JP2001071242A - ワークの研削方法及び研削装置 - Google Patents

ワークの研削方法及び研削装置

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JP2001071242A
JP2001071242A JP24891999A JP24891999A JP2001071242A JP 2001071242 A JP2001071242 A JP 2001071242A JP 24891999 A JP24891999 A JP 24891999A JP 24891999 A JP24891999 A JP 24891999A JP 2001071242 A JP2001071242 A JP 2001071242A
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grinding
work
finish
plane
axis
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Koji Fukuda
紘二 福田
Shiro Murai
史朗 村井
Tetsuo Okuyama
哲雄 奥山
Tomoyuki Kawazu
知之 河津
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Nippei Toyama Corp
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  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 円形薄板状のワークの平面を平面精度よく研
削することができるワークの研削方法及び研削装置を提
供する。 【解決手段】 円形薄板よりなるワーク23をその中心
を軸線L1として回転させる。円盤状の回転砥石27
を、ワーク23の平面とほぼ平行でかつワークの半径方
向と交差する方向に延びる軸線L3を中心に回転させな
がら、ワーク23の平面23aに沿って相対的に送り移
動させる。これにより、ワーク23の平面23aを回転
砥石27の外周面にて研削する。この場合、円盤状の回
転砥石27による研削を仕上げ研削に適用し、その仕上
げ研削に先立って別の砥石26により粗研削を行うのが
望ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
ェーハ等の円形薄板よりなるワークの平面を研削するワ
ークの研削方法及び研削装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の円形薄板状のワークの平
面研削を行う場合には、例えば図8に示すような研削方
法が採られていた。すなわち、この従来方法では、ワー
ク71をその中心を軸線L1として回転させるととも
に、カップ型砥石72をワーク71の中心軸線L1と平
行な軸線L2を中心に回転させながら、カップ型砥石7
2の円環状端面72aをワーク71の平面71aに接触
させる。これにより、カップ型砥石72の端面72aに
てワーク71の平面71aを研削するようになってい
る。
【0003】また、従来方法では、前記カップ型砥石7
2として、粗研削用と仕上げ研削用との2つの砥石を用
意し、粗研削用砥石を使用してワーク71の平面71a
を粗研削した後、仕上げ研削用砥石を使用してワーク7
1の平面71aを仕上げ研削する方法も採られていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来の
ワークの研削方法では、カップ型砥石72の研削面が環
状をなしているため、ワークの半径より小さな直径のカ
ップ砥石72が使用されると、カップ型砥石72をワー
ク71の中心軸線L1よりも外側に位置させた状態で研
削を行うことになり、ワーク71の平面中心部に研削さ
れない部分が残ってしまう。このため、一般的にはカッ
プ型砥石72をワーク71の中心軸線L1付近まで進入
させた状態で研削を行って、ワーク71の平面中心部に
非研削部分が発生するのを防止するようにしている。
【0005】しかしながら、このようにワーク71の平
面研削を行った場合、カップ型砥石72の円環状端面7
2aがワーク71の平面中心部に常時接触した状態で、
ワーク71の平面71aが研削されるので、図8に鎖線
で示すように、ワーク71の平面中心部では他の部分よ
りも研削量が多くなる。このため、ワーク71の平面7
1a全体を平面精度よく研削することができないという
問題があった。
【0006】この発明は、このような従来の技術に存在
する問題点に着目してなされたものである。その目的と
するところは、円形薄板状のワークの平面を平面精度よ
く研削することができるワークの研削方法及び研削装置
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】上記の目
的を達成するために、ワークの研削方法に係る請求項1
に記載の発明では、円形薄板よりなるワークをその中心
を軸線として回転させるとともに、円盤状の回転砥石を
ワークの平面とほぼ平行な軸線を中心に回転させなが
ら、ワークの平面に沿って相対的に送り移動させること
により、回転砥石の外周面にてワークの平面研削を行う
ことを特徴としたものである。
【0008】ここで、回転砥石とはパッドを含むものを
指し、研削とは研磨を含むものを指す。また、以下も同
様の用語として使用する。従って、環状の研削領域を備
えたカップ型砥石を使用してワークの平面を研削してい
る従来の研削方法とは異なり、ワークの平面中心部が他
の部分よりも多く研削されて研削ムラを生じることはな
く、ワークの平面全体を平面精度よく研削することがで
きる。
【0009】請求項2に記載の発明では、請求項1に記
載のワークの研削方法において、前記回転砥石の軸線を
ワークの半径方向と交差するように配置することを特徴
としたものである。
【0010】従って、回転砥石の外周砥石面の幅全体を
有効に使用して、ワークの平面を満遍なく効果的に研削
することができる。請求項3に記載の発明では、請求項
1または2に記載のワークの研削方法において、平面研
削を仕上げ研削に適用し、その仕上げ研削に先立って粗
研削を行うことを特徴としたものである。
【0011】従って、ワークの平面の研削を、粗研削と
仕上げ研削とに別けて、能率良く高精度に行うことがで
きる。請求項4に記載の発明では、請求項3に記載のワ
ークの研削方法において、粗研削及び仕上げ研削を同一
ステーションで行うことを特徴としたものである。
【0012】従って、ワークを別ステーションに搬送す
る必要がなく、同一ステーションに配置したままの状態
で、その平面に対する粗研削及び仕上げ研削を連続的に
行うことができて、作業能率を向上させることができ
る。
【0013】請求項5に記載の発明では、請求項3また
は4に記載のワークの研削方法において、少なくとも仕
上げ研削用の回転砥石として、二酸化珪素を固定砥粒化
したものを用いることを特徴としたものである。
【0014】従って、二酸化珪素の科学的な還元作用に
より、ワークの平面を高い研削面粗度で研削することが
できる。請求項6に記載の発明では、請求項3〜5のい
ずれかに記載のワークの研削方法において、最終仕上げ
として、円盤状のポリシングパッドとスラリーとを用い
ることを特徴としたものである。
【0015】従って、ワークの平面の研削面粗度を一層
高めることができる。請求項7に記載の発明では、請求
項3〜6のいずれかに記載のワークの研削方法におい
て、仕上げ研削された平面を測定し、その測定結果に基
づいて少なくとも1回の補正研削を行うことを特徴とし
たものである。
【0016】従って、仕上げ研削された平面に研削ムラ
がある場合に、その研削ムラを補正研削により確実に補
正することができて、高精度の研削を達成することがで
きる。
【0017】請求項8に記載の発明では、請求項7に記
載のワークの研削方法において、仕上げ研削された平面
の測定を非接触型の測定手段を用いて行うことを特徴と
したものである。
【0018】従って、仕上げ研削された平面を測定する
際に、その平面に接触傷等の悪影響を及ぼすおそれを防
止することができる。請求項9に記載の発明では、請求
項3〜8のいずれかに記載のワークの研削方法におい
て、仕上げ研削に先立って研削装置に生じた機械誤差を
検出し、その検出した機械誤差が吸収されるように仕上
げ研削を行うことを特徴としたものである。
【0019】従って、研削装置の機械精度が低下した場
合でも、その精度低下に影響されることなく高精度の研
削を行うことができる。請求項10に記載の発明では、
請求項3〜9のいずれかに記載のワークの研削方法にお
いて、前記ワークの平面の粗研削は、カップ状の回転砥
石をワークの中心軸線と平行な軸線を中心に回転させ
て、インフィード研削にて行うことを特徴としたもので
ある。
【0020】従って、カップ状の回転砥石を使用してワ
ークの平面を粗研削しておくことにより、その後のワー
クの平面の仕上げ研削を能率良く行うことができて、作
業全体の効率アップを図ることができる。
【0021】また、ワークの研削方法に係る請求項11
に記載の発明では、円形薄板よりなるワークをその中心
を軸線として回転させるとともに、カップ状の回転砥石
をワークの中心軸線と平行な軸線を中心に回転させて、
ワークの平面をインフィード研削にて粗研削し、その
後、円盤状の回転砥石をワークの平面とほぼ平行でかつ
ワークの半径方向と交差する方向に延びる軸線を中心に
回転させながら、ワークの平面に沿って相対的に送り移
動させることにより、その円盤状の回転砥石の外周面に
てワークの平面を仕上げ研削することを特徴としたもの
である。
【0022】従って、カップ状の回転砥石を使用してワ
ークの平面を粗研削しておくことにより、その後のワー
クの平面の仕上げ研削を能率良く行うことができる。ま
た、その仕上げ研削を円盤状の回転砥石の外周面にて行
っているため、ワークの平面全体を平面精度よく研削す
ることができる。
【0023】請求項12に記載の発明では、請求項11
に記載のワークの研削方法において、粗研削及び仕上げ
研削を同一ステーションで行うことを特徴としたもので
ある。
【0024】従って、ワークを別ステーションに搬送す
る必要がなく、同一ステーションに配置したままの状態
で、その平面に対する粗研削及び仕上げ研削を連続的に
行うことができて、作業能率を向上させることができ
る。
【0025】さらに、ワークの研削装置に係る請求項1
3に記載の発明では、円形薄板よりなるワークを保持す
るとともに、ワークを自身の軸線を中心に回転させるワ
ーク保持手段と、円盤状の回転砥石を有し、その回転砥
石をワークの平面とほぼ平行な軸線を中心に回転させな
がら、ワークに平面に沿って相対的に送り移動させるこ
とによりワークの平面研削を行う研削手段とを備えたこ
とを特徴とするものである。
【0026】従って、ワークの平面全体を研削平面度ム
ラが生じることなく、高精度に研削することができる。
請求項14に記載の発明では、請求項13に記載のワー
クの研削装置において、研削後のワークの平面を測定す
る測定手段と、その測定手段による測定結果と目標値と
を比較して、それらの間の差を算出する比較手段と、そ
の比較結果の差が収束されるように、前記ワーク保持手
段及び研削手段の動作を制御する制御手段とを設けたこ
とを特徴とするものである。
【0027】従って、研削された平面に研削ムラがある
場合に、その研削ムラを確実に補正することができて、
高精度の研削を達成することができる。請求項15に記
載の発明では、請求項13または14に記載のワークの
研削装置において、機械誤差を検出する検出手段と、そ
の検出手段により検出された機械誤差の影響が減殺され
るように、前記ワーク保持手段及び研削手段の動作を制
御する制御手段とを設けたことを特徴とするものであ
る。
【0028】従って、研削装置の機械精度が低下した場
合でも、その精度低下に影響されることなく高精度の研
削を行うことができる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の一実施形態
を、図1〜6に基づいて説明する。図1〜図3に示すよ
うに、研削装置のベース21上にはコラム22が立設さ
れ、そのコラム22には半導体ウェーハ等の円形薄板よ
りなるワーク23を保持するためのワーク保持手段とし
てのワーク保持機構24が配設されている。ワーク保持
機構24に対応して、ベース21上には研削手段として
の研削機構25が配設されている。この研削機構25に
は、ワーク23の平面23aを粗研削するためのカップ
状の粗研削用回転砥石26と、ワーク23の平面23a
を仕上げ研削するための円盤状の仕上げ研削用回転砥石
27とが装備されている。
【0030】なお、この実施形態では、前記仕上げ研削
用回転砥石27として、二酸化珪素(SiO2)を固定砥
粒化したものが使用されている。前記研削機構25の左
側において、ベース21上には搬入ステーション28が
配設され、その上部には接触型のセンサよりなる厚さ測
定装置29が装備されている。搬入ステーション28の
後部には第1作業ロボット30が装設され、この第1作
業ロボット30により、搬入ステーション28に搬入さ
れたカセット31内から未加工のワーク23が1枚ずつ
取り出されて、厚さ測定装置29で厚さ測定を行った
後、ワーク保持機構24に受け渡される。
【0031】前記研削機構25の右側において、ベース
21上には搬出ステーション32が配設され、その下部
には洗浄機構33が装備されている。搬出ステーション
32の後部には第2作業ロボット34が装設され、この
第2作業ロボット34により、加工済みのワーク23が
ワーク保持機構24から受け取られて、洗浄機構33を
経て搬出ステーション32上のカセット31内に収納さ
れる。
【0032】次に、前記ワーク保持機構24の構成につ
いて詳細に説明する。図3に示すように、コラム22の
側面にはワークヘッド37がガイドレール38を介して
Z軸方向(上下方向)へ移動可能に支持されている。ワ
ークヘッド37には回転軸39がZ軸方向に延びる軸線
L1を中心に回転可能に支持され、その下端にはワーク
23を吸着保持するための吸盤40が設けられている。
【0033】前記ワークヘッド37上にはワーク回転用
モータ41が配設され、このモータ41により回転軸3
9が回転されて、吸盤40に吸着保持されたワーク23
がその中心を軸線L1として回転される。コラム22上
にはZ軸移動用モータ42が配設され、このモータ42
によりボールネジ43が回転されて、ナット44を介し
てワークヘッド37がZ軸方向に移動される。
【0034】続いて、前記研削機構25の構成について
詳細に説明する。図2及び図3に示すように、ベース2
1上には、支持テーブル47が一対のガイドレール48
を介してX軸方向(左右方向)へ移動可能に配設されて
いる。支持テーブル47上には、サドル49が一対のガ
イドロッド50を介してY軸方向(前後方向)へ移動可
能に支持されている。
【0035】前記ベース21上にはX軸移動用モータ5
1が配設され、このモータ51によりボールネジ52が
回転されて、ナット53を介して支持テーブル47がX
軸方向に移動される。支持テーブル47の後部にはY軸
移動用モータ54が配設され、このモータ54によりボ
ールネジ55が回転されて、ナット56を介してサドル
49がY軸方向に移動される。
【0036】前記支持テーブル47の左側上部には第1
砥石回転用モータ57が配設され、その上面に突出した
モータ軸58には前記カップ状の粗研削用回転砥石26
が取り付けられている。そして、この粗研削用回転砥石
26が第1砥石回転用モータ57により、ワーク23の
中心軸線L1と平行な軸線L2を中心に回転されるよう
になっている。
【0037】前記サドル49上には第2砥石回転用モー
タ59が配設され、その左側面に突出したモータ軸60
には前記円盤状の仕上げ研削用回転砥石27が取り付け
られている。そして、この仕上げ研削用回転砥石27が
第2砥石回転用モータ59により、ワーク23の平面2
3aと平行な軸線L3を中心に回転されるようになって
いる。
【0038】図6に示すように、前記ワーク保持機構2
4の吸盤40に吸着保持されたワーク23の平面23a
と対応して、ベース21上には仕上げ研削後のワーク2
3の平面23aを測定するための測定手段を構成する平
面測定装置61が配設されている。この平面測定装置6
1は、ワーク23の平面23aに沿ってX軸方向に延長
配置された支持ロッド62と、その支持ロッド62上に
移動可能に支持された静電容量検出型の近接センサより
なる非接触型のセンサ63とから構成されている。
【0039】そして、前記仕上げ研削用回転砥石27に
よるワーク23の平面23aの仕上げ研削が行われた
後、平面測定装置61のセンサ63が仕上げ研削された
平面23aに沿って移動され、その平面23aの平面度
を静電容量の大小により測定して、その測定結果を制御
装置64に出力する。制御手段64は制御手段及び比較
手段を構成し、センサ63からの測定結果と目標値とを
比較して、それらの間の差を算出するとともに、その比
較結果の差が収束されるように、前記ワーク保持機構2
4及び研削機構25に指令信号を出力して、その後に仕
上げ研削用回転砥石27による少なくとも一回の補正研
削を行わせる。
【0040】また、この実施形態においては、前記平面
測定装置61が研削装置の機械誤差を検出するための検
出手段を兼用するようになっている。そして、前記仕上
げ研削用回転砥石27によるワーク23の平面23aの
仕上げ研削に先立って、センサ63が仕上げ研削する平
面23aに沿って移動され、例えば吸盤40の機械精度
の低下等に起因してワーク23の平面23aに発生する
機械誤差(機械的歪み)を検出して、その検出結果を制
御装置64に出力する。制御装置64はセンサ63によ
り検出された機械誤差の影響が減殺されるように、ワー
ク保持機構24及び研削機構25に指令信号を出力し
て、仕上げ研削用回転砥石27による仕上げ研削を行わ
せる。
【0041】次に、前記のように構成された研削装置を
使用して、ワーク23の平面23aを研削する場合の研
削方法について説明する。さて、このワークの研削方法
においては、ワーク23の表側の平面23aと裏側の平
面23aとが同一のステーションで、それそれ2つの工
程に別けて研削される。すなわち、まずワーク23がワ
ーク保持機構24の吸盤40に対して、その表側の平面
23aを下向きにした状態で吸着保持される。この状態
で、カップ状の粗研削用回転砥石26により、ワーク2
3の表側の平面23aが粗研削される。続いて、円盤状
の仕上げ用回転砥石27により、粗研削後の表側の平面
23aが仕上げ研削される。
【0042】その後、ワーク23がワーク保持機構24
の吸盤40に対して、その裏側の平面23aを下向きに
した状態で吸着保持される。この状態で、前記表側の平
面23aの研削時と同様に、カップ状の粗研削用回転砥
石26により、ワーク23の裏側の平面23aが粗研削
される。続いて、円盤状の仕上げ用回転砥石27によ
り、粗研削後の裏側の平面23aが仕上げ研削される。
【0043】そこで、前記ワーク23の表裏両側の平面
23aに対する粗研削工程及び仕上げ研削工程について
順次詳細に説明する。まず、表側の平面23aの粗研削
工程では、図4(a)及び(b)に示すように、ワーク
23が表側の平面23aを下向きにして吸盤40に吸着
保持される。この状態で、粗研削用回転砥石26がX軸
移動用モータ51によりX軸方向に移動されて、ワーク
23の平面23aと対応する位置に移動配置される。
【0044】その後、ワーク23がワーク回転用モータ
41により軸線L1を中心に回転されるとともに、粗研
削用回転砥石26が第1砥石回転用モータ57によりワ
ーク23の中心軸線L1と平行な軸線L2を中心に回転
される。これと同時に、ワーク23がZ軸移動用モータ
42により下方に移動されて、ワーク23の表側の平面
23aが粗研削用回転砥石26の端面に接触される。こ
れにより、図4(a)に鎖線で示すように、ワーク23
の表側の平面23aがインフィード研削にて粗研削され
る。
【0045】続いて、前記表側の平面23aの仕上げ研
削工程では、図5(a)及び(b)に示すように、ワー
ク23が表側の平面23aを下向きにして吸盤40に吸
着保持されたままの状態で、X軸移動用モータ51によ
り、仕上げ研削用回転砥石27がワーク23の軸線L1
と対応する位置に移動配置される。この状態で、ワーク
23がワーク回転用モータ41により回転されるととも
に、仕上げ研削用回転砥石27が第2砥石回転用モータ
59により、ワーク23の表側の平面23aと平行でか
つワーク23の半径方向と直交する方向に延びる軸線L
3を中心に回転される。
【0046】これと同時に、仕上げ研削用回転砥石27
がY軸移動用モータ54によりY軸方向に移動されて、
図5(a)及び(b)に示すように、その回転砥石27
がワーク23の表側の平面23aに沿って相対的に送り
移動される。これにより、図5(a)に鎖線で示すよう
に、ワーク23の表側の平面23aが前記粗研削工程と
同一ステーションで、回転砥石27の外周砥石面にて仕
上げ研削される。
【0047】その後、図6に示すように、平面測定装置
61のセンサ63が仕上げ研削された表側の平面23a
に沿って移動され、その平面23aの平面度が静電容量
の大小により測定されて、その測定結果が制御装置64
に出力される。制御手段64では、センサ63からの測
定結果と目標値とが比較されて、それらの間の差が算出
される。そして、この算出された差に基づいて、制御装
置64からワーク保持機構24及び研削機構25に指令
信号が出力されて、ワーク23のZ軸方向への移動量等
が調整されながら、前記仕上げ研削時と同様に、仕上げ
研削用回転砥石27を使用して少なくとも一回の補正研
削が行われる。この補正研削においては、前記制御装置
64からワーク保持機構24及び研削機構25に指令信
号が出力されて、前記測定結果と目標値との間の差が収
束されるように、ワーク23のZ軸方向への移動量等が
調整されて、研削が行われる。
【0048】そして、その補正研削後、再度前述したワ
ーク23の測定が行われ、ワーク23の精度が所定値を
下回るまで、補正研削が行われる。なお、前記の測定
は、ワーク1枚に対する加工が行われるごとに実行して
も、あるいは複数枚の加工ごとにサンプリング的に実行
してもよい。
【0049】次に、ワーク23の裏側の平面23aの粗
研削工程では、表側の平面23aの加工が終了した後
に、ワーク23を一旦装置外に搬出する。そして、装置
外において、加工が終了した面に、保護シール(図示し
ない)が貼着され、その保護シールの面、すなわち加工
が終了した平面23a側を上にして、ワーク23が再び
装置内に搬入される。従って、ワーク23が前記とは上
下反転して、裏側の平面23aが下向きとなるように吸
着保持される。この状態で、前記表側の平面23aの粗
研削時と同様に、粗研削用回転砥石26を使用して、裏
側の平面23aの粗研削が行われる。
【0050】続いて、ワーク23の裏側の平面23aの
仕上げ研削工程では、前記表側の平面23aの仕上げ研
削時と同様に、仕上げ研削用回転砥石27を使用して、
裏側の平面23aの仕上げ研削が行われる。
【0051】そして、この裏側の平面23aの仕上げ研
削後に、前記表側の平面23aの仕上げ研削後と同様
に、平面測定装置61のセンサ63により、仕上げ研削
された裏側の平面23aの平面度が測定される。そし
て、その測定結果と目標値との差に基づいて、制御装置
64からワーク保持機構24及び研削機構25に指令信
号が出力されて、仕上げ研削用回転砥石27による少な
くとも一回の補正研削が行われる。
【0052】さらに、前記のようにワーク23の表裏両
側の平面23aが粗研削及び仕上げ研削された後、ワー
ク23はカセット31に収納された状態で、研削装置か
ら別のステーションに搬送される。そして、この別ステ
ーションにおいて、前記保護シールが剥離されて、図示
しない円盤状のポリシングパッドとスラリーを用いて、
ワーク23の表裏両側の平面23aの最終仕上げが行わ
れる。すなわち、円盤状のポリシングパッドの端面をワ
ークの平面23aに当てるとともに、ポリシングパッド
とワーク23との間に、分散液に砥粒を混合したスラリ
ーを供給する。このようにすれば、スラリー中の砥粒に
よりワーク23の平面23aが超仕上げされる。
【0053】前記の実施形態によって期待できる効果に
ついて、以下に記載する。 ・ この実施形態のワークの研削方法においては、円形
薄板よりなるワーク23をその中心を軸線L1として回
転させるとともに、円盤状の回転砥石27をワーク23
の平面23aとほぼ平行な軸線L3を中心に回転させな
がら、ワーク23の平面23aに沿って相対的に送り移
動させている。これにより、回転砥石27の外周面にて
ワーク23の平面23aを研削するようになっている。
【0054】このため、カップ型砥石を使用してワーク
23の平面23aを研削している従来の研削方法とは異
なり、回転砥石27による研削領域が線接触で、その線
接触部分がワーク23上で移動するため、一部に未研削
部分が残ったり、逆に一部が過大に研削されたりするの
を抑制して、ワーク23の平面23a全体を均一に研削
でき、ワーク23の平面中心部が他の部分よりも多く研
削されて研削ムラを生じることはない。よって、ワーク
23の平面23a全体を平面精度よく研削することがで
きる。
【0055】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、回転砥石27の軸線がX軸方向に延び、ワーク
23の軸線がX軸方向と直交するZ軸方向に延びている
ため、回転砥石27の軸線L3がワーク23の半径方向
と交差するように配置されている。このため、回転砥石
27の外周砥石面とワーク23の半径方向とが斜交する
ことなく、回転砥石27の外周砥石面全体を有効に使用
して、ワーク23の平面23aを満遍なく効果的に研削
することができる。
【0056】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、前記円盤状の回転砥石27による平面研削を仕
上げ研削に適用し、その仕上げ研削に先立って粗研削を
行うようになっている。このため、ワーク23の平面2
3aの研削を、粗研削と仕上げ研削とに別けて、能率良
く高精度に行うことができる。
【0057】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、粗研削及び仕上げ研削を同一ステーションで行
うようになっている。このため、ワーク23を別ステー
ションに搬送する必要がなく、同一ステーションに配置
したままの状態で、その平面23aに対する粗研削及び
仕上げ研削を連続的に行うことができて、作業能率を向
上させることができる。また、粗研削及び仕上げステー
ションを別々に設ける必要がなく、装置の構成を簡単に
することができる。
【0058】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、仕上げ研削用の回転砥石27として、二酸化珪
素を固定砥粒化したものを用いている。このため、二酸
化珪素の化学的な還元作用により、ワーク23の平面2
3aを高い研削面粗度で研削することができる。
【0059】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、回転砥石26,27を使用して、ワーク23の
平面23aを粗研削及び仕上げ研削した後、別ステーシ
ョンで円盤状のポリシングパッドとスラリーとを用い最
終仕上げを行うようになっている。このため、ワーク2
3の平面23aの研削面粗度を一層高めることができ
る。
【0060】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、仕上げ研削された平面23aを平面測定装置6
1により測定し、その測定結果に基づいて少なくとも1
回の補正研削を行うようになっている。このため、仕上
げ研削された平面23aに研削ムラがある場合に、その
研削ムラを補正研削により確実に補正することができ
て、高精度の研削を達成することができる。
【0061】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、仕上げ研削された平面23aの測定を非接触型
のセンサ63を用いて行うようになっている。このた
め、仕上げ研削された平面23aを測定する際に、その
平面23aにセンサ63による接触傷等の悪影響を及ぼ
すおそれを防止することができる。
【0062】・ この実施形態のワークの研削方法にお
いては、前記ワーク23の平面23aの粗研削が、カッ
プ状の回転砥石26をワーク23の中心軸線L1と平行
な軸線L2を中心に回転させて、単位時間当たりの研削
量を多くすることができるインフィード研削にて行うよ
うになっている。このため、カップ状の回転砥石26を
使用してワーク23の平面23aを粗研削しておくこと
により、粗研削に要する時間を短くすることができて、
作業全体の効率アップを図ることができる。
【0063】(変更例)なお、この実施形態は、次のよ
うに変更して具体化することも可能である。 ・ 前記実施形態の研削装置において、図7(a)に示
すように、カップ状の粗研削用回転砥石26を省略す
る。そして、第2砥石回転用モータ59を支持軸67に
よりサドル49上にインデックス回転可能に支持して、
そのモータ59の左右両側面に突出したモータ軸60に
円盤状の仕上げ研削用回転砥石27及び粗研削用回転砥
石68を取り付けること。
【0064】この構成においては、第2砥石回転用モー
タ59がインデックス回転されることによって、粗研削
用回転砥石68及び仕上げ研削用回転砥石27のいずれ
か一方がワーク23の軸線L1と対応する位置に配置さ
れる。そして、それらの対応配置状態で、ワーク23の
平面23aの粗研削及び仕上げ研削を同一ステーション
にて順に行うことができる。
【0065】・ 前記実施形態の研削装置において、図
7(b)に示すように、カップ状の粗研削用回転砥石2
6を省略する。そして、第2砥石回転用モータ59を支
持軸67によりサドル49上にインデックス回転可能に
支持して、そのモータ59の左右両側面及び後面に突出
したモータ軸60に、円盤状の仕上げ研削用回転砥石2
7、粗研削用回転砥石68、及びポリシングパッド69
をそれぞれ取り付けること。
【0066】この構成においては、第2砥石回転用モー
タ59がインデックス回転されることによって、粗研削
用回転砥石68、仕上げ研削用回転砥石27及びポリシ
ングパッド69のいずれか一個がワーク23の軸線L1
と対応する位置に配置される。そして、それらの対応配
置状態で、ワーク23の平面23aの粗研削、仕上げ研
削及び最終仕上げを同一ステーションにて順に行うこと
ができる。
【0067】・ 前記実施形態の研削装置において、図
7(c)に示すように、第2砥石回転用モータ59を支
持軸67によりサドル49上にインデックス回転可能に
支持し、そのモータ59の左右両側面に突出したモータ
軸60に、円盤状の仕上げ研削用回転砥石27及びポリ
シングパッド69を取り付けること。
【0068】この構成においては、カップ状の粗研削用
回転砥石26により、ワーク23の平面23aを粗研削
した後、第2砥石回転用モータ59のインデックス回転
により、仕上げ研削用回転砥石27及びポリシングパッ
ド69をワーク23の軸線L1と対応する位置に配置し
て、ワーク23の平面23aの仕上げ研削及び最終仕上
げを同一ステーションにて順に行うことができる。
【0069】・ 粗研削用回転砥石26についても、仕
上げ研削用回転砥石27と同様に、二酸化珪素を固定砥
粒化したものを用いること。 ・ 仕上げ研削用回転砥石27として、炭化珪素等、通
常の砥粒を用いたものを使用すること。
【0070】・ 前記実施形態の研削装置において、平
面測定装置61のセンサ63として、レーザ光、通常光
により検出するタイプの光学センサを用いること。 ・ 前記実施形態の研削装置において、ワーク23の表
側の平面23aの仕上げ研削前あるいは研削後に、ワー
ク23の平面23aに現出する機械誤差を検出して、そ
の検出結果に基づいて表側の平面23aの仕上げ研削動
作を調整するように構成すること。すなわち、装置の吸
盤40等に傾きなどの機械誤差が生じていると、研削さ
れた平面23aには、その機械誤差に応じた研削面が現
出することになるため、研削後の平面23aを測定する
して、誤差を修正するように研削を行うことにより、機
械誤差を修正しなくても、高精度加工が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 研削装置の一実施形態を示す部分破断平面
図。
【図2】 図1の研削装置の一部を拡大して示す要部平
面図。
【図3】 図1の研削装置の要部拡大断面図。
【図4】 ワークの平面の粗研削工程を示す正面図及び
平断面図。
【図5】 同じく仕上げ研削工程を示す側面図及び平面
図。
【図6】 ワークの仕上げ研削面を測定するセンサを示
す要部正面図。
【図7】 砥石ヘッドの別の実施形態を示す平面図。
【図8】 従来のワークの研削方法を示す説明図。
【符号の説明】
23…ワーク、23a…平面、24…ワーク保持手段と
してのワーク保持機構、25…研削手段としての研削機
構、26…カップ状の粗研削用回転砥石26…円盤状の
仕上げ研削用回転砥石、37…ワークヘッド、40…吸
盤、41…ワーク回転用モータ、42…Z軸移動用モー
タ、47…支持テーブル、49…サドル、51…X軸移
動用モータ、54…Y軸移動用モータ、57…第1砥石
回転用モータ、59…第2砥石回転用モータ、61…測
定手段及び検出手段を構成する平面測定装置、63…非
接触型のセンサ、64…制御手段及び比較手段を構成す
る制御装置、68…円盤状の粗研削用回転砥石、69…
ポリシングパッド、L1…ワークの中心軸線、L2…ワ
ークの中心軸線と平行な軸線、L3…ワークの平面と平
行な軸線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥山 哲雄 神奈川県横須賀市神明町1番地 株式会社 日平トヤマ技術センター内 (72)発明者 河津 知之 神奈川県横須賀市神明町1番地 株式会社 日平トヤマ技術センター内 Fターム(参考) 3C034 AA07 BB56 BB73 BB93 CA05 CA22 CB01 DD20 3C043 BA01 BA09 BA11 BA15 BA16

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円形薄板よりなるワークをその中心を軸
    線として回転させるとともに、円盤状の回転砥石をワー
    クの平面とほぼ平行な軸線を中心に回転させながら、ワ
    ークの平面に沿って相対的に送り移動させることによ
    り、回転砥石の外周面にてワークの平面研削を行うこと
    を特徴としたワークの研削方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のワークの研削方法にお
    いて、前記回転砥石の軸線をワークの半径方向と交差す
    るように配置することを特徴としたワークの研削方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載のワークの研削
    方法において、平面研削を仕上げ研削に適用し、その仕
    上げ研削に先立って粗研削を行うことを特徴としたワー
    クの研削方法。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載のワークの研削方法にお
    いて、粗研削及び仕上げ研削を同一ステーションで行う
    ことを特徴としたワークの研削方法。
  5. 【請求項5】 請求項3または4に記載のワークの研削
    方法において、少なくとも仕上げ研削用の回転砥石とし
    て、二酸化珪素を固定砥粒化したものを用いることを特
    徴としたワークの研削方法。
  6. 【請求項6】 請求項3〜5のいずれかに記載のワーク
    の研削方法において、最終仕上げとして、円盤状のポリ
    シングパッドとスラリーとを用いることを特徴としたワ
    ークの研削方法。
  7. 【請求項7】 請求項3〜6のいずれかに記載のワーク
    の研削方法において、仕上げ研削された平面を測定し、
    その測定結果に基づいて少なくとも1回の補正研削を行
    うことを特徴としたワークの研削方法。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載のワークの研削方法にお
    いて、仕上げ研削された平面の測定を非接触型の測定手
    段を用いて行うことを特徴としたワークの研削方法。
  9. 【請求項9】 請求項3〜8のいずれかに記載のワーク
    の研削方法において、仕上げ研削に先立って研削装置に
    生じた機械誤差を検出し、その検出した機械誤差が吸収
    されるように仕上げ研削を行うことを特徴としたワーク
    の研削方法。
  10. 【請求項10】 請求項3〜9のいずれかに記載のワー
    クの研削方法において、前記ワークの平面の粗研削は、
    カップ状の回転砥石をワークの中心軸線と平行な軸線を
    中心に回転させて、インフィード研削にて行うことを特
    徴としたワークの研削方法。
  11. 【請求項11】 円形薄板よりなるワークをその中心を
    軸線として回転させるとともに、カップ状の回転砥石を
    ワークの中心軸線と平行な軸線を中心に回転させて、ワ
    ークの平面をインフィード研削にて粗研削し、その後、
    円盤状の回転砥石をワークの平面とほぼ平行でかつワー
    クの半径方向と交差する方向に延びる軸線を中心に回転
    させながら、ワークの平面に沿って相対的に送り移動さ
    せることにより、その円盤状の回転砥石の外周面にてワ
    ークの平面を仕上げ研削することを特徴としたワークの
    研削方法。
  12. 【請求項12】 請求項11に記載のワークの研削方法
    において、粗研削及び仕上げ研削を同一ステーションで
    行うことを特徴としたワークの研削方法。
  13. 【請求項13】 円形薄板よりなるワークを保持すると
    ともに、ワークを自身の軸線を中心に回転させるワーク
    保持手段と、 円盤状の回転砥石を有し、その回転砥石をワークの平面
    とほぼ平行な軸線を中心に回転させながら、ワークに平
    面に沿って相対的に送り移動させることによりワークの
    平面研削を行う研削手段とを備えたことを特徴とするワ
    ークの研削装置。
  14. 【請求項14】 請求項13に記載のワークの研削装置
    において、 研削後のワークの平面を測定する測定手段と、 その測定手段による測定結果と目標値とを比較して、そ
    れらの間の差を算出する比較手段と、 その比較結果の差が収束されるように、前記ワーク保持
    手段及び研削手段の動作を制御する制御手段とを設けた
    ことを特徴とするワークの研削装置。
  15. 【請求項15】 請求項13または14に記載のワーク
    の研削装置において、 機械誤差を検出する検出手段と、 その検出手段により検出された機械誤差の影響が減殺さ
    れるように、前記ワーク保持手段及び研削手段の動作を
    制御する制御手段とを設けたことを特徴とするワークの
    研削装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108044507A (zh) * 2017-12-22 2018-05-18 吴柳平 用于砂轮的检测装置
CN109623284A (zh) * 2018-12-28 2019-04-16 广州导新模具注塑有限公司 光学镶件的加工方法及一种光学镶件

Cited By (3)

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