JP7476798B2 - 分子内s-s結合を有する環化ペプチドの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、分子内S-S結合(ジスルフィド結合)による架橋構造を有する環化ペプチドの製造方法に関し、ペプチド合成の分野において有用である。
古くからS-S結合を含むペプチドは、ソマトスタチン(somatostatin)、オクトレオチド(octreotide)、アトシバン(atosiban)など、数多くがペプチド医薬品として知られている。近年では、分子内に4個以上のSH基を含み、それらSH基が分子内でS-S結合を形成することにより複数のS-S架橋構造による環化部位を有する環化ペプチド(例えば、リナクロチド(linaclotide)、プレカナチド(plecanatide)、ジコノチド(ziconotide)、インスリン デテミル(insulin detemir)、インスリン グルリジン(insulin glulisine)、等)の研究・開発が進められている。
従来、分子内のS-S結合の形成により環化したペプチドの合成においては、目的とする環化ペプチドのアミノ酸配列に対応する直鎖状ペプチドを製造後、SH基の保護基も含めて構成アミノ酸残基の官能基の保護基を全て脱保護して無保護の直鎖状ペプチドを得、このようにして得られた当該ペプチドを酸化的条件下にてS-S結合を形成させることにより目的とする架橋構造を有する環化ペプチドを合成することが行われてきた(例えば、特許文献1参照)。特許文献1では、ペプチドが有する全ての保護基を脱保護するためトリフルオロ酢酸(TFA)などの酸を使用することで、ペプチド中のSH基も無保護となるため、脱保護された各種の保護基の残骸などによってSH基がアルキル化され収率が低下し、更に、その不純物が、続く環化反応で目的ペプチドの収率低下を招くという課題があった。
不純物副生による、環化反応における目的ペプチドの収率低下に関しては、特許文献2に、システイン残基のSH基の保護基にフェニルアセトアミドメチル基(Phacm基)を用いることで、SH基を保護したまま直鎖状ペプチドのシステイン残基以外のアミノ酸残基の官能基の保護基を脱保護した後、Phacm保護基の脱保護とS-S結合の形成を固相条件下に行うペプチドの製造方法が記載されている。
4個以上のSH基を含む環化ペプチドの製造においては、S-S結合形成の組み合わせが2以上存在するため、製造工程において目的とするSH基間で選択的にS-S結合を形成させる必要性があった。また、環化反応の収率低下に関しては、ペプチド中のSH基がアルキル化された不純物は分子内のSH基の数が奇数となる場合があり、この場合、目的とする複数のS-S結合を形成することができず、ペプチド中の無保護のSH基が残存し、分子間での副反応物を生じたり、このSH基自体が還元剤として作用して、形成されたS-S結合を開裂させる副反応を生じたり、環化収率を低下させるという課題もあった。
この点に関しては、特許文献3には、S-S結合の形成を企図するペプチド中のSH基の組み合わせに応じて別種の保護基(アセトアミドメチル基(Acm基)および4-メチルベンジル基)によりSH基を予め保護した直鎖状ペプチドを設計した後、保護基の種類に応じて順次SH基の保護基の脱保護工程と酸化工程を繰り返すことにより目的とするペプチド中のSH基間にS-S結合を形成させる固相条件下でのペプチドの製造方法が記載されている。
上記に加えて、従来の方法では、分子内S-S結合形成による環化反応は、分子間でのS-S結合形成という副反応の進行を抑制するため一般に低濃度条件(溶媒の過剰使用下)で行う必要があり、生産効率が著しく低いことも課題となっていた。よって、環化反応時の基質濃度を高めても目的とする環化反応を効果的に進行させ得る高効率の製造方法が求められていた。
国際公開第2014/188011号 国際公開第2017/134687号 米国特許第7304036号明細書
当技術分野では、S-S架橋構造を有する環化ペプチドを製造する際の課題解決のための検討が従来よりなされてきたが、いずれも、ペプチド中のSH基の保護基の選択によるS-S結合の形成に基づくものであった。従って、より簡便、かつ、効率的な環化ペプチドの新しい製造方法の開発が望まれていた。本発明はこのような課題に応えるものである。
本発明者は、ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有するペプチドにおいて、様々な調製方法によって、全てのSH基を分子間、分子内を問わず一時的にS-S結合を形成させ、かつ、ペプチド上のその他の官能基が無保護であるペプチドを用いて、酸化還元条件下のフォールディング工程に付して、ペプチド分子内でのS-S結合を再形成するという新しい方法論により、目的とする環化ペプチドを効率的に得る工程を共通に含む、環化ペプチドの製造方法を見出し、本発明を完成した。具体的には、本発明は、以下の工程を含む環化ペプチドの製造方法である。
[1](1-A)ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、全てのSH基が保護されており、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されている直鎖状ペプチド(以後、本明細書中で「全保護ペプチド」と呼称する場合がある)において、当該ペプチドが有する保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護する工程、
(1-B)ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドにおいて、全てのSH基を一時的S-S結合の形成により保護する工程、
および、
(2)上記工程(1-A)、および、工程(1-B)で得られた、ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有し、全てのSH基が一時的S-S結合の形成により保護されており、その他のペプチド上の官能基の全ての保護基が脱保護されているペプチド(以後、本明細書中で「S保護ペプチド」と呼称する場合がある)を、酸化還元条件下のフォールディング工程に付して、ペプチド分子内でのS-S結合の再形成により環化ペプチドを得る工程、
を含む環化ペプチドの製造方法。
工程(1-A)における、全保護ペプチドにおけるSH基の保護は、後述するSH基の保護基により保護されている場合と一時的S-S結合の形成により保護されている場合の両方の態様を含むものである。
本発明では、工程(1-A)と工程(1-B)の実施により工程(2)のS保護ペプチドを得ることができるが、工程(1-A)と工程(1-B)の実施の前後関係は、この順序に限定されるものではなく、実施態様により適宜順序を変更して実施することができる。従って、工程(1-A)の後に工程(1-B)を行う場合、工程(1-B)の後に工程(1-A)を行う場合、これらの組み合わせにより行う場合、両工程を同時に行う場合、があり得るが、いずれの場合も本発明の範囲内に包含される(以下、工程(1-A)と工程(1-B)を総称して工程(1)と呼称する場合がある)。
[2]工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、「全てのSH基がペプチド分子内および/またはペプチド分子間で一時的S-S結合を形成する」(以後、本明細書中で「仮S-S化」と呼称する場合がある)ことによりなされるか、または
工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、S系保護基との一時的S-S結合形成によりなされる[1]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[3]S保護ペプチドが、以下の工程のいずれか一つにより得られる[1]または[2]に記載の環化ペプチドの製造方法。
(1)工程(1-B)において、全保護ペプチドを、仮S-S化に付して、一時的S-S結合で架橋もしくは連結されたペプチドの混合物(以後、本明細書中で「仮S-S化ペプチド混合物」と呼称する場合がある)を得た後、
工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る工程;
(2)工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、または同時に、工程(1-B)において、当該脱保護ペプチドを仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得ることによりS保護ペプチドを得る工程;
(3)a)1)工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、
2)SH基の保護基を除去し、さらに
3)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得るか、または
b)1)全保護ペプチドの、SH基の保護基を除去した後、
2)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得て、さらに
3)工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る工程;または
(4)工程(1-B)において、ペプチド上の官能基として保護基により保護されたSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されているペプチドのSH基の保護基をS系保護基で再保護化するか、または、予めS系保護基で保護することにより、全てのSH基がS系保護基との一時的S-S結合の形成により保護されているペプチドを得て、
工程(1-A)において、当該ペプチドの一時的S-S結合により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る工程。
[4]工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、仮S-S化によりなされる[1]~[3]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[5]仮S-S化が、ヨウ素処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる[4]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[6]仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる[5]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[7]工程(1-B)において、全保護ペプチドを、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得た後、
工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る、[1]~[6]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[8]全保護ペプチドにおけるSH基の保護基が、S系保護基以外の保護基である[7]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[9]全保護ペプチドにおけるSH基の保護基が、トリチル基(Trt基)、アセトアミドメチル基(Acm基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、または4-メトキシベンジル基(MBzl基)である[8]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[10]仮S-S化が、ヨウ素処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる[7]~[9]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[11]仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる[10]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[12]工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、または同時に、
工程(1-B)において、当該脱保護ペプチドを仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得ることによりS保護ペプチドを得る、[1]~[4]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[13]全保護ペプチドのSH基の保護基が、S系保護基以外の保護基である[12]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[14]全保護ペプチドにおけるSH基の保護基が、アセトアミドメチル基(Acm基)、t-ブチル基(t-Bu基)、トリチル基(Trt基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、または4-メトキシベンジル基(MBzl基)である[13]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[15]仮S-S化が、ヨウ素処理、DMSO/TFA処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる[12]~[14]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[16]仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる[15]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[17]
a)1)工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、
2)SH基の保護基を除去し、さらに
3)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得るか、または
b)1)全保護ペプチドの、SH基の保護基を除去した後、
2)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得て、さらに
3)工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る、[1]~[4]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[18]SH基の保護基が、S系保護基以外の保護基である[17]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[19]SH基の保護基が、フェニルアセトアミドメチル基(Phacm基)、4-メトキシベンジル基(MBzl基)、またはモノメトキシトリチル基(MMTrt基)である[18]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[20]SH基の保護基の除去が、ペニシリンアミドヒドロラーゼ(PGA)存在下の水溶液による処理、DDQによる処理、または弱酸による処理で行われる[19]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[21]仮S-S化が、ヨウ素処理、Npys-OMe処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる[17]~[20]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[22]仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる[21]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[23]工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、S系保護基との一時的S-S結合形成によりなされる[1]~[3]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[24]工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、SH基の保護基をS系保護基以外の保護基からS系保護基で再保護化することによりなされる[23]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[25]S系保護基が、3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)、t-ブチルメルカプト基(S-tBu基)、またはエチルメルカプト基(S-Et基)である[23]または[24]に記載の環化ペプチドの製造方法。
[26]工程(1-B)において、ペプチド上の官能基として保護基により保護されたSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されているペプチドのSH基の保護基をS系保護基で再保護化するか、または、予めS系保護基で保護することにより、全てのSH基がS系保護基との一時的S-S結合の形成により保護されているペプチドを得て、
工程(1-A)において、当該ペプチドの一時的S-S結合により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る、[1]~[3]または[23]~[25]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[27]脱保護が、還元剤の非存在下に行われる[1]~[26]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[28]工程(2)の酸化還元条件下のフォールディング工程が、pH6以上の水溶液中で行われる[1]~[27]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[29]工程(2)の酸化還元条件下のフォールディング工程が、酸化剤と還元剤の共存下で行われる[1]~[28]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[30]S保護ペプチドにおけるペプチド上の官能基として有するSH基の数が、2個である[1]~[29]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[31]S保護ペプチドにおけるペプチド上の官能基として有するSH基の数が、4個以上である[1]~[29]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
[32]S保護ペプチドにおけるペプチド上の官能基として有するSH基の数が、偶数である[1]~[31]のいずれかに記載の環化ペプチドの製造方法。
本発明においては、脱保護された各種の保護基の残骸などによってSH基がアルキル化されることによる収率の低下や、不純物副生による目的とする環化反応収率の低下という従来法の課題を克服しつつSH基を一時的にS-S結合の形成により保護することにより、フォールディング工程下で効率的に環化ペプチドを得ることができる。本発明では、比較的高濃度の条件下でも効果的に環化反応を行うことができるため、生産効率の観点からも非常に優れたものである。
図1は、本発明の実施態様の概要を示す。図中の「実施態様1-1」、「実施態様1-2」、「実施態様1-3」および「実施態様2-1」は、工程(1-A)および工程(1-B)での実施態様に対応する。
上記の通り、本発明の基本となる実施態様は、以下の工程を含む分子内S-S結合による架橋構造を有する環化ペプチドの製造方法である。
[1](1-A)ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、全てのSH基が保護されており、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されている直鎖状ペプチド(「全保護ペプチド」)において、当該ペプチドが有する保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護する工程、
(1-B)ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドにおいて、全てのSH基を一時的S-S結合の形成により保護する工程、
および、
(2)上記工程(1-A)、および、工程(1-B)で得られた、ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有し、全てのSH基が一時的S-S結合の形成により保護されており、その他のペプチド上の官能基の全ての保護基が脱保護されているペプチド(「S保護ペプチド」)を、酸化還元条件下のフォールディング工程に付して、ペプチド分子内でのS-S結合の再形成により環化ペプチドを得る工程、
を含む環化ペプチドの製造方法。
以下、本発明について詳述するが、文中で特に断らない限り、本明細書で用いるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者に一般に理解されるものと同じ意味をもつ。本明細書に記載されたものと同様または同等の任意の方法および材料は、本発明の実施または試験において使用することができるが、好ましい方法および材料を以下に記載する。本明細書で言及したすべての刊行物および特許は、例えば、記載された発明に関連して使用されうる刊行物に記載されている、構築物および方法論を記載および開示する目的で、参照として本明細書に組み入れられる。
[工程(1-A)、および、工程(1-B)について]
本工程で用いられる「全保護ペプチド」は、目的とする環化ペプチドの配列に対応させて、当業者であれば公知の原料を用いて、当技術分野で公知の保護基により末端アミノ基、末端カルボキシ基、SH基を含む官能基が適宜保護基により保護されたアミノ酸等の構成単位を製造あるいは購入し、自体公知の方法またはこれらに準じる方法に従って脱保護反応とペプチド鎖伸長反応とを繰り返すことにより製造することができる。SH基の保護は、ペプチド合成後にSH基を一時的S-S結合の形成により保護することによっても行うことができ、これについては後述する。
目的とする環化ペプチドは、天然に存在するもの、または存在しないもの、のいずれであってもよい。
本発明の方法により製造されるペプチドの構成単位となるアミノ酸等は、同一分子内にアミノ基とカルボキシ基を有する化合物であって、天然アミノ酸でも、非天然アミノ酸でもよく、またL体でも、D体でも、あるいはラセミ体でもよい。また、構成単位は、アミノ酸に限定されず、その他のペプチド合成に適用できる化合物(以下、アミノ酸類似体という)であってもよい。当業者であれば、適宜そのようなアミノ酸類似体を選択し、自体公知の方法またはこれらに準じる方法に従って製造あるいは購入することができる。
ペプチド上の官能基としてのSH基としては、システイン残基、ホモシステイン残基、3-メルカプトプロピオニル基等が有するSH基が挙げられるが、これに限られない。
ペプチド上の官能基としてのSH基は、ペプチド配列中に存在していれば、その存在位置は、いずれの残基についても特に限定されず、ペプチド配列の末端、中間のいずれに配置されてもよく、また、互いに隣接していてもよい。また、プロインスリンから切り出されて生成するインスリンのように複数の鎖中にSH基がまたがって存在する場合も含まれる。
N末端アミノ基の保護基、C末端カルボキシ基の保護基、ペプチド上の官能基としてSH基を有するアミノ酸、またはアミノ酸類似体、以外の構成単位のペプチド上の官能基の保護基は、当技術分野で通常使用されるものから選択することができるが、工程(1-A)におけるSH基の保護基の選択に応じて、工程(1-A)の目的を達成する上で適当な保護基を選択することができる。
本工程(1-A)は、「全保護ペプチド」が有する保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基(後述の疑似固相保護基や固相担体も含めて)を脱保護する工程をいう。
本工程(1-A)における脱保護には、疑似固相保護基や固相担体の切り出しも含まれる。本工程(1-A)における脱保護は、使用された保護基に応じて、当技術分野における通常使用される方法により行うことができる。ここでの脱保護時にはSH基の保護基が併せて除去されないことが必要であるため、SH基の保護基に応じて、適宜脱保護方法を選択することが望ましい。特に、SH基の保護が後述の一時的S-S結合によりなされている場合には、還元剤の非存在下に脱保護できるものを選択することが適当である。より具体的な脱保護方法については後述する。
本工程(1-B)は、ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドにおいて、全てのSH基を一時的S-S結合の形成により保護する工程をいう。
一時的S-S結合の形成は、S系保護基との一時的S-S結合の形成、または仮S-S化による一時的S-S結合の形成により行われる。その他、SH基の保護基も含めて、それらの詳細については、実施の態様に応じて、後述する。
工程(1-B)での一時的S-S結合の形成は、SH基以外の全ての官能基の保護基(後述の疑似固相保護基も含めて)の脱保護(工程(1-A))の前もしくは後、または同時の適切なタイミングで行われる。かかる工程(1-A)と工程(1-B)との前後関係は、使用されるSH基の保護基、一時的S-S結合形成の反応様式、SH基以外の保護基の脱保護条件、等との関係で適宜決定されるが、好ましい具体的な実施態様は後述する。
工程(1-A)および工程(1-B)は、固相条件または液相条件(擬似固相保護基を使用する擬似固相条件を含む)のいずれでも行うことができる。目的とする環化ペプチドの構造や製造目的(製造スケール等)等の合成戦略に応じて、当業者は固相または液相(擬似固相保護基を使用する擬似固相)の条件を適宜選択することができる。
工程(1-A)および工程(1-B)が、固相条件で行われる場合には、末端カルボキシ基またはペプチド上の官能基(例えば、カルボキシ基)等のペプチド上の官能基の少なくとも一つは、固相条件下でのペプチド合成において慣用の方法により固相担体に担持される。
固相担体は、固相合成での使用に適した当技術分野において知られているあらゆる固相担体でありうる。本明細書中、「固相」という用語は、ペプチドが慣用される機能的リンカー又はハンドル基を介して上記の固相担体に結合又はリンクされることを含んでおり、本文脈で「固相」と言うときにはこのようなリンカーも含意している。固相の例は、例えば、ポリスチレン支持体(例えばp-メチルベンジル-ヒドリルアミンによってさらに機能化されてもよい)、又は、珪藻土封入ポリジメチルアクリルアミド(ペプシンK)、シリカ又は微細孔性ガラスなどの剛直な機能化支持体である。固相の樹脂マトリクスは、両親媒性のポリスチレン-PEG樹脂又はPEG-ポリアミド又はPEG-ポリエステル樹脂によって構成されてもよい。固相担体として、例えば、Wang-PEG レジン(Alko-PEG Resin)、SAL-PEG ResinやRink-アミド PEG レジンも含まれる。
以下、本発明のペプチドに関して用いられる各種保護基について説明する。各保護基は、当技術分野で通常行われる方法に従って、各官能基に導入することができる。
「全保護ペプチド」におけるSH基が保護基により保護される場合の保護基としては、S系保護基以外の保護基(例えば、t-ブチル基(t-Bu基)、トリフェニルメチル基(トリチル基:Trt基)、メチルトリチル基、メトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基(MMTrt基)、アダマンチル基(Ad基)、アセトアミドメチル基(Acm基)、トリメチルアセトアミドメチル基、フェニルアセトアミドメチル基(Phacm基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、3-メチルベンジル基、2-メチルベンジル基、4-メトキシベンジル基(MBzl基)、3-メトキシベンジル基、2-メトキシベンジル基、2,4,6-トリメトキシベンジル基、ダブシル基(Dbs基:4-ジメチルアミノアゾベンゼン-4’-スルホニル基)等)、および、S系保護基(例えば、3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)、t-ブチルメルカプト基(S-tBu基)、エチルメルカプト基(S-Et基)等)が挙げられる。これらに限定されることなく、当業者であれば、本発明を実施するにあたっての全体的な合成戦略に沿って適宜SH基の保護基を選択することができるが、好適な実施態様については、後述する。
以下、「全保護ペプチド」が有するSH基以外の官能基の保護基について説明する。
(N末端アミノ基の保護基)
工程(1-A)を実施する上では必ずしも必要ではないが、N末端アミノ基の保護基(一時保護基)としては、例えば、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基(以下、Fmoc基ともいう。)、tert-ブトキシカルボニル基(以下、Boc基ともいう。)、等が挙げられる。好ましくは、Fmoc基である。
(C末端カルボキシ基の保護基)
C末端カルボキシ基の保護基としては、エステル型保護基、アミド型保護基、ヒドラジド型保護基等を挙げることができる。
エステル型保護基としては、置換若しくは無置換のアルキルエステル、置換若しくは無置換のアラルキルエステルが好ましく用いられる。置換若しくは無置換のアルキルエステルとしては、メチルエステル、エチルエステル、tert-ブチルエステル、シクロヘキシルエステル、トリクロロエチルエステル、フェナシルエステル等が好ましく用いられる。置換若しくは無置換のアラルキルエステルとしては、ベンジルエステル、p-ニトロベンジルエステル、p-メトキシベンジルエステル、ジフェニルメチルエステル、9-フルオレニルメチル(Fm)エステル、4-ピコリル(Pic)エステル等が好ましく用いられる。
アミド型保護基としては、無置換のアミド、N-メチルアミド、N-エチルアミド、N-ベンジルアミド等の1級アミド、N,N-ジメチルアミド、ピロリジニルアミド、ピペリジニルアミド等の2級アミド等が好ましく用いられる。
ヒドラジド型保護基としては、無置換のヒドラジド、N-フェニルヒドラジド、N,N’-ジイソプロピルヒドラジド等が好ましく用いられる。
(ペプチド上の官能基の保護基)
ペプチド上の官能基の保護基としては、例えば、ペプチド合成の基礎と実験、丸善株式会社出版(1985年)や、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス(PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS)、第3版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(JOHN WILLY&SONS)出版(1999年)等に記載されている保護基を挙げることができる。
ペプチド上の官能基がアミノ基である場合は、ウレタン型保護基、アシル型保護基、スルホニル型保護基等を挙げることができる。
ウレタン型保護基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル(Boc)基、等が用いられる。中でもBoc基は、穏和な酸性条件下で選択的に脱保護ができることから、特に好ましく用いられる。
アシル型保護基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基等が好ましく用いられる。
スルホニル型保護基としては、例えば、p-トルエンスルホニル(Ts)基、p-トリルメタンスルホニル基、4-メトキシ-2,3,6-トリメチルベンゼンスルホニル基等が好ましく用いられる。
ペプチド上の官能基がカルボキシ基である場合は、C末端カルボキシ基の保護基として上記したものと同じ保護基を挙げることができる。
ペプチド上の官能基がヒドロキシ基である場合(フェノール性ヒドロキシ基を含む)は、アルキル型保護基、アルコキシアルキル型保護基、アシル型保護基、アルキルシリル型保護基等を挙げることできる。
アルキル型保護基としては、例えば、メチル基、エチル基、tert-ブチル基等、が挙げられる。
アルコキシアルキル型保護基としては、例えば、メトキシメチル基 (MOM基)、2-テトラヒドロピラニル基 (THP基)、エトキシエチル基(EE基)、等が挙げられる。
アシル型保護基としては、例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、等が挙げられる。
アルキルシリル型保護基としては、例えば、トリメチルシリル基(TMS基)、トリエチルシリル基(TES基)、tert-ブチルジメチルシリル基(TBS基またはTBDMS基)、トリイソプロピルシリル基(TIPS基)、tert-ブチルジフェニルシリル基(TBDPS基)、等が挙げられる。
その他の官能基についても、当技術分野で慣用の保護基により保護することができる。例えば、アルギニンのグアニジノ基は、p-トルエンスルホニル基により保護することができる。ヒスチジンのイミダゾール基は、トリチル基、ベンジルオキシメチル基、等により保護することができる。また、トリプトファンのインドール基は、ホルミル基により保護することができる。
ペプチド上の官能基の保護基について上述したが、当業者であれば本発明を実施するに際しての全体的な合成戦略に沿って選択される当技術分野における保護スキーム(例えば、Fmoc/tBuストラテジー、tBu/Bzlストラテジー、Bzl/tBuストラテジー、等)に応じて、適宜選択して本工程を実施することができる。中でも、Fmoc/tBuストラテジーが好ましい。
本発明が液相条件下に行われる場合には、C末端カルボキシ基、およびペプチド上の官能基がカルボキシ基である場合には当該カルボキシ基の少なくとも一つが、保護されていることが望ましい。カルボキシ基の保護基としては、前述の「C末端カルボキシ基の保護基」に挙げた保護基(エステル型保護基、アミド型保護基、ヒドラジド型保護基等)が挙げられる。このうち、エステル型保護基が好ましい。エステル型保護基としては、置換若しくは無置換のアルキルエステル、置換若しくは無置換のアラルキルエステルが好ましく用いられる。置換若しくは無置換のアルキルエステルとしては、メチルエステル、エチルエステル、tert-ブチルエステル、シクロヘキシルエステル、トリクロロエチルエステル、フェナシルエステル等が好ましく用いられる。置換若しくは無置換のアラルキルエステルとしては、ベンジルエステル、p-ニトロベンジルエステル、p-メトキシベンジルエステル、ジフェニルメチルエステル、9-フルオレニルメチル(Fm)エステル、4-ピコリル(Pic)エステル等が好ましく用いられる。特に、tert-ブチルエステル、ベンジルエステル等が好ましい。
(疑似固相保護基)
本発明が液相条件下に行われる場合には、精製を簡便にする上で、C末端カルボキシ基、およびペプチド上の官能基がカルボキシ基である場合には当該カルボキシ基の少なくとも一つが、必要により、疑似固相保護基(以後、本明細書中で「アンカー」と呼称する場合がある)により保護されていてもよい。疑似固相保護基を用いたペプチドの精製法としては、特に限定されないが、自体公知の方法(特開2000-44493号公報、国際公開第2006/104166号、国際公開第2007/034812号、国際公開第2007/122847号、国際公開第2010/113939号、国際公開第2010/104169号、国際公開第2011/078295号、国際公開第2012/029794号、等を参照)またはこれらに準じる方法に従って行うことができる。ここで、疑似固相保護基とは、ハロゲン系溶媒またはエーテル系溶媒に可溶で、かつ極性溶媒に不溶な分子量が300以上のアンカー(例えば、ベンジル化合物、ジフェニルメタン化合物、またはフルオレン化合物)を含む基であって、カルボキシ基と縮合できる基をいう。
上記のハロゲン系溶媒またはエーテル系溶媒に可溶で、かつ極性溶媒に不溶な分子量が300以上のアンカーの一実施態様は、下記式(I)で表される化合物である。これらの中でも、分子量400以上のものが好ましい。式(I):
Figure 0007476798000001
[式中、
は、水素原子であるか、あるいはRが下記式(a)で表される基である場合には、Rと一緒になって単結合を示して、環Aおよび環Bと共にフルオレン環を形成していてもよく;
p個のRは、独立してそれぞれ脂肪族炭化水素基を有する有機基を示し;
pは、1~4の整数を示し;
環Aは、p個のORに加えて、さらにハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよく;
は、水素原子、またはハロゲン原子により置換されていてもよいフェニル基を示し;かつ
は、水素原子、または式(a):
Figure 0007476798000002
(式中、は結合位置を示し;
rは、0~4の整数を示し;
r個のRは、独立してそれぞれ脂肪族炭化水素基を有する有機基を示し;
は、水素原子を示すか、またはRと一緒になって単結合を示して、環Aおよび環Bと共にフルオレン環を形成していてもよく;かつ
環Bは、r個のORに加えて、さらにハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群から選択される置換基を有していてもよい。)で表される基を示し;かつYは、ヒドロキシ基、NHR(Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)、またはハロゲン原子を示す。]
上記式(I)で表されるアンカーは、保護化を意図する化合物と結合する。すなわち、Yが、ヒドロキシ基、-NHR基、またはハロゲン原子であるアンカーは、アミノ酸またはペプチドのC末端等のカルボキシ基と縮合することにより、化合物を保護化する。
本明細書中、Rで示される「アルキル基」としては、直鎖または分岐鎖のC1-30アルキル基が挙げられ、好ましくはC1-10アルキル基、より好ましくはC1-6アルキル基である。好適な具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル等が挙げられ、特にメチル、エチルが好ましい。
本明細書中、Rで示される「アラルキル基」としては、C7-30アラルキル基が挙げられ、好ましくはC7-20アラルキル基、より好ましくはC7-16アラルキル基(C6-10アリール-C1-6アルキル基)である。好適な具体例としては、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、1-フェニルプロピル、ナフチルメチル、1-ナフチルエチル、1-ナフチルプロピル等が挙げられ、特にベンジルが好ましい。
Rとしては、水素原子、C1-6アルキル基またはC7-16アラルキル基が好ましく、水素原子、メチル、エチルまたはベンジルがより好ましく、水素原子が特に好ましい。
本明細書中、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。本明細書中、Yで示される「ハロゲン原子」としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、臭素原子がより好ましい。
本明細書中、RまたはRとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」とは、その分子構造中に脂肪族炭化水素基を有する1価の有機基である。
「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」とは、直鎖または分岐状の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基であり、炭素数5以上の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数5~60の脂肪族炭化水素基がより好ましく、炭素数5~30の脂肪族炭化水素基がさらに好ましく、炭素数10~30の脂肪族炭化水素基が特に好ましい。
「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」の部位は、特に限定されず、末端に存在しても(1価基)、それ以外の部位に存在してもよい(例えば2価基)。
「脂肪族炭化水素基」としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基等の1価基およびそれらから誘導される2価基が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、アラキル基、ベヘニル基、オレイル基、イソステアリル基等の1価基およびそれらから誘導される2価基が挙げられる。
「脂肪族炭化水素基を有する有機基」中の「脂肪族炭化水素基」以外の部位は任意に設定することができる。例えば、リンカーとして-O-、-S-、-COO-、-OCONH-、および-CONH-、並びに、炭化水素基(1価基または2価基)等の部位を有していてもよい。「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、単環式飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基等が挙げられ、具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の1価基およびそれらから誘導される2価基が用いられる。「アルキル基」としては、例えば、C1-6アルキル基等が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。「アルケニル基」としては、例えば、C2-6アルケニル基等が好ましく、例えば、ビニル、1-プロペニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル等が挙げられる。「アルキニル基」としては、例えば、C2-6アルキニル基等が好ましく、例えば、エチニル、プロパルギル、1-プロピニル等が挙げられる。「シクロアルキル基」としては、例えば、C3-6シクロアルキル基等が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。「アリール基」は、例えば、C6-14アリール基等が好ましく、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、ビフェニリル、2-アンスリル等が挙げられる。中でもC6-10アリール基がより好ましく、フェニルが特に好ましい。「アラルキル基」としては、例えば、C7-20アラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、1-フェニルプロピル、ナフチルメチル、1-ナフチルエチル、1-ナフチルプロピル等が挙げられる。中でも、C7-16アラルキル基(C6-10アリール-C1-6アルキル基)がより好ましく、ベンジルが特に好ましい。当該「炭化水素基」は、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子)、1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数1~6のアルキル基、オキソ基等から選択される置換基で置換されていてもよい。
上記式(I)中のOR基またはOR基を構成する「脂肪族炭化水素基を有する有機基」は、分岐等によって複数の「脂肪族炭化水素基」が存在してもよい。「脂肪族炭化水素基を有する有機基」中に「脂肪族炭化水素基」が複数存在する場合には、その各々は同一のものであっても異なるものであってもよい。
上記式(I)中のRまたはRとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における、炭素数合計の下限は5が好ましく、10がより好ましく、12が更に好ましく、14が更に一層好ましく、16が殊更好ましく、20が特に好ましい。一方、RまたはRとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における、炭素数合計の上限は、200が好ましく、150がより好ましく、120が更に好ましく、100が更に一層好ましく、80が殊更好ましく、60が特に好ましく、40が特に一層好ましく、30が最も好ましい。当該炭素数が大きいほど、ペプチド鎖が長鎖となった場合でも、式(I)で表される化合物の極性溶媒における結晶性が良好となる。
「OR」基または「OR」基の好適な具体例として、ドデシルオキシ、セチルオキシ、オクタデシルオキシ、ドコシルオキシ、ドコシルオキシ-ドデシルオキシ、トリアコンチルオキシ等が挙げられる。「OR」基または「OR」基は合計でpまたはr個存在し(pは1~4の整数であり、rは0~4の整数である。)、pは好ましくは2または3であり、rは好ましくは0~2の整数である。
上記式(I)中の環Aまたは環B中に有していてもよい置換基の好適な具体例としては、C1-6アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ等のC1-4アルコキシ基)、1個以上のハロゲンで置換されていてもよいC1-6アルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル等のC1-6アルキル基、トリフルオロメチル、トリクロロメチル等のハロゲン置換されたC1-6アルキル基)、またはハロゲン原子が挙げられ、中でもC1-6アルコキシ基が好ましい。
上記式(I)で表されるアンカーの好ましい態様としては、式(I)中、Yがヒドロキシ基であり;
が水素原子であり;
および/またはRが炭素数5~60の脂肪族炭化水素基であり;
pが1~3の整数であり;
rが0~2の整数である化合物である。
上記式(I)で表されるアンカーの別の好ましい態様としては、式(I)中、
Yがヒドロキシ基であり;
、R、およびRが共に水素原子であり;
が炭素数5~60の脂肪族炭化水素基であり;
pが1~3の整数である化合物である。
上記式(I)で表されるアンカーの別の好ましい態様としては、式(I)中、
Yがヒドロキシ基であり;
、R、およびRが共に水素原子であり;
が炭素数10~40のアルキル基であり;
pが2または3である化合物である。
上記式(I)で表されるアンカーの別の好ましい態様としては、式(I)中、
Yがヒドロキシ基であり;
、R、およびRが共に水素原子であり;
が炭素数12~30のアルキル基であり;
pが2または3である化合物である。
上記式(I)で表されるアンカーの別の好ましい態様としては、式(I)中、
Yがヒドロキシ基であり;
、R、およびRが共に水素原子であり;
が炭素数12~30のアルコキシ基を1~3個有するベンジル基であり;
pが1~3の整数である化合物である。
上記式(I)で表されるアンカーの別の好ましい態様としては、式(I)中、
Yがヒドロキシ基であり;
、R、およびRが共に水素原子であり;
が炭素数12~30のアルコキシ基を1~3個有するシクロヘキシルメチル基であり;
pが1~3の整数である化合物である。
本発明におけるハロゲン系溶媒またはエーテル系溶媒に可溶で、かつ極性溶媒に不溶な分子量が300以上のアンカーの好ましい例としては、以下のアンカーが挙げられる。
3,4,5-トリ(オクタデシルオキシ)ベンジルアルコール、
2,4-ジ(ドコシルオキシ)ベンジルアルコール、
4-メトキシ-2-[3’,4’,5’-トリ(オクタデシルオキシ)ベンジルオキシ]ベンジルアルコール、
4-メトキシ-2-[3’,4’,5’-トリ(オクタデシルオキシ)シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール、
2-メトキシ-4-[3’,4’,5’-トリ(オクタデシルオキシ)シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール、
4-[3’,4’,5’-トリ(オクタデシルオキシ)シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール、
3,5-ジメトキシ-4-[3’,4’,5’-トリ(オクタデシルオキシ)シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール、
2,4-ジ(ドデシルオキシ)ベンジルアルコール、
3,4,5-トリ(オクタデシルオキシ)ベンジルアミン、
ビス(4-ドコシルオキシフェニル)メタノール、
ビス(4-ドコシルオキシフェニル)メチルアミン、および
2-(12-ドコシルオキシ-ドデシルオキシ)-9-(3-フルオロフェニル)-9-ブロモフルオレン。
別の好ましい疑似固相保護基としては、以下のものが挙げられる。
式(II):
Figure 0007476798000003
[式中、
k個のQは、単結合を示すか、あるいは-O-、-S-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-または-NH-を示し;
k個のRは、独立してそれぞれ、分岐鎖を1以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも1つ有し、総分岐鎖数が3以上であって、かつ総炭素数14以上300以下である有機基を示し;
kは、1~4の整数を示し;
は、水素原子であるか、あるいはZが下記式(a)で表される基である場合には、Rと一緒になって単結合を示して、環Bと共にフルオレン環を形成していてもよく;
環Aは、R、k個のQR、およびC(X)(Y)Zに加えて、さらにハロゲン原子、1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいC1-6アルキル基、および1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよく;
Xは、水素原子またはフェニル基を示し;
Yは、ヒドロキシル基または-NHR基(Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す)を示し;かつ
Zは、水素原子または式(a):
Figure 0007476798000004
(式中、は結合位置を示し;
mは、0~4の整数を示し;
m個のQは、前記と同意義を示し;
m個のRは、独立してそれぞれ、分岐鎖を1以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも1つ有し、総分岐鎖数が3以上であって、かつ総炭素数14以上300以下である有機基を示し;
は、水素原子を示すか、またはRと一緒になって単結合を示して、環Aと共にフルオレン環を形成していてもよく;かつ
環Bは、m個のQR、およびRに加えて、さらにハロゲン原子、1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいC1-6アルキル基、および1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる置換基を有していてもよい)で表される基を示し;
前記RおよびRにおける分岐鎖を1以上有する脂肪族炭化水素基を少なくとも1つ有し、総分岐鎖数が3以上であって、かつ総炭素数14以上300以下である有機基が、式(b):
Figure 0007476798000005
(式中、は、隣接原子との結合位置を示し;
およびRは、独立してそれぞれ、水素原子またはC1-4アルキル基を示し;
は、単結合、C1-4アルキレン基または酸素原子を示す。
但し、RおよびRが共に水素原子であることはない。)で表される同一または異なる2価の基を3以上有する基である。]で表される分岐鎖含有芳香族化合物が挙げられる。
より好ましくは、以下の化合物が挙げられる。
2,4-ジ(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアルコール;
3,5-ジ(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアルコール;
4-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアルコール;
1-[(2-クロロ-5-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)フェニル)]-1-フェニルメタンアミン;
3,4,5-トリ(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアルコール;
3,4,5-トリ(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアミン;
4-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアミン;
2-[3’,4’,5’-トリ(2’’,3’’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルオキシ]-4-メトキシベンジルアルコール;
4-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)-2-メトキシベンジルアルコール;
4-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)-2-メトキシベンジルアミン;
4-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)-2-メチルベンジルアルコール;
4-(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)-2-メチルベンジルアミン;
2,2,4,8,10,10-ヘキサメチル-5-ドデカン酸(4-ヒドロキシメチル)フェニルアミド;
4-(3,7,11-トリメチルドデシルオキシ)ベンジルアルコール;
2-(3,7,11-トリメチルドデシルオキシ)-9-フェニルフルオレン-9-オール;
式:
Figure 0007476798000006
(式中、n16は、23または34を示す。)で表される化合物;
式:
Figure 0007476798000007
(式中、n17は、23または34を示す。)で表される化合物;
式:
Figure 0007476798000008
(式中、n18は、5~7を示す。)で表される化合物;および
式:
Figure 0007476798000009
で表される化合物、からなる群から選択される分岐鎖含有芳香族化合物。
その他の好ましい疑似固相保護基としては、ジ(4-ドコソキシフェニル)メチルアミン(NHCH(Phe(4-OC2245)))などが挙げられる。
前記アンカーの製造方法としては、特に限定されないが、自体公知の方法(特開2000-44493号公報、国際公開第2006/104166号、国際公開第2007/034812号、国際公開第2007/122847号、国際公開第2010/113939号、国際公開第2010/104169号、国際公開第2011/078295号、国際公開第2012/029794号、等を参照)またはこれらに準じる方法に従って原料化合物から製造することができる。なお、原料化合物として使用する化合物、例えば、式(I)の基RまたはRに対応するハロゲン化物等は、市販品として入手可能であるか、あるいは、自体公知の方法またはこれらに準じる方法に従って製造することができる。
以下、全保護ペプチドが有するSH基以外の官能基の保護基の脱保護について説明する。
本工程(1-A)での保護基の脱保護は、脱保護される保護基の種類に応じて自体公知の脱保護方法を特に制限なく採用することができるが、SH基の保護基や一時的S-S結合の形成によるSH基の保護に悪影響を与えない条件を選択することが必要である。例えば、還元剤の非存在下に行うことが好ましい。当業者であれば、全体的な合成戦略に基づいて適宜適切な条件を選択することができる。
例えば、Me、Etなどの低級アルキル基の場合は、水性有機溶媒や極性有機溶媒などの溶媒中、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの塩基と反応させることにより脱保護することができる。
tBuの場合は、クロロホルム、酢酸エチルなどの溶媒中、トリフルオロ酢酸(TFA)、塩酸などの酸と反応させることにより脱保護することができる。
Bzlの場合は、メタノールやDMFなどの溶媒中、あるいは、フッ化水素、トリフルオロメタンスルホン酸、HBrなどの強酸と反応させることにより脱保護することができる。
Boc基の脱保護に使用し得る酸としては特に限定されないが、塩化水素、硫酸、硝酸等の鉱酸類、ギ酸、トリフルオロ酢酸(TFA)等のカルボン酸類、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等のスルホン酸類等、またはこれらの混合物を用いることができる。混合物としては、例えば、臭化水素/酢酸、塩化水素/ジオキサン、塩化水素/酢酸等を挙げることができる。
Fmoc基の脱保護に使用し得る有機塩基としては特に限定されないが、ジエチルアミン、ピペリジン、モルホリン等の2級アミン類、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン(DBU)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン(DBN)等の3級アミン類が挙げられる。
より好ましくは、Fmoc基の脱保護は、ハロゲン系溶媒またはエーテル系溶媒中で、求核性のない有機塩基で処理することにより行われる。脱保護は、その反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。
求核性のない塩基としては、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン(DBU)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、および1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン(DBN)等が挙げられ、DBUおよびDBNが好ましく、DBUがより好ましい。
疑似固相保護基の脱保護は、好適には酸処理により行われる。脱保護に使用する酸としては、トリフルオロ酢酸(TFA)、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等が挙げられ、中でも、TFAが好ましい。脱保護に使用する溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタンまたはこれらの混合溶媒等が挙げられる。脱保護に使用する酸の濃度は、例えば、0.1w/v%~5w/v%である。
疑似固相保護基の脱保護は、ペプチド中の他の官能基の保護基と同時に脱保護することも可能である。その場合には、当該分野、特にペプチド合成、において行われている慣用の方法が用いられるが、酸などを加える方法が好適に採用される。酸としてトリフルオロ酢酸(TFA)、塩酸、硫酸、メシル酸、トシル酸、トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が使用される。中でもTFAが特に好ましい。酸の使用量は、用いる酸の種類によって適宜設定され、アンカー基を除去するのに適当な量が用いられる。酸の使用量は、ペプチド1モルに対して、好ましくは3モル以上、より好ましくは5モル以上であり、好ましくは100モル以下、より好ましくは50モル以下である。これらの使用とともに、更なる強酸源として、トリフルオロメタンスルホン酸や、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、BF・エーテラートなどを加えることもできる。
以上の疑似固相保護基の脱保護の条件は、当業者であれば使用される保護基の種類に応じて適宜選択することができる。
その他の保護基は、その種類に応じて、当技術分野で通常行われる方法もしくは本明細書に記載された保護基の脱保護方法に準じて適宜脱保護することができる。
上記工程(1-A)、および、工程(1-B)で得られた「S保護ペプチド」は、液相条件下で得られた場合には、当技術分野で慣用の方法により単離・精製することができ、工程(2)に付される。他方、「S保護ペプチド」が固相条件下で得られた場合には、慣用の方法により固相担体から切り出され、工程(2)に付される。
以上、工程(1-A)と工程(1-B)について説明した。前記の通り本発明では、工程(1-A)と工程(1-B)の実施により工程(2)のS保護ペプチドを得ることができるが、工程(1-A)と工程(1-B)の実施の前後関係は、この順序に限定されるものではなく、実施態様により適宜順序を変更して実施することができる。従って、工程(1-A)の後に工程(1-B)を行う場合、工程(1-B)の後に工程(1-A)を行う場合、これらの組み合わせにより行う場合、両工程を同時に行う場合、があり得るが、いずれの場合も本発明の範囲内に包含される。
従って、工程(1-A)と工程(1-B)とは、一体となって後続する工程(2)で使用される「S保護ペプチド」を製造するための工程(1)を構成することとなる。すなわち、当該工程(1)は、工程(1-A)と工程(1-B)とを組み合わせて実施することを含む、「S-保護ペプチド」を得る工程、と言い換えることができる。
[工程(2)について]
本工程(2)は、工程(1-A)、および、工程(1-B)で得られた「ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、全てのSH基が一時的S-S結合の形成により保護されており、当該SH基以外の全ての官能基の保護基が脱保護されているペプチド(S保護ペプチド)」を、酸化還元条件下にフォールディング工程に付して、ペプチド分子内でのS-S結合の再形成により環化ペプチドを得る工程である。
本工程では、フォールディング工程に付してSH基の保護のために形成された一時的S-S結合を一旦切断し、安定型(天然型)の高次構造を構築するようにS-S結合を再形成させることにより、目的とする環化ペプチドを得ることができる。
本工程のフォールディング工程では、酸化還元条件下で、「S保護ペプチド」が、その一時的S-S結合の還元による切断と酸化によるS-S結合の形成、さらには形成されたS-S結合の還元による再切断と酸化による再形成によるS-S結合の交換反応が順次進行し、最終的には安定型(目的環化ペプチドが天然物である場合は、天然型)の高次構造を有する環化ペプチドへと導かれる。特に、4個以上のSH基を有するペプチドの場合には、2種以上のSH基間でのS-S結合の形成の組み合わせが存在するが、本工程では当該安定型の高次構造に適合するように選択されたSH基の間で、1または2以上のS-S結合が形成されることとなる。従来の方法では、例えば、予めS-S結合を形成させようとするSH基の組み合わせに応じて異なる保護基によりSH基を保護するという直鎖状ペプチドの設計段階での対応が必要であったが、本発明ではより簡便かつ効率的に目的とする環化ペプチドを得ることができる。
本発明における「酸化還元条件下」とは、「S保護ペプチド」が、その一時的S-S結合の還元による切断と酸化によるS-S結合の形成、さらには形成されたS-S結合の還元による再切断と酸化による再形成によるS-S結合の交換反応が順次進行し、最終的には安定型(目的環化ペプチドが天然物である場合は、天然型)の高次構造を有する環化ペプチドへと導かれる条件下であり、一般的には、酸化剤と還元剤の共存下に行われるが、後述するとおり、還元剤のみで、酸化剤を外部から加えることは必須ではない。
本工程で用いられる酸化剤と還元剤の組み合わせは、当技術分野で通常用いられるものを活用することができるが、ジスルフィド系試薬/チオール系試薬の組合せ、例えば、シスチン/システイン、グルタチオン酸化型/グルタチオン還元型、シスタミン/システアミン、ジチオジエタノール/β-メルカプトエタノール等、酸化剤と還元剤の組み合わせが挙げられる。「酸化剤と還元剤の組み合わせ」の好ましい態様としては、シスチン/システイン、グルタチオン酸化型/グルタチオン還元型、の組み合わせが挙げられる。
先述のとおり、溶媒中に溶存する酸素が酸化剤として作用し、また、S保護ペプチドに存在する一時的S-S結合自体も酸化剤として作用するため、外部から酸化剤を添加せず、還元剤のみ使用する実施態様も、工程(2)での酸化還元条件下でのフォールディング工程に包含される。外部から酸化剤を添加せず、溶存酸素やS保護ペプチドに存在する一時的S-S結合自体が酸化剤として機能する場合、還元剤としては、例えば、システイン、グルタチオン還元型、システアミン、β-メルカプトエタノール等(好ましいものとして、システイン)が挙げられるが、当技術分野で通常用いられるものであればこれに限られない。
本工程は、適当な溶媒中で行うことができるが、極性溶媒中(例えば、水、エタノールなどのアルコール、等)またはそれらの混合溶媒中で行うことが好ましい。
本工程は、通常pH6以上(14以下)で行うことができるが、塩基性条件下、例えば、pH7以上(14以下)で行うことが好ましく、pH8以上(14以下)で行うことがより好ましく、pH8以上13以下で行うことが特に好ましい。
本工程は、当技術分野で通常フォールディング工程が行われる条件に従って、行うことができる。
フォールディング工程実施時の「S保護ペプチド」の濃度は、特に限定されず、当業者であれば「S保護ペプチド」の種類に応じて適宜決定することができるが、例えば、0.1mg/mlから1mg/mlのフォールディングにおける通常の濃度範囲で行うことができる。検討の結果、本発明においては、SH基が一時的S-S結合形成により保護されていることに基づいて、より高い濃度範囲でも効率良く目的とする環化ペプチドを得られることが確認されており、例えば1mg/ml以上50mg/ml、あるいは1mg/ml以上25mg/ml、もしくは1mg/ml以上15mg/mlの範囲でも本工程を実施できる。
その他の酸化還元条件下でのフォールディング工程の実施方法については、当技術分野で公知の方法に準じて適宜対象となる基質ペプチドに応じて当業者であれば選択することができ、例えば、「ペプチド合成の基礎と実験、丸善株式会社出版(1985年)」などを参照することもできる。
以上、本発明の基本となる実施態様について説明したが、以下順次好ましい実施態様について説明する。
工程(1):[工程(1-A)、および、工程(1-B)について]
実施態様1
本発明を実施するにあたっては、工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護を、全てのSH基がペプチド分子内および/またはペプチド分子間で一時的S-S結合を形成する(仮S-S化)ことにより行うことができる。
この実施態様では、ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドの任意の一組のSH基どうしがペプチド分子内および/またはペプチド分子間で一時的S-S結合が形成されることにより、SH基が保護され、一時的S-S結合で架橋もしくは連結されたペプチドの混合物(仮S-S化ペプチド混合物)が得られる。ここでは、種々の構造を有する一時的S-S結合で連結されたペプチドの混合物が得られるが、特に精製や特定化合物の選別を行う必要はなく、この混合物の全てを、次のステップに使用できるため有用である。
仮S-S化は、対象となるペプチドにおいて使用されるSH基の保護基や一時的S-S結合形成の方法との適切な組み合わせの下で行われる。以下、好ましい実施態様について場合に分けて具体的に説明する。
実施態様1-1
この実施態様では、より具体的には、
工程(1-B)において、全保護ペプチドを、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得た後、
工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得ることができる。
この実施態様では、全保護ペプチドにおける好ましいSH基の保護基としては、S系保護基(後述)以外の保護基が挙げられ、例えば、トリチル基(Trt基)、アセトアミドメチル基(Acm基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、4-メトキシベンジル基(MBzl基)が挙げられる。
この実施態様では、仮S-S化は、例えば、ヨウ素処理、トリフルオロ酢酸タリウム(III)処理(Tl(OCOCF処理)、等により行われ、ヨウ素処理により行われることが好ましい。
上記のヨウ素処理などの各処理は、この技術分野で通常行われる条件で行うことができる。例えば、ヨウ素処理の場合には、クロロホルム、酢酸、メタノール等のアルコール、ヘキサフルオロイソプロパノール等の溶媒中で、あるいはこれらの含水系もしくは混合系の溶媒中で、全保護ペプチドをヨウ素で処理することにより行うことができる。ヨウ素はSH基を有するペプチド構成単位(1mol)に対して、例えば、0.3~8当量、好ましくは0.5~6当量使用される。別の態様においては、ヨウ素はSH基を有するペプチド構成単位(1mol)に対して1~6当量、好ましくは1~3当量使用される。SH基の保護基がアセトアミドメチル基(Acm基)である場合には、1~10当量、好ましくは1~5当量使用される。
処理時の温度は、特に限定されず、冷却下~加熱下の温度範囲内で、反応に応じて適宜選択して実施することができる。例えば、室温(常温)下で行うことができる。
仮S-S化においては、他の酸化剤(トリフルオロ酢酸タリウム(III)等)により処理する場合においても、同様の当量関係、温度条件で実施することができる。
トリフルオロ酢酸タリウム(III)処理は、トリフルオロ酢酸タリウム(III)(Tl(OCOCF)を酸化剤として用いる方法であり、例えば、トリフルオロ酢酸(TFA)中で、全保護ペプチドを当該酸化剤で処理することにより行うことができる。
この実施態様では、SH基以外の官能基の保護基、それらの脱保護の条件などは上述したものを参照して実施することができるが、脱保護は好ましくはトリフルオロ酢酸(TFA)により処理することにより行われる。
実施態様1-2
この実施態様では、より具体的には、
工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、または同時に、
工程(1-B)において、当該保護ペプチドを仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得ることによりS保護ペプチドを得ることができる。
この実施態様では、全保護ペプチドにおける好ましいSH基の保護基としては、S系保護基以外の保護基が挙げられ、例えば、アセトアミドメチル基(Acm基)、t-ブチル基(t-Bu基)、トリチル基(Trt基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、4-メトキシベンジル基(MBzl基)が挙げられる。
この実施態様では、仮S-S化は、例えば、ヨウ素処理、DMSO/TFA(ジメチルスルホキシド/トリフルオロ酢酸)処理、トリフルオロ酢酸タリウム(III)処理(Tl(OCOCF処理)等により行われ、ヨウ素処理により行われることが好ましい。
この実施態様では、工程(1-A)の脱保護と工程(1-B)の仮S-S化を同時に行うこともでき、例えば、DMSO/TFA処理を用いることによって行うことができる。具体的には、10%DMSO/TFA(DMSO:TFA=1:10)等を用いることができる。
本処理においても、上記のヨウ素処理の場合と同様の当量関係、温度条件で実施することができる。
ヨウ素処理、および、トリフルオロ酢酸タリウム(III)処理の詳細は、上記を参照することができる。
SH基以外の官能基の保護基、それらの脱保護の条件などは上述したものを参照して実施することができるが、脱保護は好ましくはトリフルオロ酢酸により処理することにより行われる。
実施態様1-3
この実施態様では、より具体的には、
a)1)工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、
2)SH基の保護基を除去し、さらに
3)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得るか、または
b)1)全保護ペプチドの、SH基の保護基を除去した後、
2)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得て、さらに
3)工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得ることができる。
この実施態様では、全保護ペプチドにおける好ましいSH基の保護基としては、S系保護基以外の保護基が挙げられ、例えば、フェニルアセトアミドメチル基(Phacm基)、4-メトキシベンジル基(MBzl基)、モノメトキシトリチル基(MMTrt基)が挙げられる。
上記の保護基は、その種類に応じて、当技術分野で通常行われる方法もしくは本明細書に記載された保護基の脱保護方法に準じて適宜脱保護することができる。この実施態様では、SH基の保護基がフェニルアセトアミドメチル基(Phacm基)である場合は、その除去は、ペニシリンアミドヒドロラーゼ(PGA)存在下の水溶液による処理で行なうことが好ましい。SH基の保護基が4-メトキシベンジル基(MBzl基)である場合は、その除去は、DDQ(ジクロロジシアノベンゾキノン)による処理で行なうことが好ましい。SH基の保護基がモノメトキシトリチル基(MMTrt基)である場合は、その除去は、弱酸(例えば、1%TFA)による処理で行なうことが好ましい。
この実施態様では、仮S-S化は、例えば、ヨウ素処理、Npys-OMe処理(メチル 3-ニトロ-2-ピリジンスルフェネート処理)、トリフルオロ酢酸タリウム(III)処理(Tl(OCOCF処理)、等により行われ、ヨウ素処理、または、Npys-OMe処理により行われることが好ましく、ヨウ素処理により行われることがより好ましい。
Npys-OMe処理(メチル 3-ニトロ-2-ピリジンスルフェネート処理)は、Npys-OMeを酸化剤として用いる方法であり、例えば、クロロホルム、DMF、アセトニトリル、それら混合溶媒中で、全保護ペプチドを当該酸化剤で処理することにより行うことができる。
本処理においても、上記のヨウ素処理の場合と同様の当量関係、温度条件で実施することができる。
ヨウ素処理、および、トリフルオロ酢酸タリウム(III)処理の詳細は、上記を参照することができる。
SH基以外の官能基の保護基、それらの脱保護の条件などは上述したものを参照して実施することができるが、脱保護は好ましくはトリフルオロ酢酸(TFA)により処理することにより行われる。
実施態様2
本発明を実施するにあたっては、工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護を、S系保護基との一時的S-S結合形成により行うことができる。
実施態様2-1
この実施態様では、より具体的には、
(1)(i)工程(1-B)において、ペプチド上の官能基として保護基により保護されたSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されているペプチドのSH基の保護基をS系保護基で再保護化するか、または、
(ii)予めS系保護基で保護することにより、全てのSH基がS系保護基との一時的S-S結合の形成により保護されているペプチドを得て、
(2)工程(1-A)において、当該ペプチドの一時的S-S結合により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得ることができる。
S系保護基との一時的S-S結合の形成は、例えば、3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)、t-ブチルメルカプト基(S-tBu基)、またはエチルメルカプト基(S-Et基)などの当技術分野で用いられているS系保護基を導入するための試薬により通常使用される条件で処理することにより行うことができる。例えば、3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)を導入するための試薬としてNpysClを使用する場合、クロロホルム、DMF、アセトニトリル、それら混合溶媒中で反応させることができる。
S系保護基を導入するための試薬は、SH基(もしくは保護されたSH基)を有するペプチド構成単位(1mol)に対して1~6当量、好ましくは1~3当量使用される。また、処理時の温度は、特に限定されず、冷却下~加熱下の温度範囲内で、反応に応じて適宜選択して実施することができる。例えば、室温(常温)下で行うことができる。
「ペプチドのSH基の保護基をS系保護基で再保護化する」とは、S系保護基以外の保護基でSH基が保護されたペプチドを、S系保護基を導入するための試薬により再度保護することで全てのSH基がS系保護基と一時的S-S結合の形成させる態様である。この場合、S系保護基としては-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)が好ましい。
一方、「予めS系保護基で保護する」とは、官能基としてSH基を含有するペプチド原料(システイン残基、ホモシステイン残基、3-メルカプトプロピオニル基等)が、予めS系保護基(例えば、t-ブチルメルカプト基(S-tBu基)、エチルメルカプト基(S-Et基)、3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)、等)で保護された態様である。この場合、S系保護基としてはt-ブチルメルカプト基(S-tBu基)が好ましい。
「ペプチドのSH基の保護基をS系保護基で再保護化する」場合の、SH基の保護基としては、S系以外の保護基が使用され、例えば、トリチル基(Trt基)が使用される。
SH基以外の各官能基の保護基、それらの脱保護の条件などは上述したものを参照して実施することができるが、脱保護は好ましくはトリフルオロ酢酸(TFA)により処理することにより行われる。
以上、本発明の工程(1)における工程(1-A)、および、(1-B)の実施態様について説明したが、ペプチド上の官能基としてSH基を有するペプチドのSH基が保護された状態でSH基以外の保護基を脱保護するため、「脱保護された各種の保護基の残骸などによってSH基がアルキル化され収率が低下し、更に、不純物副生による、環化反応における目的ペプチドの収率低下が免れないとの課題」を解決することができる。
さらに、SH基を一時的S-S結合の形成により保護することにより、工程(2)のフォールディングの効率性を高めることができる。
[工程(2)について]
実施態様1
この実施態様では、工程(2)のフォールディング工程は、pH6以上の水溶液中で行われるが、塩基性条件下、例えば、pH7以上(14以下)で行うことが好ましく、pH8以上(14以下)で行うことがより好ましく、pH8以上13以下で行うことが特に好ましい。
実施態様2
この実施態様では、工程(2)のフォールディング工程における「S保護ペプチド」の系内での濃度は、例えば、0.1mg/mlから1mg/mlのフォールディングにおける通常の濃度範囲で行われる。
実施態様2-1
この実施態様では、工程(2)のフォールディング工程おける「S保護ペプチド」の系内での濃度は、1mg/ml以上の濃度範囲、例えば1mg/ml以上50mg/ml、あるいは1mg/ml以上25mg/ml、もしくは1mg/ml以上15mg/mlの範囲で行われる。
以上本発明の工程(2)の実施態様について説明したが、通常のフォールディング条件より高濃度での環化反応を行うことができる点で大きな利点を有するものである。
本発明のフォールディング工程においても、酸化還元剤として使用した試剤がペプチドとS-S結合した付加不純物を副生する場合が稀にあるが、通常の方法では、副生する不純物は分子量の大きい多量化体であり、その種類も複数種となるのに対して、本発明の方法では、仮に付加不純物が副生した場合でも、分子量の大きい多量化体ではなく、かつ種類も単一の不純物であるため、その後の精製負荷が大きく低減できる。本発明の工程(2)は、このような大きな利点をも有するものである。
その他、全般的な観点からの本発明の好ましい実施態様について説明する。
本発明を実施するにあたっては、S保護ペプチドが有するSH基の数は、2個以上であるが、一つの好ましい実施態様においては、S保護ペプチドが有するSH基の数は、2個である。
別の好ましい実施態様においては、S保護ペプチドが有するSH基の数は、4個以上であり、偶数個が好ましい。
本発明を実施するにあたっては、S保護ペプチドを構成するアミノ酸やアミノ酸類似体等の構成単位の残基数は、特に限定はされないが、通常4個以上100個以下である。好ましくは、6個以上80個以下であり、より好ましくは、8個以上60個以下である。
本発明を実施するにあたっては、対象となる環化ペプチドの種類は特に限定はされず、例えば、医薬品であってもよい。また、天然物であっても、非天然物であってもよい。
このような環化ペプチドとしては、例えば、ソマトスタチン(somatostatin)、オクトレオチド(octreotide)、アトシバン(atosiban)、リナクロチド(linaclotide)、プレカナチド(plecanatide)、ジコノチド(ziconotide)、インスリン デテミル(insulin detemir)、インスリン グルリジン(insulin glulisine)等が挙げられるが、これに限られない。
本発明を実施するにあたっては、本発明の酸化還元条件下のフォールディング工程において、安定型(目的環化ペプチドが天然物である場合は、天然型)の高次構造を有する環化ペプチドへと導かれるものを対象とすることが好ましい。
以下、実施例に沿って本発明をさらに詳細に説明するが、これら実施例は本発明の範囲を何ら限定するものではない。また、本発明において使用する試薬や装置、材料は特に言及されない限り、商業的に入手可能である。また、本明細書において、アミノ酸等を略号で表示する場合、各表示は、IUPAC-IUB Commission on Biochemical Nomenclatureによる略号あるいは当該分野における慣用略号に基づくものである。
また、使用される試薬について当量の記載がある場合は、原料となるペプチドの直列体(例えば、ペプチドAの直列完全保護体)を基準とする当量を意味するものである。
製造例1:ペプチドAの直列完全保護体
Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Cys(Trt)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OHを原料として用い、3,4,5-トリ(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアルコール(HO-Bzl(3,4,5-OPhy)と表記する)を疑似固相保護基として用い、常法(国際公開第2012/029794号;Angew Chem.Int.Ed. 2017. 27, (56), 7803参照)に従って、以下の配列を有するペプチドAの直列完全保護体を合成した。なお、本明細書では「全保護ペプチド」は、N末端アミノ基は保護されていてもよく、無保護の場合も含む概念であることから、N末が無保護のペプチドも「ペプチドの直列完全保護体」と表記することとする。下記ペプチドのN末のFmoc基は常法に従い、塩基で切断した。
ペプチドAの直列完全保護体
H-Cys(Trt)-Cys(Trt)-Glu(OtBu)-Tyr(tBu)-Cys(Trt)-Cys(Trt)-Asn(Trt)-Pro-Ala-Cys(Trt)-Thr(tBu)-Gly-Cys(Trt)-Tyr(tBu)-OBzl(3,4,5-OPhy)
製造例2:ペプチドBの直列完全保護体
3-メルカプト(Trt)プロピオン酸、Fmoc-O-Ethyl-D-Tyr-OH、Fmoc-Ile-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH、Fmoc-Cys(Trt)-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Orn(Boc)-OH、Fmoc-Gly-OHを原料として用い、3,4,5-トリ(2’,3’-ジヒドロフィチルオキシ)ベンジルアルコール(HO-Bzl(3,4,5-OPhy)と表記する)を疑似固相保護基として用い、常法(国際公開第2012/029794号;Angew Chem.Int.Ed. 2017. 27, (56), 7803参照)に従って、以下の配列を有するペプチドBの直列完全保護体を合成した。
ペプチドBの直列完全保護体:
3-メルカプト(Trt)プロピオニル-O-Ethyl-D-Tyr-Ile-Thr(tBu)-Asn(Trt)-Cys(Trt)-Pro-Orn(Boc)-Gly-OBzl(3,4,5-OPhy)
製造例3:ペプチドA’の直列完全保護体
Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Cys(Trt)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OHを原料として用い、Alko-PEG Resin(渡辺化学工業社製 Wang-PEG レジン)を固相保護基として用い、常法に従って、以下の配列を有する全保護ペプチドA´を合成した。なお、本明細書では「全保護ペプチド」として、N末端アミノ基は保護されていてもよく、無保護の場合も含む概念であることから、N末が無保護のペプチドも「ペプチドの直列完全保護体」と表記することとする。なお、下記ペプチドのN末のFmoc基は常法に従い、塩基で切断した。
ペプチドA’の直列完全保護体:
H-Cys(Trt)-Cys(Trt)-Glu(OtBu)-Tyr(tBu)-Cys(Trt)-Cys(Trt)-Asn(Trt)-Pro-Ala-Cys(Trt)-Thr(tBu)-Gly-Cys(Trt)-Tyr(tBu)-Alko-PEG Resin
実施例1:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドAの直列完全保護体100mgをクロロホルム3.4ml、MeOH(メタノール)0.6mlに溶解させ、ヨウ素を3当量、17.2mgを添加した。反応後、アスコルビン酸39.7mgを水3.4mlに溶解させた水溶液で2回分液後、20%NaCl(塩化ナトリウム)水溶液で2回洗浄した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させた。その固体をTFA(トリフルオロ酢酸)0.975ml、水0.025ml、p-クレゾール2当量、24.4mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE(イソプロピルエーテル)5mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を67.7mg得た。
水1ml、EtOH(エタノール)1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.8に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、以下の構造を有する環化ペプチドAが純度82%で0.6mg生成していることを確認した(収率52%vsペプチドAの直列体完全保護体)。
<溶出条件>
溶出時間:4.05min
使用機器:WATERS ACQUITY UPLC
カラム:BEH Shield RP18 1.7μm 2.1×100mm
温度:40℃
流速:0.30ml/min
移動相:A液;0.05%TFA/HO B液;0.05%TFA/MeCN(20)THF(80)
タイムプログラム(A液比率)
0.00-0.05min 99%
0.05-13.00min 99-1%
環化ペプチドA:
H-Cys-Cys-Glu-Tyr-Cys-Cys-Asn-Pro-Ala-Cys10-Thr11-Gly12-Cys13-Tyr14-OH
(ここで、CysとCysの間、CysとCys10の間、CysとCys13の間でS-S結合)(配列表1)
m/z[M+H] 1526.3
実施例2:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:4mg/ml)
水1ml、EtOH1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記実施例1で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を8.0mg添加し、アンモニア水を6μl加えてpHを9.3に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度81%で2.2mg生成していることを確認した(収率54%vsペプチドAの直列体完全保護体)。
実施例3:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:10mg/ml)
水 1ml、EtOH1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記実施例1で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を20.0mg添加し、アンモニア水を6μl加えてpHを9.8に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度72%で4.9mg生成していることを確認した(収率48%vsペプチドAの直列体完全保護体)。
実施例4:10%DMSO酸化/TFAによる仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドAの直列完全保護体50mgをTFA1.0ml、DMSO(ジメチルスルホキシド)0.1mlの混合溶液中に加え、室温で5時間、脱保護を行った。IPE5mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させて、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を19.4mg得た。
水1.0ml、EtOH1.0ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物2.0mgを添加し、アンモニア水3μlを加えてpHを9.5に調整して室温で攪拌した。5時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度81%で0.9mg生成していることを確認した(収率48%vsペプチドAの直列完全保護体)。
実施例5:S系保護基のNpys基による一時的S-S結合形成ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドAの直列完全保護体100mgをクロロホルム3.4ml、MeOH0.6mlに溶解させ、Npys-Cl(3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニルクロリド)を6当量、25.8mgを添加した。反応後、アスコルビン酸39.7mgを水3.4mlに溶解させた水溶液で2回分液後、20%NaCl水溶液で2回洗浄した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させた。その固体をTFA1.95ml、水0.05ml、p-クレゾール10当量、24.4mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE10mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・S系保護基のNpys基保護ペプチドを84.7mg得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・S系保護基のNpys基保護ペプチドを2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.8に調整した。2時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度73%で0.8mgが生成していることを確認した(収率56%vsペプチドAの直列体完全保護体)。
実施例6:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:10mg/ml)
ペプチドA’の直列完全保護体137mgをクロロホルム3.4ml、MeOH0.6mlに溶解させ、ヨウ素3当量、17.2mg,0.068mmolを添加して、室温で2時間攪拌した。反応後、アスコルビン酸39.7mgを水3.4mlに溶解させた水溶液で2回分液後、20%NaCl水溶液3.4mlで2回洗浄した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させた。その固体をTFA1.95ml、水0.05ml、p-クレゾール10当量、24.4mgの混合溶液中に加え、室温で5時間、脱保護を行った。ろ過により樹脂をTFA2mlで洗浄した後、ろ液にIPE10mlを加えて、沈殿物をろ過し、乾燥させて、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を34.5mg得た。
水1.7ml、EtOH1.7ml、シスチン1.7mg、システイン0.6mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物34.5mgを添加し、アンモニア水60μlを加えてpHを9.2に調整して室温で攪拌した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度68%で17mg生成していることを確認した(収率49%vsペプチドA’の直列完全保護体)。
実施例7:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドBの直列完全保護体1.0gをCPME(シクロペンチルメチルエーテル)16.8ml、MeOH4.2mlに溶解させ、ヨウ素を1当量、48.4mgを添加した。反応後、アスコルビン酸671mgを水21mlに溶解させた水溶液で2回分液後、20%NaCl水溶液で2回洗浄した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させて固体を894mg得た。
その固体300mgをTFA5.85ml、水0.25ml、p-クレゾール10当量、150mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE24mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.8に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドBが純度85%で生成していることを確認した。
<溶出条件>
溶出時間:4.90min
使用機器:WATERS ACQUITY UPLC
カラム:BEH Shield RP18 1.7μm 2.1×100mm
温度:40℃
流速:0.30ml/min
移動相:A液;0.05%TFA/HO B液;0.05%TFA/MeCN(20)THF(80)
タイムプログラム(A液比率)
0.00-0.05min 99%
0.05-13.00min 99-1%
環化ペプチドB:
3-メルカプトプロピオニル-O-Ethyl-D-Tyr-Ile-Thr-Asn-Cys-Pro-Orn-Gly-NH
(ここで、3-メルカプトプロピオニルとCysの間でS-S結合)
m/z[M+H] 994.4
実施例8:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:6.5mg/ml)
水1ml、EtOH1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記実施例7で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を13.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを8.9に調整した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドBが純度77%で生成していることを確認した。
比較例1:従来ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドAの直列完全保護体6.00gをTFA114ml、水3ml、TIPS(トリイソプロピルシラン)3ml、3-メルカプトプロピオン酸10当量1.44gの混合溶液中に加え、10℃で5時間、脱保護を行った。IPE600mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、ペプチドA直列体を得た。
水1.0ml、EtOH1.0ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られたペプチドA直列体2.0mgを添加し、アンモニア水3μlを加えてpHを10.0に調整して室温で攪拌した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度72%で0.6mg生成していることを確認した(収率39%vsペプチドAの直列完全保護体)。
比較例2:従来ルート(フォールディング濃度:10mg/ml)
水1.0ml、EtOH1.0ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記比較例1で得られたペプチドA直列体20mgを添加し、アンモニア水3μlを加えてpHを9.1に調整して室温で攪拌した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度8%で0.4mg生成していることを確認した(収率2%vsペプチドAの直列完全保護体)。
比較例3:従来ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドBの直列完全保護体1.0gをTFA7.60ml、水0.20ml、トリイソプロピルシラン0.20ml、3-メルカプトプロピオン酸10当量、405mg、p-クレゾール10当量、412mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE40mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、ペプチドB直列体を得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン1.0mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られたペプチドB直列体を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.7に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドBが純度61%で生成していることを確認した。
比較例4:従来ルート(フォールディング濃度:6.5mg/ml)
水1ml、EtOH1ml、シスチン0.3mg、システイン0.1mgの混合溶液に、上記比較例3で得られたペプチドB直列体を13.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.6に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドBが純度17%で生成していることを確認した。
比較例5:従来ルート(フォールディング濃度:10mg/ml)
ペプチドA’の直列完全保護体67.8mgをTFA1.9ml、水50μl、トリイソプロピルシラン50μl、3-メルカプトプロピオン酸100当量240mgの混合溶液中に加え、室温で5時間、脱保護を行った。ろ過により樹脂をTFA2mlで洗浄した後、ろ液にIPE20mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、ペプチドA直列体を15.6mg得た。
水0.5ml、EtOH0.5ml、シスチン5.0mg、システイン0.2mgの混合溶液に、上記で得られたペプチドA直列体10.0mgを添加し、アンモニア水3μlを加えてpHを9.5に調整して室温で攪拌した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度23%で2.4mg生成していることを確認した(収率21%vsペプチドA’の直列完全保護体)。
実施例9:還元剤のみによるフォールディング(フォールディング濃度:2mg/ml)
水1ml、EtOH1ml、システイン0.3mgの混合溶液に、上記実施例1で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を4.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.9に調整した。6時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度77.8%で3.1mg生成していることを確認した(収率77%vsペプチドAの直列体完全保護体)。
実施例10:異なる酸化剤/還元剤によるフォールディング(フォールディング濃度:1mg/ml)
水1ml、EtOH1ml、グルタチオン酸化型6.0mg、グルタチオン還元型2.0mgの混合溶液に、上記実施例1で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.3に調整した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度65.0%で0.9mg生成していることを確認した(収率56%vsペプチドAの直列体完全保護体)。
製造例4:ペプチドA’’の直列完全保護体
Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Cys(S-tBu)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OHを原料として用い、Alko-PEG Resin(渡辺化学工業社製 Wang-PEG レジン)を固相保護基として用い、常法に従って、以下の配列を有するペプチドA’’の直列完全保護体を合成した。なお、下記ペプチドのN末のFmoc基は常法に従い、塩基で切断した。
ペプチドA’’の直列完全保護体:
H-Cys(S-tBu)-Cys(S-tBu)-Glu(OtBu)-Tyr(tBu)-Cys(S-tBu)-Cys(S-tBu)-Asn(Trt)-Pro-Ala-Cys(S-tBu)-Thr(tBu)-Gly-Cys(S-tBu)-Tyr(tBu)-Alko-PEG Resin
実施例11:S系保護基による一時的S-S結合形成ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドA’’の直列完全保護体160mgをTFA2.59ml、水66.5μl、p-クレゾール10当量、32.4mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE30mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、以下のペプチドA’’直列体を48.6mg得た。
ペプチドA’’の直列体:
H-Cys(S-tBu)-Cys(S-tBu)-Glu-Tyr-Cys(S-tBu)-Cys(S-tBu)-Asn-Pro-Ala-Cys(S-tBu)-Thr-Gly-Cys(S-tBu)-Tyr-OH
水1ml、EtOH1ml、システイン10mgの混合溶液に、上記で得られたペプチドA’’の直列体を2.0mg添加し、アンモニア水を2μl加えてpHを9.3に調整した。16時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度52.2%で1.0mg生成していることを確認した(収率51%vsペプチドA’’の直列体)。
<溶出条件>
溶出時間:4.10min
使用機器:WATERS ACQUITY UPLC
カラム:BEH Shield RP18 1.7μm 2.1×100mm
温度:40℃
流速:0.30ml/min
移動相:A液;0.05%TFA/HO B液;0.05%TFA/MeCN(20)THF(80)
タイムプログラム(A液比率)
0.00-0.05min 99%
0.05-13.00min 99-1%
実施例12:SH保護基の脱保護/ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドA’’の直列完全保護体160mgを水2ml、DTT(ジチオトレイトール)60当量、278mg、アンモニア水3μLの混合溶液中に加え、S-tBu基の選択的脱保護を行った。樹脂を濾過により洗浄し、当該選択的脱保護体を得た。当該選択的脱保護体をクロロホルム1.7ml、メタノール0.3mlの混合溶液に溶解させ、ヨウ素12当量、91.4mgを添加した。反応後、樹脂を濾過により洗浄した。この固体をTFA2.59ml、水66.5ml、p-クレゾール32,4mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE20mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を45.6mg得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン0.3mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.5に調整した。20時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度73%で1.6g生成していることを確認した(収率80%vs脱保護・仮S-S化ペプチド混合物)。
実施例13:トリフルオロ酢酸タリウム酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドAの直列完全保護体50mgをクロロホルム0.85ml、MeOH0.05mlに溶解させ、トリフルオロ酢酸タリウム(III)を6当量、36.8mgを添加した。反応後、20%NaCl水溶液で2回分液した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させた。その固体をTFA0.975ml、水0.025ml、p-クレゾール24.4mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE20mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を30.1mg得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン0.3mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.4に調整した。4時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度76%で1.3g生成していることを確認した(収率91%vsペプチドAの直列完全保護体)。
製造例5:ペプチドA’’’の直列完全保護体
Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Cys(Acm)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OHを原料として用い、Alko-PEG Resin(渡辺化学工業社製 Wang-PEG レジン)を固相保護基として用い、常法に従って、以下の配列を有するペプチドA’’’の直列完全保護体を合成した。なお、下記ペプチドのN末のFmoc基は常法に従い、塩基で切断した。
ペプチドA’’’の直列完全保護体:
H-Cys(Acm)-Cys(Acm)-Glu(OtBu)-Tyr(tBu)-Cys(Acm)-Cys(Acm)-Asn(Trt)-Pro-Ala-Cys(Acm)-Thr(tBu)-Gly-Cys(Acm)-Tyr(tBu)-Alko-PEG Resin
実施例14:最終脱保護/仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドA’’’の直列完全保護体をTFA2.85ml、水75μl、TIPS75μlの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE30mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、下記の配列を有するペプチドA’’’の直列体を108mg得た。
ペプチドA’’’の直列体:
H-Cys(Acm)-Cys(Acm)-Glu-Tyr-Cys(Acm)-Cys(Acm)-Asn-Pro-Ala-Cys(Acm)-Thr-Gly-Cys(Acm)-Tyr-OH
ペプチドA’’’の直列体10mgを酢酸800μL、水200μLの混合溶液中に溶解させ、ヨウ素24当量、10.4mgを添加した。16時間の反応後、残留ヨウ素をクロロホルム1mlで10回抽出した。得られた水層をエバポレーターで濃縮し、IPEを加えて沈殿物を濾過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン0.1mg、システイン0.1mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.75に調整した。16時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドAが純度72%で1.4g生成していることを確認した(収率70%vs脱保護・仮S-S化ペプチド混合物)。
製造例6:ペプチドCの直列完全保護体
Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH、Fmoc-Cys(Trt)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-His(Trt)-OH、Fmoc-Lys(Boc)-OH、Fmoc-Gln(Trt)-OH、Fmoc-Ile-OH、Fmoc-Trp(Boc)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-NH-SAL-PEG Resinを固相保護基として用い、常法に従って、以下の配列を有する全保護ペプチドCを合成した。なお、下記ペプチドのN末のFmoc基は常法に従い、塩基で切断した。
ペプチドCの直列完全保護体:
H-Arg(Pbf)-Gly-Asn(Trt)-Cys(Trt)-Ala-Tyr(tBu)-His(Trt)-Lys(Boc)-Gly-Gln(Trt)-Ile-Ile-Trp(Boc)-Cys(Trt)-Thr(tBu)-Tyr(tBu)-His(Trt)-NH-SAL-PEG Resin
実施例15:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドCの直列完全保護体409mgをクロロホルム13.6ml、MeOH2.4mlに混合溶解させ、ヨウ素を1.5当量、9.5mgを添加した。反応後、アスコルビン酸44.0mgを水16.0mlに溶解させた水溶液で2回分液後、20%NaCl水溶液で2回洗浄した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させた。その固体をTFA8.39ml、水0.21ml、p-クレゾール27.0mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE20mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を30.1mg得た。
水1.5ml、EtOH1.5ml、シスチン0.3mg、システイン0.9mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を3.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.0に調整した。3時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドCが純度56%で生成していることを確認した。
<溶出条件>
溶出時間:3.78min
使用機器:WATERS ACQUITY UPLC
カラム:BEH Shield RP18 1.7μm 2.1×100mm
温度:40℃
流速:0.30ml/min
移動相:A液;0.05%TFA/HO B液;0.05%TFA/MeCN(20)THF(80)
タイムプログラム(A液比率)
0.00-0.05min 99%
0.05-13.00min 99-1%
環化ペプチドC:
H-Arg―Gly-Asn-Cys-Ala-Tyr-His-Lys-Gly-Gln10-Ile11-Ile12-Trp13-Cys14-Thr15-Tyr16-His17-OH
(ここで、CysとCys14の間でS-S結合)(配列表2)
m/z[M+H]+ 2088.9
実施例16:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:10mg/ml)
水0.15ml、EtOH0.15ml、シスチン0.3mg、システイン0.9mgの混合溶液に、上記実施例15で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を3.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを8.5に調整した。3時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドCが純度55%で生成していることを確認した。
製造例7:ペプチドDの直列完全保護体
Fmoc-Met-OH、Fmoc-Cys(Trt)-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Phe-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Asp(OtBu)-OH、Fmoc-His(Trt)-OH、Fmoc-Gln(Trt)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Lys(Boc)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Leu-OHを原料として用い、ジ(4-ドコソキシフェニル)メチルアミン(NHCH(Phe(4-OC2245))と表記する)を疑似固相保護基として用い、常法(国際公開第2012/029794号;Angew Chem.Int.Ed. 2017. 27, (56), 7803参照)に従って、以下の配列を有するペプチドDの直列完全保護体を合成した。なお、本明細書では「全保護ペプチド」は、N末端アミノ基は保護されていてもよく、無保護の場合も含む概念であることから、N末が無保護のペプチドも「ペプチドの直列完全保護体」と表記することとする。下記ペプチドのN末のFmoc基は常法に従い、塩基で切断した。
ペプチドDの直列完全保護体:
H-Met-Cys(Trt)-Met-Pro-Cys(Trt)-Phe-Thr(tBu)-Thr(tBu)-Asp(OtBu)-His(Trt)-Gln(Trt)-Met-Ala-Arg(Pbf)-Lys(Boc)-Cys(Trt)-Asp(OtBu)-Asp(OtBu)-Cys(Trt)-Cys(Trt)-Gly-Gly-Lys(Boc)-Gly-Arg(Pbf)-Gly-Lys(Boc)-Cys(Trt)-Tyr(tBu)-Gly-Pro-Gln(Trt)-Cys(Trt)-Leu-Cys(Trt)-Arg(Pbf)-NHCH(Phe(4-OC2245))
実施例17:ヨウ素酸化による仮S-S化ルート(フォールディング濃度:1mg/ml)
ペプチドDの直列完全保護体200mgをクロロホルム3.4ml、MeOH(メタノール)0.6mlに溶解させ、ヨウ素を8当量、45.7mgを添加した。反応後、アスコルビン酸39.6mgを水3.4mlに溶解させた水溶液で2回分液後、20%NaCl水溶液で2回洗浄した。得られた有機層をエバポレーターで濃縮して乾燥させた。その固体をTFA3.9ml、水0.1ml、p-クレゾール24.3mgの混合溶液中に加え、脱保護を行った。IPE20mlを加えて沈殿物をろ過し、乾燥させ、脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を得た。
水1ml、EtOH1ml、シスチン0.3mg、システイン0.3mgの混合溶液に、上記で得られた脱保護・仮S-S化ペプチド混合物を2.0mg添加し、アンモニア水を3μl加えてpHを9.1に調整した。1時間後、反応液をHPLCにて分析すると、環化ペプチドDが純度49.9%で生成していることを確認した。
<溶出条件>
溶出時間:3.26min
使用機器:WATERS ACQUITY UPLC
カラム:BEH Shield RP18 1.7μm 2.1×100mm
温度:40℃
流速:0.30ml/min
移動相:A液;0.05%TFA/HO B液;0.05%TFA/MeCN(20)THF(80)
タイムプログラム(A液比率)
0.00-0.05min 99%
0.05-13.00min 99-1%
環化ペプチドD:
H-Met-Cys-Met-Pro-Cys-Phe-Thr-Thr-Asp-His10-Gln11-Met12-Ala13-Arg14-Lys15-Cys16-Asp17-Asp18-Cys19-Cys20-Gly21-Gly22-Lys23-Gly24-Arg25-Gly26-Lys27-Cys28-Tyr29-Gly30-Pro31-Gln32-Cys33-Leu34-Cys35-Arg36-NH
(ここで、CysとCys19、CysとCys28、Cys16とCys33、Cys20とCys35の間でS-S結合)(配列表3)
m/z[M+4H]4+ 999.6
本発明は、ペプチド合成の分野において有用な、1または2以上の分子内S-S結合による架橋構造を有する環化ペプチドの製造方法を提供するものである。
本出願は、日本で2018年11月16日に出願された特願2018-216024号を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含される。

Claims (31)

  1. (1-A)ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、全てのSH基が保護されており、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されている直鎖状ペプチド(以後、「全保護ペプチド」とする)において、当該ペプチドが有する保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護する工程、
    (1-B)ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドにおいて、全てのSH基を一時的S-S結合の形成により保護する工程、
    および、
    (2)上記工程(1-A)、および、工程(1-B)で得られた、ペプチド上の官能基としてSH基を2個以上有し、全てのSH基が一時的S-S結合の形成により保護されており、その他のペプチド上の官能基の全ての保護基が脱保護されているペプチド(以後、「S保護ペプチド」とする)を、酸化還元条件下のフォールディング工程に付して、ペプチド分子内でのS-S結合の再形成により環化ペプチドを得る工程、
    を含む環化ペプチドの製造方法。
  2. 工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、全てのSH基がペプチド分子内および/またはペプチド分子間で一時的S-S結合を形成する(以後、「仮S-S化」とする)ことによりなされるか、または
    工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、S系保護基との一時的S-S結合形成によりなされる、
    請求項1に記載の環化ペプチドの製造方法。
  3. 工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、仮S-S化によりなされる請求項2に記載の環化ペプチドの製造方法。
  4. 仮S-S化が、ヨウ素処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる請求項3に記載の環化ペプチドの製造方法。
  5. 仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる請求項4に記載の環化ペプチドの製造方法。
  6. 工程(1-B)において、全保護ペプチドを、仮S-S化に付して、一時的S-S結合で架橋もしくは連結されたペプチドの混合物(以後、「仮S-S化ペプチド混合物」とする)を得た後、
    工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る、請求項3に記載の環化ペプチドの製造方法。
  7. 全保護ペプチドにおけるSH基の保護基が、S系保護基以外の保護基である請求項6に記載の環化ペプチドの製造方法。
  8. 全保護ペプチドにおけるSH基の保護基が、トリチル基(Trt基)、アセトアミドメチル基(Acm基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、または4-メトキシベンジル基(MBzl基)である請求項7に記載の環化ペプチドの製造方法。
  9. 仮S-S化が、ヨウ素処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる請求項6~8のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  10. 仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる請求項9に記載の環化ペプチドの製造方法。
  11. 工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、または同時に、
    工程(1-B)において、当該脱保護ペプチドを仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得ることによりS保護ペプチドを得る、請求項3に記載の環化ペプチドの製造方法。
  12. 全保護ペプチドのSH基の保護基が、S系保護基以外の保護基である請求項11に記載の環化ペプチドの製造方法。
  13. 全保護ペプチドにおけるSH基の保護基が、アセトアミドメチル基(Acm基)、t-ブチル基(t-Bu基)、トリチル基(Trt基)、ベンジル基(Bzl基)、4-メチルベンジル基(4-MeBzl基)、または4-メトキシベンジル基(MBzl基)である請求項12に記載の環化ペプチドの製造方法。
  14. 仮S-S化が、ヨウ素処理、DMSO/TFA処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる請求項11~13のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  15. 仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる請求項14に記載の環化ペプチドの製造方法。
  16. a)1)工程(1-A)において、全保護ペプチドの、SH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護した後、
    2)SH基の保護基を除去し、さらに
    3)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得るか、または
    b)1)全保護ペプチドの、SH基の保護基を除去した後、
    2)工程(1-B)において、仮S-S化に付して、仮S-S化ペプチド混合物を得て、さらに
    3)工程(1-A)において、当該仮S-S化ペプチド混合物が有する一時的S-S結合形成により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る、請求項3に記載の環化ペプチドの製造方法。
  17. SH基の保護基が、S系保護基以外の保護基である請求項16に記載の環化ペプチドの製造方法。
  18. SH基の保護基が、フェニルアセトアミドメチル基(Phacm基)、4-メトキシベンジル基(MBzl基)、またはモノメトキシトリチル基(MMTrt基)である請求項17に記載の環化ペプチドの製造方法。
  19. SH基の保護基の除去が、ペニシリンアミドヒドロラーゼ(PGA)存在下の水溶液による処理、DDQによる処理、または弱酸による処理で行われる請求項18に記載の環化ペプチドの製造方法。
  20. 仮S-S化が、ヨウ素処理、Npys-OMe処理、またはトリフルオロ酢酸タリウム(III)処理により行われる請求項16~19のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  21. 仮S-S化が、ヨウ素処理により行われる請求項20に記載の環化ペプチドの製造方法。
  22. 工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、S系保護基との一時的S-S結合形成によりなされる請求項2に記載の環化ペプチドの製造方法。
  23. 工程(1-B)において、全てのSH基の一時的S-S結合の形成による保護が、SH基の保護基をS系保護基以外の保護基からS系保護基で再保護化することによりなされる請求項22に記載の環化ペプチドの製造方法。
  24. S系保護基が、3-ニトロ-2-ピリジンスルフェニル基(Npys基)、t-ブチルメルカプト基(S-tBu基)、またはエチルメルカプト基(S-Et基)である請求項22または23に記載の環化ペプチドの製造方法。
  25. 工程(1-B)において、ペプチド上の官能基として保護基により保護されたSH基を2個以上有する直鎖状ペプチドであって、N末端アミノ基が保護されていてもよく、C末端カルボキシ基、およびその他のペプチド上の官能基の全てが保護されているペプチドのSH基の保護基をS系保護基で再保護化するか、または、予めS系保護基で保護することにより、全てのSH基がS系保護基との一時的S-S結合の形成により保護されているペプチドを得て、
    工程(1-A)において、当該ペプチドの一時的S-S結合により保護されたSH基以外の全ての官能基の保護基を脱保護することによりS保護ペプチドを得る、請求項22~24のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  26. 脱保護が、還元剤の非存在下に行われる請求項1~25のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  27. 工程(2)の酸化還元条件下のフォールディング工程が、pH6以上の水溶液中で行われる請求項1~26のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  28. 工程(2)の酸化還元条件下のフォールディング工程が、酸化剤と還元剤の共存下で行われる請求項1~27のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  29. S保護ペプチドにおけるペプチド上の官能基として有するSH基の数が、2個である請求項1~28のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  30. S保護ペプチドにおけるペプチド上の官能基として有するSH基の数が、4個以上である請求項1~28のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
  31. S保護ペプチドにおけるペプチド上の官能基として有するSH基の数が、偶数である請求項1~30のいずれか1項に記載の環化ペプチドの製造方法。
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