JP7441431B2 - 長尺位相差フィルム、長尺光学フィルム、長尺偏光フィルム、長尺位相差フィルムの製造方法、及び長尺光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、長尺位相差フィルム、長尺光学フィルム、長尺偏光フィルム、長尺位相差フィルムの製造方法、及び長尺光学フィルムの製造方法に関する。

位相差フィルムや偏光フィルムが、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置に適用されている。特許文献１に開示されているように、位相差フィルムは、重合性液晶組成物を基材上に塗布して基材上に塗布膜を形成し、この塗布膜を硬化させることによって作製され得る。長尺の基材上に長尺の塗布膜を形成し、この塗布膜を硬化させることによって、長尺の位相差フィルムを製造できる。長尺の位相差フィルムを用いて、長尺の偏光フィルムを製造できる。ロールトゥロール方式の製造方法は、生産効率や製造コストにおいて優れる。

特開２０２１－１８４０４６号公報

特許文献１では、長尺の位相差フィルムの位相差層を長尺の被転写フィルムに転写して、長尺の偏光フィルムが製造されている。このように製造された長尺の偏光フィルムでは、転写された位相差層の幅方向端部にバリが生じることがあった。バリが発生すると、長尺偏光フィルムに異物が混入し、製造ラインが異物で汚染される。本開示は、位相差層の端部へのバリの発生抑制を目的とする。

本開示の一実施の形態における長尺位相差フィルムは、
長手方向及び短手方向を含む長尺位相差フィルムであって、
基材と、
前記基材と重ねられた位相差層と、備え、
前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、を含み、
前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である。

本開示の一実施の形態における長尺光学フィルムは、
長手方向及び短手方向を含む長尺光学フィルムであって、
基材、接合層、及び位相差層を、この順で備え、
前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、を含み、
前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である。

本開示の一実施の形態における長尺偏光フィルムは、
長手方向及び短手方向を含む長尺偏光フィルムであって、
偏光子を含む偏光層と、
前記偏光層と重ねられた位相差層と、を備え、
前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、を含み、
前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である。

本開示の一実施の形態における長尺位相差フィルムの製造方法は、
長手方向及び短手方向を有する長尺の基材に配向膜形成用組成物を塗布して、第１塗布膜を形成する工程と、
前記第１塗布膜の前記短手方向における端部領域及び前記端部領域を除く中央領域に、互いに偏光状態の異なる偏光を照射して、前記端部領域及び前記中央領域が互いに異なる配向方向への配向規制力を有した配向膜を前記第１塗布膜から形成する工程と、
前記基材および前記配向膜を含む中間体に液晶組成物を塗布して、第２塗布膜を形成する工程と、
前記第２塗布膜を硬化させて、前記液晶組成物の硬化物を含む位相差層を形成する工程と、を備え、
前記位相差層は、前記中央領域に対面する第１領域と、前記端部領域に対面する第２領域と、を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である。

本開示の一実施の形態における長尺光学フィルムの製造方法は、
本開示の一実施の形態における長尺位相差フィルムを、接合層を含む長尺の被転写フィルムに積層する工程と、
前記接合層に接合した前記長尺位相差フィルムから、前記基材を剥がす工程と、を備える。

本開示によれば、位相差層の端部へのバリの発生を抑制できる。

図１は、一実施の形態を説明するための図であって、長尺位相差フィルムの一例を示す縦断面図である。 図２は、図１の長尺位相差フィルムの一例を示す平面図である。 図３は、長尺位相差フィルム、被転写フィルム、長尺光学フィルム及び長尺偏光フィルムの一例を示す斜視図である。 図４は、図２の一部拡大図である。 図５は、図１の長尺位相差フィルムの製造方法の一例を説明する図である。 図６は、図５の製造方法を説明する図である。 図７は、図５の製造方法を説明する図である。 図８は、図５の製造方法を説明する図である。 図９は、図５の製造方法を説明する図である。 図１０は、図５の製造方法を説明する図である。 図１１は、図５の製造方法を説明する図である。 図１２は、図１の長尺位相差フィルムを用いて製造される長尺光学フィルム及び長尺偏光フィルムの一例を示す縦断面図である。 図１３は、図１２の長尺光学フィルム及び長尺偏光フィルムの製造に用いられる被転写フィルムの一例を示す縦断面図である。 図１４は、図１２の長尺光学フィルム及び長尺偏光フィルムの製造方法の一例を説明する図である。 図１５は、図１４の製造方法を説明する図である。 図１６は、図１４の製造方法を説明する図である。 図１７は、図１４の製造方法を説明する図である。 図１８は、図１２の長尺光学フィルム及び長尺偏光フィルムから得られる光学フィルム及び偏光フィルムの一適用例を示す図である。 図１９は、光学フィルム及び偏光フィルムの他の適用例を示す図である。 図２０は、実施例１に係る長尺位相差フィルムを、被転写フィルムとともに、示す断面図である。 図２１は、実施例２に係る長尺位相差フィルムを、被転写フィルムとともに、示す断面図である。 図２２は、比較例１に係る長尺位相差フィルムを、被転写フィルムとともに、示す断面図である。 図２３は、実施例１に係る長尺光学フィルムを示す写真である。 図２４は、比較例１に係る長尺光学フィルムを示す写真である。

本開示の一実施の形態は、次の[１]～[４７]に関する。

［１］
長手方向及び短手方向を含む長尺位相差フィルムであって、
基材と、
前記基材と重ねられた位相差層と、備え、
前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、を含み、
前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である、長尺位相差フィルム。

［２］
前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
前記第１遅相軸と前記長手方向との間の第１配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、［１］に記載の長尺位相差フィルム。

［３］
前記第１配向角は１０°以上１７０°以下である、［２］に記載の長尺位相差フィルム。

［４］
前記第１配向角は３０°以上１５０°以下である、［２］又は［３］に記載の長尺位相差フィルム。

［５］
前記第１領域は、前記短手方向における前記位相差層の中心を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［６］
前記第２領域の前記短手方向に沿った長さは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、［１］～［５］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［７］
前記第１領域の前記短手方向に沿った長さは、前記第２領域の前記短手方向に沿った長さの１２倍以上である、［１］～［６］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［８］
前記位相差層は、一対の第３領域を更に含み、
前記一対の第２領域は、前記短手方向における前記一対の第３領域の間に位置し、
前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
前記第３領域は、第３遅相軸を有し、
前記第３遅相軸と前記長手方向との間の第３配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、［１］～［７］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［９］
前記第３配向角は４０°以上１４０°以下である、［８］に記載の長尺位相差フィルム。

［１０］
前記第３領域は、前記短手方向における前記位相差層の端部を含む、［８］又は［９］に記載の長尺位相差フィルム。

［１１］
前記基材と、前記第１領域および前記第２領域と、の間に位置する配向膜を備え、
前記第３領域は、前記基材に接触している、［８］～［１０］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［１２］
前記配向膜は、光配向膜を含む、［１１］に記載の長尺位相差フィルム。

［１３］
前記基材は、遅相軸を有するポリエチレンフィルムを含み、
前記ポリエチレンフィルムの前記遅相軸と前記長手方向との間の角度は、４０°以上１４０°以下である、［１１］又は［１２］に記載の長尺位相差フィルム。

［１４］
前記第３領域の前記短手方向に沿った長さは、０．５ｍｍ以上５０ｍｍ以下である、［８］～［１３］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［１５］
波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（４５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（５５０）より小さく、
前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（６５０）より小さく、
前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上１５３ｎｍ以下である、［１］～［１４］のいずれかに記載の長尺位相差フィルム。

［１６］
長手方向及び短手方向を含む長尺光学フィルムであって、
基材、接合層、及び位相差層を、この順で備え、
前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、を含み、
前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である、長尺光学フィルム。

［１７］
前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
前記第１遅相軸と前記長手方向との間の第１配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、［１６］に記載の長尺光学フィルム。

［１８］
前記第１配向角は１０°以上１７０°以下である、［１７］に記載の長尺光学フィルム。

［１９］
長手方向及び短手方向を含む長尺偏光フィルムであって、
偏光子を含む偏光層と、
前記偏光層と重ねられた位相差層と、を備え、
前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、を含み、
前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である、長尺偏光フィルム。

［２０］
前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
前記第１遅相軸と前記長手方向との間の第１配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、［１９］に記載の長尺偏光フィルム。

［２１］
前記第１配向角は１０°以上１７０°以下である、［２０］に記載の長尺偏光フィルム。

［２２］
前記第１配向角は３０°以上１５０°以下である、［２０］又は［２１］に記載の長尺偏光フィルム。

［２３］
前記第２領域は、前記短手方向における前記位相差層の端部を含む、［１９］～［２２］のいずれかに記載の長尺偏光フィルム。

［２４］
前記第１領域は、前記短手方向における中心を含む、［１９］～［２３］のいずれかに記載の長尺偏光フィルム。

［２５］
前記第２領域の前記短手方向に沿った長さは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、［１９］～［２４］のいずれかに記載の長尺偏光フィルム。

［２６］
前記第１領域の前記短手方向に沿った長さは、前記第２領域の前記短手方向に沿った長さの１２倍以上である、［１９］～［２５］のいずれかに記載の長尺偏光フィルム。

［２７］
波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（４５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（５５０）より小さく、
前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（６５０）より小さく、
前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上１５３ｎｍ以下である、［１９］～［２６］のいずれかに記載の長尺偏光フィルム。

［２８］
長手方向及び短手方向を有する長尺の基材に配向膜形成用組成物を塗布して、第１塗布膜を形成する工程と、
前記第１塗布膜の前記短手方向における端部領域及び前記端部領域を除く中央領域に、互いに偏光状態の異なる偏光を照射して、前記端部領域及び前記中央領域が互いに異なる配向方向への配向規制力を有した配向膜を前記第１塗布膜から形成する工程と、
前記基材および前記配向膜を含む中間体に液晶組成物を塗布して、第２塗布膜を形成する工程と、
前記第２塗布膜を硬化させて、前記液晶組成物の硬化物を含む位相差層を形成する工程と、を備え、
前記位相差層は、前記中央領域に対面する第１領域と、前記端部領域に対面する第２領域と、を含み、
前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である、長尺位相差フィルムの製造方法。

［２９］
前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
前記第１遅相軸と前記長手方向との間の第１配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、［２８］に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３０］
前記第１配向角は１０°以上１７０°以下である、［２９］に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３１］
前記第１配向角は３０°以上１５０°以下である、［２９］又は［３０］に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３２］
前記第１領域は、前記短手方向における中心を含む、［２８］～［３１］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３３］
前記第２領域の前記短手方向に沿った長さは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、［２８］～［３２］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３４］
前記第１領域の前記短手方向に沿った長さは、前記第２領域の前記短手方向に沿った長さの１２倍以上である、［２８］～［３３］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３５］
前記位相差層は、一対の第３領域を更に含み、
前記一対の第２領域は、前記短手方向における前記一対の第３領域の間に位置し、
前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
前記第３領域は、第３遅相軸を有し、
前記第３遅相軸と前記長手方向との間の第３配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、［２８］～［３４］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３６］
前記第３配向角は４０°以上１４０°以下である、［３５］に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３７］
前記第３領域は、前記短手方向における前記位相差層の端部を含む、［３５］又は［３６］に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３８］
前記第３領域は、前記基材に接触している、［３５］～［３７］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［３９］
前記基材は、遅相軸を有するポリエチレンフィルムを含み、
前記ポリエチレンフィルムの前記遅相軸と前記長手方向との間の角度は、４０°以上１４０°以下である、［３８］に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［４０］
前記第３領域の前記短手方向に沿った長さは、０．５ｍｍ以上５０ｍｍ以下である、［３５］～［３９］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［４１］
波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（４５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（５５０）より小さく、
前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（６５０）より小さく、
前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上１５３ｎｍ以下である、［２９］～［４０］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムの製造方法。

［４２］
［１］～［１５］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムを、接合層を含む長尺の被転写フィルムに積層する工程と、
前記接合層に接合した前記長尺位相差フィルムから、前記基材を剥がす工程と、を備える、長尺光学フィルムの製造方法。

［４３］
前記長尺光学フィルムは、前記位相差層の前記第１領域と、前記第２領域の一部と、を含み、
前記位相差層の前記第２領域の前記一部以外の残部は前記基材上に残留する、［４２］に記載の長尺光学フィルムの製造方法。

［４４］
前記長尺位相差フィルムが前記被転写フィルムに積層された状態において、前記第２領域は前記短手方向における前記接合層の端部に対面する、［４２］又は［４３］に記載の長尺光学フィルムの製造方法。

［４５］
前記長尺位相差フィルムは、［８］～［１４］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムであり、
前記長尺光学フィルムは、前記位相差層の前記第１領域と、前記第２領域の一部と、を含み、
前記位相差層の前記第３領域と、前記第２領域の前記一部以外の残部と、は前記基材上に残留する、［４２］～［４４］のいずれかに記載の長尺光学フィルムの製造方法。

［４６］
前記長尺位相差フィルムは、［８］～［１４］のいずれかに記載の長尺位相差フィルムであり、
前記長尺位相差フィルムが前記被転写フィルムに積層された状態において、前記第２領域は前記短手方向における前記接合層の端部に対面し、前記第３領域は、前記短手方向における前記接合層の外側に位置し、前記被転写フィルムの前記基材に対面する、［４２］～［４５］のいずれかに記載の長尺光学フィルムの製造方法。

［４７］
前記被転写フィルムは、偏光子を含む偏光層を含む、［４２］～［４６］のいずれかに記載の長尺光学フィルムの製造方法。

以下、本開示の一実施の形態の詳細について説明する。本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

本明細書において、「フィルム」、「シート」及び「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別されない。例えば「位相差フィルム」は、位相差シート又は位相差板と呼ばれる部材等と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。「偏光フィルム」は、偏光シート又は偏光板と呼ばれる部材等と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。

「フィルム面（シート面、板面）」とは、対象となるフィルム状（シート状、板状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（シート状部材、板状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。フィルム状（シート状、板状）の部材に対する法線方向とは、当該フィルム状（シート状、板状）の部材のフィルム面（シート面、板面）への法線方向のことを指す。

本明細書において、あるパラメータに関して複数の上限値の候補及び複数の下限値の候補が挙げられている場合、そのパラメータの数値範囲は、任意の１つの上限値の候補と任意の１つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。一例として、「パラメータＢは、Ａ１以上でもよく、Ａ２以上でもよく、Ａ３以上でもよい。パラメータＢは、Ａ４以下でもよく、Ａ５以下でもよく、Ａ６以下でもよい。」との記載について検討する。この例において、パラメータＢの数値範囲は、Ａ１以上Ａ４以下でもよく、Ａ１以上Ａ５以下でもよく、Ａ１以上Ａ６以下でもよく、Ａ２以上Ａ４以下でもよく、Ａ２以上Ａ５以下でもよく、Ａ２以上Ａ６以下でもよく、Ａ３以上Ａ４以下でもよく、Ａ３以上Ａ５以下でもよく、Ａ３以上Ａ６以下でもよい。

方向の関係を図面間で明確にするため、いくつかの図面には、共通する符号を付した矢印により共通する第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３を示している。矢印の先端側が、各方向の第１側となる。矢印の先端とは反対側が、各方向の第２側となる。図面の紙面に垂直な方向に沿って紙面の奥に向かう矢印を、例えば図１に示すように、円の中に×を設けた記号により示した。図面の紙面に垂直な方向に沿って紙面から手前に向かう矢印を、例えば図２に示すように、円の中に点を設けた記号により示した。

なお、図１及び図１３には断面を示すハッチングを付している。その他の図では、ハッチングを省略している。また、図８～図１２、図１５、図１７、及び図２０～図２２には、配向膜３０の配向規制力および位相差層４０の配向状態を示すハッチングを付している。図８～図１２、図１５、図１７、及び図２０～図２２に付したハッチングは、断面を示すものではない。

＜＜長尺位相差フィルム１０＞＞
図１～図３は、本実施の形態による長尺位相差フィルム１０の一例を示している。図１及び図２に示すように、長尺位相差フィルム１０は、長手方向および短手方向を有している。短手方向は、長手方向に直交してもよい。図において、長尺位相差フィルム１０の長手方向は、第２方向Ｄ２として示されている。長尺位相差フィルム１０の短手方向は、第１方向Ｄ１として示されている。長尺位相差フィルム１０は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に広がっている。長尺位相差フィルム１０の法線方向は、第３方向Ｄ３にとして示されている。第３方向Ｄ３は、長尺位相差フィルム１０の厚み方向である。第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２は、互いに直交してもよい。第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１と直交してもよい。第３方向Ｄ３は、第２方向Ｄ２と直交してもよい。

図３に示すように、長尺位相差フィルム１０は、巻取軸線ＲＡを中心として巻取コア１２に巻き取った巻体１０Ｒとして、取り扱うことができる。これにより、長尺位相差フィルム１０の取り扱い性を改善できる。後述するように、長尺位相差フィルム１０は、ロールトゥロール方式の製造方法によって、製造され得る。長尺位相差フィルム１０は、生産効率や製造コストにおいて優れる。

本実施の形態による、長尺位相差フィルム１０は、図４に示すように、基材２０と、基材２０と重ねられた位相差層４０と、を含む。基材２０は長尺である。位相差層４０は長尺である。位相差層４０は、第１領域４１と、一対の第２領域４２と、を含む。図示された例では、位相差層４０は、一対の第３領域４３をさらに含む。第１領域４１は、短手方向における一対の第２領域４２の間に位置する。一対の第２領域４２は、短手方向における一対の第３領域４３の間に位置する。位相差層４０は、液晶組成物の硬化物を含む。第２領域４２は水平配向を有する。第２領域４２は第２遅相軸Ａ４２を有し、第２遅相軸Ａ４２と長手方向との間の第２配向角θ４２は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である。

「長尺」とは、フィルム等の対象物が、広げた状態において、５ｍ以上の長さを有することを意味し、１０ｍ以上の長さを有してもよく、１００ｍ以上の長さを有してもよい。「長手方向」とは、フィルム等の対象物を広げた状態において、最も長い端縁に沿った方向を意味する。「短手方向」とは、フィルム等の対象物を広げた状態において、最小の長さが得られる方向を意味する。

後述するように、接合層５３を含む長尺の被転写フィルム５０に長尺位相差フィルム１０を積層し、次に、接合層５３に接合した長尺位相差フィルム１０から基材２０を剥がすことによって、位相差層４０を被転写フィルム５０に転写できる。このとき、被転写フィルム５０に転写された位相差層４０の短手方向における端部へのバリの発生を抑制できる。

図示された例において、長尺位相差フィルム１０は、配向膜３０を更に含む。配向膜３０は、第３方向Ｄ３において、基材２０と位相差層４０との間に位置する。配向膜３０は長尺である。以下、図面を参照しながら、長尺位相差フィルム１０の各層について説明する。

＜位相差層４０＞
位相差層４０は、液晶組成物の硬化物を含む。液晶組成物は、液晶化合物を含む。液晶組成物は、重合反応する液晶組成物、すなわち重合性液晶組成物でもよい。液晶組成物は、重合性液晶化合物を含んでもよい。位相差層４０は、重合性液晶化合物を含んでもよい。位相差層４０は、液晶組成物を塗布することによって塗布膜を形成し、次に液晶組成物を硬化させることによって、得られ得る。塗布膜内における液晶化合物の配向状態を、水平配向、垂直配向、傾斜配向、ツイスト配向、ハイブリッド配向等に調節してもよい。塗布膜内における液晶化合物の配向を調節することにより、位相差層４０内の各領域の光学特性を制御できる。位相差層４０の各領域における液晶化合物の配向については、後述する。

重合性液晶化合物は、特に限定されない。重合性液晶化合物は、複屈折を有する層の形成に用いられる重合性液晶化合物でもよい。重合性液晶化合物は、位相差層４０に所望されるリタデーション値、波長分散性、配向性、溶解性等に応じて適宜選択される。

重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物である。重合性液晶化合物は、分子内に重合性官能基を含む。重合性官能基によれば、液晶化合物を重合して固定できるので、配向安定性に優れ、位相差の経時変化を低減できる。重合性液晶化合物は、単一の重合性官能基を含む単官能性液晶化合物でもよい。重合性液晶化合物は、２以上の重合性官能基を含む多官能性液晶化合物でもよい。重合性官能基を２以上有することにより、液晶化合物の三次元的な配向がより安定し、位相差の経時変化を更に低減できる。重合性液晶化合物は、３つの重合性官能基を含む多官能性液晶化合物でもよい。重合性液晶化合物は、２つの重合性官能基を含む多官能性液晶化合物でもよい。重合性官能基は、紫外線や電子線等の電離放射線によって重合してもよい。重合性官能基は、熱の作用によって重合してもよい。重合性液晶化合物は、低分子液晶化合物でもよい。重合性液晶化合物は、高分子液晶化合物でもよい。

重合性官能基は、ラジカル重合性官能基でもよい。ラジカル重合性官能基として、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が例示される。重合性官能基の具体例として、置換基を有する若しくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が例示される。

重合性官能基は、カチオン重合性官能基でもよい。重合性官能基の具体例として、脂環式エーテル基（エポキシ基、オキセタニル基等）、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状イミノエーテル基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基等が例示される。

重合性液晶組成物は、単一の重合性液晶化合物を含んでもよい。重合性液晶組成物は、二種以上の重合性液晶化合物を含んでもよい。二種以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、リタデーション値、波長分散性、配向性、溶解性、相転移温度等を調整できる。

重合性液晶組成物は、液晶性を有さない重合性化合物、光重合開始剤、増感剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤等の材料を１種類以上含んでもよい。

位相差層４０の波長分散性は、逆分散性でもよい。逆分散性とは、面内位相差Ｒｅが短波長側から長波長側に向かって増大する波長分散性を意味する。位相差層４０の波長分散性を逆分散性とすることにより、波長に応じた面内位相差Ｒｅの変動を抑制でき、色表現に優れる。逆分散性を示す重合性液晶化合物として、特開２０１９－７３７１２号公報の一般式（１）で表されるもの、国際公開番号ＷＯ２０１７／０４３４３８の一般式（ＩＩ）で表されるものが例示される。

逆分散性を有する位相差層４０は、第１領域４１において、面内位相差に関して次の光学特性を有してもよい。
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）
Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）
Ｒｅ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける位相差層４０の第１領域４１での面内位相差である。Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける位相差層４０の第１領域４１での面内位相差である。Ｒｅ（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける位相差層４０の第１領域４１での面内位相差である。

位相差層４０の第１領域４１でのＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及びＲｅ（６５０）は、特に限定されない。位相差層４０の第１領域４１をλ／４位相差層とする例において、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及びＲｅ（６５０）は、９０ｎｍ以上でもよく、１００ｎｍ以上でもよく、１１０ｎｍ以上でもよい。位相差層４０の第１領域４１をλ／４位相差層とする例において、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及びＲｅ（６５０）は、１８０ｎｍ以下でもよく、１６０ｎｍ以下でもよく、１５０ｎｍ以下でもよい。位相差層４０の第１領域４１をλ／４位相差層とする例において、面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上でもよく、１３３ｎｍ以上でもよく、１３６ｎｍ以上でもよい。位相差層４０の第１領域４１をλ／４位相差層とする例において、面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１５３ｎｍ以下でもよく、１５０ｎｍ以下でもよく、１４７ｎｍ以下でもよい。位相差層４０の第１領域４１での面内位相差をこのように設定することによって、位相差層４０の第１領域４１を偏光子との組み合わせにおいて円偏光板として利用できる。

位相差層４０の第３方向Ｄ３に沿った厚みは、０．１μｍ以上でもよく、０．５μｍ以上でもよく、１．５μｍ以上でもよい。位相差層４０の厚みは、５．０μｍ以下でもよく、４．０μｍ以下でもよく、３．０μｍ以下でもよい。位相差層４０の厚みをこのように設定することにより、λ／４位相差層として適切な上記面内位相差を位相差層４０の第１領域４１に付与できる。

位相差層４０や、長尺位相差フィルム１０を構成する構成要素の厚み、後述の被転写フィルム５０や長尺光学フィルム５５を構成する構成要素の厚みは、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）による長尺位相差フィルム１０や被転写フィルム５０等の観察画像における２０箇所での測定値の平均値とする。

面内位相差は、１６箇所の測定値の平均値とする。１６の測定箇所は、測定サンプルの外縁から１ｃｍの領域を余白として、該余白よりも内側の領域に関して、縦方向及び横方向を５等分する線を引いた際の、交点の１６箇所を測定の中心とする。測定サンプルが四角形の場合には、四角形の外縁から１ｃｍの領域を余白として、該余白よりも内側の領域を縦方向及び横方向に５等分した線の交点の１６箇所を中心として測定を行い、その平均値を算出することによって、当該測定サンプルの面内位相差が特定される。測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の四角形以外の形状の場合、これらの形状に内接する最大面積の正方形または長方形を特定し、該正方形または長方形に関して、上記手法により１６箇所の測定が行われる。面内位相差は、大塚電子社製の商品名「ＲＥＴＳ－１００」で測定される。

ＲＥＴＳ－１００を用いた面内位相差Ｒｅの測定は、次の手順（Ａ１）～（Ａ４）に従う。
（Ａ１）まず、ＲＥＴＳ－１００の光源を安定させるため、光源をつけてから６０分以上放置する。その後、回転検光子法を選択するとともに、θモードを選択する。このθモードを選択することにより、ステージは傾斜回転ステージとなる。
（Ａ２）次いで、ＲＥＴＳ－１００に以下の測定条件を入力する。
（測定条件）
・リタデーション測定範囲：回転検光子法
・測定スポット径：φ５ｍｍ
・傾斜角度範囲：０°
・測定波長範囲：４００ｎｍ～８００ｎｍ
・測定対象の層の平均屈折率（例えば、ＰＥＴフィルムの場合には、Ｎ＝１．６１７とする）
・厚み：ＳＴＥＭで別途測定した厚み
（Ａ３）次いで、この装置にサンプルを設置せずに、バックグラウンドデータを得る。装置は閉鎖系とし、光源を点灯させる毎にこれを実施する。
（Ａ４）その後、装置内のステージ上にサンプルを設置して、測定する。

面内位相差の測定対象が、幅が狭い等の理由によって十分な大きさを有さない場合、測定対象と同等の条件にて十分な大きさを有する測定用サンプルを作製し、この測定用サンプルについて測定された面内位相差を測定対象の面内位相差として用いる。

＜基材２０＞
基材２０は、位相差層４０を支持する。図示された例において、基材２０は、配向膜３０も支持する。基材２０は、透明でもよい。透明とは、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７に準拠する全光線透過率が５０％以上であることを意味し、７０％以上でもよく、８０％以上でもよく、９０％以上でもよい。長尺位相差フィルム１０をロールトゥロール方式で製造する上で、基材２０は、ロール状に巻き取り可能な可撓性を有してもよい。

基材２０の材料として、樹脂を用いてもよい。樹脂製の基材２０は、可撓性を有し、ロールトゥロール方式の製造方法に好適である。基材２０の材料としてポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸メチル等が例示される。

二軸延伸したポリエチレンフィルムは、透明性が高く、機械的特性に優れる。二軸延伸ポリエチレンフィルムは、複屈折を有し得る。複屈折を有する二軸延伸ポリエチレンフィルムは、後述するように、位相差層４０を形成するための液晶組成物に含まれる液晶化合物に対して、配向規制力を発揮できる。ポリエチレンフィルム等の多くの樹脂基材では、延伸軸が遅相軸となる。二軸延伸されたポリエチレンフィルム等の多くの樹脂基材において、延伸倍率が最も大きい延伸方向が遅相軸となる。樹脂フィルムは、通常、長手方向と、長手方向に直交する短手方向と、に延伸される。短手方向の延伸倍率は、長手方向の延伸倍率よりも大きい。

図示された例において、二軸延伸樹脂基材２０の遅相軸Ａ２０が長手方向（第２方向Ｄ２）に対してなす配向角θ２０から９０°を引いた値の絶対値は、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さい。配向角θ２０は、４０°以上でもよく、５０°以上でもよく、６０°以上でもよく、７０°以上でもよく、８０°以上でもよい。配向角θ２０は、１４０°以下でもよく、１３０°以下でもよく、１２０°以下でもよく、１１０°以下でもよく、１００°以下でもよい。配向角θ２０は９０°でもよい。図４に示すように、配向角は、遅相軸と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の角の大きさである。配向角は、長手方向における一方の側に延びる軸を基準軸ＡＳとし、この基準軸ＡＳに対し遅相軸が反時計回り方向になす角度の大きさとなる。配向角は、０°以上１８０°未満の角度として特定される。図４に示された例において、基準軸ＡＳは、第２方向Ｄ２における第１側を向いている。

基材２０は、上述した材料からなるバインダー樹脂中に、難燃剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、光安定剤、粘着付与剤、帯電防止剤等の１種以上を含んでもよい。

基材２０の第３方向Ｄ３に沿った厚みは、１０μｍ以上でもよく、２５μｍ以上でもよく、３０μｍ以上でもよい。基材２０の厚みは、１０００μｍ以下でもよく、２００μｍ以下でもよく、１５０μｍ以下でもよい。

配向膜３０及び位相差層４０に対面する基材２０の面は、表面処理を施されていなくてもよい。後述するように位相差層４０を被転写フィルム５０に転写する際、未表面処理面を有する基材２０を容易に長尺位相差フィルム１０から剥がすことができる。配向膜３０及び位相差層４０に対面しない基材２０の面は、表面処理を施されてもよい。

＜配向膜３０＞
図１及び図２に示すように、長尺位相差フィルム１０は、基材２０と位相差層４０との間に配向膜３０を含んでいる。配向膜３０は、配向規制力を有する。配向膜３０は、位相差層４０の配向を調節する。配向膜３０は、位相差層４０に含まれる液晶化合物を一定方向に配列させる。

配向膜３０は、以下の記載のとおり液晶化合物に対して配向規制力を発揮する。配向膜は、ラビング配向膜でもよい。ラビング配向膜は、ラビング処理によって配向規制力を付与される。配向膜形成用組成物を基材２０上に塗布して基材２０上に塗布膜を形成し、ラビングロール等を用いて塗布膜をラビング処理することにより、ラビング配向膜が得られる。配向膜３０は、光配向膜がより好ましい。光配向膜は、偏光を照射することによって配向規制力を付与される。

配向膜の材料は、上記によれば特に制限されない。配向膜の材料として、配向膜の材料として、ラビング配向膜の材料や光配向膜の材料として使用されている材料を用いてもよい。ラビング配向膜の材料として、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂等が例示される。

光配向膜の材料として、より好ましくは偏光を照射することにより配向規制力を発現する光配向性材料が用いられる。光配向膜の材料は、光二量化型材料および光異性化型材料のいずれであってもよい。光配向性材料を基材２０上に塗布して基材２０上に塗布膜を形成し、光配向性材料の塗布膜に偏光を照射して塗布膜を硬化させることによって、光配向膜が得られる。

配向膜３０の第３方向Ｄ３に沿った厚みは、１ｎｍ以上でもよく、６０ｎｍ以上でもよい。配向膜３０の厚みは、１０００ｎｍ以下でもよく、５００ｎｍ以下でもよい。

＜位相差層４０の光学特性＞
本実施の形態による長尺位相差フィルム１０において、位相差層４０は、第１領域４１と、一対の第２領域４２と、一対の第３領域４３と、を含む。第１領域４１は、短手方向における一対の第２領域４２の間に位置する。一対の第２領域４２は、短手方向における一対の第３領域４３の間に位置する。

第１領域４１は、長尺位相差フィルム１０から切り出されて位相差フィルム１０Ｘ（図３参照）として用いられる。第１領域４１は、位相差フィルム１０Ｘの用途に応じた所望の位相差を付与される。第１領域４１において、液晶化合物は水平配向されてもよい。水平配向とは、液晶化合物が、位相差層４０のシート面に沿って配置されていることを意味する。第１領域４１において、液晶化合物は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２によって規定される面に沿った一方向に沿って延びるよう配列されてもよい。この例において、第１領域４１は、面内複屈折を有し得る。第１領域４１は、面内に第１遅相軸Ａ４１を有し得る。第１領域４１における液晶化合物の配向は、配向膜３０に付与された配向規制力によって、調節され得る。

図示された例において、第１領域４１の第１遅相軸Ａ４１と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の第１配向角θ４１は、１０°以上１７０°以下である。第１配向角θ４１は、一例として、１０°以上でもよく、２０°以上でよく、３０°以上でもよい。この一例において、第１配向角θ４１は、８０°以下でもよく、７０°以下でよく、６０°以下でもよい。第１配向角θ４１は、他の例として、１００°以上でもよく、１１０°以上でよく、１２０°以上でもよい。この他の例において、第１配向角θ４１は、１７０°以下でもよく、１６０°以下でよく、１５０°以下でもよい。

図４に示された例において、第１領域４１はλ／４位相差層として用いられてもよい。位相差層４０の第１領域４１は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２のいずれかに透過軸を有する偏光層と積層されて、円偏光板を構成してもよい。この例において、第１領域４１の第１遅相軸Ａ４１と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の第１配向角θ４１は、３０°以上でもよく、３５°以上でもよく、４０°以上でもよく、４２°以上でもよい。この例において、第１配向角θ４１は、９０°以下でもよく、８０°以下でもよく、７０°以下でもよく、６０°以下でもよく、５５°以下でもよく、５０°以下でもよく、４８°以下でもよい。この例において、第１配向角θ４１は、４５°でもよい。

第１領域４１をλ／４位相差層として用いる他の例として、第１配向角θ４１は、１２５°以上でもよく、１３０°以上でよく、１３２°以上でもよい。この他の例において、第１配向角θ４１は、１４５°以下でもよく、１４０°以下でよく、１３８°以下でもよい。この他の例において、第１配向角θ４１は、１３５°でもよい。

配向角は、既に説明したように、遅相軸と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の角の大きさである。配向角は、長手方向における一方の側に延びる軸を基準軸ＡＳとし、この基準軸ＡＳに対し遅相軸が反時計回り方向になす角度の大きさとなる。配向角は、０°以上１８０°未満の角度として特定される。

図４に示すように、第２領域４２において、液晶化合物は水平配向されてもよい。すなわち、第２領域４２において、液晶化合物は、位相差層４０の面内で配向してもよい。さらに言い換えると、第２領域４２において、液晶化合物は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２によって規定される面に沿った一方向に沿って延びるよう配列されてもよい。この例において、第２領域４２は、面内複屈折を有し得る。第２領域４２は、面内に第２遅相軸Ａ４２を有し得る。第２領域４２における液晶化合物の配向は、配向膜３０に付与された配向規制力によって、調節され得る。第２遅相軸Ａ４２と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の第２配向角θ４２は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満である。第２配向角θ４２は、一例として、１０°未満でもよく、８°以下でもよく、５°以下でもよく、０°でもよい。第２配向角θ４２は、１７０°より大きくてもよく、１７２°以上でもよく、１７５°以上でもよい。第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値は、第１配向角θ４１から９０°を引いた値の絶対値より大きくてよい。言い換えると、第１配向角θ４１から９０°を引いた値の絶対値は、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さくてよい。

図４に示すように、第３領域４３は第３遅相軸Ａ４３を有する。第３領域４３において、液晶化合物は水平配向されてもよい。すなわち、第３領域４３において、液晶化合物は、位相差層４０の面内で配向してもよい。さらに言い換えると、第３領域４３において、液晶化合物は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２によって規定される面に沿った一方向に沿って延びるよう配列されてもよい。この例において、第３領域４３は、面内複屈折を有し得る。第３領域４３は、面内に第３遅相軸Ａ４３を有し得る。第３遅相軸Ａ４３と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の第３配向角θ４３から９０°を引いた値の絶対値は、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さくてよい。言い換えると、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値は、第３配向角θ４３から９０°を引いた値の絶対値より大きくてよい。図示された例において、第３配向角θ４３は、４０°以上１４０°以下である。一例として、第３配向角θ４３は、４０°以上でもよく、５０°以上でもよく、６０°以上でもよく、７０°以上でもよく、８０°以上でもよい。第３配向角θ４３は、１４０°以下でもよく、１３０°以下でもよく、１２０°以下でもよく、１１０°以下でもよく、１００°以下でもよい。第３配向角θ４３は、９０°でもよい。

第３領域４３における液晶化合物の配向は、配向膜３０に付与された配向規制力によって、調節されてもよい。第３領域４３における液晶化合物の配向は、延伸によって遅相軸を付与された基材２０の配向規制力に起因して、調節されてもよい。

長尺位相差フィルムの位相差層は、長尺の被転写フィルムに転写されて、使用され得る。従来の長尺位相差フィルムの位相差層において、液晶化合物は、全面に亘って、一定の方向に配向されていた。従来の長尺位相差フィルムの位相差層を被転写フィルムに転写して、長尺位相差フィルムから基材を長手方向に剥がすと、位相差層の短手方向（幅方向）における端部にバリが発生し得た。バリが付着した位相差フィルムや、当該位相差フィルムを用いて製造された光学フィルム等の製造物は、製品として使用できない。また、発生したバリは、長尺位相差フィルムが取り扱われる製造ラインを汚染する。製造ラインがバリで汚染されると、その後に当該製造ラインで製造される製造物にも、バリが付着し得る。すなわち、長尺位相差フィルムに関連した製造物の歩留まりを大きく低下させ得る。

本開示の発明者らが、バリの発生について検討を行ったところ、バリの発生は、長尺位相差フィルムから基材を剥がす方向と、位相差層における液晶化合物の遅相軸と、の関係に影響を受けることが知見された。

まず、後に参照する図１７にも示すように、位相差層が被転写フィルムに転写される際、位相差層の両端部分は、その他の部分から引き裂かれて、基材上に残留する。つまり、位相差層の中央部分のみが被転写フィルムに転写される。そして、位相差層を引き裂く際、位相差層はその遅相軸に沿って引き裂かれ易くなることが確認された。長尺位相差フィルムにおける遅相軸の配向角は、通常０°以外であり、１０°以上８０°以下または１００°以上１７０°以下となることが多く、例えば４５°又は１３５°となる。配向角が４５°又は１３５°となっている位相差層については、バリが生じ易かった。

このような現象から、配向軸を長手方向に沿わせることによって、言い換えると、配向角から９０°を引いた値の絶対値を大きくすることによって、基材の引き剥がし方向である長手方向（第２方向Ｄ２）に沿って位相差層を安定して引き裂き得ることが予想される。

このような検討に基づき、本実施の形態では、位相差層４０の各領域４１，４２，４３における液晶化合物の配向を調節している。本実施の形態において、第２領域４２及び第３領域４３は、長尺位相差フィルム１０から切り出されて位相差フィルム１０Ｘとして使用されることを意図されていない。第２領域４２は、基材２０を長尺位相差フィルム１０から剥がす際に、位相差層４０の引き裂きを予定された領域である。第３領域４３は、長尺位相差フィルム１０から剥がされた基材２０に残留することを意図された領域である。

まず、本実施の形態において、位相差層４０は、第２領域４２において、遅相軸Ａ４２の配向角θ４２が、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満となっている。したがって、第２領域４２では、位相差層４０が長手方向（第２方向Ｄ２）に沿って引き裂かれ易い。これにより、基材２０の引き剥がし方向である長手方向（第２方向Ｄ２）に沿って、位相差層４０を第２領域４２において直線状に引き裂き得る。この結果、被転写フィルム５０に転写された位相差層４０Ｐの短手方向（第１方向Ｄ１）の端部Ｅ４０Ｐに発生するバリを低減できる。

また、本件発明者が得た知見によれば、位相差層４０の配向軸が位相差層４０を引き裂く方向に対して大きな角度をなす場合、言い換えると、位相差層４０の配向角から９０°を引いた値の絶対値が小さくなると、位相差層４０は上記引き裂き方向へ引き裂きづらくなる。このような知見に基づき、図示された例において、位相差層４０は、第２領域４２における遅相軸Ａ４２の配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値よりも、第１領域４１における遅相軸Ａ４１の配向角θ４１から９０°を引いた値の絶対値が小さくなっている。したがって、第１領域４１は、第２領域４２よりも長手方向に引き裂きづらい。これにより、長尺位相差フィルム１０から基材２０を長手方向（第２方向Ｄ２）に剥がす際、基材２０の引き剥がし方向に沿った直線状の第２領域４２での引き裂きが促進される。また、図示された例において、第２領域４２における遅相軸Ａ４２の配向角θ４２が０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満であるのに対し、第１領域４１における遅相軸Ａ４１の配向角θ４１は、３０°以上１５０°以下である。したがって、第１領域４１は、第２領域４２と比較して、長手方向での引き裂きが顕著に困難である。これにより、長尺位相差フィルム１０から基材２０を剥がす際、基材２０の引き剥がし方向に沿った直線状の第２領域４２での引き裂きが効果的に促進される。

また、図示された例において、位相差層４０は、第２領域４２における遅相軸Ａ４２の配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値よりも、第３領域４３における遅相軸Ａ４３の配向角θ４３から９０°を引いた値の絶対値が小さくなっている。したがって、第３領域４３は、第２領域４２よりも長手方向に引き裂きづらい。これにより、長尺位相差フィルム１０から基材２０を剥がす際、第２領域４２での位相差層４０の引き裂きが促進される。また、図示された例において、第２領域４２における遅相軸Ａ４２の配向角θ４２が０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満であるのに対し、第３領域４３における遅相軸Ａ４３の配向角θ４３は、４０°以上１４０°以下である。したがって、第３領域４３は、第２領域４２と比較して、長手方向での引き裂きが顕著に困難である。これにより、長尺位相差フィルム１０から基材２０を剥がす際、基材２０の引き剥がし方向に沿った直線状の第２領域４２での引き裂きが効果的に促進される。また、第２領域４２が第２領域４２よりも長手方向に引き裂きづらい第１領域４１と第３領域４３とによって挟まれていることにより、第２領域４２をより信頼性高く直線状に引き裂くことができる。

図２及び図４に示すように、図示された長尺位相差フィルム１０において、位相差層４０の第１領域４１は、長尺位相差フィルム１０の短手方向（第１方向Ｄ１）における中心位置を含んでいる。位相差層４０の第１領域４１は、位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）における中心位置を含んでいる。また、第３領域４３は、短手方向（第１方向Ｄ１）における位相差層４０の端部Ｅ４０を含んでいる。したがって、位相差フィルム１０Ｘとして使用されることを意図された第１領域４１の面積を大きく確保できる。その一方で、基材２０に残留することを意図された第３領域４３の面積を小さくできる。結果として、長尺位相差フィルム１０から製造物を製造する際の歩留まりを十分に高くできる。

図示された例において、第１領域４１及び第２領域４２は、第１方向Ｄ１に隣接している。第２領域４２及び第３領域４３は、第１方向Ｄ１に隣接している。したがって、長尺位相差フィルム１０から製造物を製造する際の歩留まりを十分に高くできる。

長尺位相差フィルムから製造物を製造する際の歩留まりを高くする観点および位相差層４０の安定した転写を実現する観点から、各領域４１，４２，４３の寸法を次のように決定してもよい。第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２（図４参照）は、１ｍｍ以上でもよく、５ｍｍ以上でもよく、１０ｍｍ以上でもよい。第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２は、２００ｍｍ以下でもよく、１００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以下でもよい。第３領域４３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４３（図４参照）は、０．５ｍｍ以上でもよく、１ｍｍ以上でもよく、１．５ｍｍ以上でもよい。第３領域４３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４３は、５０ｍｍ以下でもよく、４０ｍｍ以下でもよく、３０ｍｍ以下でもよい。第１領域４１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４１（図２参照）は、第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２（図４参照）の６倍以上でもよく、１２倍以上でもよく、２０倍以上でもよい。第１領域４１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４１（図２参照）は、第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２（図４参照）の２５０倍以下でもよい。

図示された長尺位相差フィルム１０は、基材２０と、位相差層４０の第１領域４１及び第２領域４２と、の間に位置する配向膜３０を含んでいる。第１領域４１及び第２領域４２は、配向膜３０に接触している。配向膜３０は、第３方向Ｄ３において第３領域４３と基材２０との間に位置していない。第３領域４３は基材２０に接触している。この例によれば、第１領域４１及び第２領域４２における液晶化合物の配向は、配向膜３０によって調節できる。第３領域４３における液晶化合物の配向は、基材２０によって調節できる。例えば、基材２０の表面性状や、基材２０の基材遅相軸Ａ２０についての基材配向角θ２０等によって、第３領域４３における液晶化合物の配向を制御できる。すなわち、位相差層４０の三つの領域４１，４２，４３の配向を、高い自由度で制御できる。

図示された例において、配向膜３０は、中央領域３１及び一対の端部領域３２を含む。中央領域３１は、第３方向Ｄ３において位相差層４０の第１領域４１に対面する。中央領域３１は、長尺位相差フィルム１０の短手方向（第１方向Ｄ１）における中心を含む。中央領域３１は、配向膜３０の短手方向（第１方向Ｄ１）における中心を含む。中央領域３１は、配向規制力を有している。位相差層４０の第１領域４１において、液晶化合物は、中央領域３１の配向規制力に対応した一方向に沿って延びるよう配向されている。各端部領域３２は、第３方向Ｄ３において位相差層４０の第２領域４２に対面する。端部領域３２は、短手方向（第１方向Ｄ１）における端部Ｅ３０を含む。各端部領域３２は、配向規制力を有している。位相差層４０の第２領域４２において、液晶化合物は、対面する端部領域３２の配向規制力に対応した一方向に沿って延びるよう配向されている。図示された例では、中央領域３１も配向規制力を有している。位相差層４０の第１領域４１において、液晶化合物は、対面する中央領域３１の配向規制力に対応した一方向に沿って延びるよう配向されている。また、図示された例において、端部領域３２は、その配向規制力に起因して調節される液晶化合物の配向方向が、中央領域３１の配向規制力に起因して調節される液晶化合物の配向方向と異なるように、形成されてよい。この場合、位相差層４０の第２領域４２において、液晶化合物は、第１領域４１において液晶化合物が延びる方向とは異なる方向に沿って延びるよう配向される。

この例において、配向膜３０は光配向膜でもよい。光配向膜によれば、配向膜３０の各領域における配向規制力を、他の領域から独立して、容易に調節できる。

この例において、基材２０は、二軸延伸されたポリエチレンフィルムを含んでもよい。二軸延伸されたポリエチレンフィルムの基材遅相軸Ａ２０に関する基材配向角θ２０は、通常、４０°以上１４０°以下となる。二軸延伸されたポリエチレンフィルム上に位相差層４０の第３領域４３を形成することによって、第３領域４３の第３遅相軸Ａ４３に関する第３配向角θ４３は４０°以上１４０°以下となる。すなわち、長手方向への引き裂きが困難な第３領域４３を容易に形成できる。

基材２０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ２０（図１及び図２参照）は、１０００ｍｍ以上でもよく、１１５０ｍｍ以上でもよく、１２００ｍｍ以上でもよい。基材２０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ２０は、２０００ｍｍ以下でもよく、１８００ｍｍ以下でもよく、１６００ｍｍ以下でもよい。配向膜３０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ３０（図１及び図２参照）は、９５０ｍｍ以上でもよく、１１００ｍｍ以上でもよく、１１５０ｍｍ以上でもよい。配向膜３０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ３０は、１９５０ｍｍ以下でもよく、１７５０ｍｍ以下でもよく、１５５０ｍｍ以下でもよい。位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ４０（図１及び図２参照）は、９７０ｍｍ以上でもよく、１１２０ｍｍ以上でもよく、１１７０ｍｍ以上でもよい。位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ４０は、１９７０ｍｍ以下でもよく、１７７０ｍｍ以下でもよく、１５７０ｍｍ以下でもよい。位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ４０は、配向膜３０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ３０より大きくてもよい。位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ４０は、配向膜３０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ４０より小さくてもよい。長尺位相差フィルム１０の長手方向（第２方向Ｄ２）に沿った長さは、５ｍ以上でもよく、１０ｍ以上でもよく、１００ｍ以上でもよい。長尺位相差フィルム１０の長手方向（第２方向Ｄ２）に沿った長さは、１００００ｍ以下でもよく、８０００ｍ以下でもよく、６０００ｍ以下でもよい。

＜長尺位相差フィルム１０の製造方法＞
次に、長尺位相差フィルム１０の製造方法の一例について説明する。以下の説明では、ロールトゥロール方式の製造方法により、図１～図４に示された長尺位相差フィルム１０が製造される。

図５は、長尺位相差フィルム１０の製造方法の一例および長尺位相差フィルム１０の製造装置７０の一例を示している。製造装置７０は、長尺の基材２０を巻き取った供給コア７１と、製造された長尺位相差フィルム１０を回収する回収コア７２と、供給コア７１から回収コア７２まで基材２０や長尺位相差フィルム１０を案内する搬送ロール７３と、を含んでいる。製造装置７０は、配向膜３０を基材２０上に形成するための装置として、第１供給装置７６、第１乾燥装置７７及び第１硬化装置７８を含んでいる。製造装置７０は、位相差層４０を形成するための装置として、第２供給装置８１、第２乾燥装置８２及び第２硬化装置８３を含んでいる。

まず、供給コア７１に巻き取られた基材２０を供給する。搬送ロール７３によって搬送される基材２０は、第１供給装置７６に対面する位置を通過する。第１供給装置７６は、基材２０の一方の面に、光配向性材料を含む配向膜形成用組成物３４を塗布する。図６に示すように、基材２０の一方の面上に、配向膜用組成物３４の第１塗布膜３５が形成される。

搬送ロール７３によって搬送される基材２０は、第１乾燥装置７７に対面する位置を通過する。第１乾燥装置７７は、配向膜形成用組成物３４の第１塗布膜３５を乾燥させる。一例として、第１乾燥装置７７は、高温且つ乾燥した気体を配向膜形成用組成物３４の第１塗布膜３５に供給する。

搬送ロール７３によって搬送される基材２０は、第１硬化装置７８に対面する位置を通過する。第１硬化装置７８は、配向膜形成用組成物３４の第１塗布膜３５の硬化プロセスに対応した構成を有する。図５に示すように、第１硬化装置７８は、第１露光装置７８Ａ、第１マスク７８Ｂ、第２露光装置７８Ｃ、及び第２マスク７８Ｄを含んでもよい。第１マスク７８Ｂは、第１露光装置７８Ａと基材２０との間に位置している。第２マスク７８Ｄは、第２露光装置７８Ｃと基材２０との間に位置している。第１硬化装置７８内において、第１露光装置７８Ａ及び第２露光装置７８Ｃは、基材２０の進行方向に並んでいる。第１硬化装置７８内において、第１マスク７８Ｂ及び第２マスク７８Ｄは、基材２０の進行方向に並んでいる。図示された例において、第２露光装置７８Ｃ及び第２マスク７８Ｄは、基材２０の進行方向における第１露光装置７８Ａ及び第１マスク７８Ｂの下流側に配置されている。

図示された例において、第１露光装置７８Ａは、配向膜形成用組成物３４の第１塗布膜３５に向けて偏光を放出する。図７に示すように、第１マスク７８Ｂは、第１透過領域７８Ｂ１と一対の第１遮光領域７８Ｂ２とを含んでいる。第１透過領域７８Ｂ１は、第１マスク７８Ｂに対面する基材２０の短手方向Ｄ１における、一対の第１遮光領域７８Ｂ２の間に位置している。第１露光装置７８Ａから放出された偏光は、第１透過領域７８Ｂ１を透過する。第１露光装置７８Ａから放出された偏光は、第１遮光領域７８Ｂ２で遮光される。また、図８に示すように、第２マスク７８Ｄは、一対の第２透過領域７８Ｄ１と第２遮光領域７８Ｄ２とを含んでいる。第２遮光領域７８Ｄ２は、第２マスク７８Ｄに対面する基材２０の短手方向Ｄ１における、一対の第２透過領域７８Ｄ１の間に位置している。第２露光装置７８Ｃから放出された偏光は、第２透過領域７８Ｄ１を透過する。第２露光装置７８Ｃから放出された偏光は、第２遮光領域７８Ｄ２で遮光される。

図７に示すように、配向膜形成用組成物３４の第１塗布膜３５は、第１透過領域７８Ｂ１に対面する領域において、偏光を照射される。また、図８に示すように、第１塗布膜３５は、第２透過領域７８Ｄ１に対面する領域において、偏光を照射される。偏光を用いた露光によって、第１塗布膜３５は偏光に応じた配向規制力を付与される。図示された例において、第１塗布膜３５は、第１透過領域７８Ｂ１に対面する領域と第２透過領域７８Ｄ１に対面する領域とで、互いに偏光状態の異なる偏光を照射される。このため、第１塗布膜３５は、第１透過領域７８Ｂ１に対面する領域と第２透過領域７８Ｄ１に対面する領域とで異なる配向方向への配向規制力を発現する。図示された例では、第１透過領域７８Ｂ１に対面する領域が、配向膜３０の中央領域３１となる。また、第２透過領域７８Ｄ１に対面する領域が、配向膜３０の端部領域３２となる。端部領域３２は、その配向規制力に起因して調節される液晶化合物の配向方向が、中央領域３１の配向規制力に起因して調節される液晶化合物の配向方向と異なる。

なお、図示された例では、第２露光装置７８Ｃ及び第２マスク７８Ｄは、基材２０の進行方向における第１露光装置７８Ａ及び第１マスク７８Ｂの下流側に配置されているが、これに限られない。第２露光装置７８Ｃ及び第２マスク７８Ｄは、基材２０の進行方向における第１露光装置７８Ａ及び第１マスク７８Ｂの上流側に配置されていてもよい。言い換えると、配向膜３０の中央領域３１が端部領域３２よりも先に第１露光装置７８Ａにより偏光を照射されてもよいし、端部領域３２が中央領域３１よりも先に第２露光装置７８Ｃにより偏光を照射されてもよい。

以上により、図９に示すように、基材２０と配向膜３０とを含む中間体１５が得られる。中間体１５において、配向膜３０は、中央領域３１及び端部領域３２を含む。配向膜３０は、中央領域３１と端部領域３２とで、互いに異なる配向方向への配向規制力を有する。

図８、図９、後述する図１０～図１２、図１５、図１７、及び図２０～図２２には、配向膜３０の配向規制力および位相差層４０の配向状態に応じたハッチングが付されている。図８～図１２、図１５、図１７、及び図２０～図２２に付したハッチングは、断面を示すものではない。図８～図１２、図１５、図１７、及び図２０～図２２において、位相差層４０において液晶化合物が規則的な配向を有さない領域には、パターンを付していない。

図５に示すように、中間体１５は、搬送ロール７３によって搬送され、第２供給装置８１に対面する位置を通過する。第２供給装置８１は、中間体１５の一方の面上に、液晶化合物を含む液晶組成物４４を塗布する。図１０に示すように、基材２０の一方の面上および配向膜３０上に、第２塗布膜４５が形成される。第２塗布膜４５は硬化しておらず、第２塗布膜４５内において液晶化合物は、配列を変更し得る。

配向膜３０の端部領域３２と第３方向Ｄ３に対面する第２塗布膜４５の領域において、液晶化合物は、端部領域３２の配向規制力により、一定方向に延びるように配向される。配向膜３０の端部領域３２と第３方向Ｄ３に対面する第２塗布膜４５の領域に、位相差層４０の第２領域４２が形成される。図４に示された長尺位相差フィルム１０の製造において、第２配向角θ４２が０°以上１０°未満又は１７０°より大きく１８０°未満となるように第２領域４２内の液晶化合物が配向され得る。

配向膜３０の中央領域３１と第３方向Ｄ３に対面する第２塗布膜４５の領域において、液晶化合物は、中央領域３１の配向規制力により、一定方向に延びるように配向される。配向膜３０の中央領域３１と第３方向Ｄ３に対面する第２塗布膜４５の領域に、位相差層４０の第１領域４１が形成される。図４に示された長尺位相差フィルム１０の製造において、第１配向角θ４１から９０°を引いた値の絶対値が、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さくなるように、第１領域４１内の液晶化合物が配向され得る。

図１０に示す例では、第２塗布膜４５は、短手方向（第１方向Ｄ１）において配向膜３０の外側まで延びている。短手方向における「外側」とは、短手方向における中心とは反対側を意味する。短手方向における「内側」とは、短手方向における中心側を意味する。第２塗布膜４５の短手方向（第１方向Ｄ１）における端部領域は、基材２０と第３方向Ｄ３に対面する。第２塗布膜４５の短手方向（第１方向Ｄ１）における端部領域は、基材２０上に位置している。第２塗布膜４５の短手方向（第１方向Ｄ１）における端部領域において、液晶化合物は、基材２０から配向規制力を受ける。樹脂基材は、通常、最も延伸倍率が高い方向に配向規制力を発現する。延伸された樹脂基材は、通常、その遅相軸と平行な方向に配向規制力を発現する。延伸されたポリエステル基材は、遅相軸と平行な方向に配向規制力を発現する。基材２０と第３方向Ｄ３に接触する第２塗布膜４５の領域に、位相差層４０の第３領域４３が形成される。図４に示された長尺位相差フィルム１０の製造において、第３配向角θ４３から９０°を引いた値の絶対値が、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さくなるように、第３領域４３内の液晶化合物が配向され得る。

搬送ロール７３によって搬送される中間体１５は、第２乾燥装置８２に対面する位置を通過する。第２乾燥装置８２は、液晶組成物４４の第２塗布膜４５を乾燥させる。一例として、第２乾燥装置８２は、高温且つ乾燥した気体を液晶組成物４４の第２塗布膜４５に供給する。

搬送ロール７３によって搬送される中間体１５は、第２硬化装置８３に対面する位置を通過する。第２硬化装置８３は、液晶組成物４４の第２塗布膜４５の硬化プロセスに対応した構成を有する。図１１に示すように、第２硬化装置８３は、露光装置８３Ａを含んでもよい。図示された例において、露光装置８３Ａは、液晶組成物４４の第２塗布膜４５に向けて電離放射線を放出する。液晶組成物４４の第２塗布膜４５は、第２硬化装置８３から電離放射線を照射されて、硬化する。硬化処理中、液晶化合物が配列を維持したまま、第２塗布膜４５が硬化する。位相差層４０の第１領域４１、第２領域４２及び第３領域４３の各々において、液晶化合物が水平配向する。また、図示された例では、液晶化合物は、第２領域４２において、第２配向角θ４２が０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満となるように配列される。また、液晶化合物は、第１領域４１において、第１配向角θ４１から９０°を引いた値の絶対値が、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値よりも小さくなるように配列される。また、液晶化合物は、第３領域４３において、第３配向角θ４３から９０°を引いた値の絶対値が、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値よりも小さくなるように配列される。

以上のようにして、長尺位相差フィルム１０が製造される。製造された長尺位相差フィルム１０は、長手方向及び短手方向を含む。長尺位相差フィルム１０は、基材２０、配向膜３０及び位相差層４０を含む。基材２０、配向膜３０及び位相差層４０の各々は、長尺位相差フィルム１０の長手方向と平行な長手方向を含む。基材２０、配向膜３０及び位相差層４０の各々は、長尺位相差フィルム１０の短手方向と平行な短手方向を含む。

＜＜長尺光学フィルム５５及び長尺偏光フィルム６０＞＞
上述してきた長尺位相差フィルム１０を用いて、長尺光学フィルム５５が製造される。長尺光学フィルム５５は、長尺の被転写フィルム５０と、長尺位相差フィルム１０から転写された長尺の位相差層４０Ｐと、を含む。図１２は、長尺光学フィルム５５の一例を示す断面図である。図１２に示された長尺光学フィルム５５は、図１３に示された被転写フィルム５０に、図１～図１１に示された長尺位相差フィルム１０の位相差層４０を転写することによって、製造される。

図１３に示された被転写フィルム５０は、長尺の偏光層５２を含む。偏光層５２は、特定の方向に振動する偏光成分を透過させ、特定の方向に直交する方向に振動する偏光成分を遮光する。図１２に示された長尺光学フィルム５５は、偏光層５２と、λ／４位相差層として機能する位相差層４０Ｐの第１領域４１と、の組合せにより、円偏光板として機能する。すなわち、この例において、長尺光学フィルム５５は、長尺偏光フィルム６０となる。

厳密に言えば、いずれかの波長の光に対し、長尺偏光フィルム６０は円偏光板として機能し、その他の波長の光に対し、長尺偏光フィルム６０は、通常、楕円偏光板として機能する。４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下のいずれかの波長の光に対して円偏光板として機能する偏光板を、円偏光板と呼ぶ。

図１３及び図１２に示された具体例を参照して、被転写フィルム５０及び長尺光学フィルム５５について、更に詳述する。

被転写フィルム５０及び長尺光学フィルム５５は、長尺であって、長手方向および短手方向を有する。被転写フィルム５０及び長尺光学フィルム５５の構成要素となる各層も、長尺であって、長手方向および短手方向を有する。被転写フィルム５０の長手方向は、被転写フィルム５０の構成要素の長手方向と平行である。被転写フィルム５０の短手方向は、被転写フィルム５０の構成要素の短手方向と平行である。長尺光学フィルム５５の長手方向は、長尺光学フィルム５５の構成要素の長手方向と平行である。長尺光学フィルム５５の短手方向は、長尺光学フィルム５５の構成要素の短手方向と平行である。

被転写フィルム５０は、基材５１及び接合層５３を含む。図１３に示された被転写フィルム５０は、基材５１、偏光層５２及び接合層５３を、第３方向Ｄ３にこの順で含む。被転写フィルム５０の基材５１は、特に限定されない。被転写フィルム５０の基材５１は、上述した長尺位相差フィルム１０の基材２０と同一でもよい。ロールトゥロール方式の製造方法を適用可能とする観点から、基材５１の材料は樹脂でもよい。基材５１の材料として、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、及びアクリルフィルムが例示される。基材５１の第３方向Ｄ３に沿った厚みは、長尺位相差フィルム１０の基材２０の第３方向Ｄ３に沿った厚みと同様の範囲に設定できる。

接合層５３は、特に制限されない。接合層５３は、粘着材を含んでもよいし、接着材を含んでもよい。接合層５３の材料は、特に制限されない。接合層５３の材料は、ＰＶＡ系接着材やアクリル系粘着材でもよい。接合層５３の第３方向Ｄ３に沿った厚みは、１μｍ以上でもよく、１．５μｍ以上でもよく、２μｍ以上でもよい。接合層５３の厚みは、２００μｍ以下でもよく、１６０μｍ以下でもよく、１２０μｍ以下でもよい。

偏光層５２は、吸収型の偏光子を含んでもよい。吸収型の偏光子は、吸収軸および透過軸を有する。吸収型の偏光子は、透過軸と平行な方向に振動する直線偏光成分を透過し、吸収軸と平行な方向に振動する直線偏光成分を吸収する。偏光層５２は、反射型の偏光子を含んでもよい。反射型の偏光子は、反射軸および透過軸を有する。反射型の偏光子は、透過軸と平行な方向に振動する直線偏光成分を透過し、反射軸と平行な方向に振動する直線偏光成分を反射する。

偏光層５２の偏光子は、ヨウ素等により染色し延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルムでもよい。偏光層５２の偏光子は、二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子でもよい。偏光層５２の偏光子は、多層薄膜型偏光子でもよい。偏光層５２の第３方向Ｄ３に沿った厚みは、０．５μｍ以上でもよく、１μｍ以上でもよく、２μｍ以上でもよい。偏光層５２の厚みは、１５０μｍ以下でもよく、１２０μｍ以下でもよく、８０μｍ以下でもよい。

接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）における端部Ｅ５３は、長尺位相差フィルム１０に含まれる位相差層４０の第２領域４２に対面してもよい。これにより、位相差層４０を転写する際、位相差層４０が長手方向（第２方向Ｄ２）に沿って引き裂かれ易い第２領域４２において、位相差層４０を引き裂くことができる。

接合層５３の端部Ｅ５３が、第２領域４２に対面するため、各層の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅を次のように設定してもよい。接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３（図１３参照）は、長尺位相差フィルム１０に含まれる位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ４０よりも小さくてもよい。接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３（図１３参照）は、長尺位相差フィルム１０に含まれる位相差層４０の第１領域４１及び一対の第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った合計長さＬ４２，Ｌ４１，Ｌ４２よりも小さくてもよい。接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３（図１３参照）は、長尺位相差フィルム１０に含まれる位相差層４０の第１領域４１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４１よりも大きくてもよい。

接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３は、９４０ｍｍ以上でもよく、１０９０ｍｍ以上でもよく、１１４０ｍｍ以上でもよい。接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３は、１９４０ｍｍ以下でもよく、１７４０ｍｍ以下でもよく、１５４０ｍｍ以下でもよい。

基材５１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５１（図１３参照）は、接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３より大きくてもよい。基材５１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５１は、基材２０の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ２０と同様の範囲に設定してもよい。

偏光層５２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５２は、接合層５３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３以上でもよい。偏光層５２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５２は、基材５１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５１以下でもよい。偏光層５２の幅をこのように設定することにより、接合層５３が設けられている領域における被転写フィルム５０の厚みの変動を抑制できる。これにより、長尺位相差フィルム１０の位相差層４０Ｐを被転写フィルム５０に安定して転写できる。

被転写フィルム５０の長手方向（第２方向Ｄ２）に沿った長さは、長尺位相差フィルム１０の長手方向（第２方向Ｄ２）に沿った長さと同様の範囲に設定してもよい。

図１２に示すように、長尺光学フィルム５５は、被転写フィルム５０と、位相差層４０Ｐと、を含む。位相差層４０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた位相差層４０の一部である。長尺光学フィルム５５の位相差層４０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた位相差層４０の第１領域４１と、一対の第２領域４２の各々の一部（第１部分）４２Ａと、を含む。長尺光学フィルム５５の位相差層４０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた位相差層４０の一対の第２領域４２の各々の前記一部４２Ａ以外の残部（第２部分）４２Ｂと、一対の第３領域４３と、を含まない。後に参照する図１７に示されているように、位相差層４０の各第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）における内側部分が、被転写フィルム５０に転写される。位相差層４０の各第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）における外側部分が、第３領域４３とともに基材２０に残留する。第２領域４２の前記内側部分が、第２領域４２の前記一部４２Ａである。第２領域４２の前記外側部分が、第２領域４２の前記残部４２Ｂである。

図１２に示された例において、被転写フィルム５０は、基材５１、偏光層５２、接合層５３、位相差層４０Ｐ、及び配向膜３０Ｐを、第３方向Ｄ３にこの順で含む。配向膜３０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた配向膜３０の一部である。配向膜３０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた配向膜３０のうちの位相差層４０Ｐと第３方向Ｄ３に対面する部分である。被転写フィルム５０の配向膜３０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた配向膜３０の中央領域３１と、一対の端部領域３２の各々の一部（第１部分）３２Ａと、を含む。被転写フィルム５０の配向膜３０Ｐは、長尺位相差フィルム１０に含まれていた配向膜３０の一対の端部領域３２の各々の前記一部３２Ａ以外の残部（第２部分）３２Ｂを含まない。配向膜３０の各端部領域３２の短手方向（第１方向Ｄ１）における内側部分が、被転写フィルム５０に転写される。配向膜３０の各端部領域３２の短手方向（第１方向Ｄ１）における外側部分が、基材２０に残留する。端部領域３２の前記内側部分が、端部領域３２の前記一部３２Ａである。端部領域３２の前記外側部分が、端部領域３２の前記残部３２Ｂである。

図１２に示された長尺光学フィルム５５は、長尺偏光フィルム６０として機能する。この用途において、位相差層４０Ｐはλ／４位相差層として機能する。この位相差層４０Ｐの第１領域４１における第１遅相軸Ａ４１と偏光層５２の透過軸との間の角度の大きさは、３５°以上でもよく、４０°以上でもよく、４２°以上でもよい。位相差層４０Ｐの第１遅相軸Ａ４１と偏光層５２の透過軸との間の角度の大きさは、５５°以下でもよく、５０°以下でよく、４８°以下でもよい。位相差層４０Ｐの第１遅相軸Ａ４１と偏光層５２の透過軸との間の角度は、４５°でもよい。

長尺光学フィルム５５の製造方法の一例について説明する。以下の説明では、ロールトゥロール方式の製造方法により、長尺光学フィルム５５の一例として、図１２に示された長尺偏光フィルム６０が製造される。

図１４は、長尺光学フィルム５５の製造方法の一例および長尺光学フィルム５５の製造装置９０の一例を示している。製造装置９０は、第１供給コア９１、第２供給コア９２、第１回収コア９３、第２回収コア９４、及び搬送ロール９５を含む。第１供給コア９１は、長尺位相差フィルム１０を繰り出す。長尺位相差フィルム１０は、予め製造されて第１供給コア９１に巻き取られてもよい。図示された例に代えて、長尺位相差フィルム１０が連続的に製造されて搬送ロール９５に送り出されてもよい。第２供給コア９２は、長尺の被転写フィルム５０を繰り出す。長尺の被転写フィルム５０は、予め製造されて第２供給コア９２に巻き取られてもよい。図示された例に代えて、長尺の被転写フィルム５０が連続的に製造されて搬送ロール９５に送り出されてもよい。第１回収コア９３は、製造された長尺光学フィルム５５を回収する。第２回収コア９４は、長尺の基材２０を回収する。搬送ロール９５は、第１搬送ロール９５Ａ及び第２搬送ロール９５Ｂを含む。

まず、第１供給コア９１から第１搬送ロール９５Ａに向けて、長尺位相差フィルム１０が供給される。長尺位相差フィルム１０の供給と並行して、第２供給コア９２から第１搬送ロール９５Ａに向けて被転写フィルム５０が供給される。図１５に示すように、長尺位相差フィルム１０及び被転写フィルム５０は、一対の第１搬送ロール９５Ａの間に供給される。一対の第１搬送ロール９５Ａの間で、長尺位相差フィルム１０及び被転写フィルム５０は積層される。長尺位相差フィルム１０の位相差層４０及び被転写フィルム５０の接合層５３が接触する。一対の第１搬送ロール９５Ａは、長尺位相差フィルム１０及び被転写フィルム５０を互いに向けて押す。これにより、位相差層４０が接合層５３に接合する。

図１５に示すように、接合層５３の両端部Ｅ５３は、それぞれ、位相差層４０の第２領域４２と第３方向Ｄ３に対面する。すなわち、接合層５３は、位相差層４０の第１領域４１と、一対の第２領域４２の第１方向Ｄ１における内側部分である一部４２Ａと、に接合する。接合層５３は、位相差層４０の一対の第３領域４３と、一対の第２領域４２の第１方向Ｄ１における外側部分である一部４２Ａ以外の残部４２Ｂとに、第３方向Ｄ３に対面していない。長尺位相差フィルム１０が被転写フィルム５０に積層された状態において、第３領域４３および第２領域４２の残部４２Ｂは、短手方向（第１方向Ｄ１）において接合層５３より外側に位置する。

次に、図１４に示すように、積層された長尺位相差フィルム１０及び被転写フィルム５０は、第２搬送ロール９５Ｂの間に向けて供給される。図１４及び図１６に示すように、長尺位相差フィルム１０が一対の第２搬送ロール９５Ｂの間を通過した後、基材２０が長尺位相差フィルム１０から引き剥がされる。ロールトゥロール方式の製造方法において、基材２０は、長手方向である第２方向Ｄ２に沿って引き剥がされていく。

図１７に示すように、位相差層４０のうちの接合層５３に接合していた部分が、位相差層４０Ｐとして、接合層５３に接合したままに維持され、被転写フィルム５０に転写される。配向膜３０のうちの位相差層４０Ｐと第３方向Ｄ３に対面する部分も、配向膜３０Ｐとして、被転写フィルム５０に転写される。図１７に示すように、位相差層４０は、第２領域４２内の位置であって、接合層５３の端部Ｅ５３と第３方向Ｄ３に対面する位置において、引き裂かれる。同様に、配向膜３０は、端部領域３２内の位置であって、接合層５３の端部Ｅ５３と第３方向Ｄ３に対面する位置において、引き裂かれる。

すなわち、位相差層４０のうちの第１領域４１と、第２領域４２の第１方向Ｄ１における内側部分となる一部４２Ａとが、位相差層４０Ｐとして、被転写フィルム５０に転写される。位相差層４０のうちの第３領域４３と、第２領域４２の第１方向Ｄ１における外側部分となる残部４２Ｂとが、基材２０に密着したままとなる。配向膜３０のうちの中央領域３１と、端部領域３２の第１方向Ｄ１における内側部分となる一部３２Ａとが、配向膜３０Ｐとして、被転写フィルム５０に転写される。配向膜３０のうちの端部領域３２の第１方向Ｄ１における外側部分となる残部３２Ｂが、基材２０に接合したままとなる。

以上のようにして、長尺位相差フィルム１０から被転写フィルム５０へと位相差層４０Ｐ及び配向膜３０Ｐを転写することによって、長尺偏光フィルム６０が連続的に製造される。製造された長尺偏光フィルム６０は、第１回収コア９３に回収される。配向膜３０Ｐ及び位相差層４０Ｐから剥がされた基材２０は、第２回収コア９４に回収される。

後述する光学フィルム５５Ｘ及び偏光フィルム６０Ｘの歩留まりを高くする観点および位相差層４０の安定した転写を実現する観点から、位相差層４０Ｐに含まれる第２領域（一部）４２Ａの短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２Ａ（図１１参照）を次のように決定してもよい。長さＬ４２Ａは、１ｍｍ以上でもよく、２ｍｍ以上でもよく、５ｍｍ以上でもよい。長さＬ４２Ａは、１００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以下でもよく、２５ｍｍ以下でもよい。同様の観点から、配向膜３０Ｐに含まれる端部領域３２（すなわち、一部３２Ａ）の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ３２Ａ（図１１参照）を次のように決定してもよい。長さＬ３２Ａは、１ｍｍ以上でもよく、２ｍｍ以上でもよく、５ｍｍ以上でもよい。長さＬ３２Ａは、１００ｍｍ以下でもよく、５０ｍｍ以下でもよく、２５ｍｍ以下でもよい。位相差層４０Ｐに含まれる第１領域４１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４１は、位相差層４０Ｐに含まれる第２領域（一部）４２Ａの短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２Ａの１２倍以上でもよく、２４倍以上でもよく、４０倍以上でもよい。長さＬ４１は長さＬ４２Ａの５００倍以下でもよい。

被転写フィルム５０、長尺光学フィルム５５及び長尺偏光フィルム６０は、上述した長尺位相差フィルム１０と同様に、図３に示すように、巻取軸線ＲＡを中心として巻取コア１２に巻き取った巻体５０Ｒ，５５Ｒ，６０Ｒとして、取り扱うことができる。これにより、長尺のフィルム５０，５５，６０の取り扱い易くなる。長尺のフィルム５０，５５，６０は、ロールトゥロール方式の製造方法によって、製造され得る。長尺のフィルム５０，５５，６０は、生産効率や製造コストにおいて優れる。長尺の長尺光学フィルム５５や長尺の長尺偏光フィルム６０を所望の大きさに断裁することによって、個々の光学フィルム５５Ｘや個々の偏光フィルム６０Ｘを得られる。この例によれば、種々の寸法を有した枚葉の光学フィルム５５Ｘや枚葉の偏光フィルム６０Ｘを、ニーズに合わせて、長尺の長尺光学フィルム５５や長尺の長尺偏光フィルム６０から得ることができる。種々の寸法を有した光学フィルム５５Ｘや偏光フィルム６０Ｘを適時に提供できる。

長尺光学フィルム５５や長尺の長尺偏光フィルム６０から得られた光学フィルム５５Ｘや偏光フィルム６０Ｘは、表示装置１００に適用されてもよい。図１８に示された例において、光学フィルム５５Ｘ及び偏光フィルム６０Ｘは、画像形成装置としての表示素子１０１に重ねて配置されている。この例において、光学フィルム５５Ｘ及び偏光フィルム６０Ｘは、環境光等の外光が表示装置１００の表面で反射することを抑制する反射抑制機能を有する。反射抑制機能により、表示装置１００によって表示される画像のコントラストを向上できる。

表示素子１０１として、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、無機ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー表示素子、ＬＥＤ表示素子（マイクロＬＥＤなど）、量子ドット等が例示される。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有してもよい。

図１９に示された具体例において、表示装置１００が有機ＥＬ表示装置を構成している。表示装置１００は、有機ＥＬ表示パネル１０３及び光学フィルム５５Ｘ（偏光フィルム６０Ｘ）を含んでいる。光学フィルム５５Ｘ（偏光フィルム６０Ｘ）は、有機ＥＬ表示パネル１０３の画像表示面に重ねられ、反射抑制機能を発揮する。この例において、光学フィルム５５Ｘは、λ／４位相差層として機能する位相差層４０Ｐと、偏光子として機能する枚葉の偏光層５２と、を含む。位相差層４０Ｐは、偏光層５２と有機ＥＬ表示パネル１０３との間に位置している。

本実施の形態によれば、転写時に引き裂かれる位相差層４０の第２領域４２において、第２遅相軸Ａ４２に関する第２配向角θ４２が０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満となっている。位相差層４０が引き裂かれる方向は、液晶化合物の配向の影響を受ける。このため、位相差層４０は、第２領域４２内において、基材２０を引き剥がす方向である長手方向（第２方向Ｄ２）におおむね沿って、引き裂かれていく。このことから、位相差層４０の第２領域４２における引き裂きが円滑に実施される。結果として、位相差層４０Ｐの短手方向（第１方向Ｄ１）における端部Ｅ４０Ｐにバリが発生することを効果的に抑制できる。

また、図示された具体例において、第１領域４１における第１遅相軸Ａ４１に関する第１配向角θ４１から９０°を引いた値の絶対値が、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さい。このような例によれば、第１領域４１は、第２領域４２と比較して、長手方向（第２方向Ｄ２）に引き裂きづらい。結果として、位相差層４０の第２領域４２における引き裂きが円滑に実施される。

例えば、第１配向角θ４１は、１０°以上１７０°以下でもよい。

上述した具体例において、第１配向角θ４１は３０°以上１５０°以下でもよい。このような例によれば、第１領域４１は、第２領域４２と比較して、長手方向での引き裂きが顕著に困難である。結果として、長尺位相差フィルム１０から基材２０を剥がす際、第２領域４２での位相差層４０の引き裂きが効果的に促進される。

また、図示された具体例において、第３領域４３における第３遅相軸Ａ４３に関する第３配向角θ４３から９０°を引いた値の絶対値が、第２配向角θ４２から９０°を引いた値の絶対値より小さい。このような例によれば、第３領域４３は、第２領域４２と比較して、長手方向（第２方向Ｄ２）に引き裂きづらい。結果として、位相差層４０の第２領域４２における引き裂きが円滑に実施される。

上述した具体例において、第３配向角θ４３は４０°以上１４０°以下でもよい。したがって、第３領域４３は、第２領域４２と比較して、長手方向での引き裂きが顕著に困難である。結果として、長尺位相差フィルム１０から基材２０を剥がす際、第２領域４２での位相差層４０の引き裂きが効果的に促進される。

また、上述した具体例において、位相差層４０の第１領域４１は、短手方向（第１方向Ｄ１）における位相差層４０の中心位置を含んでいてもよい。また、第３領域４３は、位相差層４０の短手方向（第１方向Ｄ１）における位相差層４０の端部Ｅ４０を含んでいてもよい。このような例によれば、位相差フィルム１０Ｘとして使用されることを意図された第１領域４１の面積を大きく確保できる。その一方で、基材２０に残留することを意図された第３領域４３の面積を小さくできる。結果として、長尺位相差フィルム１０から位相差フィルム１０Ｘを採取する際の歩留まりを十分に高くできる。

また、図示された具体例において、長尺位相差フィルム１０は、基材２０と、位相差層４０の第１領域４１および第２領域４２と、の間に位置する配向膜３０を備えている。第３領域４３は、基材２０に接触している。このような例によれば、配向膜３０により、位相差層４０の第１領域４１および第２領域４２の配向を調節することができる。また、基材２０により、位相差層４０の第３領域４３の配向を調節することができる。

上述した具体例において、配向膜は、光配向膜を含んでいてもよい。このような例によれば、偏光を照射することによって、配向膜に配向規制力を付与することができる。

また、上述した具体例において、基材２０は、遅相軸を有するポリエチレンフィルムを含んでいてもよい。ポリエチレンフィルムの遅相軸と長手方向（第２方向Ｄ２）との間の角度は、４０°以上１４０°以下である。このような例によれば、ポリエチレンフィルム上に位相差層４０の第３領域４３を形成することによって、第３領域４３の第３遅相軸Ａ４３に関する第３配向角θ４３を４０°以上１４０°以下とすることができ、第３領域４３の長手方向での引き裂きを極めて困難にすることができる。

また、上述した具体例において、位相差層４０の第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２は、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下であってよい。このような例によれば、位相差フィルム１０Ｘの歩留まりを高くすることができ、位相差層４０の安定した転写を実現可能である。

また、上述した具体例において、位相差層４０の第１領域４１の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４１は、位相差層４０の第２領域４２の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４２の１２倍以上であってよい。このような例によれば、位相差フィルム１０Ｘの歩留まりを高くすることができ、位相差層４０の安定した転写を実現可能である。

また、上述した具体例において、位相差層４０の第３領域４３の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った長さＬ４３は、０．５ｍｍ以上５０ｍｍ以下である。このような例によれば、位相差フィルム１０Ｘの歩留まりを高くすることができ、位相差層４０の安定した転写を実現可能である。

また、上述した具体例において、波長４５０ｎｍにおける位相差層４０の第１領域４１での面内位相差Ｒｅ（４５０）は、波長５５０ｎｍにおける位相差層４０の第１領域４１での面内位相差Ｒｅ（５５０）より小さい。また、面内位相差Ｒｅ（５５０）は、波長６５０ｎｍにおける位相差層４０の第１領域４１での面内位相差Ｒｅ（６５０）より小さい。また、面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上１５３ｎｍ以下である。このような例によれば、位相差層４０の波長分散性は逆分散性である。これにより、波長に応じた面内位相差Ｒｅの変動を抑制でき、色表現に優れる。

本開示を実施例により更に詳細に説明する。本開示は以下の実施例によって限定されない。

＜長尺位相差フィルム＞
次に説明するようにして、実施例１、実施例２、及び比較例１に係る長尺位相差フィルムを、ロールトゥロール方式にて、製造した。

（実施例１）
図５～図１１を参照して説明した上述の製造方法により、図１～図４に示された長尺位相差フィルムを、ロールトゥロール方式にて、製造した。

基材として、東洋紡社製のＰＥＴフィルム「コスモシャインＡ４１６０（厚み１００μｍ、ＰＥＴフィルム（Ａ））」を用いた。基材は、二軸延伸フィルムであり、面内複屈折を有していた。二軸延伸における短手方向の延伸倍率が、長手方向の延伸倍率より大きくなっていた。

基材の未処理面（非プライマー面）に配向膜形成用組成物を塗布することによって、厚み３００ｎｍの第１塗布膜を形成した。配向膜形成用組成物は、ポリシンナメート系化合物と、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分４．５％）と、を含んでいた。１００℃の雰囲気に１分間保持することによって、第１塗布膜を乾燥した。第１塗布膜を偏光露光して配向膜を作製した。偏光露光の条件は、照射波長を３１０ｎｍとし、照射量を２０ｍＪ／ｃｍ^２とした。以上にて、基材および配向膜を含む中間体が得られた。

図７及び図８を参照して説明したように、第１塗布膜の露光は、マスクを用いて部分露光とした。第１塗布膜の中央領域と端部領域とで、互いに偏光状態の異なる偏光で偏光露光した。得られた配向膜の中央領域には、配向角が４５°となる配向規制力が付与された。得られた配向膜の端部領域には、配向角が０°となる配向規制力が付与された。

ＪＰ５９６２７６０Ｂの実施例４の化合物４の合成を参考にして、重合性液晶化合物を合成した。この重合性液晶化合物は、逆波長分散性を示した。重合性液晶化合物１００質量部に対して、開始剤としてイルガキュア９０７を４質量部、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を０．３質量部添加して、重合性液晶組成物を作製した。重合性液晶組成物は、固形分が２０％となるように、更にトルエンを含んでいた。中間体の配向膜が形成された面に重合性液晶組成物を塗布することによって、第２塗布膜を形成した。

次に、１２０℃の雰囲気に１分間保持することによって、第２塗布膜を乾燥した。その後、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて、第２塗布膜に紫外線を照射することにより、第２塗布膜４５を硬化させて位相差層４０を形成した。以上にて、基板、配向膜及び位相差層を含む長尺位相差フィルムが得られた。

図２０に示すように、実施例１の長尺位相差フィルム１０に含まれる位相差層４０は、配向膜３０の中央領域３１と第３方向Ｄ３に対面する第１領域４１と、配向膜３０の端部領域３２と第３方向Ｄ３に対面する一対の第２領域４２と、配向膜３０の第１方向Ｄ１における両外方に位置して基材２０と第３方向Ｄ３に対面する一対の第３領域４３と、を含んでいた。第１領域４１において、重合性液晶化合物は配向角４５°で水平配向していた。第２領域４２において、重合性液晶化合物は配向角０°で水平配向していた。第３領域４３において、重合性液晶化合物は水平配向していた。第１方向Ｄ１に離間した一対の第３領域４３のうちの一方の第３領域４３における重合性液晶化合物の第３配向角は、６０°であった。他方の第３領域４３における重合性液晶化合物の第３配向角は、８７°であった。第１領域４１での面内位相差Ｒｅは１４０ｎｍであった。面内位相差Ｒｅは、上述したように、大塚電子社製の商品名「ＲＥＴＳ－１００」を用いて測定した。

第１領域４１の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ４１は、１２５０ｍｍとした。各第２領域４２の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ４２は、３０ｍｍとした。各第３領域４３の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ４３は、５ｍｍとした。

（実施例２）
実施例２において、実施例１と同様にして、基材２０及び配向膜３０を含む中間体１５を作製した。得られた中間体１５の配向膜３０は、配向角が４５°となる配向規制力を有した中央領域３１と、配向角が０°となる配向規制力を有した端部領域３２と、を含んでいた。ただし、実施例２では、配向膜３０の端部領域３２の第１方向Ｄ１への長さを実施例１よりも長くした。中間体１５上に、位相差層４０を作製した。位相差層４０は、実施例１と同様の作製方法で作製した。ただし、実施例２では、位相差層４０の第１方向Ｄ１に沿った幅を、配向膜３０の第１方向Ｄ１に沿った幅よりも短くした。位相差層４０は、配向膜３０と第３方向Ｄ３に対面する領域のみに位置していた。

図２１に示すように、実施例２の長尺位相差フィルム１０に含まれる位相差層４０は、配向膜３０の中央領域３１と第３方向Ｄ３に対面する第１領域４１と、配向膜３０の端部領域３２と第３方向Ｄ３に対面する一対の第２領域４２と、を含んでいた。第１領域４１において、重合性液晶化合物は配向角４５°で水平配向していた。第２領域４２において、重合性液晶化合物は配向角０°で水平配向していた。第１領域４１での面内位相差Ｒｅは１４０ｎｍであった。面内位相差Ｒｅは、上述したように、大塚電子社製の商品名「ＲＥＴＳ－１００」を用いて測定した。

第１領域４１の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ４１は、１２５０ｍｍとした。各第２領域４２の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ４２は、３５ｍｍとした。

（比較例１）
比較例１の長尺位相差フィルム１１０の製造方法は、第１塗布膜の全領域を同じ偏光で偏光露光した点のみにおいて、実施例１の長尺位相差フィルムの製造方法と異なっていた。したがって、比較例１において、配向膜１３０は、全領域において、配向角が４５°となる配向規制力が付与された。比較例１において、位相差層１４０の配向膜１３０に対面する領域の全域において、重合性液晶化合物は配向角４５°で水平配向していた。

図２２に示すように、比較例１の長尺位相差フィルム１１０に含まれる位相差層１４０は、配向膜１３０と第３方向Ｄ３に対面する第１領域１４１と、配向膜１３０の第１方向Ｄ１における両外方に位置して基材１２０と第３方向Ｄ３に対面する一対の第３領域１４３と、を含んでいた。第１領域１４１において、重合性液晶化合物は配向角４５°で水平配向していた。第３領域１４３において、重合性液晶化合物は水平配向していた。第１方向Ｄ１に離間した一対の第３領域４３のうちの一方の第３領域４３における重合性液晶化合物の第３配向角は、６０°であった。他方の第３領域４３における重合性液晶化合物の第３配向角は、８７°であった。第１領域での面内位相差Ｒｅは１４０ｎｍであった。面内位相差Ｒｅは、上述したように、大塚電子社製の商品名「ＲＥＴＳ－１００」を用いて測定した。

第１領域１４１の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ１４１は、１３１０ｍｍとした。各第３領域１４３の長手方向に直交する短手方向（第１方向Ｄ１）における幅Ｌ１４３は、５ｍｍとした。比較例１に係る長尺位相差フィルムの位相差層は、実施例１に係る長尺位相差フィルムの位相差層の第２領域４２の領域に、第１領域４１の構成を適用した構成を有していた。

＜評価＞
図１４～図１７を参照して説明した転写方法により、実施例１、実施例２及び比較例１の長尺位相差フィルム１０，１１０を、接合層５３を含む長尺の被転写フィルム５０に積層し、次に、接合層５３に接合した長尺位相差フィルム１０，１１０から基材２０を剥がすことによって、長尺光学フィルムをロールトゥロール方式にて作製した。長尺位相差フィルム及び被転写フィルムの第２方向Ｄ２に沿った長さは約２０ｍとし、約２０ｍの長尺光学フィルムを作製した。

（被転写フィルム）
図２０～図２２に示すように、被転写フィルム５０は、基材５１及び接合層５３を含んでいた。被転写フィルムは、実施例１、実施例２及び比較例１の間で、同一の構成を有していた。富士フィルム社製のフジタックＴＤ８０ＵＬ（厚み８０μｍ、ＴＡＣフィルム（Ａ））を、被転写フィルムの基材として用いた。この基材上に接合層を積層することにより、長尺の被転写フィルムを作製した。接合層は、パナクリーンＰＤ－Ｓ１（パナック株式会社製）（厚み２５μｍ）とした。被転写フィルムにおける基材の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５１（図１２参照）は、１３３０ｍｍであった。被転写フィルムにおける接合層の短手方向（第１方向Ｄ１）に沿った幅Ｗ５３（図１２参照）は、１２８０ｍｍであった。

（実施例１）
図２０に示すように、実施例１の長尺位相差フィルム１０を被転写フィルム５０と積層した。被転写フィルム５０の接合層５３の第１方向Ｄ１における両端Ｅ５３が、位相差層４０の第２領域４２と第３方向Ｄ３に対面していた。長尺位相差フィルムから基材を剥がすことによって、位相差層及び配向膜を被転写フィルムに転写して、長尺光学フィルムが得られた。位相差層及び配向膜は、第２領域内であって接合層の端部Ｅ５３と対面する位置Ｐ１において引き裂かれた。位相差層及び配向膜のうちの引き裂かれた位置Ｐ１よりも第１方向Ｄ１における外側となる部分は、基材に残留した。

（実施例２）
図２１に示すように、実施例２の長尺位相差フィルム１０を被転写フィルム５０と積層した。被転写フィルム５０の接合層５３の第１方向Ｄ１における両端Ｅ５３が、位相差層４０の第２領域４２と第３方向Ｄ３に対面していた。長尺位相差フィルムから基材を剥がすことによって、位相差層及び配向膜を被転写フィルムに転写して、長尺光学フィルムが得られた。位相差層及び配向膜は、第２領域内となる位置Ｐ２において引き裂かれ、位置Ｐ２よりも第１方向Ｄ１における外側となる部分は基材に残留した。

（比較例１）
図２２に示すように、比較例１の長尺位相差フィルム１１０を被転写フィルム５０と積層した。被転写フィルム５０の接合層５３の第１方向Ｄ１における両端Ｅ５３が、位相差層１４０の第１領域１４１と第３方向Ｄ３に対面していた。長尺位相差フィルムから基材を剥がすことによって、位相差層及び配向膜を被転写フィルムに転写して、長尺光学フィルムが得られた。位相差層及び配向膜は、第１領域内となる位置Ｐ３において引き裂かれ、位置Ｐ３よりも第１方向Ｄ１における外側となる部分は基材に残留した。

（評価結果）
実施例１、実施例２及び比較例１として作製された長尺光学フィルムについて、位相差層の端部へのバリの発生を確認した。実施例１及び実施例２については、バリが発生していなかった。比較例１については、バリが確認された。図２３は、実施例１として得られた長尺光学フィルム５５の位相差層４０の第１方向Ｄ１における端部を示す光学顕微鏡写真である。図２４は、比較例１として得られた長尺光学フィルムの位相差層の第１方向Ｄ１における端部を示す写真である。図２３及び図２４に示された写真の倍率は、２倍である。図２３及び図２４に示された写真において、左側の領域に、位相差層および配向膜が転写されている。

１０：長尺位相差フィルム、１０Ｒ：巻体、１０Ｘ：位相差フィルム、１２：巻取コア、１５：中間体、２０：基材、３０：配向膜、３０Ｐ：配向膜、３１：中央領域、３２：端部領域、３５：第１塗布膜、４０：位相差層、４０Ｐ：位相差層、４１：第１領域、４２：第２領域、４３：第３領域、４４：液晶組成物、４５：第２塗布膜、５０：被転写フィルム、５０Ｒ：巻体、５２：偏光層、５３：接合層、５５：長尺光学フィルム、５５Ｒ：巻体、５５Ｘ：光学フィルム、６０：長尺偏光フィルム、６０Ｒ：巻体、６０Ｘ：偏光フィルム、７０：製造装置、７１：供給コア、７２：回収コア、７３：搬送ロール、７６：第１供給装置、７７：第１乾燥装置、７８：第１硬化装置、７８Ａ：第１露光装置、７８Ｂ：第１マスク、７８Ｃ：第２露光装置、７８Ｄ：第２マスク、８１：第２供給装置、８２：第２乾燥装置、８３：第２硬化装置、９０：製造装置、９１：第１供給コア、９２：第２供給コア、９３：第１回収コア、９４：第２回収コア、９５：搬送ロール、９５Ａ：第１搬送ロール、９５Ｂ：第２搬送ロール、１００：表示装置、１０３：有機ＥＬ表示パネル、Ｄ１：第１方向、Ｄ２：第２方向、Ｄ３：第３方向、Ａ２０：基材遅相軸、Ａ４１：第１遅相軸、Ａ４２：第２遅相軸、Ａ４３：第３遅相軸、θ４１：第１配向角、θ４２：第２配向角、θ４３：第３配向角

Claims (31)

1. 長手方向及び短手方向を含む長尺位相差フィルムであって、
   基材と、
   前記基材と重ねられた配向膜および位相差層と、
   備え、
   前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、一対の第３領域と、を含み、
   前記第１領域は、前記短手方向における前記一対の第２領域の間に位置し、
   前記一対の第２領域は、前記短手方向における前記一対の第３領域の間に位置し、
   前記位相差層は、液晶組成物の硬化物を含み、
   前記配向膜は、前記基材と、前記第１領域および前記第２領域と、の間に位置し、
   前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
   前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満であり、
   前記第３領域は、第３遅相軸を有し、
   前記第３遅相軸と前記長手方向との間の第３配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さく、
   前記第３領域は、前記基材に接触しており、
   前記基材は、遅相軸を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを含み、
   前記ポリエチレンテレフタレートフィルムの前記遅相軸と前記長手方向との間の角度から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、長尺位相差フィルム。
2. 前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
   前記第１遅相軸と前記長手方向との間の第１配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
3. 前記第１配向角は１０°以上１７０°以下である、請求項２に記載の長尺位相差フィルム。
4. 前記第１配向角は３０°以上１５０°以下である、請求項２に記載の長尺位相差フィルム。
5. 前記第１領域は、前記短手方向における前記位相差層の中心を含む、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
6. 前記第２領域の前記短手方向に沿った長さは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
7. 前記第１領域の前記短手方向に沿った長さは、前記第２領域の前記短手方向に沿った長さの１２倍以上である、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
8. 前記第３配向角は４０°以上１４０°以下である、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
9. 前記第３領域は、前記短手方向における前記位相差層の端部を含む、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
10. 前記配向膜は、光配向膜を含む、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
11. 前記ポリエチレンテレフタレートフィルムの前記遅相軸と前記長手方向との間の角度は、４０°以上１４０°以下である、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
12. 前記第３領域の前記短手方向に沿った長さは、０．５ｍｍ以上５０ｍｍ以下である、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
13. 波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（４５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（５５０）より小さく、
    前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（６５０）より小さく、
    前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上１５３ｎｍ以下である、請求項１に記載の長尺位相差フィルム。
14. 長手方向及び短手方向を有する長尺の基材に配向膜形成用組成物を塗布して、第１塗布膜を形成する工程と、
    前記第１塗布膜の前記短手方向における端部領域及び前記端部領域を除く中央領域に、互いに偏光状態の異なる偏光を照射して、前記端部領域及び前記中央領域が互いに異なる配向方向への配向規制力を有した配向膜を前記第１塗布膜から形成する工程と、
    前記基材および前記配向膜を含む中間体に液晶組成物を塗布して、第２塗布膜を形成する工程と、
    前記第２塗布膜を硬化させて、前記液晶組成物の硬化物を含む位相差層を形成する工程と、を備え、
    前記位相差層は、第１領域と、一対の第２領域と、一対の第３領域と、を含み、
    前記第１領域は、前記中央領域に対面し、
    前記一対の第２領域は、前記端部領域に対面し、前記短手方向における前記一対の第３領域の間に位置し、
    前記一対の第３領域は、前記基材に対面し、 前記第２領域は、第２遅相軸を有し、
    前記第２遅相軸と前記長手方向との間の第２配向角は、０°以上１０°未満、又は１７０°より大きく１８０°未満であり、
    前記第３領域は、第３遅相軸を有し、
    前記第３遅相軸と前記長手方向との間の第３配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さく、
    前記基材は、遅相軸を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを含み、
    前記ポリエチレンテレフタレートフィルムの前記遅相軸と前記長手方向との間の角度から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、長尺位相差フィルムの製造方法。
15. 前記第１領域は、第１遅相軸を有し、
    前記第１遅相軸と前記長手方向との間の第１配向角から９０°を引いた値の絶対値は、前記第２配向角から９０°を引いた値の絶対値より小さい、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
16. 前記第１配向角は１０°以上１７０°以下である、請求項１５に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
17. 前記第１配向角は３０°以上１５０°以下である、請求項１５に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
18. 前記第１領域は、前記短手方向における中心を含む、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
19. 前記第２領域の前記短手方向に沿った長さは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下である、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
20. 前記第１領域の前記短手方向に沿った長さは、前記第２領域の前記短手方向に沿った長さの１２倍以上である、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
21. 前記第３配向角は４０°以上１４０°以下である、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
22. 前記第３領域は、前記短手方向における前記位相差層の端部を含む、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
23. 前記第３領域は、前記基材に接触している、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
24. 前記ポリエチレンテレフタレートフィルムの前記遅相軸と前記長手方向との間の角度は、４０°以上１４０°以下である、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
25. 前記第３領域の前記短手方向に沿った長さは、０．５ｍｍ以上５０ｍｍ以下である、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
26. 波長４５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（４５０）は、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（５５０）より小さく、
    前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、波長６５０ｎｍにおける前記位相差層の前記第１領域での面内位相差Ｒｅ（６５０）より小さく、
    前記面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１３０ｎｍ以上１５３ｎｍ以下である、請求項１４に記載の長尺位相差フィルムの製造方法。
27. 請求項１～１３のいずれか一項に記載の長尺位相差フィルムを、接合層を含む長尺の被転写フィルムに積層する工程と、
    前記接合層に接合した前記長尺位相差フィルムから、前記基材を剥がす工程と、を備える、長尺光学フィルムの製造方法。
28. 前記長尺位相差フィルムが前記被転写フィルムに積層された状態において、前記第２領域は前記短手方向における前記接合層の端部に対面する、請求項２７に記載の長尺光学フィルムの製造方法。
29. 前記長尺光学フィルムは、前記位相差層の前記第１領域と、前記第２領域の一部と、を含み、
    前記位相差層の前記第３領域と、前記第２領域の前記一部以外の残部と、は前記基材上に残留する、請求項２７に記載の長尺光学フィルムの製造方法。
30. 前記長尺位相差フィルムが前記被転写フィルムに積層された状態において、前記第２領域は前記短手方向における前記接合層の端部に対面し、前記第３領域は、前記短手方向における前記接合層の外側に位置し、前記被転写フィルムの前記基材に対面する、請求項２７に記載の長尺光学フィルムの製造方法。
31. 前記被転写フィルムは、偏光子を含む偏光層を含む、請求項２７に記載の長尺光学フィルムの製造方法。