JP7453123B2 - ヒータおよびヒータの製造方法 - Google Patents

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Description

開示の実施形態は、ヒータおよびヒータの製造方法に関する。
従来、発熱抵抗体を有するシート状のセラミック体を筒状に加工したヒータが知られている。このヒータでは、通電により発熱した発熱抵抗体を介して、所望する温度に昇温させる。
国際公開第2018/155037号
しかしながら、例えば熱応答性の向上または軽量化を考慮したセラミック体の薄型化の要請から、熱応力に対する強度の面で改善の余地があった。
実施形態の一態様は、上記に鑑みてなされたものであって、熱応力を低減することができるヒータおよびヒータの製造方法を提供することを目的とする。
実施形態の一態様に係るヒータは、セラミック体と、ヒータパターンとを備える。セラミック体は、筒状であり、内周面および外周面を有する。ヒータパターンは、前記セラミック体に接する。前記セラミック体は、前記内周面および前記外周面にそれぞれ位置し、長さ方向に延びる一対の溝を有する。前記一対の溝は、前記セラミック体の径方向に離れて位置している。
実施形態の一態様に係るヒータの製造方法は、第1セラミックシートと、ヒータパターン材料が位置する第2セラミックシートとを含む一対のセラミックシートを、第1方向にずらして重ね合わせる工程と、各セラミックシートの前記第1方向の一端と他端との間に空隙がそれぞれ位置するように前記一対のセラミックシートを筒状に成形する工程と、筒状に成形した前記一対のセラミックシートを焼成する工程とを含む。
実施形態の一態様によれば、熱応力を低減することができるヒータおよびヒータの製造方法が提供可能となる。
図1Aは、実施形態に係るヒータを示す斜視図である。 図1Bは、実施形態に係るヒータの平面図である。 図2は、図1Bに示すA-A線の断面図である。 図3は、実施形態の変形例1に係るヒータの断面図である。 図4は、実施形態の変形例2に係るヒータの平面図である。 図5は、実施形態の変形例3に係るヒータの平面図である。 図6は、実施形態の変形例4に係るヒータの断面図である。 図7は、実施形態の変形例5に係るヒータの断面図である。 図8は、実施形態の変形例6に係るヒータの断面図である。 図9は、実施形態の変形例7に係るヒータの断面図である。 図10Aは、実施形態の変形例8に係るヒータの横断面図である。 図10Bは、実施形態の変形例9に係るヒータの横断面図である。 図10Cは、実施形態の変形例10に係るヒータの横断面図である。 図11は、実施形態の変形例11に係るヒータの平面図である。 図12は、実施形態の変形例12に係るヒータの断面図である。 図13は、実施形態に係るヒータの製造方法の一例を示すフローチャートである。 図14Aは、実施形態に係るヒータの製造方法を説明する図(その1)である。 図14Bは、実施形態に係るヒータの製造方法を説明する図(その2)である。 図14Cは、実施形態に係るヒータの製造方法を説明する図(その3)である。
以下、添付図面を参照して、本願の開示するヒータおよびヒータの製造方法の実施形態について説明する。なお、以下に示す実施形態により本開示が限定されるものではない。また、図面は模式的なものであり、各要素の寸法の関係、各要素の比率などは、現実と異なる場合があることに留意する必要がある。さらに、図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。
<実施形態>
最初に、実施形態に係るヒータについて、図1A~図2を参照しながら説明する。図1Aは、実施形態に係るヒータを示す斜視図であり、図1Bは、実施形態に係るヒータの平面図である。また、図2は、図1Bに示すA-A線の断面図である。
図1Aに示すように、実施形態に係るヒータ1は、内周面としての第2面10bおよび外周面としての第1面20aを有する略円筒状のセラミック体2を備える。また、第2面10bおよび第1面20aは、ヒータ1の長さ方向にそれぞれ延びる一対の溝15,25を有する。
ヒータ1の長さ、すなわちセラミック体2の長さは、例えば、20mm~60mm程度とすることができる。また、ヒータ1の直径、すなわちセラミック体2の外寸は、例えば、2.5mm~5.5mm程度とすることができる。なお、セラミック体2の形状は、円筒状に限らず、例えば楕円筒状であってもよい。
なお、説明を分かりやすくするために、図1A~図2には、ヒータ1の長さ方向に沿って延びるZ軸を含む3次元の直交座標系を図示している。かかる直交座標系は、後出の説明に用いる他の図面でも示す場合がある。
また、図2に示すように、セラミック体2は、第1セラミック体10と、第1セラミック体10の外側に位置する第2セラミック体20とを有する。第1セラミック体10は、第1層の一例である。第2セラミック体20は、第2層の一例である。第1セラミック体10および第2セラミック体20は、一対のセラミック体の一例である。
第1セラミック体10は、第1面10aと第2面10bとを有する。第1セラミック体10は、第1面10aが外側、第2面10bが内側に位置し、Z軸方向を筒軸方向とする筒状を有している。また、セラミック体2の内周面に相当する第2面10bには、溝15が位置している。溝15は、第1面10aと第2面10bとを接続する第1セラミック体10の端面101,102と、第2セラミック体20の第2面20bとによって構成されている。端面101,102は、距離d1を有して互いに向かい合って位置している。
第2セラミック体20は、第1面20aと第2面20bとを有する。第2セラミック体20は、第1面20aが外側、第2面20bが内側に位置し、Z軸方向を筒軸方向とする筒状を有している。また、セラミック体2の外周面に相当する第1面20aには、溝25が位置している。溝25は、第1面20aと第2面20bとを接続する第2セラミック体20の端面201,202と、第1セラミック体10の第1面20aとによって構成されている。端面201,202は、距離d2を有して互いに向かい合って位置している。
セラミック体2の材料は、例えば、絶縁性を有するセラミックである。セラミック体2の材料としては、例えば、アルミナ、窒化ケイ素または窒化アルミニウムを使用することができる。
また、第1セラミック体10および第2セラミック体20の厚みは、例えば、0.2mm~0.4mm程度とすることができる。なお、第1セラミック体10および第2セラミック体20の厚みは、同じであってもよく、異なってもよい。
また、第1セラミック体10と第2セラミック体20の間には、ヒータパターン30が位置している。ヒータパターン30は、第2セラミック体20の第2面20bと向かい合う第1セラミック体10の第1面10a上に位置しており、第1面10aのほぼ全体を周方向に覆っている。
図1Bに示すように、ヒータ1は、長さ方向の両端に位置する一端1Aおよび他端1Bを有している。一端1Aは、ヒータ1の先端側であり、他端1Bは、ヒータ1の後端側である。
ヒータパターン30は、ヒータ1の一端1A側に位置している。これにより、ヒータ1は、例えば、被加熱体に接触または近接する一端1A側を効率よく昇温させることができる。
ヒータパターン30は、例えば、通電により発熱する抵抗発熱体を含む。ヒータパターン30は、例えば、タングステン、モリブデンなどを含む高抵抗の導体を含んでよい。
一方、ヒータ1の他端1B側には、パッド33およびリード35が位置している。パッド33は、図示しない導体を介してヒータパターン30と電気的に接続されている。リード35は、一端がパッド33に接続され、他端が図示しない電源装置に接続される。パッド33およびリード35を他端1B側に位置させることにより、例えばヒータ1の発熱に伴う劣化を低減することができる。
このように、実施形態に係るヒータ1は、セラミック体2の内周面および外周面にそれぞれ位置し、長さ方向に延びる一対の溝15,25を有する。セラミック体2の外周面に溝25が位置することにより、例えば、ヒータ1の加熱時におけるセラミック体2の膨張に伴う熱応力を低減することができる。また、セラミック体2の内周面に溝15が位置することにより、例えば、ヒータ1の冷却時におけるセラミック体2の収縮に伴う熱応力を低減することができる。このため、実施形態に係るヒータ1によれば、例えば、加熱時および冷却時の両方においてセラミック体2が受ける熱応力を低減することができる。
また、図2に示すように、ヒータパターン30の一部は、溝25から露出している。このため、ヒータ1の加熱時にヒータパターン30で発生した熱の一部は、セラミック体2を介さずに溝25から放熱することができる。これにより、実施形態に係るヒータ1によれば、例えば、冷却時においてセラミック体2が受ける熱応力を低減することができる。
なお、一対の溝15,25は、セラミック体2の径方向に離れて位置していてもよい。図1Bに示す例では、溝15,25は、平面視したときに重なって位置している。このように溝15,25が互いに離れて位置することにより、例えば、加熱時および冷却時におけるセラミック体2の均熱性を高めることができる。このため、例えば、加熱時および冷却時の両方においてセラミック体2が受ける熱応力を低減することができる。ここで、「重なって位置する」には、平面視したときに溝15,25が完全に一致する場合に限らず、溝15,25の一部が平面視したときに重なる場合を含んでもよい。
また、一対の溝15,25は、長さ方向に交差する幅が互いに異なってもよい。図2に示すように、例えば、溝15の幅、すなわち、端面101,102の距離d1は、溝25の幅、すなわち、端面201,202の距離d2よりも小さくてもよい。このように、内周面に位置する溝の幅が外周面に位置する溝の幅よりも小さくなるように溝15,25の幅を異ならせることにより、例えば、加熱時および冷却時におけるセラミック体2の均熱性を高めることができる。このため、例えば、加熱時および冷却時の両方においてセラミック体2が受ける熱応力を低減することができる。
<変形例1>
つづいて、実施形態の各種変形例について、図2~図12を参照しながら説明する。なお、以下に示す各種変形例では、実施形態と同一の部位には同一の符号を付することにより重複する説明を省略することがある。
図3は、実施形態の変形例1に係るヒータの断面図である。図3に示すヒータ1は、ヒータパターン30が第1セラミック体10の第1面10aと向かい合う第2セラミック体20の第2面20b上に位置しており、第2面20bのほぼ全体を周方向に覆っている点で図2に示すヒータ1と相違する。
また、ヒータパターン30の一部は、溝15から露出している。このため、ヒータ1の加熱時にヒータパターン30で発生した熱の一部は、セラミック体2を介さずに溝15から放熱することができる。これにより、本変形例に係るヒータ1によれば、例えば、冷却時においてセラミック体2が受ける熱応力を低減することができる。
<変形例2>
図4は、実施形態の変形例2に係るヒータの平面図である。図4に示すように、ヒータ1の一端1Aにおける溝25の幅d21は、他端1Bにおける溝25の幅d22よりも大きくてもよい。幅d21,d22は、図2に示す距離d2に相当する長さである。このように一端1A側の距離d2を他端1B側よりも大きくすることにより、他端1B側と比較して一端1A側に位置する第1セラミック体10および第2セラミック体20の接触面積が小さくなる。これにより、本変形例に係るヒータ1によれば、例えば、ヒータパターン30が位置する一端1A側においてセラミック体2が受ける熱応力を低減することができる。
また、幅d22を幅d21よりも小さくすることにより、一端1A側と比較して他端1B側に位置する第1セラミック体10および第2セラミック体20の接触面積が大きくなる。これにより、本変形例に係るヒータ1によれば、例えば、給電に供される他端1B側において第1セラミック体10および第2セラミック体20の接合強度を高めることができる。
なお、図4では、溝25の幅d21,d22を異ならせる例について示したが、例えば、図2に示す距離d1に相当する溝15の幅について、ヒータ1の他端1Bよりも一端1Aのほうが大きくなるように異ならせてもよい。また、溝15,25の両方の幅につき、ヒータ1の他端1Bよりも一端1Aのほうが大きくなるようにそれぞれ異ならせてもよい。
<変形例3>
図5は、実施形態の変形例3に係るヒータの平面図である。図5に示すように、溝25は、長さ方向に対し曲線状に位置してもよい。このように溝25を曲線状に位置させることにより、例えば急速昇温時に溝25の近傍に位置する第1セラミック体10の受ける応力が一直線にならないため、応力が低減される。
なお、図示は省略するが、溝15は、長さ方向に対し曲線状に位置してもよい。このように溝15を曲線状に位置させることにより、例えば急速昇温時に溝15の近傍に位置する第2セラミック体20の受ける応力が一直線にならないため、応力が低減される。
また、溝15,25の両方が、長さ方向に対し曲線状に位置してもよい。このように溝15,25の両方を曲線状に位置させることにより、例えば第1セラミック体10および第2セラミック体20の受ける応力が一直線にならないため、応力がさらに低減される。
<変形例4>
図6は、実施形態の変形例4に係るヒータの断面図である。図6に示すヒータ1は、第1セラミック体10の第1面10aに位置するヒータパターン30を有しており、一部が溝25から露出している。具体的には、ヒータパターン30は、溝25から露出した露出部30aを有する。また、溝25には、露出部30aを覆うガラスコート40が位置している。
ガラスコート40は、絶縁性を有しており、露出部30aを被覆する保護層である。ヒータパターン30の露出部30aにガラスコート40が位置することにより、例えば、ヒータパターン30の絶縁を確保することができる。なお、ガラスコート40は、溝25を満たすように位置してもよく、溝25の一部に空間が有するように位置してもよい。さらに、ガラスコート40は、溝25からはみ出すように位置してもよい。
<変形例5>
図7は、実施形態の変形例5に係るヒータの断面図である。図7に示すヒータ1は、第2セラミック体20の第2面20bに位置するヒータパターン30を有しており、一部が溝15から露出している。具体的には、ヒータパターン30は、溝15から露出した露出部30aを有する。また、溝15には、露出部30aを覆うガラスコート40が位置している。
露出部30aの上にガラスコート40が位置することにより、例えば、ヒータパターン30の絶縁を確保することができる。なお、ガラスコート40は、溝15の全体を満たすように位置してもよく、溝15の一部を満たすように位置してもよい。さらに、ガラスコート40は、溝15からはみ出すように位置してもよい。
なお、図6、図7では、溝15,25の一方にガラスコート40が位置する例について示したが、次に示すように、溝15,25の両方にガラスコート40が位置してもよい。
<変形例6>
図8は、実施形態の変形例6に係るヒータの断面図である。図8に示すヒータ1は、ヒータパターン30が位置しない溝15にガラスコート40がさらに位置する点で図6に示すヒータ1と相違する。
図8に示すように、ガラスコート40は、溝15の隅部151,152を覆うように位置している。隅部151は、第1セラミック体10の端面101と第2セラミック体20の第2面20bとが交差する部分である。隅部152は、第1セラミック体10の端面102と第2セラミック体20の第2面20bとが交差する部分である。ガラスコート40が隅部151,152に位置することにより、例えば端面101,102を起点とする第1セラミック体10の剥離を抑えることができる。
なお、ガラスコート40は、第1セラミック体10の端面101,102と第2面10bとが交差するエッジ部分を覆うように位置してもよい。ガラスコート40がエッジ部分を覆うことにより、例えば、端面101,102における第1セラミック体10の欠損を低減することができる。
<変形例7>
図9は、実施形態の変形例7に係るヒータの断面図である。図9に示すヒータ1は、ヒータパターン30が位置しない溝25にガラスコート40がさらに位置する点で図7に示すヒータ1と相違する。
図9に示すように、ガラスコート40は、溝25の隅部251,252を覆うように位置している。隅部251は、第2セラミック体20の端面201と第1セラミック体10の第1面10aとが交差する部分である。隅部252は、第2セラミック体20の端面202と第1セラミック体10の第1面20aとが交差する部分である。ガラスコート40が隅部251,252に位置することにより、例えば端面201,202を起点とする第2セラミック体20の剥離を抑えることができる。
なお、ガラスコート40は、第2セラミック体20の端面201,202と第1面20aとが交差するエッジ部分を覆うように位置してもよい。ガラスコート40がエッジ部分を覆うことにより、例えば、端面201,202における第2セラミック体20の欠損を低減することができる。
<変形例8~10>
図10A~図10Cは、実施形態の変形例8~10に係るヒータの横断面図である。図10A~図10Cは、平面視で溝15,25が重なる位置でYZ平面に沿って断面視した図に相当する。
図10Aに示すヒータ1の一端1Aは、第1セラミック体10の端面10Aおよび第2セラミック体20の端面20Aと一致するように位置している。また、図10Bに示すヒータ1の一端1Aは、第2セラミック体20の端面20Aに、図10Cに示すヒータ1の一端1Aは、第1セラミック体10の端面10Aと一致するように、それぞれ位置している。
図10A~図10Cに示すように、ヒータ1の一端1Aには、ガラスコート40が位置している。ガラスコート40は、一端1A側に位置する端面10A,20Aおよび第1セラミック体10および第2セラミック体20の境界を覆うように位置している。一端1A側に位置する第1セラミック体10および第2セラミック体20の境界は、昇温時、冷却時における熱応力を特に受けやすい部分である。かかる部分にガラスコート40が位置することにより、例えば、ヒートサイクルに伴う第1セラミック体10および第2セラミック体20の剥離を低減することができる。
<変形例11>
図11は、実施形態の変形例11に係るヒータの平面図である。図11に示すヒータ1は、パッド33およびリード35の接合部34を覆うようにガラスコート40が位置している点で図1Bに示すヒータ1と相違する。
接合部34を覆うようにガラスコート40が位置することにより、例えば、接合部34における接合強度を高めることができる。また、ガラスコート40が絶縁性を有することにより、例えば、パッド33およびリード35の被覆部分における絶縁性を高めることができる。
<変形例12>
図12は、実施形態の変形例12に係るヒータの断面図である。図12に示すヒータ1は、第1セラミック体10と第2セラミック体20との間に位置するヒータパターン30と導通する一対のビア32a,32bを有している。ビア32a,32bは、第2セラミック体20を径方向に貫通する導体である。ビア32a,32bは、図示しない配線パターンを介してヒータパターン30とパッド33を接続する。
図12に示した例では、一対のビア32a,32bは、セラミック体2の径方向に離れて位置している。一対のビア32a,32bが位置する方向を第1径方向としたとき、かかる第1径方向に交差する第2径方向に一対の溝15,25に離れて位置している。
このように、ビア32a,32bおよび溝15,25が互いに交差する方向に位置することにより、例えば、第1セラミック体10と第2セラミック体20における局所的な応力集中を低減することができる。
<ヒータの製造方法>
次に、実施形態に係るヒータ1の製造方法の一例について、図13~図14Cを用いて説明する。図13は、実施形態に係るヒータの製造方法の一例を示すフローチャートである。図14A~図14Cは、実施形態に係るヒータの製造方法を説明する図である。
まず、一対のセラミックシートをずらして重ね合わせる(ステップS11)。図14Aに示すように、一対のセラミックシート50は、第1セラミックシート51と、ヒータパターン材料60が位置する第2セラミックシート52とを有する。
一対のセラミックシート50は、ヒータパターン材料60が第1セラミックシート51および第2セラミックシート52の間に位置するように配置される。また、第1セラミックシート51および第2セラミックシート52は、第1方向71に沿って所定の幅だけずらして重ね合わされる。なお、一対のセラミックシート50は、後述する焼成によりセラミック体2が生成される材料により作製される。また、第1セラミックシート51および第2セラミックシート52の間には、例えば、第1セラミックシート51および第2セラミックシート52の配置を保持するための密着液が位置してもよい。
次に、一対のセラミックシートを筒状に成形する(ステップS12)。図14Bに示すように、一対のセラミックシート50は、例えば、円柱状の芯棒80を、長さ方向が第1方向71に交差する第2方向72に沿うように位置させて、第1セラミックシート51の第1方向71の一端511と他端512との間、および、第2セラミックシート52の第1方向71の一端521と他端522との間に空隙がそれぞれ位置するように、一対のセラミックシート50を筒状に成形する。なお、芯棒80は、使用しなくてもよい。
そして、筒状に成形した一対のセラミックシートを焼成する(ステップS13)。図14Cに示すように、ステップS12において筒状に成形された一対のセラミックシート50は、例えば、波板状の焼成用治具90の上に位置させて、所定の温度で焼成させる。ステップS12で使用した芯棒80は、例えば、焼成前に除去される。第1セラミックシート51は、焼成により、例えば、実施形態に係る第1セラミック体10となり、ヒータパターン材料60が位置する第2セラミックシート52は、焼成により、例えば、実施形態に係るヒータパターン30を有する第2セラミック体20となる。これにより、例えば、図3に示すヒータ1が生成する。なお、実施形態に係るヒータ1を生成する場合には、例えば、第1セラミックシート51が外側に位置し、第2セラミックシート52が内側に位置するように一対のセラミックシート50を成形すればよい。
実施形態に係るヒータ1は、内周面(第2面10b)および外周面(第1面20a)を有する筒状のセラミック体2と、セラミック体2に接するヒータパターン30とを備える。セラミック体2は、内周面および外周面にそれぞれ位置し、長さ方向に延びる一対の溝15,25を有する。これにより、熱応力を低減することができる。
また、実施形態に係る一対の溝15,25は、セラミック体2の径方向に離れて位置している。これにより、加熱時および冷却時におけるセラミック体2の均熱性を高めることができる。
また、実施形態に係る一対の溝15,25のうち、少なくとも一方の溝からヒータパターン30の一部が露出している。これにより、セラミック体2の均熱性を高めることができる。
また、実施形態に係るヒータパターン30は、長さ方向の一端1A側に位置しており、一対の溝15,25のうち、少なくとも一方の溝の幅は、一端1A側の方が、長さ方向の他端1B側よりも大きい。これにより、ヒータパターン30が位置する一端1A側においてセラミック体2が受ける熱応力をさらに低減することができる。
また、実施形態に係る一対の溝15,25のうち、少なくとも一方の溝は長さ方向に対し曲線状に位置している。これにより、熱応力をさらに低減することができる。
また、実施形態に係るヒータ1は、一対の溝15,25のうち、少なくとも一方の溝から露出したヒータパターン30の露出部30aと、露出部30aを少なくとも覆うガラスコート40とを有する。これにより、露出部30aの絶縁を確保することができる。
また、実施形態に係るガラスコート40は、露出部30aが位置しない溝の隅部に位置している。これにより、セラミック体2が部分的に剥離することを低減することができる。
また、実施形態に係るセラミック体2は、内周面に沿って位置する第1層と、外周面に沿って位置する第2層とを含み、ヒータパターン30は、長さ方向の一端1A側に位置し、ガラスコート40は、一端1A側に位置する第1層および第2層の境界を覆うように位置している。これにより、一端1A側に位置するセラミック体2の境界部分が剥離することを低減することができる。
また、実施形態に係るヒータ1は、長さ方向の他端1B側に位置するリード35と、ヒータパターン30とリード35とを接続するパッド33とを備え、ヒータパターン30は、長さ方向の一端1A側に位置し、ガラスコート40は、パッド33およびリード35の接合部34を覆うように位置している。これにより、パッド33からリード35が剥離することを低減することができる。
また、実施形態に係るヒータ1は、セラミック体2の第1径方向に離れて位置し、ヒータパターン30と導通する一対のビア32a,32bを有し、一対の溝15,25は、第1径方向と交差するセラミック体2の第2径方向に離れて位置している。これにより、セラミック体2における局所的な応力集中を低減することができる。
また、実施形態に係るヒータ1の製造方法は、第1セラミックシート51と、ヒータパターン材料60を有する第2セラミックシート52とを含む一対のセラミックシート50を、第1方向71にずらして重ね合わせる工程(ステップS11)と、各セラミックシートの第1方向71の一端と他端との間に空隙がそれぞれ位置するように一対のセラミックシート50を筒状に成形する工程(ステップS12)と、筒状に成形した一対のセラミックシート50を焼成する工程(ステップS13)とを含む。これにより、熱応力を低減するヒータ1を製造することができる。
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。例えば、図4、図5に示す溝25(および/または溝15)の構成を、他の実施形態および変形例に係る溝25(および/または溝15)と組み合わせてもよい。また、上記した実施形態および各変形例が有するその他の構成についても、矛盾が生じない範囲で適宜組み合わせることができる。
さらなる効果や他の態様は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本開示のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。
1 ヒータ
2 セラミック体
10 第1セラミック体
15,25 溝
20 第2セラミック体
30 ヒータパターン
32a,32b ビア
33 パッド
34 接合部
35 リード
40 ガラスコート
50 セラミックシート
51 第1セラミックシート
52 第2セラミックシート
60 ヒータパターン材料

Claims (11)

  1. 内周面および外周面を有する筒状のセラミック体と、
    前記セラミック体に接するヒータパターンと
    を備え、
    前記セラミック体は、前記内周面および前記外周面にそれぞれ位置し、長さ方向に延びる一対の溝を有し、
    前記一対の溝は、前記セラミック体の径方向に離れて位置してい
    ヒータ。
  2. 前記一対の溝のうち、少なくとも一方の前記溝から前記ヒータパターンの一部が露出している
    請求項に記載のヒータ。
  3. 前記ヒータパターンは、前記長さ方向の一端側に位置しており、
    前記一対の溝のうち、少なくとも一方の前記溝の幅は、前記一端側の方が、前記長さ方向の他端側よりも大きい
    請求項1または2に記載のヒータ。
  4. 前記一対の溝のうち、少なくとも一方の前記溝は前記長さ方向に対し曲線状に位置している
    請求項1~のいずれか1つに記載のヒータ。
  5. 前記一対の溝のうち、少なくとも一方の前記溝から露出した前記ヒータパターンの露出部と、
    前記露出部を少なくとも覆うガラスコートと
    を有する請求項1~のいずれか1つに記載のヒータ。
  6. 前記ガラスコートは、前記露出部が位置しない前記溝の隅部に位置している
    請求項に記載のヒータ。
  7. 前記セラミック体は、前記内周面に沿って位置する第1層と、前記外周面に沿って位置する第2層とを含み、
    前記ヒータパターンは、前記長さ方向の一端側に位置し、
    前記ガラスコートは、前記一端側に位置する前記第1層および前記第2層の境界を覆うように位置している
    請求項またはに記載のヒータ。
  8. 内周面および外周面を有する筒状のセラミック体と、
    前記セラミック体に接するヒータパターンと
    を備え、
    前記セラミック体は、前記内周面および前記外周面にそれぞれ位置し、長さ方向に延びる一対の溝を有し、
    前記一対の溝のうち、少なくとも一方の前記溝から露出した前記ヒータパターンの露出部と、
    前記露出部を少なくとも覆うガラスコートと
    を有し、
    前記セラミック体は、前記内周面に沿って位置する第1層と、前記外周面に沿って位置する第2層とを含み、
    前記ヒータパターンは、前記長さ方向の一端側に位置し、
    前記ガラスコートは、前記一端側に位置する前記第1層および前記第2層の境界を覆うように位置している
    ヒータ。
  9. 前記長さ方向の他端側に位置するリードと、
    前記ヒータパターンと前記リードとを接続するパッドと
    を備え、
    前記ヒータパターンは、前記長さ方向の一端側に位置し、
    前記ガラスコートは、前記パッドおよび前記リードの接合部を覆うように位置している
    請求項~8のいずれか1つに記載のヒータ。
  10. 前記セラミック体の第1径方向に離れて位置し、前記ヒータパターンと導通する一対のビアを有し、
    前記一対の溝は、前記第1径方向と交差する前記セラミック体の第2径方向に離れて位置している
    請求項1~9のいずれか1つに記載のヒータ。
  11. 第1セラミックシートと、ヒータパターン材料が位置する第2セラミックシートとを含む一対のセラミックシートを、第1方向にずらして重ね合わせる工程と、
    各セラミックシートの前記第1方向の一端と他端との間に空隙がそれぞれ位置するように前記一対のセラミックシートを筒状に成形する工程と、
    筒状に成形した前記一対のセラミックシートを焼成する工程と
    を含むヒータの製造方法。
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