JP7484935B2 - 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 - Google Patents
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Description
相互に対向する第1の表面および第2の表面を有する透明基板と、
前記透明基板の前記第1の表面の側に配置された誘電体多層膜と、
を有し、
前記誘電体多層膜は、波長700nm~750nmの範囲の光を反射し、
当該近赤外線カットフィルタは、
平均透過率T1が20%以下であり、平均反射率R1が80%以下であり、平均透過率T2が65%以上であり、
ここで、前記平均透過率T1およびT2は、それぞれ、当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に光を入射させた際に測定される、波長範囲700nm~750nmおよび波長範囲600nm~680nmにおける平均正透過率を表し、
前記平均反射率R1は、当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に対して5°の角度で光を入射させた際に測定される、波長範囲700nm~750nmにおける平均正反射率を表す、近赤外線カットフィルタが提供される。
近赤外線カットフィルタと、
該近赤外線カットフィルタを介して入射される入射光から電気信号を発生させる固体撮像素子と、
を備え、
前記近赤外線カットフィルタは、前述の特徴を有する近赤外線カットフィルタであり、前記第2の表面の側が前記固体撮像素子と対面するようにして配置される、撮像装置が提供される。
まず、従来の近赤外線カットフィルタの構成およびその問題について簡単に説明する。
相互に対向する第1の表面および第2の表面を有する透明基板と、
前記透明基板の前記第1の表面の側に配置された誘電体多層膜と、
を有し、
前記誘電体多層膜は、波長700nm~750nmの範囲の光を反射し、
当該近赤外線カットフィルタは、
平均透過率T1が20%以下であり、平均反射率R1が80%以下であり、平均透過率T2が65%以上であり、
ここで、前記平均透過率T1およびT2は、それぞれ、当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に光を入射させた際に測定される、波長範囲700nm~750nmおよび波長範囲600nm~680nmにおける平均正透過率を表し、
前記平均反射率R1は、当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に対して5°の角度で光を入射させた際に測定される、波長範囲700nm~750nmにおける平均正反射率を表す、近赤外線カットフィルタが提供される。
次に、図5を参照して、本発明の一実施形態による近赤外線カットフィルタについてより具体的に説明する。
波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率が70%以上であり、
波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率が90%以下であってもよい。
次に、本発明の一実施形態による近赤外線カットフィルタに含まれる各構成部材について、より詳しく説明する。
透明基板110は、以下の特性を有することが好ましい:
波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率が70%以上、および
波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率が90%以下。
第1の誘電体多層膜130は、紫外線および赤外線を反射する機能を有する。特に、第1の誘電体多層膜130は、波長700nm~750nmの範囲の光を反射する機能を有する。
第2の誘電体多層膜150は、反射防止膜として機能し、可視光の透過率を高める役割を有する。なお、第2の誘電体多層膜150は、紫外線や赤外線を反射する機能を有してもよい。
第1の光学フィルタ100は、前述のように、平均透過率T1≦20%、平均反射率R1≦80%、平均透過率T2≧65%を満たす。
次に、本発明の一実施形態による近赤外線カットフィルタの一適用例について説明する。なお、ここでは、前述の第1の光学フィルタ100を例に、その適用例について説明する。
例1では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1の表面に第1の誘電体多層膜(反射膜)が配置され、ガラス基板の第2の表面に第2の誘電体多層膜(反射防止膜)が配置された構成を有する。
62.4%のP2O5、
16.8%のAl2O3、
1.8%のK2O、
2.2%のBaO、
7.9%のZnO、
8.9%のFe2O3。
例2では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1の表面に第1の誘電体多層膜(反射膜)が配置され、ガラス基板の第2の表面に第2の誘電体多層膜(反射防止膜)が配置された構成を有する。
60.6%のP2O5、
15.8%のAl2O3、
2.6%のLi2O、
2.6%のNa2O、
1.7%のK2O、
4.2%のMgO、
2.1%のBaO
7.4%のZnO、
3.1%のFe2O3。
例3では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1の表面に第1の誘電体多層膜(反射膜)が配置された構成を有する。第2の誘電体多層膜は、設置しなかった。
例4では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1の表面に第1の誘電体多層膜(反射膜)が配置された構成を有する。第2の誘電体多層膜は、設置しなかった。
例11では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1の表面に第1の誘電体多層膜(反射膜)が配置され、ガラス基板の第2の表面に第2の誘電体多層膜(反射防止膜)が配置された構成を有する。
例12では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1の表面に第1の誘電体多層膜(反射膜)が配置され、ガラス基板の第2の表面に第2の誘電体多層膜(反射防止膜)が配置された構成を有する。
例13では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板の第1および第2の表面の双方に、同じ第2の誘電体多層膜(反射防止膜)が配置された構成を有する。
例14では、近赤外線カットフィルタは、ガラス基板のみで構成され、第1および第2の誘電体多層膜は設置しなかった。
ガラスA(板厚:0.453mm):波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率 81.7、波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率 61.1%
ガラスB(板厚:0.453mm):波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率 88.2、波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率 80.2%
ガラスC(板厚:0.57mm):波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率 91.8、波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率 91.9%
ガラスD(板厚:0.57mm):波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率 52.8、波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率 17.9%。
平均反射率R2≦30%、
平均透過率T3≦5%、および
透過率T4≦10%、
を全て満たすことがわかった。
102 第1の側
104 第2の側
110 透明基板
112 第1の表面
114 第2の表面
130 第1の誘電体多層膜
150 第2の誘電体多層膜
201 撮像装置
240 光(入射光)
245 光
260 レンズ
270 固体撮像素子
Claims (8)
- 近赤外線カットフィルタであって、
相互に対向する第1の表面および第2の表面を有する透明基板と、
前記透明基板の前記第1の表面の側に配置された誘電体多層膜と、
を有し、
前記誘電体多層膜は、波長700nm~750nmの範囲の光を反射し、
当該近赤外線カットフィルタは、
平均透過率T1が20%以下であり、平均反射率R1が80%以下であり、平均透過率T2が65%以上であり、
ここで、前記平均透過率T1およびT2は、それぞれ、当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に光を入射させた際に測定される、波長範囲700nm~750nmおよび波長範囲600nm~680nmにおける平均正透過率を表し、
前記平均反射率R1は、当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に対して5°の角度で光を入射させた際に測定される、波長範囲700nm~750nmにおける平均正反射率を表す、近赤外線カットフィルタ。 - 当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に光を入射させた際に測定される、波長範囲1000~1200nmにおける正透過率の平均として表される平均透過率T3は、5%以下である、請求項1に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に対して5°の角度で光を入射させた際に測定される、波長範囲900nm~1200nmにおける平均正反射率R2は、30%以下である、請求項1または請求項2に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 当該近赤外線カットフィルタにおいて、前記透明基板の前記第2の表面の側から、法線方向に光を入射させた際に測定される、波長750nmにおける正透過率として表される透過率T4は、10%以下である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記透明基板は、
波長範囲600nm~680nmにおける平均透過率が70%以上であり、
波長範囲700nm~750nmにおける平均透過率が90%以下である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の近赤外線カットフィルタ。 - 前記透明基板は、ガラスで構成され、
該ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、P2O5、Al2O3、R’O(ただし、R’OはMgO、CaO、SrO、BaO、およびZnOから選ばれるいずれか1つ以上を表す)、およびFe2O3を含み、実質的にFを含有しない、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の近赤外線カットフィルタ。 - 前記ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、
25%~75%のP2O5、
2.5%~22%のAl2O3、
0%~35%のΣR2O(ただし、ΣR2Oは、Li2O、Na2O、およびK2Oの合計を表す)、
0.1%~35%のΣR’O(ただし、ΣR’Oは、MgO、CaO、SrO、BaO、およびZnOの合計を表す)、および
0.1%~35%のFe2O3
を含む、請求項6に記載の近赤外線カットフィルタ。 - 撮像装置であって、
近赤外線カットフィルタと、
該近赤外線カットフィルタを介して入射される入射光から電気信号を発生させる固体撮像素子と、
を備え、
前記近赤外線カットフィルタは、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の近赤外線カットフィルタであり、前記第2の表面の側が前記固体撮像素子と対面するようにして配置される、撮像装置。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011158635A1 (ja) | 2010-06-18 | 2011-12-22 | 株式会社大真空 | 赤外線カットフィルタ |
JP2012137647A (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Canon Electronics Inc | 光学フィルタ |
JP2016212340A (ja) | 2015-05-13 | 2016-12-15 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
WO2017051867A1 (ja) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP2017222568A (ja) | 2016-06-17 | 2017-12-21 | ショット アクチエンゲゼルシャフトSchott AG | 改善された耐候性を有するリン酸塩ガラス |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018159925A (ja) * | 2017-03-21 | 2018-10-11 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
JP6939224B2 (ja) * | 2017-08-04 | 2021-09-22 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
JP2019053268A (ja) * | 2017-09-12 | 2019-04-04 | 株式会社五鈴精工硝子 | 可視光を透過し、且つ近赤外線及び赤外線をカットするガラス積層体 |
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2020
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2022
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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