JP7488782B2 - フォトダイオード - Google Patents
フォトダイオード Download PDFInfo
- Publication number
- JP7488782B2 JP7488782B2 JP2021033532A JP2021033532A JP7488782B2 JP 7488782 B2 JP7488782 B2 JP 7488782B2 JP 2021033532 A JP2021033532 A JP 2021033532A JP 2021033532 A JP2021033532 A JP 2021033532A JP 7488782 B2 JP7488782 B2 JP 7488782B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- conductor
- conductivity type
- photodiode
- high concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 79
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 22
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 13
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
図1Aと図1Bを用いて、本発明のフォトダイオードの実施形態1について説明する。なお図1Aは平面図であり、図1Bは図1AのA-A断面図である。
図2Aと図2Bを用いて、本発明のフォトダイオードの実施形態2について説明する。なお図2Bは、平面図である図2Aの中の直線a、b、cによって切り出された部分の斜視図である。
図3を用いて、本発明のフォトダイオードの実施形態3について説明する。実施形態3が実施形態1と異なる点は、第二導体8と第三導体10の構成である。すなわち実施形態1では第二導体8と第三導体10は個別に設けられるのに対し、実施形態3では両者が一体化して構成される。
図4を用いて、本発明のフォトダイオードの実施形態4について説明する。実施形態4では、フォトダイオードから出力される光電流を増幅したり読み出したりするゲート絶縁型トランジスタ13が、フォトダイオードと同じ製造プロセスにより基板1の上に集積化される。すなわちゲート絶縁型トランジスタ13においても、基板1の上にエピタキシャル層2や第二導電型低濃度層3、絶縁体層6等が積層され、絶縁体層6の中にゲート電極11とゲート酸化膜12が設けられる。なおフォトダイオードに併設されるゲート絶縁型トランジスタ13は一つでも複数でも良い。
Claims (7)
- 第一導電型であって不純物濃度が比較的高い半導体層である第一導電型高濃度層と、
第二導電型であって不純物濃度が比較的高い半導体層である第二導電型高濃度層と、
第二導電型であって不純物濃度が比較的低い半導体層であり前記第一導電型高濃度層と前記第二導電型高濃度層とを表面に有する第二導電型低濃度層と、
前記表面を覆う絶縁体層と、
前記絶縁体層を貫き前記第一導電型高濃度層と接続する第一導体と、
前記絶縁体層を貫き前記第二導電型高濃度層と接続する第二導体を備えるフォトダイオードであって、
前記第二導体と同電位であって前記絶縁体層の中に設けられる第三導体をさらに備えることを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項1に記載のフォトダイオードであって、
前記第三導体は、前記表面と垂直な方向から見たときに、前記第一導体の側に突出する凸部を有する形状であることを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項2に記載のフォトダイオードであって、
前記第三導体の前記凸部は、前記表面と垂直な方向から見たときに、前記第一導電型高濃度層と重なるように設けられることを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項2に記載のフォトダイオードであって、
前記第一導体は、前記表面と垂直な方向から見たときに、前記第三導体の前記凸部と噛み合うように前記第三導体の側に突出する凸部を有する形状であることを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項4に記載のフォトダイオードであって、
前記第一導体は、前記第一導体の前記凸部において前記絶縁体層を貫き前記第一導電型高濃度層と接続することを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項1に記載のフォトダイオードであって、
前記第三導体は、前記第二導体の一部と同じ層として形成されることを特徴とするフォトダイオード。 - 第一導電型であって不純物濃度が比較的高い半導体層である第一導電型高濃度層と、
第二導電型であって不純物濃度が比較的高い半導体層である第二導電型高濃度層と、
第二導電型であって不純物濃度が比較的低い半導体層であり前記第一導電型高濃度層と前記第二導電型高濃度層とを表面に有する第二導電型低濃度層と、
前記表面を覆う絶縁体層と、
前記絶縁体層を貫き前記第一導電型高濃度層と接続する第一導体と、
前記絶縁体層を貫き前記第二導電型高濃度層と接続する第二導体を備えるフォトダイオードであって、
前記第二導体と同電位であって前記絶縁体層の中または上に設けられる第三導体をさらに備え、
前記第二導電型低濃度層と前記絶縁体層とともにゲート電極を備えるゲート絶縁型トランジスタが併設され、
前記第三導体は、前記ゲート電極と同じ層として形成されることを特徴とするフォトダイオード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021033532A JP7488782B2 (ja) | 2021-03-03 | 2021-03-03 | フォトダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021033532A JP7488782B2 (ja) | 2021-03-03 | 2021-03-03 | フォトダイオード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022134417A JP2022134417A (ja) | 2022-09-15 |
JP7488782B2 true JP7488782B2 (ja) | 2024-05-22 |
Family
ID=83232175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021033532A Active JP7488782B2 (ja) | 2021-03-03 | 2021-03-03 | フォトダイオード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7488782B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110958A (ja) | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Nec Kyushu Ltd | リニアセンサ及びその駆動方法 |
JP2005347539A (ja) | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2006210494A (ja) | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光半導体装置 |
JP2012080045A (ja) | 2010-10-06 | 2012-04-19 | Lapis Semiconductor Co Ltd | 半導体装置 |
JP2018019039A (ja) | 2016-07-29 | 2018-02-01 | キヤノン株式会社 | 光検出装置および光検出システム |
US20190148580A1 (en) | 2016-05-18 | 2019-05-16 | Publichnoe Aktsionernoe Obschestvo "Intersoft Evraziya" | Ionizing radiation sensor based on float-zone silicon with p-type conductivity |
CN112086524A (zh) | 2020-08-28 | 2020-12-15 | 北京智创芯源科技有限公司 | 一种红外探测装置及制备方法 |
-
2021
- 2021-03-03 JP JP2021033532A patent/JP7488782B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110958A (ja) | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Nec Kyushu Ltd | リニアセンサ及びその駆動方法 |
JP2005347539A (ja) | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2006210494A (ja) | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光半導体装置 |
JP2012080045A (ja) | 2010-10-06 | 2012-04-19 | Lapis Semiconductor Co Ltd | 半導体装置 |
US20190148580A1 (en) | 2016-05-18 | 2019-05-16 | Publichnoe Aktsionernoe Obschestvo "Intersoft Evraziya" | Ionizing radiation sensor based on float-zone silicon with p-type conductivity |
JP2018019039A (ja) | 2016-07-29 | 2018-02-01 | キヤノン株式会社 | 光検出装置および光検出システム |
CN112086524A (zh) | 2020-08-28 | 2020-12-15 | 北京智创芯源科技有限公司 | 一种红外探测装置及制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022134417A (ja) | 2022-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4302751B2 (ja) | 半導体光センサ | |
JP5818238B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20130083361A (ko) | 기판 관통 전극을 갖는 반도체 장치 | |
JP2010278045A (ja) | 光半導体装置 | |
WO2020149212A1 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP5655932B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015126149A (ja) | 低容量半導体装置およびその製造方法 | |
JP5359072B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7488782B2 (ja) | フォトダイオード | |
JP2014175324A (ja) | 低容量半導体装置 | |
JP2018006360A (ja) | 半導体装置 | |
JP2012004466A (ja) | 半導体装置 | |
JP2011044622A (ja) | 半導体装置 | |
JP2825038B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS6286756A (ja) | 光電変換装置 | |
JP5569526B2 (ja) | 半導体装置 | |
GB2563110A (en) | Silicon carbide semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP7428153B2 (ja) | 受光素子 | |
JP2023008669A (ja) | 半導体装置 | |
JP5723135B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP6099956B2 (ja) | 半導体装置 | |
CN112864258A (zh) | 像素结构、红外图像传感器和电子设备 | |
JP2009016876A (ja) | 半導体要素 | |
JPH10190011A (ja) | 高耐圧ダイオード | |
JP2006210690A (ja) | サージ保護用半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230602 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7488782 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |