JP7470792B2 - 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
40 研削部
110 接触式測定機構
120 非接触測定機構
130 制御部
W ウェハ
Wb 裏面
Claims (14)
- 基板を処理する基板処理システムであって、
前記基板の加工面を研削する研削部と、
前記基板の厚みを測定する厚み測定部と、
前記厚み測定部の動作を制御する制御部と、を有し、
前記厚み測定部は、
前記基板の前記加工面と接触して当該基板の厚みを測定する接触式測定機構と、
前記基板とは非接触で当該基板の厚みを測定する非接触測定機構と、を備え、
前記制御部は、
前記研削部による前記基板の研削処理に際して、前記接触式測定機構による前記基板の厚み測定動作の制御を行うことと、前記非接触測定機構による測定可能判定動作の制御を行うことと、を並行して行い、
前記測定可能判定動作の制御においては、
前記非接触測定機構により取得される一の厚み測定値と、当該一の厚み測定値の1つ前に取得された他の厚み測定値と、の差分値を経時的に連続して算出し、
算出された前記差分値が、予め定められた閾値内に複数回連続して収まった場合に前記基板の厚み測定が可能であると判定して、前記非接触測定機構による前記基板の厚み測定動作を開始させる制御を行う、基板処理システム。 - 前記制御部は、前記非接触測定機構による厚み測定動作の開始後、前記接触式測定機構を前記加工面から離接して、前記接触式測定機構による厚み測定動作を停止させる制御を行う、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記制御部は、前記接触式測定機構による前記基板の厚み測定結果を前記閾値として用いる制御を行う、請求項1又は2に記載の基板処理システム。
- 前記制御部は、
前記非接触測定機構による測定可能判定動作に先立って、前記研削部により前記加工面の前研削処理を行うように、前記研削部の動作を制御する、請求項1~3のいずれか一項に記載の基板処理システム。 - 前記制御部は、前記前研削処理に際して、前記接触式測定機構により前記基板の厚み測定動作を行うように、前記厚み測定部の動作を制御する、請求項4に記載の基板処理システム。
- 前記前研削処理においては、前記非接触測定機構による検知範囲内の厚みを有する前記基板の前記加工面を予め定められた厚みで研削し、当該加工面の粗度を向上させる、請求項4又は5に記載の基板処理システム。
- 前記前研削処理においては、前記非接触測定機構による検知範囲外の厚みを有する前記基板の前記加工面を、当該基板の厚みが検知範囲内に到達するまで研削する、請求項4又は5に記載の基板処理システム。
- 基板を処理する基板処理方法であって、
前記基板の加工面を研削することと、
前記加工面の研削と並行して、接触式測定機構を用いて前記基板の厚みを測定することと、
前記加工面の研削及び接触式測定機構による厚み測定と並行して、非接触測定機構により前記基板の厚みが測定可能か否かを判定することと、
前記非接触測定機構の測定可能判定結果に基づいて、当該非接触測定機構による前記基板の厚み測定を開始することと、を含み、
前記非接触測定機構の測定可能判定においては、
前記非接触測定機構により取得される一の厚み測定値と、当該一の厚み測定値の1つ前に取得された他の厚み測定値と、の差分値を経時的に連続して算出し、
算出された前記差分値が、予め定められた閾値内に複数回連続して収まった場合に前記基板の厚み測定が可能であると判定する、基板処理方法。 - 前記非接触測定機構による前記基板の厚み測定の開始後、前記接触式測定機構による前記基板の厚み測定を停止させる、ことを含む、請求項8に記載の基板処理方法。
- 前記接触式測定機構による前記基板の厚み測定結果を前記閾値として用いる、請求項8又は9に記載の基板処理方法。
- 前記非接触測定機構の測定可能判定に先立って、前記加工面の前研削処理を行い、
前記加工面の前研削処理においては、前記接触式測定機構による前記基板の厚み測定を行う、請求項8~10のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記前研削処理においては、前記非接触測定機構による検知範囲内の厚みを有する前記基板の前記加工面を予め定められた厚みで研削し、当該加工面の粗度を向上させる、請求項11に記載の基板処理方法。
- 前記前研削処理においては、前記非接触測定機構による検知範囲外の厚みを有する前記基板の前記加工面を、当該基板の厚みが検知範囲内に到達するまで研削する、請求項11に記載の基板処理方法。
- 基板を処理する基板処理方法を基板処理システムによって実行させるように、当該基板処理システムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体であって、
前記基板処理システムは、
前記基板の加工面を研削する研削部と、
前記基板の厚みを測定する厚み測定部と、
前記厚み測定部の動作を制御する制御部と、を有し、
前記厚み測定部は、
前記基板の前記加工面と接触して当該基板の厚みを測定する接触式測定機構と、
前記基板とは非接触で当該基板の厚みを測定する非接触測定機構と、を備え、
前記基板処理方法は、
前記基板の加工面を研削することと、
前記加工面の研削と並行して、接触式測定機構を用いて前記基板の厚みを測定することと、
前記加工面の研削及び接触式測定機構による厚み測定と並行して、非接触測定機構により前記基板の厚みが測定可能か否かを判定することと、
前記非接触測定機構の測定可能判定結果に基づいて、当該非接触測定機構による前記基板の厚み測定を開始することと、を含み、
前記非接触測定機構の測定可能判定においては、
前記非接触測定機構により取得される一の厚み測定値と、当該一の厚み測定値の1つ前に取得された他の厚み測定値と、の差分値を経時的に連続して算出し、
算出された前記差分値が、予め定められた閾値内に複数回連続して収まった場合に前記基板の厚み測定が可能であると判定する、コンピュータ記憶媒体。
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