JP7400268B2 - 不飽和ポリエステル樹脂組成物、及びその硬化物 - Google Patents
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Description
[1]
(A)不飽和ポリエステル樹脂、
(B)エチレン性不飽和単量体、
(C)飽和ポリエステル樹脂、及び
(D)水酸化アルミニウム粒子
を含み、前記(A)不飽和ポリエステル樹脂及び前記(B)エチレン性不飽和単量体の合計100質量部に対して前記(C)飽和ポリエステル樹脂を3~30質量部含み、前記(D)水酸化アルミニウム粒子を190~300質量部含む不飽和ポリエステル樹脂組成物。
[2]
前記(D)水酸化アルミニウム粒子の平均粒子径が0.5~30μmである[1]に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
[3]
さらに(E)無機充填材を前記(A)不飽和ポリエステル樹脂及び前記(B)エチレン性不飽和単量体の合計100質量部に対して180~250質量部含む[1]又は[2]に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
[4]
さらに(F)離型剤を含む[1]~[3]のいずれかに記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
[5]
さらに(G)ガラス繊維を含む[1]~[4]のいずれかに記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
[6]
さらに(H)硬化剤を含む[1]~[5]のいずれかに記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
[7]
[1]~[6]のいずれかに記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物。
[8]
[7]に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物が金属筐体と基板との間隙に充填されている電子機器。
[9]
[7]に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物により、金属と基板とが一体成形されている電子機器。
[10]
[1]~[6]のいずれかに記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物により基板を封止し、前記不飽和ポリエステル樹脂組成物を硬化させることを含む電子機器の製造方法。
[11]
[1]~[6]のいずれかに記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物を、金属筐体と基板との間隙に充填し、硬化させることを含む電子機器の製造方法。
[12]
前記封止又は充填及び硬化が、トランスファー成形又は射出成形により行われる、[10]又は[11]に記載の電子機器の製造方法。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)エチレン性不飽和単量体、(C)飽和ポリエステル樹脂、及び(D)水酸化アルミニウム粒子を含む。
(A)不飽和ポリエステル樹脂は、多価アルコールと不飽和多塩基酸との重縮合体、又は多価アルコールと不飽和多塩基酸と飽和多塩基酸との重縮合体であり、特に限定されない。不飽和多塩基酸とは、エチレン性不飽和結合を有する多塩基酸であり、飽和多塩基酸とは、エチレン性不飽和結合を有さない多塩基酸である。(A)不飽和ポリエステル樹脂は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(B)エチレン性不飽和単量体を含む。(B)エチレン性不飽和単量体は、エチレン性不飽和基を有するモノマー化合物であれば特に制限はない。エチレン性不飽和基は1つでも複数でもよい。
(C)飽和ポリエステル樹脂は、多価アルコールと飽和多塩基酸との重縮合体であり、公知のものを用いればよく、特に制限されない。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールが挙げられる。飽和多塩基酸としては、例えば、イソフタル酸等の芳香族飽和多塩基酸、アジピン酸等の脂肪族飽和多塩基酸が挙げられる。(C)飽和ポリエステル樹脂の具体的としては、例えば、アジピン酸とイソフタル酸とエチレングリコールとプロピレングリコールとの重縮合体、プロピレングリコールとアジピン酸との重縮合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(D)水酸化アルミニウム粒子を含む。(D)水酸化アルミニウム粒子の含有量は、(A)不飽和ポリエステル樹脂及び(B)エチレン性不飽和単量体の合計100質量部に対して190~300質量部であり、好ましくは190~260質量部、より好ましくは190~230質量部である。(D)水酸化アルミニウム粒子の含有量が190質量部以上であれば、得られる不飽和ポリエステル樹脂組成物は十分な難燃性を有し、300質量部以下であれば、得られる不飽和ポリエステル樹脂組成物は適切な混練性を有する。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(E)無機充填材を含むことができる。(E)無機充填材は、(D)水酸化アルミニウム粒子及び後述の(J)増粘剤に該当しない無機物であり、例えば、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、炭酸マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、ホウ化チタン等が挙げられる。これらの中でも、不飽和ポリエステル樹脂組成物の混練性、成形性及びコストの観点から、炭酸カルシウム及び酸化アルミニウムが好ましい。(E)無機充填材は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(F)離型剤を含むことができる。(F)離型剤としては、例えば、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸マグネシウム等のステアリン酸塩、界面活性剤とコポリマーからなる成形時フィラー吸着型の内部離型剤(ビッグケミー・ジャパン株式会社製、商品名:BYK-P9050)、カルナバワックス等が挙げられる。これら離型剤の中でも、ステアリン酸亜鉛が好ましい。(F)離型剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(G)ガラス繊維を含むことができる。(G)ガラス繊維の繊維長は、0.01~13mmであることが好ましく、0.01~6mmであることがより好ましく、0.01~3mmであることが最も好ましい。(G)ガラス繊維の繊維長が0.01~13mmであれば、不飽和ポリエステル樹脂組成物の型内における流動性がより良好となる。(G)ガラス繊維の繊維径は、5~20μmであることが好ましく、8~17μmであることがより好ましく、10~15μmであることが最も好ましい。(G)ガラス繊維の繊維径が5~20μmであれば、不飽和ポリエステル樹脂組成物の型内における流動性がより良好となる。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、(H)硬化剤を含むことができる。(H)硬化剤としては、特に限定されないが、本発明の技術分野において公知の有機過酸化物が挙げられる。そのような有機過酸化物としては、例えば、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサネート、ベンゾイルパーオキサイド、1,1-ジ-t-ブチルパーオキシシクロヘキサン、1,1-ビス(t-アミルペルオキシ)シクロヘキサン、1,1-ジ-t-ヘキシルパーオキシシクロヘキサン、1,1-ジ-t-ブチルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t-ヘキシルパーオキシイソプロピルカーボネート、t-ブチルパーオキシベンゾエート、t-ヘキシルパーオキシベンゾエート、1,6-ビス(t-ブチルパーオキシカルボニロキシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド等が挙げられる。これらの硬化剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(C)飽和ポリエステル樹脂以外の低収縮剤としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ酢酸ビニル、スチレン-ブタジエンゴム等が挙げられる。これら低収縮剤の中でも、低収縮化の観点から、ポリスチレンが好ましい。飽和ポリエステル樹脂(C)以外の低収縮剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(I)カップリング剤としては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基、エポキシ基、ビニル基、アミノ基、酸無水物基、イソシアナト基、スチリル基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、長鎖アルキル基等の官能基とアルコキシ基とを有するシラン系カップリング剤等が挙げられる。シラン系カップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、トリス-(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3-ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらカップリング剤の中でも、不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物と基板や金属との密着性及びコストの観点から、(メタ)アクリロイルオキシ基とアルコキシ基を有するシラン化合物が好ましく、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。(I)カップリング剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(J)増粘剤は、無機増粘剤と有機増粘剤に分類される。無機増粘剤は、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム及び酸化カルシウムである。有機増粘剤としては特に限定されないが、イソシアネート化合物が挙げられる。(J)増粘剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(K)顔料としては、特に限定されないが、例えば、C.I.ピグメントイエロー1、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、128、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、194、214等の黄色顔料;C.I.ピグメントオレンジ13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、71、73等の橙色顔料;C.I.ピグメントレッド9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、180、192、209、215、216、224、242、254、255、264、265等の赤色顔料;C.I.ピグメントブルー15、15:3、15:4、15:6、60等の青色顔料;C.I.ピグメントバイオレット1、19、23、29、32、36、38等のバイオレット色顔料;C.I.ピグメントグリーン7、36、58等の緑色顔料;C.I.ピグメントブラウン23、25等の茶色顔料;C.I.ピグメントブラック1、7、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄等の黒色顔料等が挙げられる。顔料は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン、p-ベンゾキノン、ナフトキノン、t-ブチルハイドロキノン、カテコール、p-t-ブチルカテコール、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどが挙げられる。重合禁止剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物は、不飽和ポリエステル樹脂組成物を加熱等により硬化させることにより得られる。
電子機器は、例えば、金属筐体、基板及び不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物を含む。電子機器は、好ましくは金属筐体と、基板と、その間に充填された不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物とを含む。電子機器は、好ましくは金属筐体、基板及び不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物を含む一体成形品である。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、例えば、上記した(A)~(D)の各成分、及び必要に応じて任意成分を混合することにより製造できる。混合方法としては、特に制限はなく、例えば、双腕式ニーダ、加圧式ニーダ、プラネタリーミキサー等を用いることができる。混合温度は、20℃~50℃が好ましく、30~50℃がより好ましい。混合温度が20℃以上であると、混合しやすいため好ましい。混合温度が50℃以下であると、樹脂組成物の硬化反応を抑制することができるため好ましい。
不飽和ポリエステル樹脂組成物は、必要に応じて加熱することにより硬化させることができる。不飽和ポリエステル樹脂組成物を硬化させる条件は、用いる材料によって適宜設定することができ、好ましい条件の一例としては、温度120~170℃、及び硬化時間1~30分である。
不飽和ポリエステル樹脂組成物の使用方法は、特に限定されない。例えば、電子部品の封止材として好ましく用いられる。
(A)不飽和ポリエステル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(昭和電工株式会社製Shodex(登録商標)GPC-101)を用いて下記条件にて測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求める。
カラム:昭和電工株式会社製LF-804
カラム温度:40℃
試料:不飽和ポリエステル樹脂の0.2質量%テトラヒドロフラン溶液
流量:1mL/分
溶離液:テトラヒドロフラン
検出器:RI-71S
各組成成分として、以下に示すものを用い、不飽和ポリエステル樹脂組成物を製造した。
(不飽和ポリエステル樹脂の合成)
・不飽和ポリエステル樹脂1
撹拌機、分留コンデンサー、温度計及び窒素ガス導入管を付した1Lのフラスコにプロピレングリコール372gとフマル酸519gを仕込み、窒素ガス気流下、200℃で加熱撹拌し、酸価が43.0mgKOH/gになった時点で冷却し、スチレン270gとハイドロキノン0.02gをさらに添加することで、不飽和ポリエステル樹脂1(重量平均分子量3,200)とエチレン性不飽和単量体との混合物である不飽和ポリエステル樹脂液1(不飽和ポリエステル樹脂1 77質量%)を得た。
撹拌機、分留コンデンサー、温度計及び窒素ガス導入管を付した1Lのフラスコにプロピレングリコール122gとフマル酸232g、水素化ビスフェノールA96gを仕込み、窒素ガス気流下、205℃で加熱撹拌し、酸価が35.0mgKOH/gになった時点で冷却し、スチレン346gとハイドロキノン0.02gをさらに添加することで、不飽和ポリエステル樹脂2(重量平均分子量10,000)とエチレン性不飽和単量体との混合物である不飽和ポリエステル樹脂液2(不飽和ポリエステル樹脂2 57質量%)を得た。
(飽和ポリエステル樹脂の合成)
・飽和ポリエステル樹脂a
撹拌機、分留コンデンサー、温度計及び窒素ガス導入管を付した1Lのフラスコにアジピン酸220g、イソフタル酸250g、エチレングリコール93g及びプロピレングリコール114gを仕込み、窒素ガス気流下、215℃で加熱撹拌し、酸価が12.0mgKOH/gになった時点で冷却し、スチレン290gとハイドロキノン0.02gをさらに添加することで、飽和ポリエステル樹脂a(重量平均分子量11000)とエチレン性不飽和単量体との混合物である飽和ポリエステル樹脂液aを得た。
撹拌機、分留コンデンサー、温度計及び窒素ガス導入管を付した1Lのフラスコにプロピレングリコール380gとアジピン酸730gを仕込み、窒素ガス気流下、230℃で加熱撹拌し、酸価が10.0mgKOH/gになった時点で冷却し、飽和ポリエステル樹脂b(重量平均分子量12400)を得た。
スチレン
<(D)水酸化アルミニウム粒子>
日本軽金属株式会社製B103(平均粒子径7μm)
<(E)無機充填材>
炭酸カルシウム
<(G)ガラス繊維>
日本電気硝子株式会社製ECS―03B173/P9(繊維径13μm、繊維長3mm)
<(H)硬化剤>
1,1-ビス(tert-アミルペルオキシ)シクロヘキサン(アルケマ吉富株式会社製ルペロックス531M80)
<(C)飽和ポリエステル樹脂以外の低収縮剤>
ポリスチレン(積水化成品工業株式会社製PS MS-200)
実施例1~6、参考例7及び比較例1~4の樹脂組成物について、以下に示す方法により評価を行った。評価結果を表1に示す。
成形温度150℃、成形圧力10MPa、成形時間5分で圧縮成形により90mm×10mm×厚さ4mmの平板を成形し、20mm×4mm×4mmのテストピースを切り出し、TMA法(測定機:株式会社リガク製TMA8310)により線膨張係数を測定した。昇温速度を3℃/分、荷重を98mNとし、測定温度の範囲は40~150℃とした。線膨張係数が20ppm/K未満であれば耐熱性は良好である。
フローテスター粘度測定機(測定機:株式会社島津製作所製CFT-500)にて材料粘度を測定した。直径2.0mmのダイスを備え、40℃に加熱したシリンダー試料挿入孔に試料を入れ、60秒の予備加熱後に5MPaの圧力でピストンを加圧し、材料をダイのノズルから流出させた。時間とストロークの関係について直線性が良好な個所から材料粘度を求めた。材料粘度が100~8000dPa・sであれば材料粘度は良好である。
成形温度150℃、成形圧力10MPa、成形時間5分で圧縮成形により330mm×220mm×厚さ2mmの平板を成形し、125mm×13mm×2mmのテストピースを切り出し、UL-94規格に準拠して燃焼試験を行った。表1において、V-0規格を満たすものを可、満たさないものを不可として記載した。
Claims (13)
- (A)不飽和ポリエステル樹脂、
(B)エチレン性不飽和単量体、
(C)飽和ポリエステル樹脂、及び
(D)水酸化アルミニウム粒子
を含み、前記(A)不飽和ポリエステル樹脂及び前記(B)エチレン性不飽和単量体の合計100質量部に対して前記(C)飽和ポリエステル樹脂を3~30質量部含み、前記(D)水酸化アルミニウム粒子を190~300質量部含み、
さらに(E)無機充填材を前記(A)不飽和ポリエステル樹脂及び前記(B)エチレン性不飽和単量体の合計100質量部に対して180~250質量部含む不飽和ポリエステル樹脂組成物であって、
前記(C)飽和ポリエステル樹脂が、アルキレングリコールと芳香族飽和多塩基酸と脂肪族飽和多塩基酸との重縮合体であり、
前記(E)無機充填材が、水酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム及びガラス繊維に該当しない無機物である、不飽和ポリエステル樹脂組成物。 - 前記(C)飽和ポリエステル樹脂が、アジピン酸とイソフタル酸とエチレングリコールとプロピレングリコールとの重縮合体である請求項1に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
- 前記(E)無機充填材が、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、炭酸マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、及びホウ化チタンから選択される一種以上である請求項1又は2に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
- 前記(D)水酸化アルミニウム粒子の平均粒子径が0.5~30μmである請求項1~3のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
- さらに(F)離型剤を含む請求項1~4のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
- さらに(G)ガラス繊維を含む請求項1~5のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
- さらに(H)硬化剤を含む請求項1~6のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物。
- 請求項1~7のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物。
- 請求項8に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物が金属筐体と基板との間隙に充填されている電子機器。
- 請求項8に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物の硬化物により、金属と基板とが一体成形されている電子機器。
- 請求項1~7のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物により基板を封止し、前記不飽和ポリエステル樹脂組成物を硬化させることを含む電子機器の製造方法。
- 請求項1~7のいずれか一項に記載の不飽和ポリエステル樹脂組成物を、金属筐体と基板との間隙に充填し、硬化させることを含む電子機器の製造方法。
- 前記封止又は充填及び硬化が、トランスファー成形又は射出成形により行われる、請求項11又は12に記載の電子機器の製造方法。
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