JP7489929B2 - Chip peeling method, semiconductor device manufacturing method, and chip peeling device - Google Patents

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Description

本発明は、チップ剥離方法、半導体装置の製造方法、チップ剥離装置に関する。 The present invention relates to a chip peeling method, a semiconductor device manufacturing method, and a chip peeling device.

半導体装置の製造工程において、ダイシングされた半導体チップ(以下、単にチップともいう)を粘着シートから剥離させてピックアップする必要がある。そして、このチップを剥離させるチップ剥離装置のうち、チップの剥離にニードルを用いないニードルレスのものが複数存在している。 In the manufacturing process of semiconductor devices, it is necessary to peel off the diced semiconductor chip (hereinafter simply referred to as the chip) from the adhesive sheet and pick it up. Among the chip peeling devices that peel off the chip, there are several needleless devices that do not use needles to peel off the chip.

例えば特許文献1のチップ剥離装置100は、図13に示すように、基台ステージ101と可動ステージ102とを備える。基台ステージ101および可動ステージ102の上方には、チップ103が貼り付けられた粘着シート104が配置される。可動ステージ102の外周側には、粘着シート104と基台ステージ101との間に空間部105が形成される。基台ステージ101には、空間部105に連通する図示しない吸引孔が設けられる。剥離されるチップ103は、可動ステージ102よりもその外周側に飛び出し、チップ103の外周端が空間部105上に配置されている。 For example, the chip peeling device 100 of Patent Document 1 includes a base stage 101 and a movable stage 102, as shown in FIG. 13. An adhesive sheet 104 to which a chip 103 is attached is disposed above the base stage 101 and the movable stage 102. A space 105 is formed between the adhesive sheet 104 and the base stage 101 on the outer periphery of the movable stage 102. The base stage 101 is provided with a suction hole (not shown) that communicates with the space 105. The chip 103 to be peeled protrudes to the outer periphery of the movable stage 102, and the outer periphery of the chip 103 is disposed above the space 105.

チップを剥離させる際には、チップ剥離装置100は、コレット106によりチップ103を図の上方へ吸着した状態で、基台ステージ101の吸引孔から吸引動作を行う。これにより、空間部105が負圧になって空間部105上の粘着シート104が吸引され、チップ103の外周端側が粘着シート104から剥離する(以下、この剥離を初期剥離と呼ぶ)。 When peeling off the chip, the chip peeling device 100 performs a suction operation through the suction holes in the base stage 101 while the collet 106 is holding the chip 103 upward in the figure. This creates a negative pressure in the space 105, sucking the adhesive sheet 104 above the space 105, and the outer periphery of the chip 103 peels off from the adhesive sheet 104 (hereinafter, this peeling is referred to as initial peeling).

初期剥離後は、可動ステージ102を図の左方向へ移動させる。これにより、吸引孔から吸引される粘着シート104の面積が増加していき、最終的にチップ103を粘着シート104から剥離させることができる。 After the initial peeling, the movable stage 102 is moved to the left in the figure. This increases the area of the adhesive sheet 104 that is sucked through the suction holes, and finally the chip 103 can be peeled off from the adhesive sheet 104.

また、例えば特許文献2の半導体製造装置130は、図14に示すように、第1ブロック131、第2ブロック132、第3ブロック133、第4ブロック134、そして第5ブロック135と、その周辺の吸着部136とを備える。各ブロック131~135は図の上下方向に個別に移動可能であり、その上部に載置されたダイシングテープ139およびチップ138を突き上げることができる。また第1ブロック131は、図の左右方向にも移動可能である。第1ブロック131~第5ブロック135の上部に、ダイシングテープ139および剥離するチップ138が配置される。 For example, the semiconductor manufacturing apparatus 130 of Patent Document 2, as shown in FIG. 14, comprises a first block 131, a second block 132, a third block 133, a fourth block 134, and a fifth block 135, and an adsorption portion 136 around them. Each of the blocks 131 to 135 can be moved individually in the vertical direction of the figure, and can push up the dicing tape 139 and chip 138 placed on the top. The first block 131 can also be moved in the horizontal direction of the figure. The dicing tape 139 and the chip 138 to be peeled off are placed on the top of the first block 131 to the fifth block 135.

チップを剥離する際には、まず、図14のように、各ブロック131~135が吸着部136と同じ高さになる位置に配置される。この状態で、吸着部136に設けられた複数の吸着孔、および、各ブロックの隙間からダイシングテープ139を吸引する。そして、図示しないコレットによりチップ138を吸着すると共に、図15に示すように、第1ブロック131~第5ブロック135を設定された高さまで上昇させていく。これにより、第1ブロック131~第5ブロック135と吸着部136との間に段差が生じ、ダイシングテープ139が変形していく。そして、ダイシングテープ139が一定量変形すると、チップ138の外周端側がダイシングテープ139から剥離する初期剥離が生じる。 When peeling off the chip, first, as shown in FIG. 14, each block 131 to 135 is positioned at the same height as the suction portion 136. In this state, the dicing tape 139 is sucked through the multiple suction holes provided in the suction portion 136 and the gaps between each block. Then, the chip 138 is sucked by a collet (not shown), and the first block 131 to the fifth block 135 are raised to a set height as shown in FIG. 15. This creates a step between the first block 131 to the fifth block 135 and the suction portion 136, and the dicing tape 139 is deformed. Then, when the dicing tape 139 has deformed a certain amount, an initial peel occurs in which the outer peripheral end side of the chip 138 peels off from the dicing tape 139.

特許第5214739号公報Patent No. 5214739 特開2019-47089号公報JP 2019-47089 A

特許文献1における初期剥離の方法では、吸引孔を介した粘着シートの吸引により、粘着シートにチップが剥離するだけの変形を一度に生じさせる。従って、この粘着シートの変形により、チップにも大きな圧力が加えられることになり、初期剥離時にチップの外周端側に割れが生じるおそれがあった。特に、チップの外周端側にチッピングやクラックなどがあってその強度が弱い場合には、上記の割れの問題が顕著であった。 In the initial peeling method described in Patent Document 1, the adhesive sheet is sucked through suction holes, causing a deformation in the adhesive sheet that is sufficient to peel off the chip all at once. This deformation of the adhesive sheet therefore exerts a large pressure on the chip, which may cause cracks on the outer periphery of the chip during initial peeling. In particular, when the outer periphery of the chip has chipping or cracks that weaken its strength, the above-mentioned cracking problem is significant.

また特許文献2における初期剥離では、第1ブロック131に対するチップ138の飛び出し量(図14の左右方向の飛び出し量)は一定であるため、剥離時にダイに加わる衝撃を緩和しようとした場合、初期剥離時の第1ブロック131~第5ブロック135の上昇速度を緩めるしかなく、上記のようにチップの外周端側にチッピングやクラックなどがある場合には、初期剥離に大きく時間を要するという問題があった。 In addition, in the initial peeling in Patent Document 2, the amount of protrusion of the chip 138 from the first block 131 (the amount of protrusion in the left-right direction in FIG. 14) is constant, so if you try to mitigate the impact on the die during peeling, the only way is to slow down the rising speed of the first block 131 to the fifth block 135 during initial peeling. As mentioned above, if there is chipping or cracks on the outer edge of the chip, the initial peeling takes a long time.

以上のことから、本発明では、チップの外周端側を粘着シートから剥離させる初期剥離において、チップの外周端側に生じる割れを防止することを課題とする。 In view of the above, the objective of the present invention is to prevent cracks from occurring on the outer edge of the chip during the initial peeling process in which the outer edge of the chip is peeled off from the adhesive sheet.

上記の課題を解決するため、本発明は、上面にチップを貼り付けた粘着シートから前記チップを剥離させるチップ剥離方法であって、剥離させる前記チップの外周端側が第1ステージと第2ステージとの間の空間部に対応する位置に配置されるように、前記チップを貼り付けた前記粘着シートを配置した後、前記空間部を負圧にして前記粘着シートを吸引した状態で、前記第1ステージと前記第2ステージとの少なくとも一方を、前記空間部を狭める方向へ移動させることで、前記チップの外周端側を前記粘着シートから剥離させることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the present invention provides a chip peeling method for peeling a chip from an adhesive sheet having a chip attached to its upper surface, which is characterized in that the adhesive sheet having the chip attached thereto is positioned so that the outer peripheral end side of the chip to be peeled is positioned in a position corresponding to the space between the first stage and the second stage, and then, while creating a negative pressure in the space and sucking the adhesive sheet, at least one of the first stage and the second stage is moved in a direction narrowing the space, thereby peeling the outer peripheral end side of the chip from the adhesive sheet.

本発明のチップ剥離方法によれば、空間部を負圧にして粘着シートを吸引した状態で、空間部を徐々に狭めることで、空間部に対応する位置において、粘着シートの変形角度を徐々に大きくすることができる。つまり、最初の吸引時にはチップが剥離しない程度に粘着シートを変形させ、その後、徐々に粘着シートの変形角度を大きくしていき、チップの外周端側を剥離させることが可能である。従って、特許文献1のように、チップが剥離する角度まで粘着シートを一気に変形させる方法と比較すると、剥離動作時にチップにかかる圧力を低減できる。従って、剥離動作時のチップの外周端側の割れを防止できる。 According to the chip peeling method of the present invention, by gradually narrowing the space while creating negative pressure in the space and sucking the adhesive sheet, the deformation angle of the adhesive sheet can be gradually increased at the position corresponding to the space. In other words, during the first suction, the adhesive sheet is deformed to an extent that the chip does not peel off, and then the deformation angle of the adhesive sheet is gradually increased, making it possible to peel off the outer edge side of the chip. Therefore, compared to the method of deforming the adhesive sheet all at once to an angle at which the chip peels off, as in Patent Document 1, the pressure applied to the chip during the peeling operation can be reduced. Therefore, cracking of the outer edge side of the chip during the peeling operation can be prevented.

上記チップ剥離方法は、前記第1ステージは、前記空間部に対応する位置に、前記空間部を負圧にするための負圧通路を備え、前記第2ステージは、前記第1ステージに対して、前記空間部を広げる方向および狭める方向へスライド可能で、前記チップの外周端側を剥離させた後、前記第2ステージを、前記第1ステージに対して、前記空間部を広げる方向へスライドさせることで、前記チップを前記粘着シートからさらに剥離させる方法とすることができる。 The above chip peeling method can be a method in which the first stage is provided with a negative pressure passage at a position corresponding to the space for creating a negative pressure in the space, the second stage is slidable relative to the first stage in a direction to widen and narrow the space, and after peeling off the outer peripheral end side of the chip, the second stage is slid relative to the first stage in a direction to widen the space, thereby further peeling the chip from the adhesive sheet.

また上記チップ剥離方法は、前記第2ステージおよび一または複数の接離ステージに対応する位置に前記剥離させるチップが配置され、前記接離ステージは、前記粘着シートに接離する方向へ移動可能であり、前記第2ステージは、前記接離ステージと前記第1ステージとの間に配置され、前記第1ステージに接近する方向で前記空間部を狭める方向、および、前記第1ステージから離間する方向で前記空間部を広げる方向へ水平移動可能であり、前記チップの外周端側を剥離させた後、前記チップの外側に配置された接離ステージから順次、前記粘着シートから離間する方向へ移動させると共に、前記第2ステージを、前記空間部が広がる方向へ水平移動させることで、前記チップを前記粘着シートからさらに剥離させる方法とすることができる。 The chip peeling method can also be a method in which the chip to be peeled is placed at a position corresponding to the second stage and one or more contact/separation stages, the contact/separation stages are movable in a direction to contact or separate from the adhesive sheet, the second stage is placed between the contact/separation stage and the first stage, and is horizontally movable in a direction to narrow the space in a direction to approach the first stage and in a direction to widen the space in a direction to move away from the first stage, and after the outer peripheral end side of the chip is peeled off, the contact/separation stages placed outside the chip are sequentially moved in a direction to move away from the adhesive sheet, and the second stage is moved horizontally in a direction to widen the space, thereby further peeling the chip from the adhesive sheet.

また、以上のチップ剥離方法により、半導体装置を製造することができる。 In addition, the above chip peeling method can be used to manufacture semiconductor devices.

また上記課題を解決するため、本発明は、上面にチップを貼り付けた粘着シートから前記チップを剥離させるチップ剥離装置であって、剥離させる前記チップの外周端側がステージ同士の間の空間部に配置されるように、前記粘着シートを配置した第1ステージおよび第2ステージと、前記空間部に負圧を発生させて前記粘着シートを吸引する負圧発生機構と、前記負圧発生機構により前記空間部に負圧が発生した状態で、前記空間部を狭める方向へ前記第1ステージと前記第2ステージとの少なくとも一方を移動させ、前記チップの外周端側を前記粘着シートから剥離させる移動機構とを備えたことを特徴とする。 In order to solve the above problem, the present invention provides a chip peeling device that peels off a chip from an adhesive sheet having a chip attached to its upper surface, the device comprising: a first stage and a second stage on which the adhesive sheet is arranged so that the outer peripheral end side of the chip to be peeled off is positioned in the space between the stages; a negative pressure generating mechanism that generates negative pressure in the space to suck in the adhesive sheet; and a moving mechanism that, while negative pressure is generated in the space by the negative pressure generating mechanism, moves at least one of the first stage and the second stage in a direction that narrows the space, thereby peeling off the outer peripheral end side of the chip from the adhesive sheet.

本発明によれば、チップの外周端側に割れが生じることを防止できる。 The present invention can prevent cracks from occurring on the outer edge side of the tip.

粘着シートに貼り付けたチップを示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a chip attached to an adhesive sheet. 本実施形態のチップ剥離装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the chip peeling device of the present embodiment. 本実施形態のチップ剥離装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a chip peeling device of the present embodiment. 上記チップ剥離装置によりチップを剥離させる過程を示す断面図で、チップの外周端を吸引した状態を示す図である。10A to 10C are cross-sectional views showing a process of peeling off a chip by the chip peeling device, illustrating a state in which the outer peripheral end of the chip has been sucked. 上記チップ剥離装置によりチップを剥離させる過程を示す断面図で、可動ステージを移動させて空間部を狭める様子を示す図である。10A to 10C are cross-sectional views showing a process of peeling off a chip by the chip peeling device, illustrating how the movable stage is moved to narrow the space. 上記チップ剥離装置によりチップを剥離させる過程を示す断面図で、チップが初期剥離した状態を示す図である。1A to 1C are cross-sectional views showing a process of peeling off a chip by the chip peeling device, illustrating a state in which the chip has been initially peeled off. 上記チップ剥離装置によりチップを剥離させる過程を示す断面図で、初期剥離後にチップの剥離範囲を拡大させる様子を示す図である。10A to 10C are cross-sectional views showing the process of peeling off the chip by the chip peeling device, illustrating how the peeled range of the chip is expanded after the initial peeling. 上記と異なる実施形態のチップ剥離装置を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a chip peeling device according to a different embodiment from the above. 図8のチップ剥離装置によりチップを剥離する過程を示す断面図で、第1ブロックを移動させて空間部を狭める様子を示す図である。9 is a cross-sectional view showing a process of peeling off a chip by the chip peeling device of FIG. 8, showing how the first block is moved to narrow the space. FIG. 図8のチップ剥離装置によりチップを剥離させる過程を示す断面図で、チップが初期剥離した状態を示す図である。9A to 9C are cross-sectional views showing the process of peeling off a chip by the chip peeling device of FIG. 8, illustrating a state in which the chip has been initially peeled off. 図8のチップ剥離装置によりチップを剥離させる過程を示す断面図で、初期剥離後にチップの剥離範囲を拡大させる様子を示す図である。9 is a cross-sectional view showing the process of peeling off the chip by the chip peeling device of FIG. 8, showing how the peeled range of the chip is expanded after the initial peeling. FIG. 図8のチップ剥離装置の平面図である。FIG. 9 is a plan view of the chip peeling device of FIG. 8 . 従来のチップ剥離装置を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a conventional chip peeling device. 図13とは異なる従来のチップ剥離装置を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a conventional chip peeling device different from that shown in FIG. 13. 図13とは異なる従来のチップ剥離装置を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a conventional chip peeling device different from that shown in FIG. 13.

以下、本発明に係る実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、各図中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化ないし省略する。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings. Note that in each drawing, the same or corresponding parts are given the same reference numerals, and duplicate descriptions will be appropriately simplified or omitted.

本実施形態のチップは、素材であるウエハから矩形状に切り出され、粘着シートから剥離させることで、最終製品として取り出すことができる。図1に示すように、円形状をなすウエハ10にはダイシング加工が施され、ウエハ10が個々のチップ11に分割されている。本実施形態では、チップ11は正方形に切り分けられている。チップ11はその下面側で粘着シート12に貼り付けられている。図1では、粘着シート12の外周側に、リング状のフレーム13が貼着されている。すなわち、フレーム13と粘着シート12とが一体化されている。 The chips of this embodiment are cut into rectangular shapes from the wafer material and can be removed as the final product by peeling them off from the adhesive sheet. As shown in FIG. 1, a circular wafer 10 is diced to divide the wafer 10 into individual chips 11. In this embodiment, the chips 11 are cut into squares. The underside of the chip 11 is attached to an adhesive sheet 12. In FIG. 1, a ring-shaped frame 13 is attached to the outer periphery of the adhesive sheet 12. In other words, the frame 13 and the adhesive sheet 12 are integrated.

次に、図2および図3を用いて、本実施形態のチップ剥離装置1を説明する。 Next, the chip peeling device 1 of this embodiment will be described with reference to Figures 2 and 3.

図3に示すように、チップ剥離装置1は、保持機構としてのコレット15と、第1ステージとしての基台ステージ16と、第2ステージとしての可動ステージ17と、負圧発生機構18、移動機構29等を備える。 As shown in FIG. 3, the chip peeling device 1 includes a collet 15 as a holding mechanism, a base stage 16 as a first stage, a movable stage 17 as a second stage, a negative pressure generating mechanism 18, a moving mechanism 29, etc.

コレット15は、チップ11を吸着するヘッド19を備える。ヘッド19は、その下端面19aに吸着孔を有する。ヘッド19は、この吸着孔を介して下方に配置されたチップ11を吸着し、チップ11を保持することができる。またヘッド19はこの吸着動作を解除することにより、チップ11を放すことができる。コレット15は、例えばロボットのアームに連結され、図3の上下方向や左右方向および紙面垂直方向に移動可能である。 The collet 15 has a head 19 that adsorbs the chip 11. The head 19 has an adsorption hole on its lower end surface 19a. The head 19 is able to adsorb the chip 11 placed below through this adsorption hole and hold the chip 11. The head 19 can also release the chip 11 by releasing this adsorption action. The collet 15 is connected to, for example, a robot arm, and can move up and down and left and right in FIG. 3, as well as in a direction perpendicular to the paper surface.

基台ステージ16は凹部16aを備える。この凹部16aに、可動ステージ17が配置される。また基台ステージ16は、凹部16aに負圧通路16bを備える。 The base stage 16 has a recess 16a. The movable stage 17 is placed in this recess 16a. The base stage 16 also has a negative pressure passage 16b in the recess 16a.

可動ステージ17は矩形状の平板である。ただし、可動ステージ17の形状はこれに限るものではなく、例えば粘着シート12側の面(図3の上面)に凹凸形状や湾曲部が設けられていてもよい。可動ステージ17は、凹部16a内を水平方向(図3の左右方向)に往復移動可能(スライド可能)なように、凹部16aに嵌め込まれている。可動ステージ17は、移動機構29により駆動力を伝達されて水平移動する。移動機構29としては、ボルトナットやシリンダ機構など、適宜の機構を採用できる。可動ステージ17の上部には、粘着シート12から剥離されるチップ11が載置されている。 The movable stage 17 is a rectangular flat plate. However, the shape of the movable stage 17 is not limited to this, and for example, the surface on the adhesive sheet 12 side (the upper surface in FIG. 3) may have an uneven shape or a curved portion. The movable stage 17 is fitted into the recess 16a so that it can move back and forth (slide) horizontally (left and right in FIG. 3) within the recess 16a. The movable stage 17 moves horizontally by transmitting a driving force from the moving mechanism 29. As the moving mechanism 29, an appropriate mechanism such as a bolt and nut or cylinder mechanism can be used. The chip 11 to be peeled off from the adhesive sheet 12 is placed on the upper part of the movable stage 17.

凹部16a上には、基台ステージ16と可動ステージ17の側面(図2の短辺17cを含む側面)、そして、粘着シート12の下面とに囲まれた空間部Aが形成される。負圧発生機構18は、負圧通路16bを介して、空間部Aのエアを吸引して空間部Aに負圧を発生させる。可動ステージ17上のチップ11の外周端23cは、空間部A上(空間部Aに対応する位置)に配置される。 A space A is formed above the recess 16a, surrounded by the base stage 16, the side of the movable stage 17 (the side including the short side 17c in FIG. 2), and the underside of the adhesive sheet 12. The negative pressure generating mechanism 18 generates negative pressure in the space A by sucking air from the space A through the negative pressure passage 16b. The outer peripheral end 23c of the chip 11 on the movable stage 17 is positioned above the space A (at a position corresponding to the space A).

図2に示すように、可動ステージ17の幅寸法Wは、チップ11の一辺の長さW1よりも小さく設定されている。従って、チップ11は主に外周端23a~23cが可動ステージ17からはみ出している。可動ステージ17の一方の長辺17aが剥離するチップ11の第1外周端23aに対応し、他方の長辺17bがチップ11の第2外周端23bに(チップ11の第1外周端23aに)対応する。また可動ステージ17の先端側の短辺17cがチップ11の第3外周端23c(第1外周端23aおよび第2外周端23bに対して直角な辺)に対応している。 As shown in FIG. 2, the width dimension W of the movable stage 17 is set smaller than the length W1 of one side of the chip 11. Therefore, mainly the outer peripheral ends 23a to 23c of the chip 11 protrude from the movable stage 17. One long side 17a of the movable stage 17 corresponds to the first outer peripheral end 23a of the chip 11 to be peeled off, and the other long side 17b corresponds to the second outer peripheral end 23b of the chip 11 (the first outer peripheral end 23a of the chip 11). In addition, the short side 17c on the tip side of the movable stage 17 corresponds to the third outer peripheral end 23c of the chip 11 (the side perpendicular to the first outer peripheral end 23a and the second outer peripheral end 23b).

可動ステージ17の各辺17a~17cは、チップ11の第1外周端23a~第3外周端23cにそれぞれ平行に配置される。可動ステージ17は、図1の左右方向へ水平移動する。ただし、チップ剥離装置1をウエハに対して、図2から90度回転した方向(図2の紙面に沿う方向に90度回転させた方向)から装着することもできる。この場合、上記可動ステージ17の水平移動の方向は図1の上下方向になる。 The movable stage 17 has sides 17a to 17c arranged parallel to the first outer periphery 23a to third outer periphery 23c of the chip 11, respectively. The movable stage 17 moves horizontally in the left-right direction in FIG. 1. However, the chip peeling device 1 can also be attached to the wafer from a direction rotated 90 degrees from FIG. 2 (a direction rotated 90 degrees along the paper surface of FIG. 2). In this case, the horizontal movement direction of the movable stage 17 is the up-down direction in FIG. 1.

凹部16aには、第1外周端23a、第2外周端23b、第3外周端23cに対応して、負圧通路16b1、16b2、16b3が設けられる(図2では一例として、それぞれの外周端の中間部に対応して各負圧通路を設けているが、これに限るものではない)。図2の方向視で、各負圧通路16b1~16b3は、その一部がチップ11からはみ出している。 Negative pressure passages 16b1, 16b2, and 16b3 are provided in the recess 16a in correspondence with the first outer peripheral end 23a, the second outer peripheral end 23b, and the third outer peripheral end 23c (FIG. 2 shows an example in which each negative pressure passage is provided in correspondence with the middle of each outer peripheral end, but this is not limited thereto). When viewed from the direction shown in FIG. 2, each negative pressure passage 16b1 to 16b3 partially protrudes from the tip 11.

次に、本実施形態のチップ剥離装置1によるチップ剥離方法について説明する。なお、以下の説明では、粘着シート12から剥離するチップ11をチップ11Aとし、チップ11Aに隣接するチップをチップ11Bとして説明する。 Next, a chip peeling method using the chip peeling device 1 of this embodiment will be described. In the following description, the chip 11 to be peeled off from the adhesive sheet 12 will be referred to as chip 11A, and the chip adjacent to chip 11A will be referred to as chip 11B.

まず、図3に示すように、可動ステージ17で、粘着シート12を介してチップ11Aを支持する。この際、チップ11Aの第1外周端23a~23c側が可動ステージ17からはみ出している(図2参照)。この状態で、図4に示すように、負圧発生機構18が負圧通路16bを介して空間部Aに負圧を発生させる。これにより、空間部A上部の粘着シート12およびチップ11Aが空間部A側に吸引される。本実施形態では、基台ステージ16と可動ステージ17の高さが略同じに設定されている。従って、基台ステージ16側と可動ステージ17側とで粘着シート12に段差が生じないため、上記吸引による粘着シート12の変形は緩やかであり、チップ11Aの外周端23cはこの時点では粘着シート12から剥離していない。言い換えると、初期の空間部Aは、粘着シート12が剥離を生じない程度に変形するように、その幅(図4の左右方向の幅)が広く設けられている。 First, as shown in FIG. 3, the movable stage 17 supports the chip 11A via the adhesive sheet 12. At this time, the first outer circumferential ends 23a to 23c of the chip 11A protrude from the movable stage 17 (see FIG. 2). In this state, as shown in FIG. 4, the negative pressure generating mechanism 18 generates negative pressure in the space A via the negative pressure passage 16b. As a result, the adhesive sheet 12 and the chip 11A at the top of the space A are sucked toward the space A. In this embodiment, the heights of the base stage 16 and the movable stage 17 are set to be approximately the same. Therefore, since there is no step in the adhesive sheet 12 on the base stage 16 side and the movable stage 17 side, the deformation of the adhesive sheet 12 due to the above suction is gentle, and the outer circumferential end 23c of the chip 11A has not peeled off from the adhesive sheet 12 at this point. In other words, the initial space A is set to have a wide width (width in the left-right direction in FIG. 4) so that the adhesive sheet 12 is deformed to a degree that does not cause peeling.

そして図5に示すように、可動ステージ17を、基台ステージ16に対して、矢印B1方向へ水平移動(スライド)させていく。このスライドにより空間部Aが徐々に狭められ、空間部A上の粘着シート12が、可動ステージ17と基台ステージ16(より詳細には、基台ステージ16の高所部16c)とに挟み込まれる形になって、下方への変形角度が徐々に大きくなっていく。一方この動作時には、粘着シート12上のチップ11Aは、ヘッド19(図3参照)によって図5の上方へ吸着されている。従って、粘着シート12の変形角度が所定の大きさになると、図6に示すように、チップ11Aの外周端23cが粘着シート12から剥離する(以下、この剥離を初期剥離と呼ぶ)。なお、粘着シート12の変形角度とは、粘着シート12の空間部Aに対応する部分のその他の部分に対する角度のことであり、図6の左右方向の水平線に対する角度である。 Then, as shown in FIG. 5, the movable stage 17 is moved (slid) horizontally relative to the base stage 16 in the direction of the arrow B1. This sliding gradually narrows the space A, and the adhesive sheet 12 on the space A is sandwiched between the movable stage 17 and the base stage 16 (more specifically, the high part 16c of the base stage 16), and the downward deformation angle gradually increases. Meanwhile, during this operation, the chip 11A on the adhesive sheet 12 is adsorbed upward in FIG. 5 by the head 19 (see FIG. 3). Therefore, when the deformation angle of the adhesive sheet 12 reaches a predetermined size, the outer peripheral end 23c of the chip 11A is peeled off from the adhesive sheet 12 as shown in FIG. 6 (hereinafter, this peeling is called initial peeling). The deformation angle of the adhesive sheet 12 is the angle of the part of the adhesive sheet 12 corresponding to the space A with respect to the other parts, and is the angle with respect to the horizontal line in the left-right direction in FIG. 6.

このように本実施形態では、まず負圧発生機構18による吸引によって、粘着シート12に、チップ11が剥離しない程度の変形を生じさせ、その後の上記スライドにより、チップ11の外周端が剥離する角度まで、粘着シート12の変形角度を徐々に大きくすることができる。従って、特許文献1の図13のように、空間部の吸引によりチップが剥離する角度まで粘着シートを一気に変形させる構成と比較すると、チップ11の外周端に加わる圧力を低減できる。従って、チップ11の割れを防止できる。このような本実施形態の剥離方法は、特に、その外周端側にチッピングや微小クラックがある等、外周端側が強度の劣るチップを剥離させる際に好適である。 In this embodiment, the adhesive sheet 12 is first deformed by suction using the negative pressure generating mechanism 18 to an extent that the chip 11 does not peel off, and then the above-mentioned sliding can gradually increase the deformation angle of the adhesive sheet 12 to an angle at which the outer peripheral end of the chip 11 peels off. Therefore, compared to a configuration in which the adhesive sheet is deformed all at once by suctioning the space to an angle at which the chip peels off, as in FIG. 13 of Patent Document 1, the pressure applied to the outer peripheral end of the chip 11 can be reduced. Therefore, cracking of the chip 11 can be prevented. This peeling method of the present embodiment is particularly suitable for peeling off chips whose outer peripheral end has poor strength, such as chipping or microcracks on the outer peripheral end side.

また、可動ステージ17の移動量と移動速度は任意に変更できる。つまり、粘着シート12の変形角度やその変形の速度を自由に制御できる。従って、チップ11に加わる圧力を容易に制御できる。 In addition, the amount and speed of movement of the movable stage 17 can be changed as desired. In other words, the deformation angle and speed of the adhesive sheet 12 can be freely controlled. Therefore, the pressure applied to the chip 11 can be easily controlled.

また本実施形態では、可動ステージ17と基台ステージ16の高所部16cとの高さを略同じに設定している。これにより、最初の粘着シート12の吸引動作時(図4参照)における粘着シート12の変形を抑制し、チップ11Aに最初に加えられる圧力を低減できる。また、チップ11Aの一連の剥離動作時に、隣接するチップ11Bの外周端側に圧力が加わることを抑制できる。つまり、特許文献1の図13のように、基台ステージと可動ステージとの間に段差がある構成では、段差によって粘着シートがより大きく変形し、隣接するチップにも変形の圧力が加えられるおそれがある。これに対して本実施形態では、粘着シート12の変形部分をほとんど空間部Aに対応する位置に限定できるため、隣接するチップ11Bの外周端側に圧力が加わることを抑制できる。特に本実施形態のように、空間部Aの上部にチップ11Bが配置されない、言い換えると、チップ11Bの空間部A側(図6等の左側)の外周端が基台ステージ16の高所部16c上に配置されるようにすることで、チップ11Bに圧力が加わることを効果的に抑制できる。 In this embodiment, the height of the movable stage 17 and the high part 16c of the base stage 16 are set to be approximately the same. This suppresses the deformation of the adhesive sheet 12 during the initial suction operation of the adhesive sheet 12 (see FIG. 4), and reduces the pressure initially applied to the chip 11A. In addition, during a series of peeling operations of the chip 11A, pressure can be suppressed from being applied to the outer periphery of the adjacent chip 11B. In other words, in a configuration in which there is a step between the base stage and the movable stage as in FIG. 13 of Patent Document 1, the step may cause the adhesive sheet to deform more significantly, and the pressure of deformation may be applied to the adjacent chip. In contrast, in this embodiment, the deformation portion of the adhesive sheet 12 can be limited to a position corresponding to the space portion A, so that pressure can be suppressed from being applied to the outer periphery of the adjacent chip 11B. In particular, as in this embodiment, by not placing chip 11B at the top of space A, in other words by placing the outer peripheral edge of chip 11B on the space A side (left side in Figure 6, etc.) on the elevated portion 16c of base stage 16, pressure can be effectively prevented from being applied to chip 11B.

初期剥離後は、図7に示すように、可動ステージ17を、基台ステージ16に対して矢印B2方向(チップ11Aから離間する方向)へスライドさせていく。このスライドにより、空間部Aが図7の左方向へ拡大していき、可動ステージ17を支持するチップ11Aの範囲が減少していくと共に、負圧発生機構18によって負圧通路16bを介して吸引される粘着シート12の範囲が拡大していく。これにより、チップ11Aが図7の右側から順次、粘着シート12から剥離していく。そして、上記の水平移動により可動ステージ17がチップ11Aから完全に外れると、チップ11Aが粘着シート12から完全に剥離される。以上により、チップ11Aの粘着シート12からの剥離動作が完了する。剥離されたチップ11Aは、ヘッド19(図3参照)により所定の場所へ運ばれる。 After the initial peeling, as shown in FIG. 7, the movable stage 17 is slid in the direction of arrow B2 (away from the chip 11A) relative to the base stage 16. This sliding causes the space A to expand to the left in FIG. 7, reducing the range of the chip 11A supporting the movable stage 17, and expanding the range of the adhesive sheet 12 sucked by the negative pressure generating mechanism 18 through the negative pressure passage 16b. As a result, the chip 11A is peeled off from the adhesive sheet 12 sequentially from the right side in FIG. 7. Then, when the movable stage 17 is completely removed from the chip 11A by the above horizontal movement, the chip 11A is completely peeled off from the adhesive sheet 12. This completes the peeling operation of the chip 11A from the adhesive sheet 12. The peeled chip 11A is carried to a predetermined location by the head 19 (see FIG. 3).

このようにチップ11を粘着シート12から剥離した後は、チップ11をリードフレーム等の基板(図示省略)の所定位置にボンディングすることにより、半導体装置を製造する。ここで、半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置である。また半導体装置は、回路が形成されたウエハ状態のものであっても、ウエハから切り出された個別の半導体チップであっても、ウエハを複数に分割したものであっても、ウエハ状態でパッケージされたものであっても、ウエハ状態でパッケージされたものを複数に分割したものであっても、ウエハ状態でパッケージされたものを切り出して個別の半導体素子にしたものであっても構わない。 After the chip 11 is peeled off from the adhesive sheet 12 in this manner, the chip 11 is bonded to a predetermined position on a substrate (not shown) such as a lead frame to manufacture a semiconductor device. Here, the term "semiconductor device" refers to any device that can function by utilizing semiconductor characteristics, and electro-optical devices, semiconductor circuits, and electronic devices are all semiconductor devices. The semiconductor device may be in a wafer state on which a circuit is formed, an individual semiconductor chip cut from a wafer, a wafer divided into several pieces, a packaged wafer state, a packaged wafer state divided into several pieces, or a packaged wafer state cut into individual semiconductor elements.

次に、異なる実施形態の剥離装置について説明する。 Next, we will explain different embodiments of the peeling device.

図8に示すように、本実施形態のチップ剥離装置1は、第1ステージとしての基台ステージ30と、第1ブロック31(第2ステージ31)、第2ブロック32、第3ブロック33、そして第4ブロック34からなるブロック部40、移動機構としての押し出しブロック39、保持機構15等を備える。 As shown in FIG. 8, the chip peeling device 1 of this embodiment includes a base stage 30 as a first stage, a block section 40 consisting of a first block 31 (second stage 31), a second block 32, a third block 33, and a fourth block 34, a push-out block 39 as a moving mechanism, a holding mechanism 15, etc.

基台ステージ30はその上面に複数の吸着孔を有する。基台ステージ30とブロック部40との間には空間部Aが設けられる。チップ剥離装置1は、負圧発生機構により、基台ステージ30の吸着孔および空間部Aを介して、粘着シート12を吸引することができる。 The base stage 30 has multiple suction holes on its upper surface. A space A is provided between the base stage 30 and the block portion 40. The chip peeling device 1 can suck the adhesive sheet 12 through the suction holes and space A of the base stage 30 by using a negative pressure generating mechanism.

第1ブロック31は、第2ブロック32側にテーパ面31aを有する。テーパ面31aは、上方から下方へ向けて、第2ブロック32から遠ざかる方向(チップ11Aの外周端側の方向)に傾斜した傾斜面である。 The first block 31 has a tapered surface 31a on the side facing the second block 32. The tapered surface 31a is an inclined surface that slopes from top to bottom in a direction away from the second block 32 (towards the outer circumferential end of the chip 11A).

押し出しブロック39は、図示しない昇降機構に駆動されて、図の上下方向に移動可能である。押し出しブロック39が図の上方向へ移動することにより、第1ブロック31がテーパ面31aを押圧されて第2ブロック32から遠ざかる方向へ押し出される(図10参照)。この際、押し出しブロック39がテーパ面31aに当接することにより、押し出しブロック39の上方向への移動に伴って、第1ブロック31が徐々に外側へ押し出される。 The push-out block 39 is driven by a lifting mechanism (not shown) and can move up and down in the figure. When the push-out block 39 moves upward in the figure, the first block 31 is pressed against the tapered surface 31a and pushed in a direction away from the second block 32 (see FIG. 10). At this time, the push-out block 39 comes into contact with the tapered surface 31a, and as the push-out block 39 moves upward, the first block 31 is gradually pushed outward.

接離ステージとしての第2ブロック32および第3ブロック33は、図示しない昇降機構により、それぞれ図8の上下方向(ブロック部40上の粘着シート12に対して接離する方向)へ移動可能である。 The second block 32 and the third block 33, which serve as contact and separation stages, can be moved in the up and down directions in FIG. 8 (directions in which they contact and separate from the adhesive sheet 12 on the block portion 40) by a lifting mechanism (not shown).

基台ステージ30、および、ブロック部40上に粘着シート12が配置されている。基台ステージ30とブロック部40の上面は略同じ高さに設定されており、粘着シート12を平坦面で受けることができる。また、粘着シート12から剥離するチップ11は、ブロック部40に対応する位置に配置されており、その外周端側が第1ブロック31よりも外側にはみ出し、空間部A上(空間部Aに対応する位置)に配置される。 The adhesive sheet 12 is placed on the base stage 30 and the block portion 40. The top surfaces of the base stage 30 and the block portion 40 are set at approximately the same height, allowing the adhesive sheet 12 to be received on a flat surface. The chip 11 to be peeled off from the adhesive sheet 12 is placed at a position corresponding to the block portion 40, with its outer peripheral end side extending outward beyond the first block 31 and placed above the space portion A (at a position corresponding to the space portion A).

次に、本実施形態のチップ剥離装置1によるチップ剥離方法について説明する。 Next, we will explain the chip peeling method using the chip peeling device 1 of this embodiment.

まず、図9に示すように、基台ステージ30およびブロック部40上に粘着シート12を配置した状態で、負圧発生機構が空間部Aに負圧を発生させる(図9の空間部Aの矢印参照)。これにより、粘着シート12の空間部Aに対応する部分が吸引され、下方へ緩やかに変形する。また、粘着シート12に倣ってチップ11Aの外周端側が粘着シート12側へ変形する。 First, as shown in FIG. 9, with the adhesive sheet 12 placed on the base stage 30 and the block portion 40, the negative pressure generating mechanism generates negative pressure in the space A (see the arrow in the space A in FIG. 9). This causes the portion of the adhesive sheet 12 that corresponds to the space A to be sucked in, causing it to deform gently downward. In addition, the outer peripheral end side of the chip 11A deforms toward the adhesive sheet 12, following the adhesive sheet 12.

その後、押し出しブロック39が上昇して第1ブロック31のテーパ面31aに当接し、第1ブロック31を矢印D1方向へ押し出す。つまり、押し出しブロック39の上方向の移動に伴って、第1ブロック31は徐々に矢印D1方向へ移動し、空間部Aを狭めていく。これにより、粘着シート12の空間部A上の部分が、基台ステージ30と第1ブロック31とによって挟み込まれていく形になり、その変形角度が大きくなっていく。そして、粘着シート12の変形角度が所定以上の大きさになると、図10に示すように、チップ11の外周端が粘着シート12から剥離する(以下、この剥離を初期剥離と呼ぶ)。 Then, the push-out block 39 rises and contacts the tapered surface 31a of the first block 31, pushing the first block 31 in the direction of the arrow D1. In other words, as the push-out block 39 moves upward, the first block 31 gradually moves in the direction of the arrow D1, narrowing the space A. As a result, the portion of the adhesive sheet 12 above the space A is sandwiched between the base stage 30 and the first block 31, and the deformation angle increases. Then, when the deformation angle of the adhesive sheet 12 reaches a predetermined value or greater, the outer peripheral edge of the chip 11 peels off from the adhesive sheet 12 as shown in FIG. 10 (hereinafter, this peeling is referred to as initial peeling).

以上のように本実施形態でも、第1ブロック31の矢印D1方向の移動に伴って、粘着シート12の変形角度を徐々に大きくし、初期剥離を生じさせることができる。従って、チップ11の外周端に加わる圧力を低減でき、チップ11の割れを防止できる。また、押し出しブロック39の上昇速度を制御することで、第1ブロック31の矢印D1方向への移動速度を任意に変更でき、粘着シート12の変形角度やその変形の速度を自由に制御できる。従って、チップ11に加わる圧力の制御を容易にできる。 As described above, in this embodiment, the deformation angle of the adhesive sheet 12 can be gradually increased as the first block 31 moves in the direction of the arrow D1, causing initial peeling. Therefore, the pressure applied to the outer peripheral edge of the chip 11 can be reduced, and cracking of the chip 11 can be prevented. Furthermore, by controlling the rising speed of the push-out block 39, the movement speed of the first block 31 in the direction of the arrow D1 can be changed as desired, and the deformation angle and deformation speed of the adhesive sheet 12 can be freely controlled. Therefore, the pressure applied to the chip 11 can be easily controlled.

初期剥離後は、第1ブロック31をチップ11の内側へ移動させて剥離範囲を拡大させる。具体的には、まず、押し出しブロック39を第1ブロック31から退避させて、第1ブロック31を第2ブロック32に隣接する位置(図8の位置)まで復帰させる。第1ブロック31は、例えば図示しないバネ機構により第4ブロック34側へ付勢されており、押し出しブロック39の下降に伴って自動的に元の位置に復帰する。 After the initial peeling, the first block 31 is moved toward the inside of the chip 11 to expand the peeling range. Specifically, first, the push-out block 39 is retracted from the first block 31, and the first block 31 is returned to a position adjacent to the second block 32 (the position in FIG. 8). The first block 31 is biased toward the fourth block 34 by, for example, a spring mechanism (not shown), and automatically returns to its original position as the push-out block 39 descends.

その後、図11に示すように、第2ブロック32を下降させることで、第1ブロック31がさらに内側(矢印D2方向)へ移動する。これにより、ブロック部40が受けるチップ11の範囲が減って空間部A上に配置されるチップ11の範囲が拡大し、チップ11の剥離範囲が拡大していく。その後さらに、第3ブロック33を第2ブロック32と同じように下降させて、その分だけ第1ブロックを矢印D2方向へ移動させ、チップ11の剥離範囲を拡大させる。以上のように、1または複数の接離ステージのうち、空間部A側(剥離させるチップ11の外側)の接離ステージから順次、粘着シート12から離間させると共に、第1ブロック31をチップ11の内側へ移動させていくことで、チップ11を粘着シート12から剥離させることができる。 Then, as shown in FIG. 11, the second block 32 is lowered, and the first block 31 moves further inward (in the direction of the arrow D2). This reduces the range of the chip 11 received by the block portion 40, and the range of the chip 11 placed on the space portion A is expanded, and the peeling range of the chip 11 is expanded. Then, the third block 33 is lowered in the same manner as the second block 32, and the first block is moved in the direction of the arrow D2 by that amount, and the peeling range of the chip 11 is expanded. As described above, the one or more contact/separation stages are sequentially separated from the adhesive sheet 12 starting from the contact/separation stage on the space portion A side (outside the chip 11 to be peeled) and the first block 31 is moved inward of the chip 11, whereby the chip 11 can be peeled off from the adhesive sheet 12.

本実施形態の剥離装置1では、チップ11の外周側の複数辺(例えば4辺全て)に対して、上記の初期剥離動作を実施できる利点がある。例えば図12の上方向から見た断面図に示すように、チップ11の四隅に対応する位置にそれぞれ第1ブロック31を配置し、それぞれの第1ブロック31を対角線方向である図12の矢印D1方向に移動させることで、上記のように空間部Aを狭めてチップ11に初期剥離を生じさせることができる。また、第1ブロック31は、前述した各ブロックの下降に伴って矢印D2方向へ移動し、チップ11の剥離範囲を拡大させる。ただし、各第1ブロック31の間に、図の上下方向あるいは左右方向に移動する第1ブロックをさらに設けてもよい。 The peeling device 1 of this embodiment has the advantage that the above-mentioned initial peeling operation can be performed on multiple sides (e.g., all four sides) on the outer periphery of the chip 11. For example, as shown in the cross-sectional view from above in FIG. 12, the first blocks 31 are placed at positions corresponding to the four corners of the chip 11, and each first block 31 is moved in the diagonal direction of the arrow D1 in FIG. 12, thereby narrowing the space A as described above and causing initial peeling of the chip 11. In addition, the first block 31 moves in the direction of the arrow D2 as each block described above descends, expanding the peeling range of the chip 11. However, a first block that moves in the vertical or horizontal direction in the figure may be provided between each first block 31.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加え得ることは勿論である。 The above describes an embodiment of the present invention, but the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

以上の説明では、第1ステージと第2ステージに段差がない場合を示したが、必ずしもこれに限るものではなく、両者の間に段差があってもよい。 In the above explanation, we have shown a case where there is no step between the first stage and the second stage, but this is not necessarily limited to this, and there may be a step between the two.

1 チップ剥離装置
10 ウエハ
11 チップ
12 粘着シート
15 コレット(保持機構)
16 基台ステージ(第1ステージ)
16a 凹部
16b 負圧通路
17 可動ステージ(第2ステージ)
18 負圧発生機構
29 移動機構
30 基台ステージ(第1ステージ)
31 第1ブロック(第2ステージ)
32 第2ブロック(接離ステージ)
33 第3ブロック(接離ステージ)
39 押し出しブロック(移動機構)
40 ブロック部
A 空間部
REFERENCE SIGNS LIST 1 Chip peeling device 10 Wafer 11 Chip 12 Adhesive sheet 15 Collet (holding mechanism)
16 Base Stage (First Stage)
16a: recess; 16b: negative pressure passage; 17: movable stage (second stage);
18 negative pressure generating mechanism 29 moving mechanism 30 base stage (first stage)
31 1st Block (2nd Stage)
32 Second block (contact stage)
33 3rd block (contact stage)
39 Push-out block (moving mechanism)
40 Block section A Space section

Claims (5)

上面にチップを貼り付けた粘着シートから前記チップを剥離させるチップ剥離方法であって、
剥離させる前記チップの外周端側が第1ステージと第2ステージとの間の空間部に対応する位置に配置されるように、前記チップを貼り付けた前記粘着シートを配置した後、
前記空間部を負圧にして前記粘着シートを吸引した状態で、前記第1ステージと前記第2ステージとの少なくとも一方を、前記空間部を狭める方向へ移動させることで、前記チップの外周端側を前記粘着シートから剥離させることを特徴とするチップ剥離方法。
A chip peeling method for peeling a chip from an adhesive sheet having a chip attached to an upper surface thereof, comprising the steps of:
The adhesive sheet to which the chip is attached is arranged so that the outer peripheral end side of the chip to be peeled is located at a position corresponding to the space between the first stage and the second stage, and then
A chip peeling method characterized by creating negative pressure in the space and sucking the adhesive sheet, and moving at least one of the first stage and the second stage in a direction that narrows the space, thereby peeling the outer peripheral end side of the chip from the adhesive sheet.
前記第1ステージは、前記空間部に対応する位置に、前記空間部を負圧にするための負圧通路を備え、
前記第2ステージは、前記第1ステージに対して、前記空間部を広げる方向および狭める方向へスライド可能で、
前記第2ステージに対応する位置に前記剥離させるチップが配置され、
前記チップの外周端側を剥離させた後、前記第2ステージを、前記第1ステージに対して前記空間部を広げる方向へスライドさせることで、前記チップを前記粘着シートからさらに剥離させる請求項1記載のチップ剥離方法。
the first stage includes a negative pressure passage at a position corresponding to the space for creating a negative pressure in the space,
The second stage is slidable relative to the first stage in a direction to widen and a direction to narrow the space,
The chip to be peeled is placed at a position corresponding to the second stage;
The chip peeling method according to claim 1 , further comprising the steps of: peeling off the outer peripheral end side of the chip; sliding the second stage relative to the first stage in a direction that widens the space, thereby further peeling the chip from the adhesive sheet.
前記第2ステージおよび一または複数の接離ステージに対応する位置に前記剥離させるチップが配置され、
前記接離ステージは、前記粘着シートに接離する方向へ移動可能であり、
前記第2ステージは、前記接離ステージと前記第1ステージとの間に配置され、前記第1ステージに接近する方向で前記空間部を狭める方向、および、前記第1ステージから離間する方向で前記空間部を広げる方向へ水平移動可能であり、
前記チップの外周端側を剥離させた後、前記チップの外側に配置された接離ステージから順次、前記粘着シートから離間する方向へ移動させると共に、前記第2ステージを、前記空間部が広がる方向へ水平移動させることで、前記チップを前記粘着シートからさらに剥離させる請求項1記載のチップ剥離方法。
The chip to be peeled is placed at a position corresponding to the second stage and one or more contact/separation stages;
the contact/separation stage is movable in a direction in which the contact/separation stage contacts or separates from the adhesive sheet,
the second stage is disposed between the approaching and separating stage and the first stage, and is horizontally movable in a direction approaching the first stage to narrow the space, and in a direction moving away from the first stage to widen the space;
2. The chip peeling method according to claim 1, further comprising the steps of: peeling off the outer peripheral end side of the chip; sequentially moving the contact/separation stage arranged outside the chip in a direction away from the adhesive sheet; and moving the second stage horizontally in a direction in which the space portion widens, thereby further peeling the chip from the adhesive sheet.
請求項1から3いずれか1項に記載のチップ剥離方法を用いて半導体装置を製造する半導体装置の製造方法。 A method for manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: manufacturing a semiconductor device using the chip peeling method according to any one of claims 1 to 3; 上面にチップを貼り付けた粘着シートから前記チップを剥離させるチップ剥離装置であって、
剥離させる前記チップの外周端側がステージ同士の間の空間部に配置されるように、前記粘着シートを配置した第1ステージおよび第2ステージと、
前記空間部に負圧を発生させて前記粘着シートを吸引する負圧発生機構と、
前記負圧発生機構により前記空間部に負圧が発生した状態で、前記空間部を狭める方向へ前記第1ステージと前記第2ステージとの少なくとも一方を移動させ、前記チップの外周端側を前記粘着シートから剥離させる移動機構とを備えたことを特徴とするチップ剥離装置。
A chip peeling device that peels off a chip from an adhesive sheet having a chip attached to an upper surface thereof, comprising:
a first stage and a second stage on which the adhesive sheet is arranged so that the outer peripheral end side of the chip to be peeled is located in a space between the stages;
a negative pressure generating mechanism that generates a negative pressure in the space to suck the adhesive sheet;
a moving mechanism that moves at least one of the first stage and the second stage in a direction narrowing the space while negative pressure is generated in the space by the negative pressure generating mechanism, thereby peeling off the outer peripheral end side of the chip from the adhesive sheet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5214739B2 (en) 2008-11-04 2013-06-19 キヤノンマシナリー株式会社 Chip peeling method, semiconductor device manufacturing method, and chip peeling apparatus
JP2019047089A (en) 2017-09-07 2019-03-22 ファスフォードテクノロジ株式会社 Semiconductor manufacturing device and manufacturing method of semiconductor device
JP2020057750A (en) 2018-05-31 2020-04-09 ボンドテック株式会社 Component mounting system, component supply device and component mounting method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5214739B2 (en) 2008-11-04 2013-06-19 キヤノンマシナリー株式会社 Chip peeling method, semiconductor device manufacturing method, and chip peeling apparatus
JP2019047089A (en) 2017-09-07 2019-03-22 ファスフォードテクノロジ株式会社 Semiconductor manufacturing device and manufacturing method of semiconductor device
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