하는 진공 펌프 시스템(SP)으로서,
상기 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)는 진공 챔버(1)에 연결된 가스 진입 구멍(2)과, 진공 펌프 시스템(SP)의 가스 배출부(8)로 나오기 전에 있는 도관(5)으로 이어지는 가스 이탈 구멍(4)을 구비하고,
상기 비-복귀 밸브(6)는 가스 이탈 구멍(4)과 가스 배출부(8) 사이에서 도관(5) 안에 배치되며,
상기 이젝터(7)는 비-복귀 밸브(6)에 대해 병렬로 연결되고,
상기 진공 펌프 시스템(SP)은:
스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 상기 진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 펌핑하는 모든 시간 동안 및/또는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 내의 정해진 압력을 유지하는 모든 시간 동안에, 상기 이젝터(7)가 작동 유체를 공급받을 수 있도록 설계된 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항에 있어서,
상기 이젝터 배출부(7)는 상기 비-복귀 밸브(6) 뒤에서 도관(5)에 다시 연결되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 또는 제17항에 있어서,
상기 이젝터(7)는 작동 유체의 소비 최소화를 위하여 정해진 규격을 가진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
이젝터(7)의 공칭 유량(nominal flow rate)은, 비-복귀 밸브(6)에 의하여 한정되는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 이탈 도관(5)의 포위 공간(enclosed space)의 함수로서 선택되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제19항에 있어서,
상기 이젝터의 유량은 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 사이인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)의 작동 유체는 압축된 공기 및/또는 질소인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)는 단일 스테이지(single-stage) 또는 복수 스테이지의 구조로 된 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 흡입 단부(suction end)에서의 압력이 절대 압력 500 mbar 내지 최종 진공(final vacuum) 사이인 때에 비-복귀 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)는 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 가스 및 물질에 대한 증가된 화학적 저항성을 갖는 재료로 만들어진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이젝터(7)는, 비-복귀 밸브(6)를 포함하는 카트리지(cartridge)에 통합되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제25항에 있어서,
상기 카트리지는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 가스 이탈 구멍(5)에 고정된 배기 머플러(exhaust muffler)에 수용되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제16항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 시스템은 이젝터(7)의 기능에 필요한 압력의 가스의 유량을 제공하는 압축기(10)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제27항에 있어서,
압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)의 샤프트들 중 적어도 하나에 의하여 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제27항에 있어서,
상기 압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)와는 독립적으로, 자체적인 방식(autonomous manner)으로 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP). - 제27항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압축기(10)는, 비-복귀 밸브(6) 뒤에 있는 가스 이탈 도관(8) 안의 가스 또는 대기 공기를 비워내는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018178846A (ja) * | 2017-04-12 | 2018-11-15 | 株式会社荏原製作所 | 真空ポンプ装置の運転制御装置、及び運転制御方法 |
DE102021107055A1 (de) * | 2021-03-22 | 2022-09-22 | Inficon Gmbh | Funktionsprüfung einer Leckdetektionsvorrichtung für die Dichtheitsprüfung eines mit einer Flüssigkeit gefüllten Prüflings |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050232783A1 (en) * | 2002-05-03 | 2005-10-20 | Peter Tell | Vacuum pump and method for generating sub-pressure |
JP2007100562A (ja) | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Shinko Seiki Co Ltd | 真空装置 |
WO2014012896A2 (fr) * | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Adixen Vacuum Products | Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3536418A (en) * | 1969-02-13 | 1970-10-27 | Onezime P Breaux | Cryogenic turbo-molecular vacuum pump |
FR2822200B1 (fr) * | 2001-03-19 | 2003-09-26 | Cit Alcatel | Systeme de pompage pour gaz a faible conductivite thermique |
FR2952683B1 (fr) * | 2009-11-18 | 2011-11-04 | Alcatel Lucent | Procede et dispositif de pompage a consommation d'energie reduite |
US20120261011A1 (en) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Young Man Cho | Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump |
AU2014392229B2 (en) * | 2014-05-01 | 2018-11-22 | Ateliers Busch Sa | Method of pumping in a pumping system and vacuum pump system |
CN107002681A (zh) * | 2014-10-02 | 2017-08-01 | 阿特利耶博世股份有限公司 | 用于产生真空的泵送系统及利用此泵送系统的泵送方法 |
-
2014
- 2014-04-07 US US15/126,875 patent/US10260502B2/en active Active
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US20050232783A1 (en) * | 2002-05-03 | 2005-10-20 | Peter Tell | Vacuum pump and method for generating sub-pressure |
JP2007100562A (ja) | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Shinko Seiki Co Ltd | 真空装置 |
WO2014012896A2 (fr) * | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Adixen Vacuum Products | Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes |
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