JP7388373B2 - 洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 - Google Patents
洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7388373B2 JP7388373B2 JP2021009878A JP2021009878A JP7388373B2 JP 7388373 B2 JP7388373 B2 JP 7388373B2 JP 2021009878 A JP2021009878 A JP 2021009878A JP 2021009878 A JP2021009878 A JP 2021009878A JP 7388373 B2 JP7388373 B2 JP 7388373B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polycrystalline silicon
- silicon raw
- raw material
- storage container
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 189
- 239000002994 raw material Substances 0.000 title claims description 184
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 173
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 38
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 29
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 29
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 14
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 13
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 13
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 7
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 7
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 7
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 7
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 7
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
蓋と容器本体とを含む金属製容器と、
該金属製容器の、前記洗浄後の多結晶シリコン原料に接触し得る内面に取り付けられた石英部材と
を具備するものであることを特徴とする多結晶シリコン原料の保管容器を提供する。
前記保管容器内を真空状態にする真空ポンプと、
前記保管容器内に窒素を供給して、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧するボンベと
を具備するものであることを特徴とする多結晶シリコン原料の保管装置を提供する。
本発明の多結晶シリコン原料の保管装置を用い、
前記保管容器内に前記洗浄後の多結晶シリコン原料を収容した後、前記真空ポンプと前記ボンベとを用いて、前記保管容器内を窒素により置換し、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧し、その状態を維持して前記洗浄後の多結晶シリコン原料の保管を行うことを特徴とする多結晶シリコン原料の保管方法が提供される。
蓋と容器本体とを含む金属製容器と、
該金属製容器の、前記洗浄後の多結晶シリコン原料に接触し得る内面に取り付けられた石英部材と
を具備するものであることを特徴とする多結晶シリコン原料の保管容器である。
前記保管容器内を真空状態にする真空ポンプと、
前記保管容器内に窒素を供給して、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧するボンベと
を具備するものであることを特徴とする多結晶シリコン原料の保管装置である。
本発明の多結晶シリコン原料の保管装置を用い、
前記保管容器内に前記洗浄後の多結晶シリコン原料を収容した後、前記真空ポンプと前記ボンベとを用いて、前記保管容器内を窒素により置換し、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧し、その状態を維持して前記洗浄後の多結晶シリコン原料の保管を行うことを特徴とする多結晶シリコン原料の保管方法である。
本発明の洗浄後の多結晶シリコン原料を保管する保管容器は、
蓋と容器本体とを含む金属製容器と、
該金属製容器の、前記洗浄後の多結晶シリコン原料に接触し得る内面に取り付けられた石英部材と
を具備するものであることを特徴とする。
本発明の多結晶シリコン原料の保管装置は、
本発明の多結晶シリコン原料の保管容器と、
前記保管容器内を真空状態にする真空ポンプと、
前記保管容器内に窒素を供給して、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧するボンベと
を具備するものであることを特徴とする。
本発明の洗浄後の多結晶シリコン原料を保管する方法は、本発明の多結晶シリコン原料の保管容器の前記容器本体に前記洗浄後の多結晶シリコン原料を収容し、該洗浄後の多結晶シリコン原料を前記保管容器内に前記蓋をした状態で保管することを特徴とする。
本発明の多結晶シリコン原料の保管装置を用い、
前記保管容器内に前記洗浄後の多結晶シリコン原料を収容した後、前記真空ポンプと前記ボンベとを用いて、前記保管容器内を窒素により置換し、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧し、その状態を維持して前記洗浄後の多結晶シリコン原料の保管を行うことを特徴とする。
実施例では、洗浄後の多結晶シリコン原料を収容する保管容器として、図1のような、金属製容器(SUS製)と、この金属製容器の、洗浄後のシリコン原料に接触し得る内面に取り付けられた石英部材としての厚さ5mmの石英板とを具備し、W=400mm、H=350mm、D=700mmの大きさのものを用いた。
比較例では、洗浄後の多結晶シリコン原料を、5kg毎にポリエチレンの袋に包装して保管した。
Claims (6)
- 洗浄後の多結晶シリコン原料を保管する保管容器であって、
蓋と容器本体とを含む金属製容器と、
該金属製容器の、前記洗浄後の多結晶シリコン原料に接触し得る内面に取り付けられた石英部材と
を具備するものであることを特徴とする多結晶シリコン原料の保管容器。 - 前記石英部材が石英板であることを特徴とする請求項1に記載の多結晶シリコン原料の保管容器。
- 前記保管容器は、前記蓋を前記容器本体に固定するクランプバンドを更に具備するものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の多結晶シリコン原料の保管容器。
- 請求項1~3の何れか1項に記載の多結晶シリコン原料の保管容器と、
前記保管容器内を真空状態にする真空ポンプと、
前記保管容器内に窒素を供給して、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧するボンベと
を具備するものであることを特徴とする多結晶シリコン原料の保管装置。 - 洗浄後の多結晶シリコン原料を保管する方法であって、請求項1~3の何れか1項に記載の多結晶シリコン原料の保管容器の前記容器本体に前記洗浄後の多結晶シリコン原料を収容し、該洗浄後の多結晶シリコン原料を前記保管容器内に前記蓋をした状態で保管することを特徴とする多結晶シリコン原料の保管方法。
- 洗浄後の多結晶シリコン原料を保管する方法であって、
請求項4に記載の多結晶シリコン原料の保管装置を用い、
前記保管容器内に前記洗浄後の多結晶シリコン原料を収容した後、前記真空ポンプと前記ボンベとを用いて、前記保管容器内を窒素により置換し、前記保管容器内の圧力を大気圧より高い圧力に加圧し、その状態を維持して前記洗浄後の多結晶シリコン原料の保管を行うことを特徴とする多結晶シリコン原料の保管方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021009878A JP7388373B2 (ja) | 2021-01-25 | 2021-01-25 | 洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021009878A JP7388373B2 (ja) | 2021-01-25 | 2021-01-25 | 洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022113562A JP2022113562A (ja) | 2022-08-04 |
JP7388373B2 true JP7388373B2 (ja) | 2023-11-29 |
Family
ID=82658105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021009878A Active JP7388373B2 (ja) | 2021-01-25 | 2021-01-25 | 洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7388373B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5105576B2 (ja) | 2006-12-19 | 2012-12-26 | サミー株式会社 | スロットマシン |
JP2015535512A (ja) | 2012-11-09 | 2015-12-14 | アールイーシー シリコン インコーポレイテッド | 多結晶シリコンの金属接触汚染を緩和する容器及び方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4106589C2 (de) * | 1991-03-01 | 1997-04-24 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Kontinuierliches Nachchargierverfahren mit flüssigem Silicium beim Tiegelziehen nach Czochralski |
JP6850982B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2021-03-31 | 三菱マテリアル株式会社 | シリコン破砕片の真空乾燥方法 |
-
2021
- 2021-01-25 JP JP2021009878A patent/JP7388373B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5105576B2 (ja) | 2006-12-19 | 2012-12-26 | サミー株式会社 | スロットマシン |
JP2015535512A (ja) | 2012-11-09 | 2015-12-14 | アールイーシー シリコン インコーポレイテッド | 多結晶シリコンの金属接触汚染を緩和する容器及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022113562A (ja) | 2022-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6883539B2 (en) | Wafer container | |
WO2010073725A1 (ja) | 多結晶シリコンの洗浄方法及び洗浄装置並びに多結晶シリコンの製造方法 | |
WO2015186318A1 (ja) | 多結晶シリコンロッドの製造方法、多結晶シリコンロッド、および、多結晶シリコン塊 | |
JP5514081B2 (ja) | ポリシリコン包装体の製造方法 | |
KR101955079B1 (ko) | 다결정 실리콘의 제조 방법 | |
US20130014474A1 (en) | Closure for silica glass crucible, silca glass crucible and method of handling the same | |
JP7388373B2 (ja) | 洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 | |
EP1119039A1 (en) | Wafer storing method and storing container therefor and wafer transferring method for transferring wafer to the storing container | |
JPH0116400B2 (ja) | ||
JP3496021B2 (ja) | 多結晶シリコンの輸送方法 | |
JP6996438B2 (ja) | 半導体ウェーハの洗浄方法、および該洗浄方法を用いた半導体ウェーハの製造方法 | |
JP6411952B2 (ja) | 熱分解窒化ほう素容器の製造方法 | |
JPH0330329A (ja) | 半導体ウェハ洗浄装置 | |
KR20140027509A (ko) | 결정재료의 진공보관 방법 및 장치 | |
JPH05326679A (ja) | 鏡面ウエハ運搬用収納容器 | |
TWI781986B (zh) | 多晶矽加工品的製造方法及多晶矽加工品 | |
JPH1077094A (ja) | 高純度液体の充填方法 | |
JP5245177B2 (ja) | 容器弁 | |
JP2001341794A (ja) | 超高純度過酸化水素水用容器 | |
US11482430B2 (en) | Space filling device for wet bench | |
JPH0864666A (ja) | 基板収納容器及び基板処理方法 | |
JP4808280B2 (ja) | 結晶材料の真空保管方法および装置 | |
TWI233420B (en) | Container for a high purity chemical liquid | |
WO2015159537A1 (ja) | シリコン結晶の洗浄方法および多結晶シリコン塊の粉砕方法。 | |
JP6203959B2 (ja) | 多結晶シリコンを作製するための方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231017 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231030 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7388373 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |