JP7463963B2 - 光学部材、その製造方法、および光学部材用硬化性組成物 - Google Patents
光学部材、その製造方法、および光学部材用硬化性組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7463963B2 JP7463963B2 JP2020536369A JP2020536369A JP7463963B2 JP 7463963 B2 JP7463963 B2 JP 7463963B2 JP 2020536369 A JP2020536369 A JP 2020536369A JP 2020536369 A JP2020536369 A JP 2020536369A JP 7463963 B2 JP7463963 B2 JP 7463963B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- curable composition
- meth
- mass
- monomer
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 122
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 82
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 33
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 122
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 121
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 82
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 76
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 claims description 76
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 51
- -1 (3-ethyloxetan-3-yl)methyl Chemical group 0.000 claims description 49
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 49
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 40
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 19
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 12
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 8
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 4
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 4
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical group CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- XHFLOLLMZOTPSM-UHFFFAOYSA-M sodium;hydrogen carbonate;hydrate Chemical class [OH-].[Na+].OC(O)=O XHFLOLLMZOTPSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- JFZKOODUSFUFIZ-UHFFFAOYSA-N trifluoro phosphate Chemical compound FOP(=O)(OF)OF JFZKOODUSFUFIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005739 1,1,2,2-tetrafluoroethanediyl group Chemical group FC(F)([*:1])C(F)(F)[*:2] 0.000 description 2
- NSKCTPBWPZPFHW-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluorodecane-1,10-diol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CO NSKCTPBWPZPFHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZJPYETUABEQFI-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluorooctane-1,8-diol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CO XZJPYETUABEQFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBRHKXSUGNZOLP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-isocyanatoethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCN=C=O DBRHKXSUGNZOLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptopropanoic acid Chemical compound CC(S)C(O)=O PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F CDXFIRXEAJABAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHLSSLVZXJBVHE-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylpropan-1-ol Chemical compound OCCCS SHLSSLVZXJBVHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)butan-1-ol Chemical compound OCCCCOCC1CO1 CYCBPQPFMHUATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N L-Cysteine Chemical compound SC[C@H](N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N diazo(sulfonyl)methane Chemical compound [N-]=[N+]=C=S(=O)=O CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011043 treated quartz Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LBDSQNRQXIKAGX-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)COC(=O)C=C LBDSQNRQXIKAGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(CC)COC1 RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZDQKBZKFIWSNW-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 JZDQKBZKFIWSNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCOCMILJXXUEHU-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-diphenylsulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RCOCMILJXXUEHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 1-[diazo-(4-methylphenyl)sulfonylmethyl]sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GYQQFWWMZYBCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxyethane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)OC1=CC=CC=C1 NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutyl-6-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(C)C(O)=C1CCCC SPSPIUSUWPLVKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFAXPOVKNPTBTM-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(sulfanylmethyl)cyclopropyl]acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1(CS)CC1 VFAXPOVKNPTBTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 2-[tert-butylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonyl-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C(C)(C)C SAFWZKVQMVOANB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCC(CO)(CO)CO RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHRDCHHESNJQIS-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-sulfanylpropanoic acid Chemical compound SCC(C)C(O)=O MHRDCHHESNJQIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- ZIFLDVXQTMSDJE-UHFFFAOYSA-N 3-[[dimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]silyl]oxy-dimethylsilyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C ZIFLDVXQTMSDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSFDFESMVAIVKO-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S)=C1 RSFDFESMVAIVKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S)C=C1 LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGZAJZLUKVKCBM-UHFFFAOYSA-N 6-sulfanylhexan-1-ol Chemical compound OCCCCCCS UGZAJZLUKVKCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004201 L-cysteine Substances 0.000 description 1
- 235000013878 L-cysteine Nutrition 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N [(1S,6R)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CC[C@H]2O[C@H]2C1 FYYIUODUDSPAJQ-XVBQNVSMSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-BREBYQMCSA-N [(1r,3r,4r)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] prop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C=C)C[C@@H]1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-BREBYQMCSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N [benzenesulfonyl(diazo)methyl]sulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFKJMDYQKVPGNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N [cyclohexylsulfonyl(diazo)methyl]sulfonylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1S(=O)(=O)C(=[N+]=[N-])S(=O)(=O)C1CCCCC1 GLGXSTXZLFQYKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N dimercaprol Chemical compound OCC(S)CS WQABCVAJNWAXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioyl n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound CN(C)C(=S)SC(=S)N(C)C REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- LSSYNNOILRNWCJ-UHFFFAOYSA-N diphenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)sulfanium Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LSSYNNOILRNWCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WUDNUHPRLBTKOJ-UHFFFAOYSA-N ethyl isocyanate Chemical compound CCN=C=O WUDNUHPRLBTKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N fluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 GNBHRKFJIUUOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl Chemical compound O[CH2] CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical group 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group [CH2]CC[Si](OC)(OC)OC QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/22—Esters containing halogen
- C08F220/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/02—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/10—Esters; Ether-esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
- C08L63/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
光学部材用材料として用いられる硬化性組成物には、硬化物と基材(ガラス、石英ガラス等)との密着性に優れることが求められる場合がある。また、光学部材用材料として用いられる硬化性組成物には、硬化物と、インプリント法、注型成形法等に用いたモールドとの離型性に優れることが求められる。
(1)フッ素原子を含まないモノマーを50~98質量%、含フッ素モノマーを0.1~45質量%、及び含フッ素ポリマーを0.1超~20質量%、ならびに光重合開始剤を1~10質量%含む光硬化性組成物(特許文献1)。
(2)(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物を主成分とし、特定の含フッ素(メタ)アクリレートに由来する単位と、特定のポリ(オキシアルキレン)鎖を有する(メタ)アクリレートに由来する単位と、特定の脂肪族炭化水素基を有する(メタ)アクリレートに由来する単位とを有するコポリマーを含む光硬化性組成物(特許文献2)。
本発明は、透明性及びアッベ数が高く、硬化物と基材との密着性及び硬化物とモールドとの離型性に優れる光学部材、およびその製造方法、ならびに透明性及びアッベ数が高く、基材との密着性及びモールドとの離型性に優れる硬化物を形成できる光学部材用硬化性組成物を提供する。
酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位aを有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤とを含み、前記含フッ素ポリマーの割合が硬化性組成物の100質量%のうち11質量%以上である硬化性組成物を硬化した硬化物を含む、光学部材。
酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位aを有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤とを含み、前記含フッ素ポリマーの割合が光学部材用硬化性組成物の100質量%のうち11質量%以上である、光学部材用硬化性組成物。
基材と、前記基材の表面に設けられた硬化物の層とを有する光学部材を製造する方法であり、モールドと前記基材との間に、前記光学部材用硬化性組成物を挟持し、前記光学部材用硬化性組成物を硬化させて前記硬化物の層を形成し、前記硬化物の層と前記モールドとを分離する、光学部材の製造方法。
本発明の光学部材の製造方法によれば、透明性及びアッベ数が高く、硬化物と基材との密着性及び硬化物とモールドとの離型性に優れる光学部材を製造できる。
本発明の光学部材用硬化性組成物によれば、透明性及びアッベ数が高く、基材との密着性及びモールドとの離型性に優れる硬化物を形成できる。
「モノマー」とは、ポリマーの構成単位となり得る化合物を意味する。モノマーとしては、エチレン性二重結合を有する化合物、エチレン性二重結合と反応し得る基(チオール基等)を有する化合物が挙げられる。
「単位」とは、モノマーに由来する原子団を意味する。単位は、モノマーの重合によって直接形成された原子団であってもよく、ポリマーを処理することによって前記原子団の一部が別の構造に変換された原子団であってもよい。
「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの総称であり、「(メタ)アクリロイルオキシ」は、アクリロイルオキシ及びメタクリロイルオキシの総称であり、「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の総称であり、「(メタ)アクリルアミド」は、アクリルアミド及びメタクリルアミド酸の総称である。
「光」は、紫外線、可視光線、赤外線、電子線及び放射線の総称である。
硬化物の・・・nmの光の透過率=T1×(1-r)2 ・・・式II
ただし、T1は、硬化物の厚さ1mmあたりの波長400nmの光の内部透過率(%)であり、下式IIIから求める。r={(n-1)/(n+1)}2であり、nは、硬化物の25℃における波長400nmの光に対する屈折率である。
T1=(TY/100)1/Y×100 ・・・式III
ただし、Yは、硬化物の厚さ(mm)であり、TYは、硬化物の厚さYmmあたりの波長400nmの光の内部透過率(%)であり、下式IVから求める。
(厚さYmmの硬化物の波長400nmの光の透過率)/(1-r)2・・・式IV
「硬化物のアッベ数νD」は、下式Vから求められる。
νD=(nD-1)/(nF-nC) ・・・式V
ただし、式V中、nDは、硬化物の25℃における波長589nmの光に対する屈折率であり、nFは、硬化物の25℃における波長486nmの光に対する屈折率であり、nCは、硬化物の25℃における波長656nmの光に対する屈折率である。
数値範囲を表す「~」は、特段の定めがない限り、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含むことを示す。また、単位を有する場合は、簡潔化のため、
下限値の単位を省略する場合がある。
図1、図2は模式図であり、寸法比は、便宜上、実際のものとは異なるものである。
本発明の光学部材用硬化性組成物(以下、硬化性組成物とも記す。)は、特定の含フッ素ポリマー(以下、含フッ素ポリマーAとも記す。)と光酸発生剤とを含む。硬化性組成物は、硬化性モノマーをさらに含んでもよい。硬化性組成物は、光ラジカル重合開始剤をさらに含んでもよい。硬化性組成物は、必要に応じて他の成分を含んでもよい。
特に、厚さ3mm以上の硬化物の層を形成する場合、基材から硬化性組成物が流れ出ないように粘度が高い方が望ましく、硬化性組成物の粘度は、1.0Pa・s以上が好ましく、2.0Pa・s以上がより好ましい。厚さ3mm以上の硬化物の層を形成する場合、特別な操作を行うことなく、硬化性組成物をモールドに容易に接触させることができるため、硬化性組成物の粘度は、1.0~15Pa・sの範囲が好ましい。
含フッ素ポリマーAは、特定の単位aを有する。含フッ素ポリマーAは、特定の単位b及び特定の単位cのいずれか一方又は両方をさらに有することが好ましい。含フッ素ポリマーAは、必要に応じて単位a、単位b及び単位c以外の単位dをさらに有していてもよい。
含フッ素ポリマーAが単位aを有することによって、含フッ素ポリマーAを含む硬化物が、基材との密着性を発揮できる。
すなわち、露光によって光酸発生剤から発生した酸によって、単位aにおける酸素原子を有するカチオン重合性反応基と、基材の表面の反応性基(水酸基等)とが反応し、含フッ素ポリマーAを含む硬化物とモールド基材とが化学的に結合する。
環状エーテルとしては、エポキシ基、オキセタン基、3,4-エポキシシクロヘキシル基等が挙げられる。ビニルエーテルとしては、ビニルオキシ基等が挙げられる。アリルエーテルとしては、アリルオキシ基等が挙げられる。
モノマーm1としては、グリシジル(メタ)アクリレート、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。モノマーm1は、1種を単独でも2種以上を併用してもよい。
CH2=C(R1)C(O)OR2Rf ・・・式I
R2としては、モノマーm2の入手のしやすさの点から、アルキレン基が好ましく、炭素数1~3のアルキレン基がより好ましい。
Rfとしては、離型性の点から、炭素数2~6のペルフルオロアルキル基又は炭素数2~6のペルフルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。Rfの炭素数は、離型性の点から、4~6が好ましく、6が特に好ましく、環境負荷を抑える点から、6以下である。Rfが有するエーテル性酸素原子の数は、1であってもよく、複数であってもよい。
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)2F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)3F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)4F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)5F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)6F、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF(CF3)OCF2CF2CF3、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF3、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF2CF3、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF3、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)2F、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)3F、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)5F、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)6F、
CH2=CHC(O)OCH2CF(CF3)OCF2CF2CF3、
CH2=CHC(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF3、
CH2=CHC(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF2CF3、
CH2=CHC(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF3、
CH2=C(Cl)C(O)O(CH2)2(CF2)2F、
CH2=C(Cl)C(O)O(CH2)2(CF2)3F、
CH2=C(Cl)C(O)O(CH2)2(CF2)4F、
CH2=C(Cl)C(O)O(CH2)2(CF2)5F、
CH2=C(Cl)C(O)O(CH2)2(CF2)6F等。
モノマーm2は、1種を単独でも用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
含フッ素ポリマーAが単位cを有することによって、含フッ素ポリマーAを含む硬化性組成物の硬化性が良くなる。
単位cは、例えば、第1の反応性基を有するモノマーm3に由来する単位c’に、第1の反応性基と反応し得る第2の反応性基及びエチレン性二重結合を有するモノマーXを反応させることによって形成できる。
第1の反応性基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。
第2の反応性基としては、イソシアネート基、カルボキシル基、酸クロライド基等が挙げられる。
水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
水酸基及びエチレン性二重結合を有する化合物としては、N-(ヒドロキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
カルボキシル基及びエチレン性二重結合を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸、6-アクリルアミドヘキサン酸等が挙げられる。
水酸基及びチオール基を有する化合物としては、2-メルカプトエタノール、3-メルカプト-1-プロパノール、α-チオグリセロール、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール、6-メルカプト-1-ヘキサノール等が挙げられる。
カルボキシル基及びチオール基を有する化合物としては、チオグリコール酸、チオ乳酸、チオりんご酸、3-メルカプトイソ酪酸、1-(メルカプトメチル)シクロプロパン酢酸、3-メルカプト安息香酸、4-メルカプト安息香酸等が挙げられる。
アミノ基及びエチレン性二重結合を有する化合物としては、(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
チオール基、アミノ基及びカルボキシル基を有する化合物としては、L-システイン等が挙げられる。
モノマーm3は、1種を単独でも用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
イソシアネート基を有する(メタ)アクリレートとしては、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズMOI(商品名))、アクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズAOI(商品名))、1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズMOI-BEI(商品名))、メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズMOI-EG(商品名))等が挙げられる。
酸クロライド基を有するモノマーとしては、アクリロイルクロライド、メタクリロイルクロライド等が挙げられる。
モノマーXは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
単位dとしては、モノマーm1及びモノマーm2以外のモノマーm4に由来する構成単位が挙げられる。
モノマーm4は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
含フッ素ポリマーAの全単位中の単位bの割合は、含フッ素ポリマーAのフッ素含有率が前記範囲内となるように適宜調整する。
含フッ素ポリマーAにおける各単位の割合は、例えば、含フッ素ポリマーAを製造する際に用いた各モノマーの質量比から求めることができる。
含フッ素ポリマーAは、溶液重合法、バルク重合法、乳化重合法等の公知の重合法によって製造できる。重合法としては、溶液重合法が好ましい。
光酸発生剤は、光を照射することによって酸を発生する化合物であればよい。
光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、スルホニルジアゾメタン等が挙げられる。
トリアリールスルホニウム塩又はジアリールヨードニウム塩のカチオン部分の具体例としては、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル-4-メチルフェニルスルホニウム、トリス(4-メチルフェニル)スルホニウム、ジフェニル-2,4,6-トリメチルフェニルスルホニウム、ジフェニルヨードニウム、4-イソプロピル-4’-メチルジフェニルヨードニウム、4-メチル-4’-メチルプロピルジフェニルヨードニウム、ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウム、4-メトキシフェニルフェニルヨードニウム等が挙げられる。
硬化性モノマーは、エチレン性二重結合を1つ以上有する化合物である。
硬化性組成物が硬化性モノマーを含むことによって、硬化性組成物の硬化性が良くなる。
硬化性モノマーは、硬化性組成物を硬化した硬化物が、モールドとの離型性を充分に発揮できる点、及び硬化性モノマーと含フッ素ポリマーAとの相溶性がよくなる点から、含フッ素モノマーを含むことが好ましい。硬化性モノマーは、フッ素原子を有さない非フッ素系モノマーを含んでいてもよい。
CH2=CHC(O)OCH(CF3)2、
CH2=C(CH3)C(O)OCH(CF3)2、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)4F、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)5F、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)6F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)4F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)5F、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)6F、
CH2=CHC(O)OCH2(CF2)6F、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2(CF2)6F、
CH2=CHC(O)OCH2CF2CF2H、
CH2=CHC(O)OCH2(CF2CF2)2H、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2CF2H、
CH2=CHC(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF3、
CH2=CHC(O)OCH2CF2O(CF2CF2O)3CF3、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2OCF2CF2OCF3、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2O(CF2CF2O)3CF3、
CH2=CHC(O)OCH2CF(CF3)OCF2CF(CF3)O(CF2)3F、
CH2=CHC(O)OCH2CF(CF3)O(CF2CF(CF3)O)2(CF2)3F、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF(CF3)OCF2CF(CF3)O(CF2)3F、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF(CF3)O(CF2CF(CF3)O)2(CF2)3F、
CH2=CHC(O)OCH2CH(OH)CH2CF2CF2CF(CF3)2、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CH(OH)CH2CF2CF2CF(CF3)2、
CH2=CHC(O)OCH2CF2(OCF2CF2)pOCF2CH2OC(O)CH=CH2(ただし、pは1~20の整数である。)、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2CF2(OCF2CF2)pOCF2CH2OC(O)C(CH3)=CH2(ただし、pは1~20の整数である。)、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2(CF2)4CH2OC(O)C(CH3)=CH2、
CH2=CHC(O)OCH2(CF2)6CH2OC(O)CH=CH2、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2(CF2)6CH2OC(O)C(CH3)=CH2、
CH2=CHC(O)OCH2(CF2)8CH2OC(O)CH=CH2、
CH2=C(CH3)C(O)OCH2(CF2)8CH2OC(O)C(CH3)=CH2、
CH2=CHC(O)O(CH2)2(CF2)6(CH2)2OC(O)CH=CH2、
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)6(CH2)2OC(O)C(CH3)=CH2等。
含フッ素モノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、4-tert-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3-(トリメトキシシリル)プロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2-(tert-ブチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシピロピル(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-ナフチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(4-ベンゾイル-3-ヒドロキシフェノキシ)エチル(メタ)アクリレート、9-アントラセニル(メタ)アクリレート、フルオレセインo-(メタ)アクリレート、2-(9H-カルバゾール-9-イル)エチル(メタ)アクリレート、ジルコニウム(メタ)アクリレート、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート(エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等)、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート(ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等)、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセロール1,3-ジグリセロレートジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールエトキシレートジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールプロポキシレートジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピオネートジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートジ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールグリセロレートジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールグリセロレートジ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、1,3-ビス(3-メタクリロイロキシプロピル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアリル酸、トリメチロールプロパンエトキシレートメチルエーテルジ(メタ)アクリレート、ペンタリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、各種ウレタンアクリレート等。
非フッ素系モノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
一方、硬化性モノマーが非フッ素系モノマーのみの場合、硬化性モノマーと含フッ素ポリマーAとの相溶性が悪い。そのため、含フッ素ポリマーAの割合を増やすことができない(10質量%以下にする必要がある)。そのため、硬化性モノマーが非フッ素系モノマーのみの場合、硬化物と基材との密着性及び硬化物とモールドとの離型性ともに不充分である。
光ラジカル重合開始剤としては、光を吸収することによってラジカルを発生する化合物である。硬化性組成物が光ラジカル重合開始剤を含むことによって、光照射により容易に硬化物を与える。
光ラジカル重合開始剤としては、アルキルフェノン系、アシルホスフィンオキシド系、チタノセン系、オキシムエステル系、オキシフェニル酢酸エステル系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系又はチオキサントン系の光重合開始剤、ベンジル-(o-エトキシカルボニル)-α-モノオキシム、グリオキシエステル、3-ケトクマリン、2-エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、tert-ブチルペルオキシピバレート等が挙げられる。感度及び相溶性の点から、アルキルフェノン系、アシルホスフィンオキシド系、ベンゾイン系又はベンゾフェノン系の光重合開始剤が好ましい。
光ラジカル重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
他の成分としては、界面活性剤、酸化防止剤(耐熱安定剤)、チクソトロピック剤、消泡剤、耐光安定剤、ゲル化防止剤、光増感剤、樹脂、樹脂オリゴマー、炭素化合物、金属微粒子、金属酸化物粒子、シランカップリング剤、他の有機化合物等が挙げられる。
硬化性組成物は、溶剤を含んでいてもよい。ただし、硬化性組成物を硬化する前には、溶剤を除去することが好ましい。
溶剤としては、含フッ素ポリマーA、光酸発生剤、硬化性モノマー、光ラジカル重合開始剤を溶解可能な溶剤であればいずれも用いることができる。なかでも、エステル構造、ケトン構造、水酸基、エーテル構造のいずれか1つ以上を有する溶剤が好ましい。
溶剤を用いる場合、硬化性組成物中の溶剤の含有量は、目的の粘度、塗布性、目的とする膜厚等によって適宜調整すればよい。
含フッ素ポリマーAの割合は、硬化性組成物(溶剤を除く。)の100質量%のうち、11質量%以上である。含フッ素ポリマーAの割合が11質量%以上、好ましくは15質量%以上、さらに好ましくは19質量%以上であれば、基材との密着性及びモールドとの離型性に優れる硬化物を形成できる。含フッ素ポリマーAの割合が99質量%以下、好ましくは94質量%以下、さらに好ましくは89質量%以下であれば、含フッ素ポリマーA以外の成分との相溶性が良く、また含フッ素ポリマーA以外の成分による効果を損ないにくい。
また、本発明の光学部材用硬化性組成物にあっては、フッ素原子を有する含フッ素ポリマーAを11質量%以上含むため、モールドとの離型性に優れる硬化物を形成できる。
また、本発明の光学部材用硬化性組成物にあっては、酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位aを有する含フッ素ポリマーAを含むため、含フッ素ポリマーAと含フッ素ポリマーA以外の成分との相溶性がよい。その結果、透明性が高い硬化物を形成できる。
また、本発明の光学部材用硬化性組成物にあっては、フッ素原子を有する含フッ素ポリマーAを11質量%以上含むため、アッベ数が高い硬化物を形成できる。
本発明の光学部材は、本発明の光学部材用硬化性組成物を硬化した硬化物を含む。本発明の光学部材は、基材と、基材の表面に設けられた硬化物層とを有するものでもよい。
図1は、本発明の光学部材の一例を示す模式断面図である。光学部材40は、基材30と、基材30の表面に最表層として設けられた、微細パターン44を表面に有する硬化物層42とを有する。
基材としては、無機材料製基材又は有機材料製基材が挙げられる。
無機材料としては、ガラス(強化されたガラス、結晶化ガラス、石英ガラスも含む。)、シリコンウェハ、金属(アルミニウム、ニッケル、銅等)、金属酸化物(サファイア、酸化インジウムスズ(ITO)等)、窒化珪素、窒化アルミニウム、ニオブ酸リチウム等が挙げられる。有機材料としては、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート等)、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ナイロン樹脂、ポリフェニレンサルファイド、トリアセチルセルロース、環状ポリオレフィン等が挙げられる。
基材としては、透明性、表面平坦性及び光学的等方性の点から、ガラスが好ましく、硬化物の層との密着性に優れる点から、表面処理された基材を用いてもよい。表面処理としては、UVオゾン処理、プラズマエッチング処理等が挙げられる。
硬化物層は、硬化性組成物を硬化した硬化物の層である。
硬化物層は、複数の凸部及び複数の凹部のいずれか一方又は両方を有する微細パターンを表面に有してもよい。微細パターンは、後述するモールドの微細パターンに対応した反転パターンである。
凸部としては、硬化物層の表面に延在する長尺の凸条、表面に点在する突起等が挙げられる。凹部としては、硬化物層の表面に延在する長尺の溝、表面に点在する孔等が挙げられる。
凸条又は溝の、長手方向に直交する方向の断面形状としては、長方形、台形、三角形、半円形等が挙げられる。
突起又は孔の形状としては、三角柱、四角柱、六角柱、円柱、三角錐、四角錐、六角錐、円錐、半球、多面体等が挙げられる。
微細パターンが密集している領域において、隣接する凸部(又は凹部)間のピッチ(中心間距離)は、1nm~500μmが好ましく、10nm~100μmがより好ましく、15nm~10μmがさらに好ましい。
硬化物のアッベ数は、54以上が好ましく、56以上がより好ましく、58以上がさらに好ましい。アッベ数が前記範囲の下限値以上であれば、色収差が発生しにくい。アッベ数は高ければ高いほどよく、上限は特に限定されないが、有機物であることを考慮すると70程度である。
硬化物の波長589nmの光に対する屈折率は、1.45以上が好ましく、1.48~1.53がより好ましい。屈折率が前記範囲内であれば、ガラス等の基材と組み合せた場合であってもフレネル反射が起こりにくく、透過率の損失が少ない。
本発明の光学部材の製造方法は、例えば、下記の工程(a)~(c)を有する。
工程(a):図2に示すように、微細パターン12を表面に有するモールド10と基材30との間に、モールド10の微細パターン12が硬化性組成物20に接するように、硬化性組成物20を挟持する工程。
工程(b):硬化性組成物20を硬化させて硬化物層を形成する工程。
工程(c):硬化物層とモールドとを分離する工程。
モールドは、表面に微細パターンを有してもよい。微細パターンは、光学部材の微細パターンに対応した反転パターンである。
モールドとしては、微細パターンを表面に有するマスターモールドを用いたインプリント法によって、微細パターンの反転パターンが表面に転写された硬化物の層を有するレプリカモールドを用いてもよい。
非透光材料製モールドとしては、シリコンウェハ、ニッケル、銅、ステンレス、チタン、SiC、マイカ等が挙げられる。
透光材料製モールドとしては、石英ガラス等のガラス、ポリジメチルシロキサン、環状ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、透明フッ素樹脂等が挙げられる。透光材料製モールドは、複数の材料から構成されてもよい。
基材及びモールドのうち少なくとも一方は、光酸発生剤及び光ラジカル重合開始剤が作用する波長の光を40%以上透過する材料であることが好ましい。
基材の表面に硬化性組成物を配置する方法としては、インクジェット法、ポッティング法(ディスペンス法)、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ダイコート法、ラングミュラープロジェット法、真空蒸着法等が挙げられる。
硬化性組成物は、基材の表面の全体に配置してもよく、基材の表面の一部に配置してもよい。
モールドを硬化性組成物に押しつける際の温度は、0~110℃が好ましく、10~80℃がより好ましい。
工程(a)においては、アライメントマークによってモールドと基材との位置調整を行ってもよい。
硬化性組成物に光を照射して硬化性組成物を硬化させる。
光を照射する方法としては、透光材料製モールドを用いてモールド側から光照射する方法、透光材料製基材を用いて基材側から光照射する方法、モールド及び基材の隙間から光照射する方法が挙げられる。光の波長は、200~500nmが好ましい。光を照射する際には、硬化性組成物を加熱して硬化を促進してもよい。
光を照射する際の温度は、0~110℃が好ましく、10~80℃がより好ましい。
(工程(c))
硬化物層とモールドとを分離する際の温度は、0~110℃が好ましく、10~80℃がより好ましい。
(ポリマーの質量平均分子量:Mw)
下記装置を用い、下記条件にて測定して求めた。
GPCシステム:HLC-8220GPC(東ソー社製)、
カラム:TSK guard Column Super MZ-L、TSK gel HZ4000、TSK gel HZ3000、TSK gel HZ2500、TSK gel HZ2000(この順に連結して使用した)、
カラムオーブン温度:40℃、
溶媒:テトラヒドロフラン、流量:0.35mL/分、標準サンプル:ポリスチレン。
硬化性組成物の粘度は、動的粘弾性測定装置(Anton Paar社製、Physica MCR301)を用いて、10s-1の剪断速度における動的粘弾性を25℃で測定して求めた。
トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業社製、NKエステルA-DCP)の100質量部に、光ラジカル重合開始剤(BASFジャパン社製、Irgacure(商品名)1173)の3質量部を添加してレプリカモールド用材料を調製した。
離型処理を施した石英ガラス基板(マスターモールドに相当)の表面にレプリカモールド用材料を塗布し、レプリカモールド用材料が塗布されていない部分に厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムをスペーサーとして設置した。硬化物との密着性を向上させるためにプライマー処理したスライドガラス基板(モールド基材に相当)をレプリカモールド用材料の表面に重ね、スライドガラス基板側の高圧水銀ランプから紫外線を露光量:1000mJ/cm2で照射し、硬化物層を形成した後、石英ガラス基板を硬化物層から剥離した。硬化物層の表面をエタノールで洗浄し、乾燥させた後、125℃で15分間ベークすることで、表面が平坦な硬化物層(厚さ:100μm)付きのスライドガラス基板(レプリカモールドに相当)を得た。
二液混合型のエポキシ系急速硬化接着剤(ハンツマン・アドバンスト・マテリアルズ・ジャパン社製、アラルダイト(商品名)ラピッド)を介して試験体の光学部材の表面に剥離強度測定密着子(ドリー)を接合し、接合面からはみ出した余分な接着剤を掻き取り、24時間養生して試験体の光学部材とドリーとを接着させた。接着剤が固化した後、専用カッターを用いて試験体のスライドガラス基板に到達するまでドリーに沿って光学部材及び硬化物層に刃を入れ、ドリーと光学部材の硬化物との接合面が3.14cm2になるように切れ目を入れた。
良好(○):スライドガラス基板の表面に硬化物層が浮きもなく全面にわたって残存し、かつ硬化物層の表面に光学部材がまったく残存していない。
不良(×):硬化物層の表面に光学部材が一部でも残っている;スライドガラス基板の表面から硬化物層に浮きが発生した;スライドガラス基板の表面に何も残存しない;又は、スライドガラス基板が破損した。
離型処理した石英ガラス基板の表面に光学部材用硬化性組成物を塗布した。離型処理を施していないスライドガラス基板を用意し、1mmのスペーサーを介して石英ガラス基板とスライドガラス基板との間に硬化性組成物を挟み込み、高圧水銀ランプから紫外線を露光量:3000mJ/cm2で硬化性組成物に照射した。離型処理した石英ガラス基板を剥がすことによって、スライドガラス基板の表面に密着した硬化物を得た。得られた硬化物に、180℃で15分間熱処理を施し、厚さ:1mmの評価用硬化物を得た。
評価用硬化物について、紫外・可視・近赤外分光光度計(島津製作所社製、Solid Spec-3700)を用いて透過率を測定した。
屈折率測定装置(米国メトリコン社製プリズムカプラ:2010/M)を用いて、温度:25℃で、評価用硬化物の波長473nm、594nm及び658nmの光に対する屈折率を測定し、装置付属のMetricon Fitを用いて波長400nm及び589nmの光に対する屈折率を算出した。
前記屈折率測定装置付属のMetricon Fitを用いて各波長における評価用硬化物の屈折率を算出し、上式Vからアッベ数を算出した。
評価用硬化物を温度:85℃、相対湿度:85%の雰囲気下で1000時間保持する試験(耐湿熱試験)に付した。試験後の硬化物とガラス基材との密着状態を調べ、下記基準にて評価した。
良好(○):ガラス基板の表面からの硬化物の剥がれ及び浮きが発生しなかった。
不良(×):ガラス基板の表面からの硬化物の剥がれ又は浮きが発生した。
(モノマーm1)
モノマーm1-1:(3-エチルオキセタン-3-イル)メチルメタクリレート(大阪有機化学工業社製、OXE-30)。
モノマーm1-2:3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート(ダイセル社製、サイクロマーM100)。
1H-NMR(アセトン-d6、テトラメチルシラン(TMS)、300MHz):6.05(s、1H of C(CH3)=CH2)、5.59(s、1H of C(CH3)=CH2)、4.14(t、2H of CH2-O-CO)、3.68(dd、1H of O-CH2-CH(O)CH2)、3.50(q、2H of CH2-CH2-O-CH2)、3.28(dd、1H of O-CH2-CH(O)CH2)、3.05(m、1H of CH(O)CH2)、2.69(dd、1H of CH(O)CH2)、2.51(dd、1H of CH(O)CH2)、1.90(s、3H of C(CH3)=CH2)、1.70(m、4H of CH2-CH2-CH2-CH2)
モノマーm2-1:3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチルメタクリレート。
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)6F ・・・m2-1
モノマーm3-1:2―ヒドロキシエチルメタクリレート。
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2OH ・・・m3-1
モノマーm3-2:α-チオグリセロール。
HSCH2CH(OH)CH2OH ・・・m3-2
モノマーX-1:メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズMOI-EG(商品名))。
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2O(CH2)2NCO ・・・X-1
2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)。
モノマーF-1:3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチルメタクリレート((モノマーm2-1と同じ)。
CH2=C(CH3)C(O)O(CH2)2(CF2)6F ・・・F-1
1H-NMR(クロロホルム-d1、テトラメチルシラン(TMS)、300MHz):6.52(d、2H of CH=CH2)、6.17(dd、2H of CH=CH2)、5.98(d、2H of CH=CH2)、4.66(t、4H of CH2)。
1H-NMR(クロロホルム-d1、テトラメチルシラン(TMS)、300MHz):6.51(d、2H of CH=CH2)、6.16(dd、2H of CH=CH2)、5.96(d、2H of CH=CH2)、4.65(t、4H of CH2)。
モノマーM-1:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業社製、NKエステルA-DCP)。
モノマーM-2:イソボルニルアクリレート(共栄社化学社製、ライトアクリレートIB-XA)。
モノマーM-3:ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業社製、NKエステルA-200)。
トリアリールスルホニウム塩系光酸発生剤(サンアプロ社製、CPI―100P)。
2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン(BASFジャパン社製、Irgacure(商品名)1173)。
(製造例1)
含フッ素ポリマーA-1の製造:
還流冷却管、窒素導入管を備えた二つ口フラスコ中に、モノマーm1-1の11.2g、モノマーm2-1の28.9g、熱重合開始剤の0.48g及び2-ブタノン(MEK)の361gを仕込み、窒素置換した後、50℃に加熱し、24時間撹拌した。薄層クロマトグラフィ(TLC)によりモノマーが消費されていることを確認した後、70℃まで昇温し、30分間撹拌した。全量がおよそ100gになるまで濃縮した後、室温まで冷却し、得られた反応液をメタノールの1Lに加え、固体を析出させて回収した。さらに、得られた固体をMEKの15gに溶解し、メタノールの1Lに加え、再度固体を析出させて回収し、真空乾燥して含フッ素ポリマーA-1を得た。結果を表1及び表2に示す。
含フッ素ポリマーA-2の製造:
モノマーm1-1の代わりにモノマーm1-2の15.0gを用い、モノマーm2-1の量を37.0gに変更し、熱重合開始剤の量を0.60gに変更した以外は、製造例1と同様にして、含フッ素ポリマーA-2を得た。結果を表1及び表2に示す。
含フッ素ポリマーA-3の製造:
還流冷却管、窒素導入管を備えた二つ口フラスコ中に、モノマーm1-2の10.8g、モノマーm2-1の18.0g、モノマーm3-1の2.9g、モノマーm3-2の3.2g、熱重合開始剤の0.37g及びMEKの81.5gを仕込み、窒素置換した後、50℃に加熱し、24時間撹拌した。薄層クロマトグラフィ(TLC)によりモノマーが消費されていることを確認した後、70℃まで昇温し、30分間撹拌した。全量がおよそ100gになるまで濃縮した後、室温まで冷却し、得られた反応液をヘキサンの1Lに加え、粘稠体を析出させて回収した。さらに、得られた粘稠体をMEKの15gに溶解し、ヘキサンの1Lに加え、再度粘稠体を析出させて回収し、真空乾燥して含フッ素ポリマーA-3の前駆体(Mw:2,300)を得た。
含フッ素ポリマーA-4の製造:
モノマーm-1の量を8.0gに変更し、モノマーm2-1の量を32.0gに変更し、かつ熱重合開始剤の量を0.29gに変更した以外は、製造例1と同様にして、含フッ素ポリマーA-4を得た。結果を表1及び表2に示す。
含フッ素ポリマーA-5の製造:
モノマーm1-2の量を10.4gに変更し、モノマーm2-1の量を21.5gに変更し、モノマーm3-1の量を4.0gに変更し、モノマーm3-2の量を5.9gに変更し、かつ熱重合開始剤の量を0.47gに変更した以外は、製造例3と同様にして、含フッ素ポリマーA-5の前駆体(Mw:3,300)を得た。
含フッ素ポリマーA-3の前駆体の代わりに含フッ素ポリマーA-5の前駆体の32.0gを用い、DBTDLの量を5.4mgに変更し、BHTの量を150mgに変更し、モノマーX-1の量を16.9gに変更した以外は、製造例3と同様にして、含フッ素ポリマーA-5を得た。結果を表1及び表2に示す。
含フッ素ポリマーA-6の製造:
モノマーm1-1をモノマーm1-3の27.0gに変更し、モノマーm2-1の量を21.0gに変更し、かつ熱重合開始剤の量を0.43gに変更した以外は、製造例1と同様にして、含フッ素ポリマーA-6を得た。結果を表1及び表2に示す。
含フッ素ポリマーA-7の製造:
モノマーm1-2を使用せず、モノマーm2-1の量を19.0gに変更し、モノマーm3-1の量を5.7gに変更し、モノマーm3-2の量を2.7gに変更し、かつ熱重合開始剤の量を0.28gに変更した以外は、製造例3と同様にして、含フッ素ポリマーA-7の前駆体(Mw:3,400)を得た。
含フッ素ポリマーA-3の前駆体の代わりに含フッ素ポリマーA-7の前駆体の22.0gを用い、DBTDLの量を4.7mgに変更し、BHTの量を132mgに変更し、モノマーX-1の量を15.0gに変更した以外は、製造例3と同様にして、含フッ素ポリマーA-7を得た。結果を表1及び表2に示す。
表3に記載の各成分を、表3に記載の配合組成にしたがって配合し、ミックスローターで撹拌、混合することで均一で透明な硬化性組成物を得た。評価結果を表4に示す。
例10の硬化物は、その硬化用組成物のフッ素含有率が3.4質量%であるため、レプリカモールドとの離型性に劣り、剥離強度の測定の際にモールド基材が割れた。また、その硬化用組成物の含フッ素ポリマーAの含有量が10質量%以下であるため、耐湿熱試験後に剥がれが発生した。
例11、12の硬化物は、含フッ素ポリマーAの代わりに、酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有さない含フッ素ポリマーを用いたため、ガラス基材との密着性に劣り、耐湿熱試験後に剥がれが発生した。
Claims (12)
- 酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位a及び下式Iで表されるモノマーに由来する単位b(ただし、前記単位aを除く。)を有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤と、光ラジカル重合開始剤とを含み、前記含フッ素ポリマーの割合が硬化性組成物の100質量%のうち11質量%以上である硬化性組成物を硬化した硬化物を含み、前記酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位aが、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、および3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のモノマーに由来し、
前記含フッ素ポリマーはペンダント基にエチレン性二重結合を有する単位cをさらに有する、又は前記硬化性組成物は硬化性モノマーをさらに含む、光学部材。
CH2=C(R1)C(O)OR2Rf ・・・式I
ただし、R1は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、R2は、炭素数1~3のアルキレン基であり、Rfは、炭素数2~6のフルオロアルキル基、又は炭素数2~6のフルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Rfは、R2に結合する炭素原子が少なくとも1つのフッ素原子を有する。 - 前記含フッ素ポリマーのフッ素含有率が、22~75質量%である、請求項1に記載の光学部材。
- 前記硬化物が、前記含フッ素ポリマーの割合が硬化性組成物の100質量%のうち11~89質量%である硬化性組成物を硬化した硬化物である、請求項1又は2に記載の光学部材。
- 基材と、前記基材の表面に設けられた前記硬化物の層とを有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記含フッ素ポリマーが、前記単位cを有する、請求項1~4のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記硬化物のフッ素含有率が、5質量%以上である、請求項1~5のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記硬化性組成物が、前記硬化性モノマーを含み、
前記硬化性モノマーが、含フッ素モノマーを含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の光学部材。 - 前記硬化物の厚さ1mmあたりの波長400nmの光の透過率が、88%以上である、請求項1~7のいずれか一項に記載の光学部材。
- 前記硬化物のアッベ数が、54以上である、請求項1~8のいずれか一項に記載の光学部材。
- 酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位a及び下式IIで表されるモノマーに由来する単位b(ただし、前記単位aを除く。)を有する含フッ素ポリマーと、光酸発生剤と、光ラジカル重合開始剤とを含み、前記含フッ素ポリマーの割合が光学部材用硬化性組成物の100質量%のうち11質量%以上であり、前記酸素原子を有するカチオン重合性反応基を有する単位aが、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、および3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のモノマーに由来し、
前記含フッ素ポリマーはペンダント基にエチレン性二重結合を有する単位cをさらに有する、又は前記光学部材用硬化性組成物は硬化性モノマーをさらに含む、光学部材用硬化性組成物。
CH2=C(R1)C(O)OR2Rf ・・・式II
ただし、R1は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子であり、R2は、炭素数1~3のアルキレン基であり、Rfは、炭素数2~6のフルオロアルキル基、又は炭素数2~6のフルオロアルキル基の炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Rfは、R2に結合する炭素原子が少なくとも1つのフッ素原子を有する。 - 前記光学部材用硬化性組成物のフッ素含有率が、5質量%以上である、請求項10に記載の光学部材用硬化性組成物。
- 基材と、前記基材の表面に設けられた硬化物の層とを有する光学部材を製造する方法であり、
モールドと前記基材との間に、請求項10又は11に記載の光学部材用硬化性組成物を挟持し、前記光学部材用硬化性組成物を硬化させて前記硬化物の層を形成し、前記硬化物の層と前記モールドとを分離する、光学部材の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018149650 | 2018-08-08 | ||
JP2018149650 | 2018-08-08 | ||
PCT/JP2019/024779 WO2020031524A1 (ja) | 2018-08-08 | 2019-06-21 | 光学部材、その製造方法、および光学部材用硬化性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020031524A1 JPWO2020031524A1 (ja) | 2021-09-02 |
JP7463963B2 true JP7463963B2 (ja) | 2024-04-09 |
Family
ID=69413464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020536369A Active JP7463963B2 (ja) | 2018-08-08 | 2019-06-21 | 光学部材、その製造方法、および光学部材用硬化性組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7463963B2 (ja) |
CN (1) | CN112533974A (ja) |
WO (1) | WO2020031524A1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000109694A (ja) | 1998-08-04 | 2000-04-18 | Jsr Corp | 光硬化性樹脂組成物および硬化膜 |
JP2003026774A (ja) | 2001-07-18 | 2003-01-29 | Ube Ind Ltd | 熱硬化性組成物 |
JP2008287251A (ja) | 2007-04-18 | 2008-11-27 | Daikin Ind Ltd | 撥液レジスト組成物 |
WO2013154112A1 (ja) | 2012-04-10 | 2013-10-17 | ダイキン工業株式会社 | インプリント用樹脂モールド材料組成物 |
JP2015072455A (ja) | 2013-09-04 | 2015-04-16 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、重合体組成物、硬化膜、その形成方法、及び電子デバイス |
WO2017082307A1 (ja) | 2015-11-10 | 2017-05-18 | 旭硝子株式会社 | 蛍光分析バイオチップ用感光性組成物、蛍光分析バイオチップの製造方法および蛍光分析バイオチップ |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01158402A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | プラスチッククラッド光ファイバーとクラッド材料 |
JPH05302058A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Asahi Glass Co Ltd | 紫外線硬化性組成物 |
-
2019
- 2019-06-21 JP JP2020536369A patent/JP7463963B2/ja active Active
- 2019-06-21 WO PCT/JP2019/024779 patent/WO2020031524A1/ja active Application Filing
- 2019-06-21 CN CN201980051958.4A patent/CN112533974A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000109694A (ja) | 1998-08-04 | 2000-04-18 | Jsr Corp | 光硬化性樹脂組成物および硬化膜 |
JP2003026774A (ja) | 2001-07-18 | 2003-01-29 | Ube Ind Ltd | 熱硬化性組成物 |
JP2008287251A (ja) | 2007-04-18 | 2008-11-27 | Daikin Ind Ltd | 撥液レジスト組成物 |
WO2013154112A1 (ja) | 2012-04-10 | 2013-10-17 | ダイキン工業株式会社 | インプリント用樹脂モールド材料組成物 |
JP2015072455A (ja) | 2013-09-04 | 2015-04-16 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、重合体組成物、硬化膜、その形成方法、及び電子デバイス |
WO2017082307A1 (ja) | 2015-11-10 | 2017-05-18 | 旭硝子株式会社 | 蛍光分析バイオチップ用感光性組成物、蛍光分析バイオチップの製造方法および蛍光分析バイオチップ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2020031524A1 (ja) | 2021-09-02 |
CN112533974A (zh) | 2021-03-19 |
WO2020031524A1 (ja) | 2020-02-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5617632B2 (ja) | 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 | |
JP5286784B2 (ja) | 光硬化性組成物、微細パターン形成体およびその製造方法 | |
JP5315263B2 (ja) | 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 | |
JP4904742B2 (ja) | パターンの形成方法およびパターンを有する物品 | |
US20130049255A1 (en) | Resin mold | |
EP2023169A1 (en) | Wire grid polarizer and method for producing the same | |
TWI488910B (zh) | 光硬化性樹脂組成物、使用其的光學膜的製造方法及含有其的光學膜 | |
US8207242B2 (en) | Process for producing photocurable material, photocurable material and article | |
JP5647829B2 (ja) | 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 | |
JP2007001250A (ja) | 微細パターン形成体の製造方法 | |
US10457756B2 (en) | Fluorinated compound, curable composition and cured product | |
WO2012017530A1 (ja) | 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 | |
JP7463963B2 (ja) | 光学部材、その製造方法、および光学部材用硬化性組成物 | |
JP2014073610A (ja) | 保護部材付き成形体 | |
JP2011016351A (ja) | 子モールドの製造方法および物品の製造方法 | |
JP6881567B2 (ja) | インプリント用硬化性組成物、レプリカモールドおよびその製造方法 | |
TW201207034A (en) | Photocurable composition and production method for formed body having fine pattern on surface | |
JP2011012163A (ja) | 光硬化性材料の製造方法、光硬化性材料および物品 | |
WO2016143565A1 (ja) | 積層体の製造方法、積層体および光硬化性組成物 | |
WO2017090537A1 (ja) | 硬化性組成物および硬化物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230411 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230608 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231205 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20231213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240311 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7463963 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |