JP7480737B2

JP7480737B2 - 熱分析装置

Info

Publication number: JP7480737B2
Application number: JP2021062837A
Authority: JP
Inventors: 創富田
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 2021-04-01
Filing date: 2021-04-01
Publication date: 2024-05-10
Anticipated expiration: 2041-04-01
Also published as: CN115201259A; JP2022158137A

Description

本発明は、熱分析装置に関する。

熱分析には、示差熱分析、熱重量測定、熱機械分析、示差走査熱量分析など、様々な手法がある。例えば示差熱分析は、試料及び基準物質の温度を、所定の測定プログラムに従って変化させながら、試料と基準物質との温度差を温度の関数として測定する方法である。示唆熱分析は、転移、融解、反応等の吸発熱を伴う現象を測定の対象とする。また、熱重量測定は、試料を一定のレートで加熱若しくは冷却したときの、又は一定温度に保持したときの試料の重量の変化を測定する方法である。熱重量測定は、例えば、蒸発、分解、酸化、還元、吸着等の温度に対する重量変化を伴う化学的又は物理的な変化を測定の対象とする。

熱分析装置には、冷却システムを備えるものがある。例えば、特許文献１の熱分析装置は、ファンとシャッタとを備えている。ファンは、放熱フィンを空冷するための冷却風を発生させる。シャッタは、複数のフラップを含む。複数のフラップは、上下方向に並んで配置されている。複数のフラップは、回転軸を含み、回転軸回りに回転可能に支持されている。

上記の熱分析装置では、ファンが作動しているときには、冷却風の風圧によって複数のフラップが回転して開かれる。それにより、ファンからの冷却風が、フラップの間の隙間を通って、放熱フィンに到達する。ファンが停止しているときには、複数のフラップは、自重によって閉じられる。それにより、放熱フィンとファンとの間が遮断される。

特許第３２６７２２０号公報

熱分析装置には、高温に昇温された加熱炉を、上記のような冷却システムによって、冷却するものがある。加熱炉の昇温中には、ファンが停止していることで、シャッタは閉じられる。それにより、加熱炉の熱放射からファンが保護される。昇温の終了後には、ファンが作動することで、シャッタが開かれる。それにより、冷却風が加熱炉に到達することで、加熱炉が迅速に冷却される。

上記のフラップは、風圧によって回転可能に吊り下げられている。そのため、加熱炉が高温になっているときには、空気の対流によってフラップが揺らぐことがある。その場合、フラップの間に隙間が生じ、加熱炉からの輻射熱がファンに届くことで、ファンが損傷する可能性がある。また、フラップが揺らぐことで、加熱炉内の温度分布が乱れてしまい、熱分析の精度が低下する可能性がある。本発明の目的は、熱分析装置において、加熱炉の輻射熱からファンを保護すると共に、熱分析の精度の低下を抑えることにある。

本発明の第１態様に係る熱分析装置は、加熱炉と、冷却ファンと、ダクトと、シャッタとを備える。加熱炉は、ヒータを含み、試料を加熱する。冷却ファンは、加熱炉に冷却風を送る。ダクトは、冷却ファンと加熱炉との間に配置され、冷却風が通る通路を含む。シャッタは、ダクト内に配置され、通路を開閉する。シャッタは、第１フラップと第２フラップとを含む。第１フラップは、第１回転軸と第１板部とを含む。第１板部は、第１回転軸から下方へ延びる。第１フラップは、第１回転軸回りに回転可能に支持される。第２フラップは、第２回転軸と、第２板部と、下端とを含む。第２回転軸は、第１回転軸よりも上方、且つ、冷却ファン側に配置される。第２板部は、第２回転軸から下方へ延びる。下端は、加熱炉側から第１フラップに重なる。第２フラップは、第２回転軸回りに回転可能に支持される。

本発明の第２態様に係る熱分析装置は、加熱炉と、冷却ファンと、ダクトと、シャッタとを備える。加熱炉は、ヒータを含み、試料を加熱する。冷却ファンは、加熱炉に冷却風を送る。ダクトは、冷却ファンと加熱炉との間に配置され、冷却風が通る通路を含む。シャッタは、ダクト内に配置され、通路を開閉する。シャッタは、第１フラップと、第２フラップと、錘とを含む。第１フラップは、第１回転軸と第１板部とを含む。第１板部は、第１回転軸から下方へ延びる。第１フラップは、第１回転軸回りに回転可能に支持される。第２フラップは、第２回転軸と、第２板部と、下端とを含む。第２回転軸は、第１回転軸よりも上方に配置される。第２板部は、第２回転軸から下方へ延びる。下端は、加熱炉側から第１板部に重なる。第２フラップは、第２回転軸回りに回転可能に支持される。錘は、第２フラップに接続される。錘は、第２フラップの重心が第２フラップの上下方向における中心よりも下方に位置するように配置される。

第１の態様に係る熱分析装置では、第２回転軸は、第１回転軸から冷却ファン側にずれて配置されている。また、第２フラップの下端が加熱炉側から第１フラップに重なっている。それにより、加熱炉側からの空気の対流が生じても、第２フラップは自重によって動き難い。それにより、加熱炉の輻射熱からファンが保護される。また、加熱炉内の温度分布の乱れが抑えられ、熱分析の精度の低下が抑えられる。

第２の態様に係る熱分析装置では、第２フラップの下端が加熱炉側から第１フラップに重なっている。また、錘により第２フラップの重心が第２フラップの中心よりも下方に位置する。それにより、加熱炉側からの空気の対流が生じても、第２フラップは自重によって動き難い。それにより、加熱炉の輻射熱からファンが保護される。また、加熱炉内の温度分布の乱れが抑えられ、熱分析の精度の低下が抑えられる。

第１実施形態に係る熱分析装置の側面図である。第１実施形態に係る熱分析装置の内部の構成を示す図である。第１実施形態に係る熱分析装置の制御系を示すブロック図である。第１実施形態に係る熱分析装置の内部の構成を示す図である。第２実施形態に係る熱分析装置のシャッタを示す図である。第２実施形態に係る熱分析装置のシャッタを示す図である。

［第１実施形態］
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る熱分析装置１の側面図である。本実施形態に係る熱分析装置１は、示差熱・熱重量同時測定装置である。熱分析装置１は、ハウジング１０と、載置台１１と、加熱炉１２と、冷却装置１３とを備える。載置台１１と、加熱炉１２と、冷却装置１３とは、ハウジング１０内に配置されている。載置台１１は、加熱炉１２内に配置されている。載置台１１には、試料と基準物質とが置かれる。加熱炉１２は、試料と基準物質とを加熱する。冷却装置１３は、加熱炉１２を冷却する。

図２は、熱分析装置１の内部の構成を示す図である。図２に示すように、加熱炉１２は、炉心管１４とヒータ１５とを含む。炉心管１４は、例えばセラミックなどの耐熱性を有する材料製である。炉心管１４内には、上述した載置台１１が配置される。ヒータ１５は、炉心管１４の周囲に配置されており、炉心管１４を加熱する。ヒータ１５は、例えば電熱線であり、炉心管１４に巻回されている。

冷却装置１３は、冷却ファン２１と、ファンモータ２２と、ダクト２３と、シャッタ２４とを含む。冷却ファン２１は、ファンモータ２２に接続されている。冷却ファン２１は、回転することで、加熱炉１２に冷却風を送る。ファンモータ２２は、電動モータであり、冷却ファン２１を回転させる。ダクト２３は、冷却ファン２１と加熱炉１２との間に配置されている。ダクト２３は、冷却風が通る通路２５を含む。

ダクト２３と加熱炉１２との間には、輻射シールド２６と断熱カバー２７とが配置されている。輻射シールド２６は、炉心管１４を覆う。輻射シールド２６には、通気孔２８が設けられている。断熱カバー２７は、輻射シールド２６を覆う。輻射シールド２６は、加熱時に加熱炉１２からの輻射熱を反射する。輻射シールド２６は、例えば、ニッケル、アルミ、或いは鉄などの輻射熱を反射し易い材料製である。断熱カバー２７は、外部への熱の放散を軽減する。

シャッタ２４は、ダクト２３内に配置されている、シャッタ２４は、ダクト２３内の通路２５を開閉する。シャッタ２４は、複数のフラップ３１－３３を含む。複数のフラップ３１－３３は、金属製であり、薄板状の形状を有している。複数のフラップ３１－３３は、上下方向に並んで配置されている。複数のフラップ３１－３３は、回転可能に吊り下げられている。詳細には、複数のフラップ３１－３３は、第１フラップ３１と、第２フラップ３２と、第３フラップ３３とを含む。

第１フラップ３１は、複数のフラップ３１－３３の中で、最も下方に配置されている。第１フラップ３１は、第１回転軸４１と第１板部４２とを含む。第１回転軸４１は、回転可能にダクト２３によって支持されている。第１フラップ３１は、第１回転軸４１回りに回転可能である。第１板部４２は、第１回転軸４１から下方へ延びている。第１フラップ３１は、ダクト２３の底面２９から第１回転軸４１までの高さよりも大きな長さを有する。第１フラップ３１の下端４３は、ダクト２３の底面２９に接触している。第１フラップ３１は、下方、且つ、加熱炉１２側に向かって、傾斜している。

第２フラップ３２は、第１フラップ３１の上方に配置されている。第２フラップ３２は、第２回転軸４４と第２板部４５とを含む。第２回転軸４４は、回転可能にダクト２３によって支持されている。第２フラップ３２は、第２回転軸４４回りに回転可能である。第２回転軸４４は、第１回転軸４１よりも上方、且つ、冷却ファン２１側に配置される。

第２板部４５は、第２回転軸４４から下方へ延びている。第２フラップ３２は、第１回転軸４１と第２回転軸４４との間の距離よりも大きな長さを有する。第２フラップ３２の下端４６は、加熱炉１２側から第１フラップ３１に重なっている。第２フラップ３２の下端４６は、第１フラップ３１に接触している。第２フラップ３２は、下方、且つ、加熱炉１２側に向かって、傾斜している。

第３フラップ３３は、第２フラップ３２の上方に配置されている。第３フラップ３３は、複数のフラップ３１－３３のうち最も上方に配置されている。第３フラップ３３は、第３回転軸４７と第３板部４８とを含む。第３回転軸４７は、回転可能にダクト２３によって支持されている。第３フラップ３３は、第３回転軸４７回りに回転可能である。第３回転軸４７は、第２回転軸４４よりも上方、且つ、冷却ファン２１側に配置される。

第３板部４８は、第３回転軸４７から下方へ延びている。第３フラップ３３は、第２回転軸４４と第３回転軸４７との間の距離よりも大きな長さを有する。第３フラップ３３の下端４９は、加熱炉１２側から第２フラップ３２に重なっている。第３フラップ３３の下端４９は、第２フラップ３２に接触している。第３フラップ３３は、下方、且つ、加熱炉１２側に向かって、傾斜している。

図３は、熱分析装置１の制御系を示すブロック図である。図３に示すように、熱分析装置１は、加熱装置１６と、温度センサ１７と、重量センサ１８と、入力装置１９と、コントローラ２０とを備えている。加熱装置１６は、上述したヒータ１５に電力を供給する駆動回路を含む。温度センサ１７は、試料と基準物質との温度を検出する。温度センサ１７は、例えば熱電対であり、上述した載置台１１に配置されている。温度センサ１７は、試料と基準物質との温度差を示す示差熱信号を出力する。温度センサ１７は、例えば０．１℃以下の温度差を検出可能である。温度センサ１７は、例えば０．０１℃までの温度差を検出可能である。

重量センサ１８は、試料及び基準物質の重量を測定する。重量センサ１８は、例えば熱天秤式のセンサである。重量センサ１８は、試料及び基準物質の重量を示す信号を出力する。入力装置１９は、熱分析装置１のユーザによって操作可能である。入力装置１９は、例えば、ハードキーを含む。或いは、入力装置１９は、タッチスクリーンを含んでもよい。

コントローラ２０は、プロセッサ及びメモリを有するコンピュータを含む。コントローラ２０は、加熱装置１６を制御することで、ヒータ１５による加熱炉１２の昇温を制御する。コントローラ２０は、冷却装置１３を制御することで、加熱炉１２を冷却する。コントローラ２０は、ファンモータ２２を制御することで、冷却ファン２１を作動させる。コントローラ２０は、ユーザにより入力された測定プログラムを記憶する。

次に、熱分析装置１による測定の動作について説明する。ユーザは、試料及び基準物質を加熱炉１２内の載置台１１に配置する。ユーザは、入力装置１９を用いて、測定プログラムを設定し、測定開始を指示する。コントローラ２０は、測定開始の指示を受けると、測定プログラムに従って、加熱炉１２の昇温を開始する。本実施形態に係る熱分析装置１では、コントローラ２０は、輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで加熱炉１２を昇温可能である。輻射熱が支配的になる温度は、例えば６００℃以上の温度である。例えば、コントローラ２０は、室温から約１５００℃の温度まで、加熱炉１２の温度を制御することができる。

測定プログラムの実行中には、加熱炉１２内において試料及び基準物質が昇温される。この間、温度センサ１７は、試料及び基準物質の温度を、連続的、或いは断続的に繰り返し測定し、その温度の測定値をコントローラ２０に送る。重量センサ１８は、試料及び基準物質の重量を、連続的、或いは断続的に繰り返し測定し、その重量の測定値をコントローラ２０へ送る。コントローラ２０は、温度の測定値と重量の測定値とを記録する。

測定プログラムの実行中には、コントローラ２０は、冷却ファン２１を停止させている。そのため、図２に示すように、複数のフラップ３１－３３は自重によって互いに折り重なった状態に保持される。従って、シャッタ２４は、ダクト２３内の通路２５を閉じている。それにより、加熱炉１２の熱放射から冷却ファン２１が保護される。

測定プログラムに従った温度と重量の測定が終了すると、コントローラ２０は、冷却ファン２１を作動させて、加熱炉１２の温度を室温付近まで下げる。このとき、図４に示すように、複数のフラップ３１－３３は、冷却ファン２１からの冷却風Ａ１の風圧によって、冷却ファン２１側から加熱炉１２側へ向かって押される。そのため、複数のフラップ３１－３３は、回転軸４１，４４，４７回りに回転し、複数のフラップ３１－３３の間に隙間が生まれる。従って、シャッタ２４は、ダクト２３内の通路２５を開く。それにより、冷却風Ａ１が加熱炉１２へ到達することで、加熱炉１２が冷却される。

以上、説明した本実施形態に係る熱分析装置１では、第２回転軸４４は、第１回転軸４１から冷却ファン２１側にずれて配置されている。第３回転軸４７は、第２回転軸４４から冷却ファン２１側にずれて配置されている。また、第２フラップ３２の下端４６が加熱炉１２側から第１フラップ３１に重なっている。第３フラップ３３の下端４９が加熱炉１２側から第２フラップ３２に重なっている。それにより、図２に示すように、加熱炉１２側からの空気の対流Ａ２が生じても、複数のフラップ３１－３３は自重によって動き難い。それにより、加熱炉１２の輻射熱からファンが保護される。また、加熱炉１２内の温度分布の乱れが抑えられ、熱分析の精度の低下が抑えられる。
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態に係る熱分析装置について説明する。図５及び図６は、第２実施形態に係る熱分析装置のシャッタ２４を示す図である。図５は、通路２５を閉じているシャッタ２４を示している。図６は、通路２５を開いているシャッタ２４を示している。図５及び図６に示すように、第２実施形態に係る熱分析装置では、シャッタ２４は、複数の錘５１－５３を含む。複数の錘５１－５３は、それぞれ複数のフラップ３１－３３に接続されている。複数の錘５１－５３は、複数のフラップ３１－３３のそれぞれの重心が、各フラップ３１－３３の上下方向における中心Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３よりも下方に位置するように配置される。例えば、複数の錘５１－５３は、それぞれ複数のフラップ３１－３３の下端４３，４６，４９に接続されている。

詳細には、複数の錘５１－５３は、第１錘５１と、第２錘５２と、第３錘５３とを含む。第１錘５１は、第１フラップ３１に接続されている。第１錘５１は、第１フラップ３１の重心が、第１フラップ３１の上下方向における中心Ｃ１よりも下方に位置するように配置される。第２錘５２は、第２フラップ３２に接続されている。第２錘５２は、第２フラップ３２の重心が、第２フラップ３２の上下方向における中心Ｃ２よりも下方に位置するように配置される。第３錘５３は、第３フラップ３３に接続されている。第３錘５３は、第３フラップ３３の重心が、第３フラップ３３の上下方向における中心Ｃ３よりも下方に位置するように配置される。

なお、第２実施形態に係る熱分析装置では、第２回転軸４４は、第１回転軸４１の真上に配置されている。第３回転軸４７は、第２回転軸４４の真上に配置されている。しかし、第２回転軸４４は、第１実施形態と同様に、第１回転軸４１から冷却ファン２１側にずれて配置されてもよい。第３回転軸４７は、第１実施形態と同様に、第２回転軸４４から冷却ファン２１側にずれて配置されてもよい。第２実施形態に係る熱分析装置の他の構成は、第１実施形態に係る熱分析装置１と同様である。

以上説明した第２実施形態に係る熱分析装置では、第２フラップ３２の下端４６が加熱炉１２側から第１フラップ３１に重なっている。第３フラップ３３の下端４９が加熱炉１２側から第２フラップ３２に重なっている。また、複数の錘５１－５３により、複数のフラップ３１－３３の重心が、各フラップの中心Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３よりも下方に位置する。それにより、加熱炉１２側からの空気の対流が生じても、複数のフラップ３１－３３は自重によって動き難い。それにより、加熱炉１２の輻射熱からファンが保護される。また、加熱炉１２内の温度分布の乱れが抑えられ、熱分析の精度の低下が抑えられる。

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

熱分析装置は、示差熱・熱重量同時測定装置に限らない。熱分析装置は、例えば、熱重量測定装置、熱機械分析装置、或いは示差走査熱量分析装置などの他の装置であってもよい。シャッタのフラップの数は３つに限らない。フラップの数は、３つより少なくてもよく、或いは３つより多くてもよい。熱分析装置によって昇温可能な温度の上限値は、上記の実施形態のものに限らず、変更されてもよい。熱分析装置によって検出可能な温度差の下限値は、上記の実施形態のものに限らず、変更されてもよい。
［態様］
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

（第１態様）熱分析装置は、加熱炉と、冷却ファンと、ダクトと、シャッタとを備える。加熱炉は、ヒータを含み、試料を加熱する。冷却ファンは、加熱炉に冷却風を送る。ダクトは、冷却ファンと加熱炉との間に配置され、冷却風が通る通路を含む。シャッタは、ダクト内に配置され、通路を開閉する。シャッタは、第１フラップと第２フラップとを含む。第１フラップは、第１回転軸と第１板部とを含む。第１板部は、第１回転軸から下方へ延びる。第１フラップは、第１回転軸回りに回転可能に支持される。第２フラップは、第２回転軸と、第２板部と、下端とを含む。第２回転軸は、第１回転軸よりも上方、且つ、冷却ファン側に配置される。第２板部は、第２回転軸から下方へ延びる。下端は、加熱炉側から第１フラップに重なる。第２フラップは、第２回転軸回りに回転可能に支持される。

第１態様に係る熱分析装置では、第２回転軸は、第１回転軸から冷却ファン側にずれて配置されている。また、第２フラップの下端が加熱炉側から第１フラップに重なっている。それにより、加熱炉側からの空気の対流が生じても、第２フラップは自重によって動き難い。それにより、加熱炉の輻射熱からファンが保護される。また、加熱炉内の温度分布の乱れが抑えられ、熱分析の精度の低下が抑えられる。

（第２態様）第１態様に係る熱分析装置であって、ダクトと加熱炉との間に配置される輻射シールドをさらに備えてもよい。この場合、輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで、加熱炉が昇温されても、輻射熱の外部への漏れが抑えられる。また、このような高温まで加熱炉が昇温されるときには、対流によるフラップへの影響が大きい。そのため、本態様に係る熱分析装置がより有効となる。

（第３態様）第１又は第２態様に係る熱分析装置であって、ヒータを制御するコントローラをさらに備えてもよい。コントローラは、加熱炉を輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで昇温可能であってもよい。このような高温まで加熱炉が昇温されるときには、対流によるフラップへの影響が大きい。そのため、本態様に係る熱分析装置がより有効となる。

（第４態様）第１から第３態様のいずれかに係る熱分析装置であって、試料と基準物質との温度差を示す示差熱信号を出力する温度センサをさらに備えてもよい。温度センサは、０．１℃以下の温度差を検出可能であってもよい。このように、微小な示差熱信号が検出される場合に、フラップの揺らぎによって、熱分析の精度が影響を受け易い。そのため、本態様に係る熱分析装置がより有効となる。

（第５態様）熱分析装置は、加熱炉と、冷却ファンと、ダクトと、シャッタとを備える。加熱炉は、ヒータを含み、試料を加熱する。冷却ファンは、加熱炉に冷却風を送る。ダクトは、冷却ファンと加熱炉との間に配置され、冷却風が通る通路を含む。シャッタは、ダクト内に配置され、通路を開閉する。シャッタは、第１フラップと、第２フラップと、錘とを含む。第１フラップは、第１回転軸と第１板部とを含む。第１板部は、第１回転軸から下方へ延びる。第１フラップは、第１回転軸回りに回転可能に支持される。第２フラップは、第２回転軸と、第２板部と、下端とを含む。第２回転軸は、第１回転軸よりも上方に配置される。第２板部は、第２回転軸から下方へ延びる。下端は、加熱炉側から第１フラップに重なる。第２フラップは、第２回転軸回りに回転可能に支持される。錘は、第２フラップに接続される。錘は、第２フラップの重心が第２フラップの上下方向における中心よりも下方に位置するように配置される。

（第６態様）第５態様に係る熱分析装置であって、ダクトと加熱炉との間に配置される輻射シールドをさらに備えてもよい。この場合、輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで、加熱炉が昇温されても、輻射熱の外部への漏れが抑えられる。また、このような高温まで加熱炉が昇温されるときには、対流によるフラップへの影響が大きい。そのため、本態様に係る熱分析装置がより有効となる。

（第７態様）第５又は第６態様に係る熱分析装置であって、ヒータを制御するコントローラをさらに備えてもよい。コントローラは、加熱炉を輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで昇温可能であってもよい。このような高温まで加熱炉が昇温されるときには、対流によるフラップへの影響が大きい。そのため、本態様に係る熱分析装置がより有効となる。

（第８態様）第５から第７態様のいずれかに係る熱分析装置であって、試料と基準物質との温度差を示す示差熱信号を出力する温度センサをさらに備えてもよい。温度センサは、０．１℃以下の温度差を検出可能であってもよい。このように、微小な示差熱信号が検出される場合に、フラップの揺らぎによって、熱分析の精度が影響を受け易い。そのため、本態様に係る熱分析装置がより有効となる。

１２：加熱炉、１５：ヒータ、１７：温度センサ、２０：コントローラ、２１：冷却ファン、２３：ダクト、２４：シャッタ、２６：輻射シールド、３１：第１フラップ、３２：第２フラップ、４１：第１回転軸、４２：第１板部、４４：第２回転軸、４５：第２板部、４６：下端

Claims

ヒータを含み、試料を加熱する加熱炉と、
前記加熱炉に冷却風を送る冷却ファンと、
前記冷却ファンと前記加熱炉との間に配置され、前記冷却風が通る通路を含むダクトと、
前記ダクト内に配置され、前記通路を開閉するシャッタと、
を備え、
前記シャッタは、
第１回転軸と、前記第１回転軸から下方へ延びる第１板部とを含み、前記第１回転軸回りに回転可能に支持される第１フラップと、
前記第１回転軸よりも上方、且つ、前記冷却ファン側に配置される第２回転軸と、前記第２回転軸から下方へ延びる第２板部と、前記加熱炉側から前記第１フラップに重なる下端とを含み、前記第２回転軸回りに回転可能に支持される第２フラップと、
を含む、
熱分析装置。
前記ダクトと前記加熱炉との間に配置される輻射シールドをさらに備える、
請求項１に記載の熱分析装置。
前記ヒータを制御するコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記加熱炉を輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで昇温可能である、
請求項１又は２に記載の熱分析装置。
前記試料と基準物質との温度差を示す示差熱信号を出力する温度センサをさらに備え、
前記温度センサは、０．１℃以下の温度差を検出可能である、
請求項１から３のいずれかに記載の熱分析装置。
ヒータを含み、試料を加熱する加熱炉と、
前記加熱炉に冷却風を送る冷却ファンと、
前記冷却ファンと前記加熱炉との間に配置され、前記冷却風が通る通路を含むダクトと、
前記ダクト内に配置され、前記通路を開閉するシャッタと、
を備え、
前記シャッタは、
第１回転軸と、前記第１回転軸から下方へ延びる第１板部とを含み、前記第１回転軸回りに回転可能に支持される第１フラップと、
前記第１回転軸よりも上方に配置される第２回転軸と、前記第２回転軸から下方へ延びる第２板部と、前記通路における前記加熱炉側から前記第１フラップに重なる下端とを含み、前記第２回転軸回りに回転可能に支持される第２フラップと、
前記第２フラップに接続され、前記第２フラップの重心が前記第２フラップの上下方向における中心よりも下方に位置するように配置された錘と、
を含む、
熱分析装置。
前記ダクトと前記加熱炉との間に配置される輻射シールドをさらに備える、
請求項５に記載の熱分析装置。
前記ヒータを制御するコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記加熱炉を輻射熱が支配的になる温度以上の温度まで昇温可能である、
請求項５又は６に記載の熱分析装置。
前記試料と基準物質との温度差を示す示差熱信号を出力する温度センサをさらに備え、
前記温度センサは、０．１℃以下の温度差を検出可能である、
請求項５から７のいずれかに記載の熱分析装置。