JP7454928B2 - 真空ポンプ及び真空ポンプに用いられる電磁石ユニット - Google Patents

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Description

本発明は、真空ポンプ及び真空ポンプに用いられる電磁石ユニットに関するものである。
メモリや集積回路等の半導体装置の製造において、絶縁膜、金属膜、半導体膜等の成膜を行う処理やエッチングを行う処理は、空気中の塵等による影響を避けるために高真空状態のプロセスチャンバ内で行われる。プロセスチャンバ内の排気には、例えばターボ分子ポンプ等の真空ポンプが使用されている。
このような真空ポンプとしては、外部から気体を吸入する吸気口と吸入された気体を外部に排気する排気口を有するケーシング内に、軸方向に交互に多段配列したブレード及び固定翼を有するターボ分子機構を配置したものが知られている。
また、真空ポンプは、各種センサの検出したブレードを設けた回転軸の変位に基づいて、回転軸の位置制御を行う電磁石ユニットを備えている。電磁石ユニットは、回転軸の変位検出を行う変位センサが外部ノイズの干渉を受けると、回転軸の変位検出を正常に行えない。
そこで、このようなノイズを低減するために、ノイズの発生源と変位センサとを離して設けたり、特許文献１に開示されるようなシールドを設けている。このシールドは、ラジアル電磁石とラジアル方向用変位センサとの間、及び高周波モータとラジアル方向用変位センサとの間のうち、少なくとも何れか一方の間に介在され、ラジアル方向用センサに係るラジアル電磁石または高周波モータの磁界及び電界を遮断する。
実開平４－１４８１５号公報
しかしながら、ノイズの発生源と変位センサとを離して設ける場合、組立精度のバラつきを考慮して、ノイズの影響を受けにくい離間距離を余分に確保する必要があった。
また、上述したようなシールドを備えた真空ポンプでは、ラジアル電磁石または高周波モータの磁界及び電界を遮断するシールドを介装させる分だけ、真空ポンプが軸方向に大型化するという問題があった。
そこで、変位センサがノイズの影響を受けることを抑制すると共に、電磁石ユニットを省スペースで設けるために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明に係る真空ポンプは、回転軸の位置制御を行う電磁石ユニットを備えた真空ポンプであって、前記電磁石ユニットは、前記回転軸の位置を検出する変位センサと、前記回転軸を所定の位置に制御する電磁石と、前記変位センサと前記電磁石との間に介設され、対応する２つの前記変位センサのコイル同士を結線するセンサ用配線パターン及び対応する２つの前記電磁石のコイル同士を結線する電磁石用配線パターンが設けられたプリント基板と、を備え、前記センサ用配線パターン及び前記電磁石用配線パターンは、前記回転軸の軸方向から視て重ならないように配置され、前記センサ用配線パターンは、前記プリント基板の一面側に配置され、前記電磁石用配線パターンは、前記プリント基板の他面側に配置されている。
この構成によれば、センサ用配線パターンと電磁石用配線パターンとが離間することにより、電磁石で発生した電磁ノイズが変位センサに干渉することを抑制し、電磁ノイズに起因する変位センサの誤検知や不具合を防止することができる。
さらに、センサ用配線パターンと電磁石用配線パターンとが軸方向において離間することにより、電磁石で発生した電磁ノイズが変位センサに干渉することを抑制し、電磁ノイズに起因する変位センサの誤検知や不具合を防止することができる。
また、本発明に係る真空ポンプは、前記電磁石用配線パターンが、前記回転軸の径方向において前記センサ用配線パターンの外側に配置されていることが好ましい。
この構成によれば、センサ用配線パターンと電磁石用配線パターンとが径方向において離間することにより、電磁石で発生した電磁ノイズが、変位センサに干渉することを抑制するため、電磁ノイズに起因する変位センサの誤検知や不具合を防止することができる。
また、本発明に係る真空ポンプは、前記電磁石のコイル及び前記電磁石用配線パターンを半田接続するランドが、前記軸方向から視て前記変位センサのコアと重ならないように配置されていることが好ましい。
この構成によれば、電磁石で発生した電磁ノイズが、ランドを介して変位センサに干渉することを抑制できる。
また、本発明に係る真空ポンプは、前記センサ用配線パターン又は前記電磁石用配線パターンと外部機器とを接続するリード線は、前記軸方向から視て前記電磁石の電磁鋼板及び前記変位センサのセンサ鋼板と重ならないように前記軸方向に沿って延伸されていることが好ましい。
この構成によれば、リード線が、アキシャル方向から視て電磁石の電磁鋼板及び変位センサのセンサ鋼板と重ならないため、リード線で発生した電磁ノイズが、変位センサに干渉することを抑制できる。
また、本発明に係る真空ポンプは、前記電磁石の周方向に隣り合う電磁石間で隣り合う磁極が、互いに同極に設定されていることが好ましい。
この構成によれば、電磁石の周方向において隣り合う電磁石間で隣り合う磁極から生じる磁束が相殺されるため、周方向に隣り合う電磁石の間では、電磁石の磁束を低下させることができる。
また、上記目的を達成するため、本発明に係る電磁石ユニットは、真空ポンプの回転軸の位置制御を行う電磁石ユニットであって、前記回転軸の位置を検出する変位センサと、前記回転軸を所定の位置に制御する電磁石と、前記変位センサと前記電磁石との間に介設され、対応する２つの前記変位センサのコイル同士を結線するセンサ用配線パターン及び対応する２つの前記電磁石のコイル同士を結線する電磁石用配線パターンが設けられたプリント基板と、を備え、前記センサ用配線パターン及び前記電磁石用配線パターンは、前記回転軸の軸方向から視て重ならないように配置され、前記センサ用配線パターンは、前記プリント基板の一面側に配置され、前記電磁石用配線パターンは、前記プリント基板の他面側に配置されている。
この構成によれば、センサ用配線パターンと電磁石用配線パターンとが離間することにより、電磁石で発生した電磁ノイズが変位センサに干渉することを抑制し、電磁ノイズに起因する変位センサの誤検知や不具合を防止することができる。さらに、センサ用配線パターンと電磁石用配線パターンとが軸方向において離間することにより、電磁石で発生した電磁ノイズが変位センサに干渉することを抑制し、電磁ノイズに起因する変位センサの誤検知や不具合を防止することができる。
発明によれば、センサ用配線パターンと電磁石用配線パターンとが離間することにより、電磁石で発生した電磁ノイズが変位センサに干渉することを抑制し、電磁ノイズに起因する変位センサの誤検知や不具合を防止することができる。
本発明の一実施形態に係る真空ポンプの縦断面図。 電磁石ユニットを示す側面図。 プリント基板を示す平面図。 ラジアルセンサを示す一部切り欠き底面図。 図３の矢印Ｂから視た電磁石ユニットを示す側面図。 プリント基板を示す底面図。
本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以下では、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。
図１は、真空ポンプ１を示す縦断面図である。真空ポンプ１は、略円筒状のケーシング１０内に収容されたターボ分子ポンプ機構ＰＡとねじ溝ポンプ機構ＰＢとから成る複合ポンプである。
真空ポンプ１は、ケーシング１０と、ケーシング１０内に回転可能に支持されたシャフト２１を有するロータ２０と、シャフト２１を回転駆動させるモータ３０と、シャフト２１の一部及びモータ３０を収容するステータコラム４０とを備えている。
ケーシング１０は、ベース１１と、ベース１１上に載置された状態でボルト１２を介して固定された円筒部１３と、で構成されている。
ベース１１の下部側方には、図示しない補助ポンプに連通される排気ポート１４が設けられている。
円筒部１３の上端には、図示しないチャンバ等の真空容器に接続される吸気口１５が形成されている。また、吸気口１５の外周には、真空容器に連結されるフランジ１５ａが形成されている。
ロータ２０は、シャフト２１と、シャフト２１の上部に固定されてシャフト２１の軸心に対して同心円状に並設されたブレード２２と、を備えている。ブレード２２と後述する回転体２８とは、一体に接合されており、略円筒状の回転翼２９を構成している。
シャフト２１は、ラジアル電磁石ユニット及びアキシャル電磁石ユニットにより位置制御され、且つ非接触支持されている。ラジアル電磁石ユニットは、電磁石ユニット５０であり、ラジアル電磁石５１と、ラジアルセンサ５３と、プリント基板５５と、を備えている。アキシャル電磁石ユニットは、アキシャル電磁石５２と、アキシャルセンサ５４と、を備えている。
ラジアル電磁石５１、アキシャル電磁石５２、ラジアルセンサ５３及びアキシャルセンサ５４は、真空ポンプ１を構成する各種機器を制御する制御ユニット６０に接続されている。
制御ユニット６０は、シャフト２１のラジアル方向Ｒの変位を検出するラジアルセンサ５３の検出値及びシャフト２１のアキシャル方向Ａの変位を検出するアキシャルセンサ５４の検出値に基づいて、ラジアル電磁石５１、アキシャル電磁石５２の励磁電流を制御することにより、シャフト２１が所定の位置に浮上した状態で支持されるようになっている。
シャフト２１の上部及び下部は、タッチダウン軸受２３内に挿通されている。シャフト２１が制御不能になった場合には、高速で回転するシャフト２１がタッチダウン軸受２３に接触して真空ポンプ１の損傷を防止するようになっている。
シャフト２１は、上部をボス孔２４に挿通された状態で、ボルト２５をロータフランジ２６に挿通すると共にシャフトフランジ２７に螺着することで、回転翼２９に一体に取り付けられている。
モータ３０は、シャフト２１の外周に取り付けられた回転子３１と、回転子３１を取り囲むように配置された固定子３２とで構成されている。固定子３２は、制御ユニット６０に接続されており、制御ユニット６０によってシャフト２１の回転が制御されている。
ステータコラム４０は、ベース１１上に載置された状態で、ステータコラム４０の下端部がボルト４１を介してベース１１に固定されている。
次に、真空ポンプ１の略上半分に配置されたターボ分子ポンプ機構ＰＡについて説明する。
ターボ分子ポンプ機構ＰＡは、ブレード２２と、アキシャル方向Ａにおいてブレード２２との間に隙間を空けて配置された固定翼７０と、で構成されている。ブレード２２と固定翼７０とは、アキシャル方向Ａに沿って交互にかつ多段に配列されており、本実施例では、５段のブレード２２と５段の固定翼７０が配列されている。
ブレード２２は、所定の角度で傾斜しており、回転翼２９の上部外周面に一体に形成されている。また、ブレード２２は、ロータ２０の軸線回りに放射状に複数設置されている。
固定翼７０は、ブレード２２とは反対方向に傾斜したブレードからなり、円筒部１３の内壁面に段積みで設置されているスペーサ７１によりアキシャル方向Ａに挟持されて位置決めされている。また、固定翼７０も、ロータ２０の軸線回りに放射状に複数設置されている。
上述したようなターボ分子ポンプ機構ＰＡは、ブレード２２の回転により、吸気口１５及び吸気ポート１６から吸入されたガスをアキシャル方向Ａの上方から下方に移送するようになっている。
次に、真空ポンプ１の略下半分に配置されたねじ溝ポンプ機構ＰＢについて説明する。
ねじ溝ポンプ機構ＰＢは、ロータ２０の下部に設けられてアキシャル方向Ａに沿って延びた回転体２８と、回転体２８の外周面２８ａを囲んで配置された略円筒状のステータ８０と、を備えている。
ステータ８０は、ベース１１上に載置されている。ステータ８０は、内周面に刻設されたねじ溝部８１を備えている。
上述したようなねじ溝ポンプ機構ＰＢは、吸気口１５及び吸気ポート１６からアキシャル方向Ａの下方に移送されたガスを、回転体２８の高速回転によるドラッグ効果によって圧縮して、排気ポート１４に向かって移送する。具体的には、ガスは、回転体２８とステータ８０との隙間に移送された後に、ねじ溝部８１内で圧縮されて排気ポート１４に移送される。
次に、電磁石ユニット５０の構成及び作用について、図面に基づいて説明する。図２は、電磁石ユニット５０を示す側面図である。図３は、ラジアルセンサ５３の配置関係を破線で図示したプリント基板５５の平面図である。図４は、プリント基板５５の配置関係を破線で図示したラジアルセンサ５３の一部切り欠き底面図である。図５は、図３の矢印Ｂから視た電磁石ユニット５０を示す側面図である。
なお、図１では、ラジアル電磁石５１及びラジアルセンサ５３が、アキシャル方向Ａに離れて２つずつ設けられているが、これらはそれぞれ同様の構成であるから、アキシャル方向Ａの上方に配置されたラジアル電磁石５１及びラジアルセンサ５３を例に構造を説明し、アキシャル方向Ａの下方に配置されたラジアル電磁石５１及びラジアルセンサ５３の構造に関する説明を省略する。
ラジアル電磁石５１は、シャフト２１をラジアル方向Ｒに磁力で非接触支持する。各ラジアル電磁石５１は、電磁石ユニット５０の周方向Ｃに沿って９０度毎に離間して配置され、Ｘ軸又はＹ軸上に配置されている。なお、本実施形態において、ラジアル電磁石５１がシャフト２１を支持する方向に応じて区別する場合には、シャフト２１をＸ軸方向に非接触支持するものについては数字の末尾にＸを付して参照符号とし、シャフト２１をＹ軸方向に非接触支持するものついては数字の末尾にＹを付して参照符号とし、これらを総称する場合には、単に数字のみを参照符号とする。
ラジアル電磁石５１は、コアである電磁鋼板５１ａの凸部５１ｂにコイル５１ｃを巻回して形成された一対の磁極５１ｄ、５１ｄを備えている。一対の磁極５１ｄ、５１ｄは、コイル５１ｃを互いに逆向きに巻回することにより、異なる極性を有している。
周方向Ｃに隣り合うラジアル電磁石５１Ｘ、５１Ｙ間で隣り合う磁極５１ｄ、５１ｄは、互いに同じ極性になるように設定されている。これにより、周方向Ｃにおいて隣り合うラジアル電磁石５１間で隣り合う磁極５１ｄ、５１ｄから生じる磁束が相殺されるため、周方向Ｃに隣り合うラジアル電磁石５１Ｘ、５１Ｙの間では、ラジアル電磁石５１の磁束を低下させることができる。
ラジアルセンサ５３は、シャフト２１のラジアル方向Ｒの変位を検出する。ラジアルセンサ５３は、公知の変位センサであり、例えば、インダクタンス型変位センサ等である。ラジアルセンサ５３は、コアであるセンサ鋼板５３ａの爪部５３ｂにコイル５３ｃを巻回して形成された一対の磁極５３ｄ、５３ｄを備えている。
ラジアルセンサ５３は、平面から視て一対の磁極５３ｄ、５３ｄの間に配置されている。なお、本実施形態において、ラジアルセンサ５３を変位の検知方向に応じて区別する場合には、Ｘ軸上に配置されたものについては数字の末尾にｘを付して参照符号とし、Ｙ軸上に配置されたものについては数字の末尾にｙを付して参照符号とし、これらを総称する場合には、単に数字のみを参照符号とする。
ラジアル電磁石５１とラジアルセンサ５３とは、アキシャル方向Ａにおいてプリント基板５５を挟んで互いに反対側に配置されている。図６は、プリント基板５５を示す底面図である。
プリント基板５５には、ラジアルセンサ５３のコイル５３ｃを結線するセンサ用配線パターン５６と、ラジアル電磁石５１のコイル５１ｃを結線する電磁石用配線パターン５７と、が設けられている。
センサ用配線パターン５６と電磁石用配線パターン５７とは、アキシャル方向Ａから視て重ならないように配置されている。これにより、センサ用配線パターン５６と電磁石用配線パターン５７とがアキシャル方向Ａにおいて離間するため、ラジアル電磁石５１で発生した電磁ノイズがラジアルセンサ５３に干渉することを抑制できる。なお、ラジアル電磁石５１で発生した電磁ノイズがラジアルセンサ５３に干渉しなければ、センサ用配線パターン５６と電磁石用配線パターン５７とが、アキシャル方向Ａから視て一部重なるように配置されても構わない。
具体的には、センサ用配線パターン５６は、プリント基板５５の表面５５ａに設けられている。センサ用配線パターン５６は、互いに対向して配置されたラジアルセンサ５３ｘのコイル５３ｃ同士、又は互いに対向して配置されたラジアルセンサ５３ｙのコイル５３ｃ同士を結線する。
また、電磁石用配線パターン５７は、プリント基板５５の裏面５５ｂに設けられている。電磁石用配線パターン５７は、互いに対向して配置されたラジアル電磁石５１Ｘのコイル５１ｃ同士、又は互いに対向して配置されたラジアル電磁石５１Ｙのコイル５１ｃ同士を結線する。
そして、センサ用配線パターン５６は、アキシャル方向Ａから視て、電磁石用配線パターン５７よりラジアル方向Ｒの内側に配置されている。これにより、センサ用配線パターン５６と電磁石用配線パターン５７とがラジアル方向Ｒにおいて離間するため、ラジアル電磁石５１で発生した電磁ノイズがラジアルセンサ５３に干渉することを抑制できる。
また、プリント基板５５は、ラジアル電磁石５１のコイル５１ｃ及び電磁石用配線パターン５７を半田接続するランド５８が、アキシャル方向Ａから視てラジアルセンサ５３のセンサ鋼板５３ａと重ならないように配置されている。これにより、ラジアル電磁石５１で発生した電磁ノイズがランド５８を介してラジアルセンサ５３に干渉することを抑制できる。なお、ラジアル電磁石５１で発生した電磁ノイズがランド５８を介してラジアルセンサ５３に干渉しなければ、ランド５８が、アキシャル方向Ａから視てラジアルセンサ５３のセンサ電磁鋼板５３ａの一部と重なるように配置されても構わない。また、ランド５８が、プリント基板５５のアキシャル方向Ａの上方である表面５５ａに設けられていることにより、作業員がランド５８に容易にアクセスでき、半田付けの円滑に行うことができる。
また、センサ用配線パターン５６又は電磁石用配線パターン５７と外部機器とを接続するリード線５９は、周方向Ｃにおいて隣り合うラジアル電磁石５１のコイル５１ｃの間をアキシャル方向Ａに沿って延伸されている。これにより、リード線５９が、アキシャル方向Ａから視て電磁鋼板５１ａ及びセンサ鋼鈑５３ａと重ならないため、リード線５９で発生した電磁ノイズがラジアルセンサ５３に干渉することを抑制できる。このような配線により、リード線５９に対して、無理な曲げを生じることなく電磁石５０の外周側へ引き回すことが可能である。また、リード線の引き回しに起因して真空ポンプ１がアキシャル方向Ａにサイズアップすることを防止できる。なお、リード線５９で発生した電磁ノイズがラジアルセンサ５３に干渉しなければ、リード線５９が、アキシャル方向Ａから視て電磁鋼板５１ａの一部又はセンサ鋼板５３ａの一部と重なるように配置されても構わない。
なお、センサ用配線パターン５６と電磁石用配線パターン５７とは、電磁ノイズの影響を低減可能な距離だけ離間されていればよく、プリント基板５５の表面５５ａ又は裏面５５ｂの何れか一方の面にまとめて設けられるものであっても構わない。
このようにして、本実施形態に係る電磁石ユニット５０は、センサ用配線パターン５６と電磁石用配線パターン５７とがアキシャル方向Ａにおいて離間することにより、ラジアル電磁石５１で発生した電磁ノイズがラジアルセンサ５３に干渉することを抑制し、電磁ノイズに起因するラジアルセンサ５３の誤検知や不具合を防止することができる。
そして、このような電磁石ユニット５０では、互いに対向して配置されたラジアルセンサ５３ｘが、シャフト２１の上部のＸ軸方向の変位を検知して、この変位に応じた原変位信号＋ｘｈ、－ｘｈを制御ユニット６０に送る。
また、互いに対向して配置されたラジアルセンサ５３ｙが、シャフト２１のＹ軸方向の変位を検知して、この変位に応じた原変位信号＋ｙｈ、－ｙｈを制御ユニット６０に送る。
なお、原変位信号の参照符号の「＋」は、Ｘ軸又はＹ軸の正方向に配置されたラジアルセンサ５３ｘ、５３ｙが検知した信号であることを示し、「－」は、Ｘ軸又はＹ軸の負方向に配置されたラジアルセンサ５３ｘ、５３ｙが検知した信号であることを示す。
制御ユニット６０は、シャフト２１のX軸方向及びY軸方向の変位に基づいて、電磁石ユニット５０のラジアル電磁石５１Ｘを駆動させる電磁石駆動信号＋ＸＨ、－ＸＨを生成し、ラジアル電磁石５１Ｘを制御する。
また、制御ユニット６０は、電磁石ユニット５０のラジアル電磁石５１Ｙを駆動させる電磁石駆動信号＋ＹＨ、－ＹＨを生成し、ラジアル電磁石５１Ｙを制御する。
なお、電磁石駆動信号の参照符号の「＋」は、Ｘ軸又はＹ軸の正方向に配置されたラジアル電磁石５１を制御する信号であることを示し、「－」は、Ｘ軸又はＹ軸の負方向に配置されたラジアル電磁石５１を制御する信号であることを示す。
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変を成すことができ、そして、本発明が該改変されたものに及ぶことは当然である。
１ ・・・真空ポンプ
１０ ・・・ケーシング
１１ ・・・ベース
１２ ・・・ボルト
１３ ・・・円筒部
１４ ・・・排気ポート
１５ ・・・吸気口
１５ａ ・・・フランジ
１６ ・・・吸気ポート
２０ ・・・ロータ
２１ ・・・シャフト（回転軸）
２２ ・・・ブレード
２３ ・・・タッチダウン軸受
２４ ・・・ボス孔
２５ ・・・ボルト
２６ ・・・ロータフランジ
２７ ・・・シャフトフランジ
２８ ・・・回転体
２８ａ ・・・外周面
２９ ・・・回転翼
３０ ・・・モータ
３１ ・・・回転子
３２ ・・・固定子
４０ ・・・ステータコラム
４１ ・・・ボルト
５０ ・・・電磁石ユニット
５１、５１Ｘ、５１Ｙ ・・・ラジアル電磁石
５１ａ ・・・電磁鋼板
５１ｂ ・・・（電磁鋼板の）凸部
５１ｃ ・・・（ラジアル電磁石の）コイル
５１ｄ ・・・（ラジアル電磁石）磁極
５２ ・・・アキシャル電磁石
５３、５３ｘ、５３ｙ ・・・ラジアルセンサ
５３ａ ・・・センサ鋼板
５３ｂ ・・・（センサ鋼板の）爪部
５３ｃ ・・・（ラジアルセンサの）コイル
５３ｄ ・・・（ラジアルセンサの）磁極
５４ ・・・アキシャルセンサ
５５ ・・・プリント基板
５５ａ ・・・（プリント基板の）表面
５５ｂ ・・・（プリント基板の）裏面
５６ ・・・センサ用配線パターン
５７ ・・・電磁石用配線パターン
５８ ・・・ランド
５９ ・・・リード線
６０ ・・・制御ユニット
７０ ・・・固定翼
７１ ・・・スペーサ
８０ ・・・ステータ
８１ ・・・ねじ溝部
Ａ ・・・アキシャル方向（軸方向）
Ｒ ・・・ラジアル方向（径方向）
Ｃ ・・・（電磁石ユニットの）周方向
ＰＡ ・・・ターボ分子ポンプ機構
ＰＢ ・・・ねじ溝ポンプ機構

Claims (6)

  1. 回転軸の位置制御を行う電磁石ユニットを備えた真空ポンプであって、
    前記電磁石ユニットは、
    前記回転軸の位置を検出する変位センサと、
    前記回転軸を所定の位置に制御する電磁石と、
    前記変位センサと前記電磁石との間に介設され、対応する２つの前記変位センサのコイル同士を結線するセンサ用配線パターン及び対応する２つの前記電磁石のコイル同士を結線する電磁石用配線パターンが設けられたプリント基板と、
    を備え、
    前記センサ用配線パターン及び前記電磁石用配線パターンは、前記回転軸の軸方向から視て重ならないように配置され、
    前記センサ用配線パターンは、前記プリント基板の一面側に配置され、
    前記電磁石用配線パターンは、前記プリント基板の他面側に配置されていることを特徴とする真空ポンプ。
  2. 前記電磁石用配線パターンは、前記回転軸の径方向において前記センサ用配線パターンの外側に配置されていることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
  3. 前記電磁石のコイル及び前記電磁石用配線パターンを半田接続するランドは、前記軸方向から視て前記変位センサのコアと重ならないように配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の真空ポンプ。
  4. 前記センサ用配線パターン又は前記電磁石用配線パターンと外部機器とを接続するリード線は、前記軸方向から視て前記電磁石の電磁鋼板及び前記変位センサのセンサ鋼板と重ならないように前記軸方向に沿って延伸されていることを特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の真空ポンプ。
  5. 前記電磁石の周方向に隣り合う電磁石間で隣り合う磁極が、互いに同極に設定されていることを特徴とする請求項４記載の真空ポンプ。
  6. 真空ポンプの回転軸の位置制御を行う電磁石ユニットであって、
    前記回転軸の位置を検出する変位センサと、
    前記回転軸を所定の位置に制御する電磁石と、
    前記変位センサと前記電磁石との間に介設され、対応する２つの前記変位センサのコイル同士を結線するセンサ用配線パターン及び対応する２つの前記電磁石のコイル同士を結線する電磁石用配線パターンが設けられたプリント基板と、
    を備え、
    前記センサ用配線パターン及び前記電磁石用配線パターンは、前記回転軸の軸方向から視て重ならないように配置され、
    前記センサ用配線パターンは、前記プリント基板の一面側に配置され、
    前記電磁石用配線パターンは、前記プリント基板の他面側に配置されていることを特徴とする電磁石ユニット。
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