JP7450158B2 - 発光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
先ず、第1の実施形態について説明する。
図1~図14は、本実施形態に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。
図1に示すように、成長基板100を用意する。成長基板100は、例えば、サファイア等のウェーハである。次に、成長基板100の上面に複数の第1発光素子10を形成する。例えば、成長基板100の上面に半導体層を成長させ、半導体層上に電極層を形成し、電極層及び半導体層を個々の第1発光素子10ごとに個片化する。これにより、成長基板上に行列状に配列された複数の第1発光素子10が得られる。また、予め成長基板100が除去され個片化された第1発光素子10が半導体層支持基板に配置されたものを準備してもよい。
次に、図2に示すように、複数の第1発光素子10の外観検査及び/又は電気的特性評価により、複数の第1発光素子10がそれぞれ不良品であるか良品であるかを判断する。一例では、電気的特性の評価においては、第1発光素子10の電極層に一対のプローブ95を接触させて通電し、第1発光素子10の電気特性を測定して評価する。そして、例えば、得られた特性が所望の基準値を満たさない第1発光素子10を不良品、基準値を満たす第1発光素子10を良品と判断する。図2においては、説明の便宜上、不良品と判断された第1発光素子10に符号「10n」を付し、良品と判断された第1発光素子10に符号「10g」を付している。以後の図においても同様である。また、第1発光素子10n及び10gを総称して「第1発光素子10」という場合もある。
次に、図3に示すように、複数の第1発光素子10の上面10aに支持基板98を接着する。次に、成長基板100を除去する。これにより、第1発光素子10の下面10bを成長基板100から露出させる。次に、複数の第1発光素子10の下面10bに、第1粘着層20を介して、第1紫外線透過層30を接着する。
次に、図5に示すように、積層体99における第1粘着層20上及び第1発光素子10上に、第2粘着層40を介して第2紫外線透過層50を配置する。第2粘着層40と第1発光素子10との接着は、例えば真空マウンターを用いる。これにより、第2粘着層40と第1粘着層20及び第1発光素子10との間に気泡が入らないように、第2粘着層40と、第1粘着層20及び第1発光素子10とを密に接着させることができる。つまり、真空マウンターを用いることにより、第2粘着層40を第1発光素子10の側面10c間に配置させることができる。第2紫外線透過層50は、紫外線を実質的に透過させる層であり、第2粘着層40の支持体である。第2紫外線透過層50は第2粘着層40によって第1粘着層20及び複数の第1発光素子10に接着される。また、この時点で、第2粘着層40の粘着力は第1粘着層20の粘着力よりも強い。第2粘着層40は、例えば、第1粘着層20とは異なる種類の紫外線反応層である。
次に、図6に示すように、第2紫外線透過層50の第7面50bにおける一部の第1発光素子10に対応する領域に、紫外線遮蔽層60を配置する。「一部の第1発光素子10」は、例えば、図2に示す工程において不良品と判断された第1発光素子10nである。
次に、図7に示すように、紫外線遮蔽層60側から中間体90に対して紫外線UV2を照射する。紫外線遮蔽層60に到達した紫外線UV2は紫外線遮蔽層60によって遮断される。紫外線遮蔽層60の側方を通過して第2紫外線透過層50に到達した紫外線UV2は、第2紫外線透過層50を透過し、第2粘着層40に入射する。これにより、第2粘着層40のうち、紫外線UV2が照射された部分40cの粘着力が低下する。
次に、図8に示すように、第1紫外線透過層30側から中間体90に対して紫外線UV3を照射する。紫外線UV3は、第1紫外線透過層30及び第1粘着層20を透過して、第2粘着層40及び第1発光素子10に入射するが、紫外線UV3の一部は第1発光素子10の光反射層12によって遮断される。これにより、第2粘着層40のうち、紫外線UV3が照射された部分40dの粘着力が低下する。部分40dは、第2粘着層40のうち、第1発光素子10間に位置する部分である。
次に、図9に示すように、第2紫外線透過層50を第1紫外線透過層30から剥がす。これにより、第2粘着層40が第1粘着層20から分離する。このとき、それぞれの第1発光素子10が第2粘着層40と共に第1粘着層20から離されるか、第1粘着層20側に残留するかは、第1粘着層20と第2粘着層40との粘着力の強弱関係によって決定される。
次に、図10に示すように、第1粘着層20上に残留する第1発光素子10gを、第1粘着層20から第1シート91に転写する。第1シート91は、例えば、耐熱シートである。本実施形態においては、第1発光素子10gの下面10bを第1シート91に接着する。
次に、図11に示すように、例えば、マウンター93を用いて、第1シート91における空き領域(つまり、第1発光素子10gが配置されていない領域であり、中間体90における第1発光素子10nが配置されていた領域)に、第2発光素子70を配置する。第2発光素子70は、例えば、第1発光素子10と同じ種類の良品の素子である。第2発光素子70においても半導体部分11及び光反射層12が設けられており、半導体部分11を第1シート91に当接させる。これにより、図3に示す工程において行列状に配置した複数の第1発光素子10のうち、第1発光素子10nが配置されていた領域に、第2発光素子70が配置される。このようにして、不良品の第1発光素子10nが良品の第2発光素子70に置換される。
次に、図12に示すように、製造する発光装置の大きさに合わせて、第1シート91を個片化する。個片化された各第1シート91は、1つの発光装置に搭載される第1発光素子10g及び第2発光素子70を備える。
次に、図14に示すように、第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70の相互間に、被覆部材81を配置する。被覆部材81は、実装基板80と第1発光素子10gとの間、及び、実装基板80と第2発光素子70との間に配置されてもよい。被覆部材81は、絶縁性部材であり、好ましくは白色樹脂である。
次に、第1発光素子10g上及び第2発光素子70上に、透光性部材82を配置する。例えば、1枚の実装基板80に対して1つの透光性部材82を配置する。透光性部材82は、第1発光素子10gの下面10b及び第2発光素子70の下面に、例えば接着剤層を介して接着させる。これにより、透光性部材82は第1発光素子10g及び第2発光素子70を覆う。透光性部材82は例えば蛍光体を含む。透光性部材82においては、例えば、母材となる透光性樹脂中に多数の蛍光体粒子が配置されている。このようにして、本実施形態に係る発光装置1が製造される。
発光装置1の構成について説明する。
図14に示すように、本実施形態に係る発光装置1は、実装基板80、第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70、被覆部材81、透光性部材82を含む。第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70は、実装基板80の上面に例えば行列状に配列されている。被覆部材81は、実装基板80上であって第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70の相互間に配置されている。透光性部材82は、第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70と被覆部材81上に配置されている。第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70の光反射層12は一対の電極層を含む。一対の電極層は実装基板80の配線に接続されている。
本実施形態においては、図5に示す工程において、複数の第1発光素子10を第1粘着層20と第2粘着層40によって挟み、第1発光素子10の下面10bを第1粘着層20に接着させ、上面10aを第2粘着層40に接着させる。この時点では、第2粘着層40の粘着力を第1粘着層20の粘着力よりも強くしておく。そして、図6に示す工程において、不良品の第1発光素子10nに対応する領域に紫外線遮蔽層60を配置し、図7に示す工程において、紫外線UV2を照射する。これにより、第2粘着層40に紫外線UV2が選択的に照射され、部分40cの粘着力が低下する。部分40cは、概ね、良品である第1発光素子10gの周囲に配置される。
次に、第2の実施形態について説明する。
図15~図18は、本実施形態に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。
本実施形態においては、主として第1の実施形態との相違点を説明し、第1の実施形態と同様な部分は説明を省略する。
次に、図15に示すように、第1粘着層20上に残留する第1発光素子10gを、第1粘着層20から第1シート91に転写する。本実施形態においては、第1の実施形態とは異なり、第1発光素子10gの上面10aを第1シート91に接着する。
次に、図16に示すように、例えば、マウンター93を用いて、第1シート91における空き領域に、第2発光素子70を配置する。これにより、図3に示す工程において行列状に配置した複数の第1発光素子10のうち、第1発光素子10nが配置されていた領域に、第2発光素子70が配置される。この場合も、第1の実施形態とは異なり、第2発光素子70の上面、すなわち、光反射層12側の面を第1シート91に接着する。
次に、図17に示すように、第1発光素子10g上及び/又は第2発光素子70上に、透光性部材82を配置する。透光性部材82は、第1発光素子10gの下面10b及び/又は第2発光素子70の下面に、例えば接着剤層を介して接着される。これにより、透光性部材82は第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70を覆う。
次に、図18に示すように、第1シート91を除去する。次に、製造する発光装置の大きさに合わせて、透光性部材82を個片化する。次に、第1発光素子10g及び/又は第2発光素子70と透光性部材82とを含む構造体を、実装基板80上に配置する。このようにして本実施形態に係る発光装置2が製造される。
第3の実施形態は、前述の第1の実施形態に係る発光装置の製造方法を用いて、発光モジュールを製造する例である。
図19は、本実施形態に係る発光モジュールを模式的に示す斜め上側から見た斜視図である。
図20は、本実施形態に係る発光モジュールを模式的に示す斜め下側から見た斜視図である。
図21は、図19の領域XXIを示す一部拡大上面図である。
図22は、図19に示すXXII-XXII線による断面図である。
図23Aは、図22の領域XXIIIAを示す一部拡大断面図である。
図23Bは、図23Aの領域XXIIIBを示す一部拡大断面図である。
図24は、本実施形態における発光素子を示す上面図である。
図25は、図24に示すXXV-XXV線による断面図である。
半導体部分180のp型層181の下面には、穴185が形成されている。穴185は、p型層181の下面側からp型層181及び発光層182を貫通し、n型層183の途中まで到達している。平面視で、穴185の形状は、例えば円形である。穴185の底面には、n電極186が配置されている。n電極186は、n型層183に電気的に接続されている。
図19及び図22に示すように、複数の発光素子130を準備する。このとき、第1の実施形態において説明したように、発光素子130の外観検査及び/又は電気的特性評価を行い、良品の基準を満たさずに不良と判断された発光素子130(第1発光素子10nに相当)は除去する。そして、不良と判断された発光素子130が除去された後の領域に、新たな発光素子130(第2発光素子70に相当)を配置する。そして、全ての発光素子130を配線基板120に実装する。
第4の実施形態は、前述の第2の実施形態に係る発光装置の製造方法を用いて、発光モジュールを製造する例である。
図26Aは、本実施形態に係る発光モジュールを示す上面図である。
図26Bは、1つの透光性部材を示す一部拡大上面図である。
本実施形態においても、第3の実施形態と同様に、XYZ直交座標系を採用する。
図26A及び図26Bに示すように、複数の発光素子212を準備する。このとき、第2の実施形態において説明したように、発光素子212の外観検査及び/又は電気的特性評価を行い、良品の基準を満たさずに不良と判断された発光素子212(第1発光素子10nに相当)は除去する。そして、不良と判断された発光素子212が除去された後の領域に、新たな発光素子212(第2発光素子70に相当)を配置する。そして、全ての発光素子212を配線基板211に実装する。
10、10g、10n:第1発光素子
10a:上面
10b:下面
10c:側面
11:半導体部分
12:光反射層
20:第1粘着層
20a:第2面
20b:第3面
30:第1紫外線透過層
30a:第1面
40:第2粘着層
40a:第4面
40b:第5面
40c、40d、40e:部分
50:第2紫外線透過層
50a:第6面
50b:第7面
60:紫外線遮蔽層
70:第2発光素子
80:実装基板
81:被覆部材
82:透光性部材
90:中間体
91:第1シート
92:第2シート
93:マウンター
95:プローブ
98:支持基板
99:積層体
100:成長基板
101:発光モジュール
110:パッケージ基板
110a:上面
110b:下面
111:絶縁基体
112:第1パッド
113:第2パッド
114:放熱部
120:配線基板
121:上面
130:発光素子
131:上面
132:下面
133:側面
139:接合部
140:第1樹脂
141:母材
142:光反射性物質
143:上面
150:第2樹脂
151:母材
152:蛍光体
160:ワイヤ
170:第3樹脂
171:第1樹脂枠
172:第2樹脂枠
173:保護樹脂
180:半導体部分
181:p型層
182:発光層
183:n型層
184:凸部
185:穴
186:n電極
187:p電極
188:光反射層
188a、188b:凹部
189:絶縁層
191、192:開口部
193、194:導電層
201:発光モジュール
211:配線基板
212:発光素子
213:接合部
214:透光性部材
215:樹脂部材
216:パッド
221:第1列
222:第2列
223:第3列
224:第4列
UV1、UV2、UV3:紫外線
Claims (10)
- 第1面を有する第1紫外線透過層と、前記第1紫外線透過層の前記第1面に接した第2面及び前記第2面の反対側に位置する第3面を有する第1粘着層と、前記第3面に対向する光反射層を有し前記第1粘着層の前記第3面に接した複数の第1発光素子と、前記複数の第1発光素子に接した第4面及び前記第4面の反対側に位置する第5面を有する第2粘着層と、前記第2粘着層の前記第5面に接した第6面及び前記第6面の反対側に位置する第7面を有する第2紫外線透過層と、を含む中間体を準備する工程と、
前記第2紫外線透過層の前記第7面における一部の前記第1発光素子に対応する領域に紫外線遮蔽層を配置する工程と、
前記紫外線遮蔽層側から前記中間体に対して紫外線を照射することにより、前記第2粘着層における前記紫外線遮蔽層に対応していない部分の粘着力を低下させる第1紫外線照射工程と、
前記第1紫外線透過層側から前記中間体に対して紫外線を照射することにより、前記第2粘着層における前記光反射層に対応していない部分の粘着力を低下させる第2紫外線照射工程と、
前記一部の第1発光素子を前記第2粘着層と共に前記第1粘着層から離す工程と、
を備え、
前記第1紫外線照射工程及び前記第2紫外線照射工程の後において、前記第2粘着層における紫外線に照射された部分の粘着力は前記第1粘着層の粘着力よりも弱く、前記第2粘着層における紫外線に照射されていない部分の粘着力は前記第1粘着層の粘着力よりも強い発光装置の製造方法。 - 前記複数の第1発光素子は、前記第2粘着層に接する上面と、前記第1粘着層に接する下面と、前記上面と前記下面との間の側面とを有し、
前記中間体において、前記第2粘着層は前記第1発光素子の側面に接する請求項1に記載の発光装置の製造方法。 - 前記第1粘着層及び前記第2粘着層は紫外線反応層である請求項1または2に記載の発光装置の製造方法。
- 前記中間体を準備する工程は、
前記第1紫外線透過層、第1粘着層、及び、前記複数の第1発光素子が積層された積層体を準備する工程と、
前記第1紫外線透過層側から紫外線を照射する工程と、
を有する請求項1に記載の発光装置の製造方法。 - 前記第1発光素子における前記第1粘着層側に位置する面は、前記第1発光素子における前記第2粘着層側に位置する面よりも大きい請求項1~4のいずれか1つに記載の発光装置の製造方法。
- 前記一部の第1発光素子は不良品であり、
前記一部の第1発光素子を前記第1粘着層から離す工程において、良品の前記第1発光素子が前記第1粘着層側に残留する請求項1~5のいずれか1つに記載の発光装置の製造方法。 - 前記紫外線遮蔽層を配置する工程の前に、
前記複数の第1発光素子の電気的特性を評価することにより、前記複数の第1発光素子がそれぞれ前記不良品であるか前記良品であるかを判断する工程をさらに備えた請求項6に記載の発光装置の製造方法。 - 前記一部の発光素子を前記第1粘着層から離す工程の後に、
前記一部の第1発光素子が配置されていた領域に、第2発光素子を配置する工程と、
をさらに備えた請求項6または7に記載の発光装置の製造方法。 - 前記一部の発光素子を前記第1粘着層から離す工程の後、前記第2発光素子を配置する工程の前に、前記第1粘着層上に残留する前記第1発光素子を前記第1粘着層から第1シートに転写する工程と、をさらに備え、
前記第2発光素子を配置する工程は、前記第1シートに前記第2発光素子を配置する工程である請求項8に記載の発光装置の製造方法。 - 前記第2発光素子を配置する工程の後に、
前記第1発光素子及び前記第2発光素子を覆う透光性部材を設ける工程をさらに備えた請求項8または9に記載の発光装置の製造方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003077940A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Sony Corp | 素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
JP2003209295A (ja) | 2002-01-16 | 2003-07-25 | Sony Corp | 電子部品及びその製造方法、これを用いた画像表示装置 |
JP2016502265A (ja) | 2012-11-12 | 2016-01-21 | 晶元光▲電▼股▲ふん▼有限公司 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
WO2017094461A1 (ja) | 2015-12-01 | 2017-06-08 | シャープ株式会社 | 画像形成素子 |
US20190027642A1 (en) | 2016-01-20 | 2019-01-24 | Goertek. Inc | Micro-LED Transfer Method and Manufacturing Method |
JP2021027289A (ja) | 2019-08-08 | 2021-02-22 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及び発光装置の製造方法 |
JP2021534594A (ja) | 2018-08-10 | 2021-12-09 | ホン−チェン、リンLIN, Hong−Cheng | ダイオード装置、ディスプレイパネル及び可撓性ディスプレイ |
-
2021
- 2021-12-23 JP JP2021209764A patent/JP7450158B2/ja active Active
-
2022
- 2022-12-19 US US18/068,245 patent/US20230207724A1/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003077940A (ja) | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Sony Corp | 素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法 |
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