KR20160137596A - 진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법 - Google Patents

진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20160137596A
KR20160137596A KR1020167029509A KR20167029509A KR20160137596A KR 20160137596 A KR20160137596 A KR 20160137596A KR 1020167029509 A KR1020167029509 A KR 1020167029509A KR 20167029509 A KR20167029509 A KR 20167029509A KR 20160137596 A KR20160137596 A KR 20160137596A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
vacuum pump
ejector
gas
return valve
screw
Prior art date
Application number
KR1020167029509A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102190221B1 (ko
Inventor
디디에 뮬러
장-에릭 라흐쉬
테오도르 일트쉐브
Original Assignee
아뜰리에 부쉬 에스.아.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아뜰리에 부쉬 에스.아. filed Critical 아뜰리에 부쉬 에스.아.
Publication of KR20160137596A publication Critical patent/KR20160137596A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102190221B1 publication Critical patent/KR102190221B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
    • F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
    • F04C18/12—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type
    • F04C18/14—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons
    • F04C18/16—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons with helical teeth, e.g. chevron-shaped, screw type
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C23/005—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of dissimilar working principle
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/06—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/06—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
    • F04C28/065—Capacity control using a multiplicity of units or pumping capacities, e.g. multiple chambers, individually switchable or controllable
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/14—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
    • F04F5/16—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
    • F04F5/20—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/44—Component parts, details, or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04F5/02 - F04F5/42
    • F04F5/48—Control
    • F04F5/52—Control of evacuating pumps
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/54—Installations characterised by use of jet pumps, e.g. combinations of two or more jet pumps of different type
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2210/00—Fluid
    • F04C2210/22—Fluid gaseous, i.e. compressible
    • F04C2210/221—Air
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2210/00—Fluid
    • F04C2210/22—Fluid gaseous, i.e. compressible
    • F04C2210/225—Nitrogen (N2)
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00—Application
    • F04C2220/10—Vacuum
    • F04C2220/12—Dry running
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00—Application
    • F04C2220/30—Use in a chemical vapor deposition [CVD] process or in a similar process

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 펌프 시스템 및 방법은: 진공 챔버(1)에 연결된 가스 진입 구멍(2)과, 진공 펌프 시스템(SP)의 가스 배출부(8)로 나오기 전에 있는 도관(5)으로 이어지는 가스 이탈 구멍(4)을 구비한 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프; 가스 이탈 구멍(4)과 가스 배출부(8) 사이에서 도관(5) 안에 배치된 비-복귀 밸브(6); 및 비-복귀 밸브(6)에 대해 병렬로 연결된 이젝터(7)를 포함한다. 상기 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)는, 진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 가스 이탈 구멍을 통해서 펌핑하기 위하여 작동개시된다. 동시에, 이젝터(7)에는 펌프 유체가 공급되고, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 상기 진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 펌핑하는 모든 시간 동안 및/또는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 내의 정해진 압력을 유지하는 모든 시간 동안에, 이젝터(7)에는 계속하여 작동 유체가 공급된다.

Description

진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법{METHOD FOR PUMPING IN A SYSTEM OF VACUUM PUMPS AND SYSTEM OF VACUUM PUMPS}
본 발명은 메인 펌프가 스크류 유형의 건식 진공 펌프인 진공 펌프 시스템에서 그 시스템의 전기 에너지 소비와 이탈 가스의 온도를 저감시키는 한편 최종 진공 및 유량의 관점에서 성능이 개선됨을 가능하게 하는 펌핑 방법에 관한 것이다. 또한 본 발명은 본 발명에 따른 상기 방법을 달성하는데에 이용될 수 있는 진공 펌프 시스템에 관한 것이기도 하다.
화학 산업, 의약 산업, 진공 증착, 반도체, 등과 같은 산업 분야들에서 에너지 소비 및 설치 비용 절감을 위하여 진공 펌프의 성능을 향상시키는 전체적인 경향은, 성능, 에너지 절감, 부피, 구동 등의 관점에서 상당한 발전을 가져왔다.
종래 기술에서는 최종 진공의 향상을 위하여 복수 스테이지로 구성된 루트 유형(multi-staged Roots type) 또는 복수 스테이지로 구성된 클로 유형(multi-staged claw type)의 진공 펌프들에 보충적인 스테이지를 추가해야 한다. 스크류 유형(screw type)의 건식 진공 펌프(dry vacuum pump)에 있어서는, 스크류에 보충적인 선회(supplementary turns)가 제공되거나 그리고/또는 내부 압축율이 증가되어야 한다.
펌프의 회전 속도는, 챔버의 비움(evacuation)을 위한 다양한 단계들에서 펌프의 작동을 결정하는 매우 중요한 역할을 담당한다. 시장에서 입수가능한 펌프의 내부 압축율(예를 들어 2 내지 20 사이)에 의하면, 대기압과 대략 100 mbar 사이의 흡입 압력에서 펌핑하는 단계, 즉 강력 질량 유량(strong mass flow)으로 펌핑하는 단계에서 필요한 전력은 매우 높다. 일반적인 방안은 압력 유형, 최대 유동, 한계 토크, 온도, 등의 다양한 기준의 함수로서 그 속도와 그에 따른 용량을 증가 또는 감소시킬 수 있는 가변 속도 구동부(variable speed drive)를 이용하는 것이다. 그러나, 감소된 회전 속도에서 작동하는 기간 동안에는 고압에서의 유량 강하(회전 속도에 비례함)가 있다. 가변 주파수 구동부(variable frequency drive)에 의한 속도의 변화는 보충적인 비용과 부피를 유발한다. 또다른 일반적인 방안은, 복수 스테이지 방식으로 구성된 루트 또는 클로 유형의 진공 펌프의 소정 단계, 또는 스크류 유형의 건식 진공 펌프에서 스크류를 따라 소정의 잘 정해진 위치 각각에 바이패스(by-pass) 유형의 밸브를 사용하는 방안이 있다. 이와 같은 방안은 많은 갯수의 부품을 필요로 하고 신뢰성의 문제를 유발한다.
유량 증가 및 최종 진공의 개선을 목표로 하는 진공 펌프 시스템에 관한 종래 기술로서, 1차 건식 펌프로부터의 상류에 배치된 루트 유형의 부스터 펌프를 구비한 것이 있다. 이와 같은 유형의 시스템은 부피가 크고, 바이패스 밸브와 함께 작동하여 신뢰성의 문제를 유발하거나, 또는 측정, 체크(check), 조절(adjustment), 또는 자동 제어의 수단을 채택한다. 그러나, 위와 같은 측정, 체크, 조절, 또는 자동 제어의 수단은 능동적으로 파일럿-구동(pilot operation)되어야 하고, 이것은 시스템의 부품의 갯수, 복잡도, 및 비용의 증가로 귀결된다.
본 발명은 진공 챔버에서 (0.0001 mbar 정도) 스크류 유형의 단일의 건식 진공 펌프의 도움을 받아 얻어질 수 있는 것보다 더 우수한 진공을 제공할 수 있는 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법을 제안함을 목적으로 한다.
또한 본 발명은, 진공 챔버의 펌핑 동안에 더 낮은 압력에서 스크류 유형의 단일 건식 진공 펌프의 도움을 받아 얻어질 수 있는 것보다 더 큰 유량이 얻어질 수 있도록 하는 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법을 제안함을 목적으로 한다.
또한 본 발명은, 진공 챔버가 진공 하에 있도록 하기 위하여 필요한 전기 에너지의 감소, 및 이탈 가스의 온도 감소 및 유지를 가능하게 하는 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법을 제안함을 목적으로 한다.
상기 본 발명의 목적들은 펌프 시스템의 틀(framework) 안에서 달성될 수 있는 펌핑 방법에 의하여 달성되는바, 상기 펌프 시스템은 실질적으로, 진공 챔버에 연결된 가스 진입 구멍이 구비된 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프와, 대기 중으로 또는 다른 장치로 나오기 전의 비-복귀 밸브가 구비된 도관 안으로 이어지는 가스 이탈 구멍을 구비한다. 이젝터의 흡입 포트는 상기 비-복귀 밸브에 대해 병렬적으로 연결되어 있고, 그것의 배출부는 비-복귀 밸브 이후의 1차 펌프의 도관에 다시 연결되거나 대기 중으로 연결된다.
상기 펌핑 방법은 특히 청구항 1 에 기재되어 있다. 본 발명의 다양한 바람직한 실시예들도 종속항들에 기재되어 있다.
상기 방법은 본질적으로, 이젝터에 작동 유체를 공급하되, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프가 상기 진공 챔버 안에 격납된 가스를 가스 진입 구멍을 통해서 펌핑하는 모든 시간 동안과, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프가 배출부에서 증가하는 가스를 해제시킴으로써 진공 챔버 내의 정해진 압력(예를 들어, 최종 진공)을 유지하는 모든 시간 동안에, 이젝터에 계속하여 작동 유체를 공급하는 것에 특징이 있다.
본 발명의 제1 구성상 특징은, 이젝터와 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 결합에 있어서 특정의 측정장치(예를 들어, 압력, 온도, 전류 등의 센서), 자동 제어부, 또는 데이터 및 계산의 관리가 필요하지 않다는 것에 있다. 그러므로, 본 발명에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템은 현존하는 시스템에 비하여 현저히 저렴하고, 구성이 간명하며, 부품들의 갯수가 최소화된다는 장점을 갖는다.
본 발명의 제2 구성상 특징은, 새로운 펌핑 방법 덕분에, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프가 전력망에 의한 단일의 일정한 속도로 작동하거나, 또는 자체적인 작동 모드에 따른 가변적인 속도로 회전할 수 있다는 것이다. 그러므로, 본 발명에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템의 가격과 복잡성은 더 감소될 수 있다.
본연의 성질상, 진공 펌프 시스템에 통합된 이젝터는 상기 펌핑 방벙에 따른 파손없이 항상 기능을 수행할 수 있다. 이것의 치수는, 상기 장치의 작동을 위한 작동 유체의 최소 소비량에 의존한다. 이것은 통상적으로 단일 스테이지의 형태로 구성된다. 이것의 공칭 유량은 비-복귀 밸브에 의하여 한정되는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 이탈 도관의 포위 공간의 함수로서 선정된다. 그것의 유량은 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 사이일 수 있으나, 이 값과 다소간의 차이가 있을 수도 있다. 상기 이젝터를 위한 작동 유체는 압축 공기이거나, 또는 예를 들어 질소와 같은 다른 가스일 수 있다. 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 이탈부에서 도관에 배치된 비-복귀 밸브는 시중에서 입수가능한 표준형 부품일 수 있다. 이것은, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 공칭 유량에 따른 규격을 가진 것일 수 있다. 특히, 상기 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 흡입 단부에서의 압력이 절대 압력 500 mbar와 최종 진공(예를 들어 100 mbar) 사이인 때에 상기 비-복귀 밸브가 폐쇄될 것이다.
다른 변형예에 따르면, 상기 이젝터가 복수 스테이지의 구조로 구성될 수 있다.
또 다른 변형예에 따르면, 상기 이젝터는 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 가스 및 물질에 대하여 증가된 화학 저항성을 갖는 재료로 만들어질 수 있는데, 이는 단일 스테이지 구조의 이젝터는 물론, 복수 스테이지 구조의 이젝터에 있어서도 마찬가지이다.
상기 이젝터는 작은 크기를 갖는 것이 바람직하다.
다른 변형예에 따르면, 상기 이젝터는 비-복귀 밸브를 포함하는 카트리지에 통합된다.
또 다른 변형예에 따르면, 상기 이젝터는 비-복귀 밸브를 포함하는 카트리지에 통합되고, 상기 카트리지 자체는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 가스 이탈 구멍에 고정된 배기 머플러에 수용된다.
본 발명에 따른 진공 펌프 시스템의 작동에 있어서, 상기 이젝터는 상기 비-복귀 밸브와 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 가스 이탈 구멍 사이의 포위 공간 안을 항상 펌핑한다.
본 발명의 또 다른 변형예에 따르면, 상기 이젝터의 작동에 필요한 압력을 갖는 가스의 유량은, 압축기에 의하여 제공된다. 상기 압축기는 1차 건식 스크류 유형 펌프의 샤프트들 중 적어도 하나에 의하여 구동되거나, 추가적으로 또는 대안적으로는 1차 건식 스크류 유형 펌프와는 독립적으로 자체 방식으로 구동될 수 있다는 점에 유의한다. 상기 압축기는 비-복귀 밸브 뒤에 있는 가스 이탈 도관 내의 가스 또는 대기 공기를 비울 수 있다. 이와 같은 압축기의 존재로 인하여, 압축 가스의 공급원과 무관한 스크류 유형 펌프의 시스템이 제공될 수 있는바, 이것은 소정 산업 환경에서 사용되기에 적합한 것이다.
상기 챔버의 비움 사이클(cycle of evacuation)로부터 시작하여, 그곳의 압력은 예를 들어 대기 압력과 동등하도록 증가된다. 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프에서의 압축 관점에서, 그 이탈부에서 배출되는 가스의 압력은 (상기 1차 펌프의 배출부에서의 가스가 대기 중으로 직접 배출된다면) 대기 압력보다 높고, 하류측에 연결된 다른 장치의 유입부에서의 압력보다 높다. 이로 인하여 비-복귀 밸브가 개방된다.
상기 비-복귀 밸브가 개방된 때에 이젝터의 작용은 매우 적을 적으로 생각되는바, 이는 그것의 유입부에서의 압력이 그것의 배출부에서의 압력과 거의 동일하기 때문이다. 이와 대조적으로 (챔버 내의 압력이 강하함으로써) 비-복귀 밸브가 소정의 압력에서 폐쇄되는 때에는, 상기 이젝터의 작용으로 인하여 상기 밸브 뒤에 있는 도관과 챔버 사이의 압력 차이가 점진적으로 감소된다. 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 이탈부에서의 압력이 이젝터의 유입부의 압력과 같게 되는바, 그것의 배출부의 압력은 항상 비-복귀 밸브 뒤의 도관 내의 압력과 같다. 이젝터 펌프들이 더 많을수록, 폐쇄된 비-복귀 밸브에 의하여 한정된 포위 공간 내에서 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 배출부에서의 압력이 더 많이 감소하고, 결과적으로 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 배출부와 챔버 사이의 압력 차이가 감소한다. 이와 같은 약간의 차이로 인하여 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프에서의 내부 누설이 감소하고, 챔버 내부의 압력을 감소시킴으로써 최종 진공을 향상시킨다. 또한, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프는 압축에서 적은 에너지를 소비하고 압축으로 인한 열을 덜 발생시킨다.
한편, 본 발명의 기계적 개념의 연구는, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프의 가스 이탈 구멍과 비-복귀 밸브 사이의 포위 공간의 압력을 보다 신속히 감소시키기 위한 목적으로 그 공간을 감소시킴도 도모한다는 점이 이해되어야 할 것이다.
이하에서는 아래와 같은 첨부 도면들을 참조로 하여 예시로서 제시되는 비제한적 실시예들에 대해 보다 상세히 설명하는바, 이로써 본 발명의 특징 및 장점이 보다 명확히 이해될 것이다.
도 1 에는 본 발명의 제1 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템이 개략적으로 도시되어 있고;
도 2 에는 본 발명의 제2 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템이 개략적으로 도시되어 있다.
도 1 에는 본 발명의 제1 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템(SP)이 도시되어 있다.
상기 진공 펌프 시스템(SP)은 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 흡입 구멍 또는 흡기부(intake)(2)에 연결된 챔버(1)를 포함한다. 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 가스 이탈 구멍은 도관(5)에 연결된다. 비복귀 릴리스 밸브(non-return release valve; 6)는 도관(5) 안에 배치되는바, 상기 비-복귀 밸브 이후에 상기 도관은 가스 이탈 도관(8)으로 이어진다. 상기 비-복귀 밸브(6)가 폐쇄되어 있는 때, 비-복귀 밸브(6)는 1차 진공 펌프(3)의 가스 이탈 구멍과 비-복귀 밸브(6) 사이에 격납된 포위 공간(enclosed space; 4)을 형성한다. 진공 펌프 시스템(SP)은 비-복귀 밸브(6)에 대해 병렬적으로 연결된 이젝터(7)도 포함한다. 상기 이젝터의 흡기부는 도관(5)의 포위 공간(4)에 연결되고, 이젝터의 릴리스 구멍(release orifice)은 가스 이탈 도관(8)에 연결된다. 피드 파이프(feed pipe; 9)는 이젝터(7)를 위한 작동 유체를 제공한다.
스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 작동을 설정함에 있어서, 이젝터(7)용 작동 유체는 피드 파이프(9)에 의하여 주입된다. 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)는 상기 연결된 도관(2)을 통하여 유입부에서 챔버(1) 안으로 가스를 흡입하고, 상기 가스가 이후에 비-복귀 밸브(6)를 통하여 도관(5)에 있는 이탈부에서 배출될 수 있도록 하기 위하여 가스를 압축한다. 비-복귀 밸브(6)의 폐쇄를 위한 압력에 도달하면, 그 밸브는 폐쇄된다. 이 순간부터, 이젝터(7)의 펌핑으로 인하여 포위 공간(4) 내의 압력이 압력 한계 값까지 점진적으로 감소된다. 병렬적으로, 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)에 의하여 소비되는 동력이 점진적으로 감소한다. 이것은 예를 들어 소정의 사이클에서는 5 내지 10초 정도의 짧은 시간 내에 이루어진다.
스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 유량 및 챔버(1)의 포위 공간의 함수로서 비-복귀 밸브(6)의 폐쇄 압력 및 이젝터(7)의 유량이 적합하게 조절되도록 함에 따라서, 비움(evacuation) 사이클의 지속 시간과 관련하여 비-복귀 밸브(6)의 폐쇄 전까지의 시간을 감소시키는 것도 가능하며, 이로써 펌핑의 효과없이 이젝터(7)의 작동 시간 동안 작동 유체의 손실이 저감될 수 있다. 또한, 미세하나마 이와 같은 "손실"은 에너지 소비의 총량의 평가에서 고려된다. 대조적으로, 단순화의 장점으로 인하여, 상기 시스템의 우수한 신뢰성이 확보되며, 또한 프로그램가능한 자동 장치 및/또는 가변 속도 구동 유닛, 제어 밸브, 센서 등을 구비한 유사한 펌프와 비교할 때 가격이 10% 내지 20% 더 적게 된다.
도 2 에는 본 발명의 제2 실시예에 따른 펌핑 방법을 구현하도록 구성된 진공 펌프 시스템(SP)이 도시되어 있다.
도 2 에 도시된 시스템은 도 1 에 도시된 시스템에 비하여 압축기(10)를 더 포함하는바, 상기 압축기는 이젝터(7)의 기능에 필요한 압력으로 가스 유량을 제공한다. 실제에 있어서, 상기 압축기(10)는 비-복귀 밸브(6) 이후의 가스 이탈 도관(8)의 가스 또는 대기 공기를 흡입할 수 있다. 압축기(10)의 존재로 인하여, 진공 펌프 시스템이 압축 가스 공급원으로부터 독립적으로 될 수 있는바, 이것은 소정의 산업 환경에 적합한 것일 수 있다. 압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)의 적어도 하나의 샤프트에 의하여 구동되거나, 또는 압축기(10) 자체의 전기 모터에 의하여 구동됨으로써 1차 진공 펌프(3)에 대해 완전히 독립적으로 될 수 있다. 압축기(10)가 에너지를 소비하긴 하지만, 모든 경우에 있어서 메인 펌프(3)의 에너지 소비에서 달성되는 절감량과 비교할 때 훨씬 더 적은(예를 들어 3% 내지 5%) 양에 의하여 이젝터(7)의 작동을 가능하도록 하기에 필요한 압력으로 가스 유량을 제공할 수 있게 된다.
물론, 본 발명은 구체적인 구현에 있어서 다양한 변형이 가능하다. 다양한 실시예들에 대해 설명하였으나, 모든 가능한 실시예들에 대해 완벽하게 설명할 수는 없다는 것이 이해될 것이다. 물론, 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서, 위에서 설명한 일 수단을 균등한 수단으로 대체할 수 있다는 것이 고찰될 수 있다. 이와 같은 변형예들 모두는 진공 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자의 일반적인 지식의 범위 내의 것이다.

Claims (30)

  1. 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법으로서, 상기 진공 펌프 시스템(SP)은:
    진공 챔버(vacuum chamber; 1)에 연결된 가스 진입 구멍(gas entry orifice; 2) 및 상기 진공 펌프 시스템(SP)의 가스 배출부(gas outlet; 8)로 나오기 전에 도관(conduit; 5)으로 이어지는 가스 이탈 구멍(gas exit orifice; 4)을 구비한 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(primary dry screw-type vacuum pump; 3);
    상기 가스 이탈 구멍(4)과 가스 배출부(8) 사이에서 도관(5) 안에 배치된 비-복귀 밸브(non-return valve; 6); 및
    상기 비-복귀 밸브(6)에 대해 병렬적으로 연결된 이젝터(ejector; 7);를 포함하고,
    상기 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법은:
    진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 가스 이탈 구멍(4)을 통하여 펌핑하기 위하여 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 작동됨;
    동시에, 이젝터(ejector; 7)에 작동 유체(working fluid)가 공급됨; 및
    스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 상기 진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 펌핑하는 모든 시간 동안 및/또는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 내의 정해진 압력을 유지하는 모든 시간 동안에, 이젝터(7)에는 계속하여 작동 유체가 공급됨;을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    이젝터 배출부(7)는 비-복귀 밸브(6) 뒤에서 상기 도관(5)에 다시 연결되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는 작동 유체의 소비 최소화를 위하여 정해진 규격을 가진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    이젝터(7)의 공칭 유량(nominal flow rate)은, 비-복귀 밸브(6)에 의하여 한정되는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 이탈 도관(5)의 포위 공간(enclosed space)의 함수로서 선택되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 이젝터의 유량은 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 사이인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)의 작동 유체는 압축된 공기 및/또는 질소인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는 단일 스테이지(single-stage) 또는 복수 스테이지의 구조로 된 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 흡입 단부(suction end)에서의 압력이 절대 압력 500 mbar 내지 최종 진공(final vacuum) 사이인 때에 비-복귀 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 가스 및 물질에 대한 증가된 화학적 저항성을 갖는 재료로 만들어진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는, 비-복귀 밸브(6)를 포함하는 카트리지(cartridge)에 통합되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 카트리지는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 가스 이탈 구멍(5)에 고정된 배기 머플러(exhaust muffler)에 수용되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    이젝터(7)의 기능에 필요한 압력의 가스의 유량은 압축기(10)에 의하여 제공되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)의 샤프트들 중 적어도 하나에 의하여 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)와는 독립적으로, 자체적인 방식(autonomous manner)으로 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  15. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 압축기(10)는, 비-복귀 밸브(6) 뒤에 있는 가스 이탈 도관(8) 안의 가스 또는 대기 공기를 비워내는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP)에서의 펌핑 방법.
  16. 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3), 비-복귀 밸브(6), 및 이젝터(7)를 포함하는 진공 펌프 시스템(SP)으로서,
    상기 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)는 진공 챔버(1)에 연결된 가스 진입 구멍(2)과, 진공 펌프 시스템(SP)의 가스 배출부(8)로 나오기 전에 있는 도관(5)으로 이어지는 가스 이탈 구멍(4)을 구비하고,
    상기 비-복귀 밸브(6)는 가스 이탈 구멍(4)과 가스 배출부(8) 사이에서 도관(5) 안에 배치되며,
    상기 이젝터(7)는 비-복귀 밸브(6)에 대해 병렬로 연결되고,
    상기 진공 펌프 시스템(SP)은:
    스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 상기 진공 챔버(1) 안에 격납된 가스를 펌핑하는 모든 시간 동안 및/또는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)가 진공 챔버(1) 내의 정해진 압력을 유지하는 모든 시간 동안에, 상기 이젝터(7)가 작동 유체를 공급받을 수 있도록 설계된 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  17. 제16항에 있어서,
    상기 이젝터 배출부(7)는 상기 비-복귀 밸브(6) 뒤에서 도관(5)에 다시 연결되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  18. 제16항 또는 제17항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는 작동 유체의 소비 최소화를 위하여 정해진 규격을 가진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  19. 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    이젝터(7)의 공칭 유량(nominal flow rate)은, 비-복귀 밸브(6)에 의하여 한정되는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 이탈 도관(5)의 포위 공간(enclosed space)의 함수로서 선택되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  20. 제19항에 있어서,
    상기 이젝터의 유량은 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 공칭 유량의 1/500 내지 1/20 사이인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  21. 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)의 작동 유체는 압축된 공기 및/또는 질소인 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  22. 제16항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는 단일 스테이지(single-stage) 또는 복수 스테이지의 구조로 된 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  23. 제16항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 흡입 단부(suction end)에서의 압력이 절대 압력 500 mbar 내지 최종 진공(final vacuum) 사이인 때에 비-복귀 밸브(6)가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  24. 제16항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 가스 및 물질에 대한 증가된 화학적 저항성을 갖는 재료로 만들어진 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  25. 제16항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이젝터(7)는, 비-복귀 밸브(6)를 포함하는 카트리지(cartridge)에 통합되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  26. 제25항에 있어서,
    상기 카트리지는 스크류 유형의 1차 건식 진공 펌프(3)의 가스 이탈 구멍(5)에 고정된 배기 머플러(exhaust muffler)에 수용되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  27. 제16항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시스템은 이젝터(7)의 기능에 필요한 압력의 가스의 유량을 제공하는 압축기(10)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  28. 제27항에 있어서,
    압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)의 샤프트들 중 적어도 하나에 의하여 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  29. 제27항에 있어서,
    상기 압축기(10)는 1차 건식 스크류 유형 펌프(3)와는 독립적으로, 자체적인 방식(autonomous manner)으로 구동되는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
  30. 제27항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 압축기(10)는, 비-복귀 밸브(6) 뒤에 있는 가스 이탈 도관(8) 안의 가스 또는 대기 공기를 비워내는 것을 특징으로 하는, 진공 펌프 시스템(SP).
KR1020167029509A 2014-03-24 2014-04-07 진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법 KR102190221B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP2014055822 2014-03-24
EPPCT/EP2014/055822 2014-03-24
PCT/EP2014/056938 WO2015144254A1 (fr) 2014-03-24 2014-04-07 Méthode de pompage dans un système de pompes à vide et système de pompes à vide

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160137596A true KR20160137596A (ko) 2016-11-30
KR102190221B1 KR102190221B1 (ko) 2020-12-14

Family

ID=50346017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167029509A KR102190221B1 (ko) 2014-03-24 2014-04-07 진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법

Country Status (15)

Country Link
US (1) US10260502B2 (ko)
EP (1) EP3123030B1 (ko)
JP (1) JP6445041B2 (ko)
KR (1) KR102190221B1 (ko)
CN (1) CN106232992A (ko)
AU (1) AU2014388058B2 (ko)
BR (1) BR112016021735B1 (ko)
CA (1) CA2943315C (ko)
DK (1) DK3123030T3 (ko)
ES (1) ES2752762T3 (ko)
PL (1) PL3123030T3 (ko)
PT (1) PT3123030T (ko)
RU (1) RU2660698C2 (ko)
TW (1) TWI651471B (ko)
WO (1) WO2015144254A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018178846A (ja) * 2017-04-12 2018-11-15 株式会社荏原製作所 真空ポンプ装置の運転制御装置、及び運転制御方法
DE102021107055A1 (de) * 2021-03-22 2022-09-22 Inficon Gmbh Funktionsprüfung einer Leckdetektionsvorrichtung für die Dichtheitsprüfung eines mit einer Flüssigkeit gefüllten Prüflings

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050232783A1 (en) * 2002-05-03 2005-10-20 Peter Tell Vacuum pump and method for generating sub-pressure
JP2007100562A (ja) 2005-10-03 2007-04-19 Shinko Seiki Co Ltd 真空装置
WO2014012896A2 (fr) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3536418A (en) * 1969-02-13 1970-10-27 Onezime P Breaux Cryogenic turbo-molecular vacuum pump
FR2822200B1 (fr) * 2001-03-19 2003-09-26 Cit Alcatel Systeme de pompage pour gaz a faible conductivite thermique
FR2952683B1 (fr) * 2009-11-18 2011-11-04 Alcatel Lucent Procede et dispositif de pompage a consommation d'energie reduite
US20120261011A1 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Young Man Cho Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump
CN106255828A (zh) * 2014-05-01 2016-12-21 阿特利耶博世股份有限公司 泵送系统中的泵送方法以及真空泵系统
PL3201469T3 (pl) * 2014-10-02 2020-07-27 Ateliers Busch S.A. Układ pompujący do wytwarzania próżni oraz sposób pompowania za pomocą tego układu

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050232783A1 (en) * 2002-05-03 2005-10-20 Peter Tell Vacuum pump and method for generating sub-pressure
JP2007100562A (ja) 2005-10-03 2007-04-19 Shinko Seiki Co Ltd 真空装置
WO2014012896A2 (fr) * 2012-07-19 2014-01-23 Adixen Vacuum Products Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes

Also Published As

Publication number Publication date
DK3123030T3 (da) 2019-10-14
RU2660698C2 (ru) 2018-07-09
EP3123030B1 (fr) 2019-08-07
AU2014388058A1 (en) 2016-10-13
TW201600723A (zh) 2016-01-01
TWI651471B (zh) 2019-02-21
KR102190221B1 (ko) 2020-12-14
CA2943315A1 (fr) 2015-10-01
WO2015144254A1 (fr) 2015-10-01
CN106232992A (zh) 2016-12-14
EP3123030A1 (fr) 2017-02-01
ES2752762T3 (es) 2020-04-06
US10260502B2 (en) 2019-04-16
PT3123030T (pt) 2019-10-25
BR112016021735A2 (pt) 2021-09-08
BR112016021735B1 (pt) 2022-07-05
PL3123030T3 (pl) 2020-03-31
AU2014388058B2 (en) 2019-02-21
US20170089339A1 (en) 2017-03-30
JP6445041B2 (ja) 2018-12-26
CA2943315C (fr) 2021-09-21
JP2017519141A (ja) 2017-07-13
RU2016141339A (ru) 2018-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI696760B (zh) 用於產生真空的泵送系統及利用此泵送系統的泵送方法
US11725662B2 (en) Method of pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps
TWI725943B (zh) 用於產生真空的泵送系統及利用此泵送系統的泵送方法
KR102190221B1 (ko) 진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법
JP6410836B2 (ja) 圧送のためのシステムにおける圧送方法および真空ポンプシステム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant