JP7469289B2 - マイクロポーラスめっき液およびこのめっき液を用いた被めっき物へのマイクロポーラスめっき方法 - Google Patents
マイクロポーラスめっき液およびこのめっき液を用いた被めっき物へのマイクロポーラスめっき方法 Download PDFInfo
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Description
(a)非導電性粒子
(b)ポリ塩化アルミニウム
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O):240~300g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 30~ 45g/L
ほう酸(H3BO3): 30~ 45g/L
スルファミン酸ニッケル(Ni(SO3NH2)2・4H2O):
300~600g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 0~ 15g/L
ほう酸(H3BO3): 30~ 40g/L
<硫酸塩浴>
塩基性硫酸クロム(Cr(OH)SO4): 50~ 80g/L
酒石酸ジアンモニウム([CH(OH)COONH4]2):
25~ 35g/L
硫酸カリウム(K2SO4): 5~150g/L
硫酸アンモニウム((NH4)2SO4): 5~150g/L
ほう酸(H3BO3): 60~ 80g/L
塩基性硫酸クロム(Cr(OH)SO4): 50 ~ 80 g/L
ギ酸アンモニウム(HCOONH4): 13 ~ 22 g/L
塩化カリウム(KCl): 5 ~170 g/L
塩化アンモニウム(NH4Cl): 90 ~100 g/L
臭化アンモニウム(NH4Br): 5.4~ 6.0g/L
ほう酸(H3BO3): 60 ~ 80 g/L
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 15~30g/L
ホスフィン酸ナトリウム(NaPH2O2・H2O): 20~30g/L
乳酸(CH3CH(OH)COOH): 20~35g/L
リンゴ酸(HOOCCH(OH)CH2COOH): 10~20g/L
クエン酸(HOOCCH2C(OH)(COOH)CH2COOH):
10~20g/L
プロピオン酸(CH3CH2COOH): 5~10g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 250~300g/L
塩化錫(SnCl2): 40~ 50g/L
塩化アンモニウム(NH4Cl): 90~110g/L
フッ化アンモニウム(NH4F): 55~ 65g/L
塩化コバルト(CoCl2): 360~440g/L
フッ化第一スズ(SnF2): 60~ 72g/L
フッ化アンモニウム(NH4F): 25~ 35g/L
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 150~200g/L
塩化ナトリウム(NaCl): 18~ 22g/L
ほう酸(H3BO3): 18~ 22g/L
次亜リン酸ナトリウム(NaH2PO2・H2O): 20~ 30g/L
正リン酸(H3PO4): 40~ 50g/L
(a)非導電性粒子
(b)ポリ塩化アルミニウム
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O) 200~350g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O) 30~ 45g/L
ほう酸(H3BO3) 30~ 45g/L
一次光沢剤 0.6~1.6ml/L
二次光沢剤 0.3~1.2ml/L
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O) 240~320g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O) 67~110g/L
ほう酸(H3BO3) 34~ 38g/L
一次光沢剤 10~ 25ml/L
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O) 200~300g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O) 35~ 60g/L
ほう酸(H3BO3) 35~ 60g/L
一次光沢剤 5~ 10ml/L
二次光沢剤 10~ 35ml/L
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O) 240~320g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O) 35~ 60g/L
ほう酸(H3BO3) 35~ 60g/L
一次光沢剤 5~ 15ml/L
二次光沢剤 10~ 35ml/L
二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm) 0.1~10g/L
ポリ塩化アルミニウム(酸化アルミニウム換算)* 0.04~0.4g/L
*塩基度55~65
無水クロム酸(CrO3) 200 ~250g/L
硫酸(H2SO4) 0.8~ 1g/L
ケイフッ化ナトリウム 5 ~ 10g/L
塩基性硫酸クロム(Cr(OH)SO4): 50 ~ 80g/L
ギ酸アンモニウム(HCOONH4): 13 ~ 22g/L
塩化カリウム(KCl): 5 ~170g/L
塩化アンモニウム(NH4Cl): 90 ~100g/L
臭化アンモニウム(NH4Br): 5.4~ 6g/L
ほう酸(H3BO3): 60 ~ 80g/L
マイクロポーラスめっき用添加剤の調製:
以下の組成のワット浴を調製し、二酸化ケイ素を50g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で2g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき用添加剤を得た。
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 260g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 45g/L
ほう酸(H3BO3): 45g/L
比重: 1.200
マイクロポーラスめっき用添加剤の調製:
実施例1で用いたのと同様の組成のワット浴を調製し、これに二酸化ケイ素を50g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれに水酸化アルミニウムを形成するアルミニウム化合物であるアルミン酸を酸化アルミニウム換算で2g/L添加し、攪拌・混合して帯電シリカ粒子を含有するマイクロポーラスめっき用添加剤を得た。
分散性試験:
実施例1および比較例1で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、それぞれガラス瓶容器に入れ、1週間放置した。放置後の容器を横に倒したところ、比較例1のマイクロポーラスめっき用添加剤は固化し、容器の底にこびりついているのが確認できた(図1の右)。一方、実施例1のマイクロポーラスめっき用添加剤は上手く分散していて、固化せず容器の底にこびりつかないことが確認できた(図1の左)。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例1で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、以下の組成のワット浴に対し、15ml/L添加し、マイクロポーラスめっき液を調製した。
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 260g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 45g/L
ほう酸(H3BO3): 45g/L
光沢剤#810*: 3ml/L
光沢剤MP333*: 10ml/L
浴温: 55℃
比重: 1.205
*株式会社JCU製
マイクロポーラスめっき液の調製:
比較例1で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴に対し15ml/L添加し、マイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき製品の製造:
試験片として図2の形状のベントカソードテストピース(真鍮:株式会社山本鍍金試験機製)を用い、以下の工程でマイクロポーラスめっき製品を製造した。
試験片をSK-144(株式会社JCU製)で5分間処理して脱脂を行った後、V-345(株式会社JCU製)で30秒処理を行い、酸活性を行った。
上記で脱脂・酸活性処理を行った試験片を以下のニッケルめっき液中、4A/dm2で3分間めっきを行った。
<光沢ニッケルめっき浴>
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 260g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 45g/L
ほう酸(H3BO3): 45g/L
光沢剤#810*: 3ml/L
光沢剤#83*: 10ml/L
*株式会社JCU製
光沢めっきを施した試験片を実施例2もしくは比較例2で調製したマイクロポーラスめっき液中で3A/dm2で3分間めっきを行った。
上記マイクロポーラスニッケルめっきを施した試験片を以下の組成の六価クロムめっき液中で10A/dm2で3分間めっきを行った。
<六価クロムめっき浴>
無水クロム酸(CrO3): 250 g/L
硫酸(H2SO4): 1 g/L
添加剤ECR 300L*: 10 ml/L
ミストシャット MISTSHUT NP*: 0.1ml/L
*株式会社JCU製
クロムめっきあがりの試験片に対して以下の組成の硫酸銅めっき液に3分間浸漬を行い、その後、その硫酸銅めっき液中で0.5A/dm2で3分間めっきを行った。
硫酸銅(CuSO4・5H2O): 220 g/L
硫酸(H2SO4): 50 g/L
塩酸(HCl): 0.15ml/L
硫酸銅めっき後、試験片を静かに水洗し、風乾させた後に、めっき皮膜の微孔数を測定した。なお、微孔数の測定は、試験片の評価面に対し、株式会社キーエンス製のマイクロスコープVHX-2000を使用して行った。実施例2および比較例2の微孔数の測定結果を表1に示す。
添加剤の経時性能:
実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴に対して実施例1で調製した添加剤を10ml/Lで添加を行い、調製直後、調製1ヶ月後での性能差を比較した。めっきは試験例2と同様にして行い、微孔数(個/cm2)も同様にして測定した。結果を表2に示す。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴267mlに対し二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L、ポリ塩化アルミニウム(タイパック、大明化学工業株式会社製、塩基度55)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L加えて、マイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴267mlに対し二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L、ポリ塩化アルミニウム(アルファイン83、大明化学工業株式会社製、塩基度83)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L加えて、マイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴267mlに対し二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L、ポリ塩化アルミニウム(PAC、南海化学工業株式会社、塩基度53)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L加えて、マイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴267mlに対し二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L、ポリ塩化アルミニウム(タイパック6010、大明化学工業株式会社製、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L加えて、マイクロポーラスめっき液を調製した。
ポリ塩化アルミニウムの塩基度の比較:
60cm×10cmの大きさの真鍮板(ハルセル板)を試験片として用いた。この試験片を、マイクロポーラスめっき液として実施例3~6で調製したマイクロポーラスめっき液を用いる以外は試験例2と同様にし、電流値は2Aとしてマイクロポーラスめっき製品を製造した。
マイクロポーラスめっき用添加剤の調製:
以下の組成の溶液に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を50g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で2g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき用添加剤を得た。
ほう酸(H3BO3): 45g/L
比重: 1.162
マイクロポーラスめっき用添加剤の調製:
以下の組成の溶液に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を50g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で2g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき用添加剤を得た。
ほう酸(H3BO3): 45g/L
比重: 1.133
マイクロポーラスめっき用添加剤の調製:
以下の組成の溶液に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を50g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で2g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき用添加剤を得た。
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 35g/L
ほう酸(H3BO3): 40g/L
比重: 1.280
マイクロポーラスめっき用添加剤の調製:
以下の組成の溶液に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を50g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で2g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき用添加剤を得た。
比重: 1.000
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例7で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴1Lに対し、10ml/L添加してマイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例8で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴1Lに対し、10ml/L添加してマイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例9で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴1Lに対し、10ml/L添加してマイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例10で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴267mLに対し、3ml/L添加してマイクロポーラスめっき液を調製した。
マイクロポーラスめっき液の調製:
実施例1で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、実施例2で用いたのと同様の組成のワット浴267mLに対し、3ml/L添加してマイクロポーラスめっき液を調製した。
添加剤の溶媒の検討:
マイクロポーラスめっき液として実施例11~13で調製したマイクロポーラスめっき液を用いる以外は試験例2と同様にしてマイクロポーラスめっき製品を製造した。微孔数(個/cm2)も試験例2と同様にして測定した。結果を表4に示す。
添加剤の溶媒の検討:
マイクロポーラスめっき液として実施例14~15で調製したマイクロポーラスめっき液を用いる以外は試験例4と同様にしてマイクロポーラスめっき製品を製造した。微孔数(個/cm2)も試験例と同様にして測定した。結果を表5に示す。
沈降性試験:
実施例1および実施例7~10で調製したマイクロポーラスめっき用添加剤を、それぞれ透明なガラス容器に入れ、1時間放置した。放置後、容器を確認したところ実施例10のマイクロポーラスめっき用添加剤は他のサンプルよりもプラスに帯電した非導電性粒子の沈降が早かった。一方で、実施例9のマイクロポーラスめっき用添加剤が最もプラスに帯電した非導電性粒子の沈降が遅かった(図3)。
マイクロポーラスめっき液の調製:
以下の組成のワット浴に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき液を得た。
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 260g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 40g/L
ほう酸(H3BO3): 40g/L
光沢剤#810*: 3ml/L
光沢剤MP333*: 10ml/L
比重: 1.191
*株式会社JCU製
マイクロポーラスめっき液の調製:
以下の組成のワット浴に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき液を得た。
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 300g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 40g/L
ほう酸(H3BO3): 40g/L
光沢剤#810*: 3ml/L
光沢剤MP333*: 10ml/L
比重: 1.212
*株式会社JCU製
マイクロポーラスめっき液の調製:
以下の組成のワット浴に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき液を得た。
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 350g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 40g/L
ほう酸(H3BO3): 40g/L
光沢剤#810*: 3ml/L
光沢剤MP333*: 10ml/L
比重: 1.241
*株式会社JCU製
マイクロポーラスめっき液の調製:
以下の組成のワット浴に対して、二酸化ケイ素(平均粒径1.5μm)を1g/L添加し、撹拌・混合した。次いでこれにポリ塩化アルミニウム(大明化学工業株式会社、タイパック6010、塩基度63)を酸化アルミニウム換算で0.04g/L添加し、攪拌・混合してプラスに帯電した非導電性粒子を含有するマイクロポーラスめっき液を得た。
硫酸ニッケル(NiSO4・6H2O): 400g/L
塩化ニッケル(NiCl2・6H2O): 40g/L
ほう酸(H3BO3): 40g/L
光沢剤#810*: 3ml/L
光沢剤MP333*: 10ml/L
比重: 1.275
*株式会社JCU製
ワット浴比重による微孔数の確認:
マイクロポーラスめっき液として実施例16~19で調製したマイクロポーラスめっき液を用いる以外は試験例2と同様にしてマイクロポーラスめっき製品を製造した。微孔数(個/cm2)も試験例と同様にして測定した。なお、この試験例では微孔数を測定する評価面を、図5に示すベントカソードテストピースの棚上、垂直面、棚下とした。また、実施例16~19の微孔数の最大から最少を引いた値をレンジ幅とした。これらの結果を表7に示す。
Claims (8)
- 非導電性粒子とポリ塩化アルミニウムを含有し、
非導電性粒子がケイ素、バリウム、ジルコニウム、アルミニウム、チタンの酸化物、窒化物、硫化物および無機塩から選ばれる1種以上であり、
非導電性粒子の平均粒子径が0.1~10μmであり、
ポリ塩化アルミニウムの塩基度が50~65であり、
ポリ塩化アルミニウムの含有量が0.06~50.0wt%である、
ことを特徴とするマイクロポーラス電解ニッケルめっき液。 - 非導電性粒子の含有量が0.01~10wt%である請求項1記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液。
- 更に界面活性剤を含有するものである請求項1または2記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液。
- 更に光沢剤を含有するものである請求項1~3の何れかに記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液。
- 電解ニッケルめっき液である請求項1~4の何れかに記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液。
- 非導電性粒子が二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウムおよび硫酸バリウムから選ばれる1種以上である請求項1~5の何れかに記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液。
- 被めっき物を請求項1~6の何れかに記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液中でめっきすることを特徴とする被めっき物へのマイクロポーラス電解ニッケルめっき方法。
- 被めっき物を請求項1~6の何れかに記載のマイクロポーラス電解ニッケルめっき液中でめっきする際に、マイクロポーラスめっき液中に含有されるポリ塩化アルミニウムの塩基度を変化させることを特徴とする電解ニッケルめっきのマイクロポーラスの数の制御方法。
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