JP7379146B2 - 末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
下記一般式(1)
H-C≡C(CH2)aOH (1)
(式中、aは1~10の整数を表す。)
で表される末端三重結合を有するアルキノール化合物を、
下記一般式(2)
[CH3(CH2)b][CH3(CH2)c]NC6H5 (2)
(式中、b及びcは独立して、0~9の整数を表す。)
で表されるジアルキルアニリン化合物の存在下、
下記一般式(3)
RCH2OCH2X (3)
(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは水素原子、炭素数1~9のn-アルキル基、又はフェニル基を表す。)
で表されるハロメチル=アルキル=エーテル化合物とアルコキシメチル化反応させて、下記一般式(4)
H-C≡C(CH2)aOCH2OCH2R (4)
(式中、R及びaは、上記で定義した通りである。)
で表される、末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法が提供される。
H-C≡C(CH2)aOH (1)
[CH3(CH2)b][CH3(CH2)c]NC6H5 (2)
RCH 2 OCH2X (3)
H-C≡C(CH2)aOCH2OCH2R (4)
アルキノール化合物(1)の中でも、水への溶解性が高い炭素数3~6の末端三重結合を有する低級アルキノール化合物(a=1~4)、すなわち2-プロピン-1-オール、3-ブチン-1-オール、4-ペンチン-1-オール、及び5-ヘキシン-1-オール、が、該低級アルキノール化合物の保護体である上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)の製造において特に有利である。通常、これらの末端三重結合を有する低級アルキノール化合物をアルコキシメチル化させて、アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する場合、反応時の溶媒又は抽出溶媒として、抽出力に優れた非水溶性で沸点が低いジクロロメタン又はジエチル=エーテルを用いる必要がある。これらの溶媒を用いた場合、蒸留による該溶媒の分離が必要となり、仕込量が減ることによる生産性低下が生じ、また該溶媒は廃棄物となるため環境に悪い。一方で、これらの溶媒を用いない場合、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)が水層へ逃げてしまい、その結果、該アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)の収率が極めて低くなってしまう。しかしながら、本発明では、上記のジアルキルアニリン化合物(2)の優れた抽出能力により、低級アルキノール化合物の保護体である上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)であっても、水層へ逃げること無しに、有機層へ抽出することができる。従って、上記ジアルキルアニリン化合物(2)をアルコキシメチル化反応における塩基として用い、さらに、アルコキシメチル化反応後は抽出溶媒としても再活用することによって、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)の生産性を向上させることができる。
トリエチルアミンの様な水溶性化合物は、アルコキシメチル化反応の塩基として使用することができても、該反応後の抽出溶媒として用いることは出来ない。一方、N,N-ジイソプロピルエチルアミンの様な不溶性化合物は、アルコキシメチル化反応の塩基として使用でき、更に該反応後の抽出溶媒として用いることもできるが、沸点が低すぎる。そのため、特に炭素数3~6の低級アルキノール化合物のアルコキシメチル化反応においては、生成物との沸点差が少なく、蒸留によって分離精製することができない。
以上の観点から、塩基としての能力を有し、かつ抽出力もあり、生成物との沸点差が十分にある化合物を使用することが望ましい。アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)との沸点差が十分に確保できるように、用いるジアルキルアニリン化合物を選択することによって、蒸留にて両者を容易に分離することが可能となり、さらに回収したジアルキルアニリン化合物をアルコキシメチル化反応において再利用することができるため経済的である。そこで、本発明では、上記アルコキシメチル化において、上記ジアルキルアニリン化合物(2)を用いる。
一般式(3)において、Rは水素原子、炭素数1~9、好ましくは1~4、のn-アルキル基、又はフェニル基を表す。
炭素数1~9のn-アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、及びn-ノニル基等の直鎖状のアルキル基等が挙げられる。
例えば、ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)は、下記一般式(5)で表されるジアルコキシメタン化合物(以下、ジアルコキシメタン化合物(5)という)を亜鉛化合物(6)の存在下、ハロゲン化剤(7)と反応させることにより、調製される。
ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)の調製における反応時間は、反応のスケールによって異なるが、生産性の観点から、好ましくは1~50時間である。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、 テトラヒドロフラン(THF)、4-メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、及び1,4-ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びクメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、及びトリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、ジメチル=スルホキシド、γ-ブチロラクトン、及びヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類、並びに、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、及び酢酸n-ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒は生成物の沸点と沸点差があるものが好ましいが、該溶媒を用いることで仕込み量が減り生産性が低下すること、及び/又は、該溶媒に含まれる水分の影響で反応性が低下することがあるために、塩基としての上記ジアルキルアニリン化合物(2)以外に、上記の溶媒を用いずに反応を行うことがより好ましい(例えば、下記の実施例4を参照)。
アルコキシメチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記アルキノール化合物(1)1molに対して、好ましくは0~2000g、より好ましくは0~500g、である。
アルコキシメチル化反応における反応時間は、反応のスケールによって異なるが、生産性の観点から、好ましくは1~40時間である。
当該ジアルキルアニリン化合物(2)を回収する工程は、上記アルコキシメチル化反応が終わる毎(すなわち、1バッチ毎)に行われうる。
上記アルコキシメチル化反応においては、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)の生成と共にジアルキルアニリン化合物(2)に由来するジアルキルアニリン化合物のハロゲン化水素塩が副生する。
上記アルコキシメチル化反応後におけるジアルキルアニリン化合物(2)の回収方法としては、上記アルコキシメチル化反応の終了後における後処理操作において、酸性条件下で上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)を有機層に、ジアルキルアニリン化合物のハロゲン化水素塩を水層に分離して、ジアルキルアニリン化合物(2)を回収する方法(逆抽法)、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)を分離し、ジアルキルアニリン化合物(2)を回収する方法、蒸留により、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)を分離し、ジアルキルアニリン化合物(2)を回収する方法等が挙げられる。上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)の分離操作の簡便性、収率の観点から、上記アルコキシメチル化反応の後に、蒸留により、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)を分離し、ジアルキルアニリン化合物(2)を回収する方法が好ましい。
後処理操作として、具体的には、水の存在下、上記アルコキシメチル化反応により得られた上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物のハロゲン化水素塩を含む反応生成混合物(有機層)と、塩基との中和反応により、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)を含む有機層を得る(中和工程)。次に、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)を含む有機層を蒸留精製することにより、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)及びジアルキルアニリン化合物(2)を得る(蒸留工程)。
そして、有機層を蒸留精製することにより、上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)と、ジアルキルアニリン化合物(2)とを高純度で、それぞれ別々に回収することが出来る。
該塩基の使用量は、回収率及び抽出効率の観点から、上記アルコキシメチル化反応に使用した上記アルキノール化合物(1)1molに対して、好ましくは0.2~10.0mol、より好ましくは0.7~2.8mol、である。
該塩基は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を併用してもよい。また、該塩基は、市販されているものを用いることができる。
なお、該塩基が固体である場合においては、固体のまま使用してもよいし、アルコキシメチル化反応において用いるジアルキルアニリン化合物(2)、上記一般的な溶媒、又は水に溶かして使用してもよい。
中和工程における反応温度は、反応性の観点から、好ましくは-20~70℃、より好ましくは0~40℃、である。
中和工程における反応時間は、反応スケールや除熱能力により異なるが、生産性の観点から、好ましくは0.1~30時間、である。
中和工程における水層のpHは、ジアルキルアニリン化合物(2)の回収率及び上記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)の抽出効率の観点から、好ましくは4.0~10.0、より好ましくは5.0~8.0、である。
pH値は、例えばpH試験紙又は測定対象の液温を25℃としてpHメータを用いて測定できる。
当該回収されたジアルキルアニリン化合物(2)は、上記のアルコキシメチル化反応を1バッチ行った後に回収されたもの、又は上記のアルコキシメチル化反応を複数バッチ繰り返し、バッチ毎に回収されたジアルキルアニリン化合物(2)を1ロットとしてまとめたものでありうる。
このようにして回収されたジアルキルアニリン化合物(2)は高純度であり、さらに上記アルコキシメチル化反応において再利用するため、上記アルコキシメチル化反応を経済的に繰り返すことが可能になる。従って、本発明に従う方法は、環境に優しく、経済的にも極めて有利である。
なお、以下において、「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー(GC)分析によって得られた面積百分率を示し、「生成比」はGC分析によって得られた面積百分率の相対比を示す。また「収率」は、GC分析によって得られた面積百分率を基に算出した収率を示す。
各実施例において、反応のモニタリングや収率の算出は、次のGC条件に従って行った。
GC条件:GC:島津製作所 キャピラリガスクロマトグラフ GC-2014,カラム:DB-5,0.25mmx0.25mmφx30m,キャリアーガス:He(1.55mL/分)、検出器:FID,カラム温度:70℃ 5℃/分昇温 230℃。
収率は、原料及び生成物の純度(%GC)を考慮して、以下の式に従い計算した。
収率(%)={[(反応によって得られた生成物の重量×%GC)/生成物の分子量]
÷[ (反応における出発原料の重量×%GC)/出発原料の分子量]}×100
3-(メトキシメトキシ)-1-プロピン(4:R=H;a=1)<H-C≡CCH2OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl;R=H)を調製した上記反応器に、2-プロピン-1-オール(1:a=1)(279.01g、4.977mol、純度100%)とN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(855.45g、5.72mol、純度99.82%)との混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて11.5時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(862.88g、水酸化ナトリウムとして5.39mol)、続いて水(548.00g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、3-(メトキシメトキシ)-1-プロピン(4:R=H;a=1)(487.57g、4.86mol、純度99.89%、b.p.=76.9℃/197.8mmHg)が収率97.7%で、続いてN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(825.86g、5.52mol、純度99.70%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率96.5%で得られた。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=2.41(1H,t,J=2.7Hz,3.36(3H,s),4.20(2H,d,J=2.7Hz),4.69(2H,s);13C-NMR(500MHz,CDCl3):δ=53.95,55.51,74.20,79.25,94.69
〔マススペクトル〕EI-マススペクトル(70eV):m/z 99(M+-1),69,61,55,45,39
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=3292,2953,2893,1448,1152,1102,1049,995,938,920,894,672
N,N-ジエチルアニリン(2)
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.20(6H,t,J=6.9Hz),3.39(4H,q,J=6.9Hz),6.68(1H,ddt,J=7.3Hz,7.3Hz,1.1Hz),6.73(2H,dd,J=9.0Hz,1.1Hz),7.25(2H,dd,J=7.3Hz,5.1Hz);13C-NMR(500MHz,CDCl3):δ=12.53,44.25,111.80,115.30,129.21,147.76
〔マススペクトル〕EI-マススペクトル(70eV):m/z 149(M+),134,120,106,91,77
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=2970,2929,2870,1598,1506,1396,1374,1354,1266,1199,1156,1094,1077,1036,1011,791,745,692
4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)<H-C≡C(CH2)2OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl;R=H)を調製した上記反応器に、3-ブチン-1-オール(1:a=2)(349.35g、4.98mol、純度99.86%)とN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(855.45g、5.72mol、純度99.82%)との混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて7時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(862.88g、水酸化ナトリウムとして5.39mol)、続いて水(568.17g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)(564.88、4.93mol、純度99.53%、b.p.=94.2℃/115.2mmHg)が収率98.9%で、続いてN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(824.98g、5.51mol、純度99.64%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率96.3%で得られた。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.98(1H,t,J=2.7Hz),2.47(2H,dt,J=2.6Hz,6.7Hz),3.36(3H,s),3.64(2H,6.8Hz),4.63(2H,s);13C-NMR(500MHz,CDCl3):δ=19.92,55.20,65.68,69.25,81.25,96.33
〔マススペクトル〕EI-マススペクトル(70eV):m/z 113(M+-1),83,75,61,53,45
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=3293,2934,2887,1383,1151,1112,1075,1032,918,646
4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)<H-C≡C(CH2)2OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl;R=H)を調製した上記反応器に、3-ブチン-1-オール(1:a=2)(336.52g、4.80mol、純度99.86%)と実施例2にて蒸留回収したN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(824.98g、5.51mol、純度99.64%)の混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて7時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(831.20g、水酸化ナトリウムとして5.19mol)、続いて水(547.31g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)(534.66、4.67mol、純度99.79%、b.p.=94.2℃/115.2mmHg)が収率97.5%で、続いてN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(799.19g、5.35mol、純度99.80%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率97.0%で得られた。
4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)<H-C≡C(CH2)2OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl、R=H)を調製した上記反応器に、3-ブチン-1-オール(1:a=2)(349.35g、4.98mol、純度99.86%)とN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(855.45g、5.72mol、純度99.82%)との混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて5時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(862.88g、水酸化ナトリウムとして5.39mol)、続いて水(548.00g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)(565.22g、4.93mol、純度99.50%、b.p.=94.2℃/115.2mmHg)が収率99.0%で、続いてN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(847.88g、5.63mol、純度99.10%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率98.4%で得られた。
4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)<H-C≡C(CH2)2OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl、R=H)を調製した上記反応器に、3-ブチン-1-オール(1:a=2)(343.89g、4.90mol、純度99.86%)と実施例4にて蒸留回収したN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(847.88g、5.63mol、純度99.10%)の混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて7時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(849.39g、水酸化ナトリウムとして5.31mol)、続いて水(559.28g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、4-(メトキシメトキシ)-1-ブチン(4:R=H;a=2)(549.56、4.80mol、純度99.82%、b.p.=94.2℃/115.2mmHg)が収率98.1%で、続いてN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(821.67g、5.48mol、純度99.50%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率97.3%で得られた。
10-(メトキシメトキシ)-1-デシン(4:R=H;a=8)<H-C≡C(CH2)8OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl、R=H)を調製した上記反応器に、9-デシン-1-オール(1:a=8)(300.98g、1.88mol、純度96.46%)とN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(323.48g、2.16mol、純度99.82%)との混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて18時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(328.98g、水酸化ナトリウムとして2.06mol)、続いて水(207.22g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、N,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(321.31g、2.15mol、純度96.59%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率99.7%で、続いて10-(メトキシメトキシ)-1-デシン(4:R=H;a=8)(377.06g、1.84mol、純度96.80%、b.p.=110.2~118.2℃/3.0mmHg)が収率97.8%で得られた。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.25-1.43(8H,m),1.51(2H,q-like,J=7.3Hz),1.57(2H,q-like,J=6.8Hz),1.92(1H,t,J=2.7Hz),2.16(2H,td,J=7.3Hz,2.7Hz),3.34(3H,s),3.50(2H,t,J=6.9Hz),4.60(2H,s);13C-NMR(500MHz,CDCl3):δ=18.33,26.11,28.40,28.63,28.99,29.23,29.67,55.02,67.77,68.04,84.67,96.33
〔マススペクトル〕EI-マススペクトル(70eV):m/z 197(M+-1),183,165,135,121,107,95,81,67,45
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=3308,2932,2857,1465,1145,1111,1051,919,630
3-(エトキシメトキシ)-1-プロピン(4:R=CH 3 ;a=1)<H-C≡CCH2OCH2OCH2CH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=エチル=エーテル(3:X=Cl、R=CH3)を調製した上記反応器に、2-プロピン-1-オール(1:a=1)(279.01g、4.977mol、純度100%)とN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(855.45g、5.72mol、純度99.82%)との混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて5.5時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(862.88g、水酸化ナトリウムとして5.39mol)、続いて水(548.00g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、3-(エトキシメトキシ)-1-プロピン(4:R=CH3;a=1)(552.28g、4.82mol、純度99.64%、b.p.=94.8℃/235.4mmHg)が収率96.9%で、続いてN,N-ジエチルアニリン(2:b=1;c=1)(808.40g、5.41mol、純度99.91%、b.p.=110.4~116.1℃/20.0mmHg)が収率94.6%で得られた。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H-NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.20(3H,t,J=7.3Hz),2.40(1H,t,J=2.7Hz),3.60(2H,q,J=7.3Hz),4.21(2H,d,J=2.7Hz),4.74(2H,s);13C-NMR(500MHz,CDCl3):δ=15.02,53.97,63.60,74.11,79.37,93.36
〔マススペクトル〕EI-マススペクトル(70eV):m/z 113(M+-1),85,69,55,39
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=3294,2978,2935,2887,1393,1180,1151,1111,1049,1018,996,938,895,667
3-(メトキシメトキシ)-1-プロピン(4:R=H;a=1)<H-C≡CCH 2 OCH2OCH3>の製造
続いて、上記クロロメチル=メチル=エーテル(3:X=Cl、R=H)を調製した反応器に、2-プロピン-1-オール(1:a=1)(279.01g、4.977mol、純度100%)とN,N-ジイソプロピルエチルアミン(739.58g、5.72mol、純度100%)との混合液を20~30℃にて滴下し、20~30℃にて8.0時間撹拌した。次に、反応液に25質量%水酸化ナトリウム水溶液(862.88g、水酸化ナトリウムとして5.39mol)、続いて水(548.00g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、3-(メトキシメトキシ)-1-プロピン(4:R=H;a=1)(3.50mol、収率70.4%)とN,N-ジイソプロピルエチルアミン(5.39mol、収率94.3%)との混合物が1047.08g得られた(混合物の沸点は85.1℃/408.3mmHg~101.5℃/378.2mmHg)。
Claims (15)
- 下記一般式(1)
H-C≡C(CH2)aOH (1)
(式中、aは1~10の整数を表す。)
で表される末端三重結合を有するアルキノール化合物を、
下記一般式(2)
[CH3(CH2)b][CH3(CH2)c]NC6H5 (2)
(式中、b及びcは独立して、0~9の整数を表す。)
で表される、塩基としてのジアルキルアニリン化合物の存在下、
下記一般式(3)
RCH2OCH2X (3)
(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは水素原子、炭素数1~9のn-アルキル基、又はフェニル基を表す。)
で表されるハロメチル=アルキル=エーテル化合物とアルコキシメチル化反応させて、下記一般式(4)
H-C≡C(CH2)aOCH2OCH2R (4)
(式中、R及びaは、上記で定義した通りである。)
で表される、末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法において、
(i)前記アルコキシメチル化反応が、塩基兼該反応の後の抽出溶媒としての前記ジアルキルアニリン化合物(2)以外の追加の溶媒無しに行われる、若しくは、
(ii)前記アルコキシメチル化反応後の後処理操作が、反応混合物を、水の存在下、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ土類金属炭酸水素塩から選択される塩基との中和反応に付されることによって行われる、又は、
(iii)前記アルコキシメチル化反応が、塩基としての前記ジアルキルアニリン化合物(2)以外の追加の溶媒無しに行われ、且つ前記アルコキシメチル化反応後の後処理操作が、反応混合物を、水の存在下、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ土類金属炭酸水素塩から選択される塩基との中和反応に付されることによって行われる、
前記方法。 - 前記アルコキシメチル化反応が、塩基としての前記ジアルキルアニリン化合物(2)以外の追加の溶媒無しに行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記アルコキシメチル化反応後の後処理操作が、反応混合物を、水の存在下、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ土類金属炭酸水素塩から選択される塩基との中和反応に付されることによって行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記アルコキシメチル化反応が、塩基としての前記ジアルキルアニリン化合物(2)以外の追加の溶媒無しに行われ、且つ
前記アルコキシメチル化反応後の後処理操作が、反応混合物を、水の存在下、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ土類金属炭酸水素塩から選択される塩基との中和反応に付されることによって行われる、請求項1に記載の方法。 - 前記アルコキシメチル化反応後の後処理操作が中和反応であり、該中和反応から生じた前記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)と前記ジアルキルアニリン化合物(2)とを含む有機層が、蒸留によって前記アルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物(4)と前記ジアルキルアニリン化合物(2)とに分離される、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アルコキシメチル化反応が、前記ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)に、前記アルキノール化合物(1)と前記ジアルキルアニリン化合物(2)とを滴下することにより行われる、請求項1~5のいずれか一項に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 下記一般式(5)
RCH2OCH2OCH2R (5)
(式中、Rは、上記で定義した通りである。)
で表されるジアルコキシメタン化合物を、亜鉛化合物の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、前記ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)を調製する工程を更に含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。 - 前記ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)が、クロロメチル=メチル=エーテル、クロロメチル=エチル=エーテル、クロロメチル=プロピル=エーテル、クロロメチル=ブチル=エーテル、又はクロロメチル=ベンジル=エーテルである、請求項1~7のいずれか一項に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 前記ジアルキルアニリン化合物(2)が、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、N,N-ジプロピルアニリン、又はN,N-ジブチルアニリンである、請求項1~8のいずれか一項に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 前記アルキノール化合物(1)が、2-プロピン-1-オール、3-ブチン-1-オール、4-ペンチン-1-オール、又は5-ヘキシン-1-オールである、請求項1~9のいずれか一項に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 前記アルコキシメチル化反応の後に、前記ジアルキルアニリン化合物(2)を回収する工程を更に含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 前記回収したジアルキルアニリン化合物(2)を、前記アルコキシメチル化反応における原料として再利用する工程を更に含む、請求項11に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 前記回収したジアルキルアニリン化合物(2)が、前記アルコキシメチル化反応を1バッチ行った後に回収されたもの、又は前記アルコキシメチル化反応を複数バッチ繰り返し、バッチ毎に回収されたジアルキルアニリン化合物(2)をまとめたものである、請求項11又は12に記載の末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法。
- 下記一般式(1)
H-C≡C(CH2)aOH (1)
(式中、aは1~10の整数を表す。)
で表される末端三重結合を有するアルキノール化合物を、
下記一般式(2)
[CH3(CH2)b][CH3(CH2)c]NC6H5 (2)
(式中、b及びcは独立して、0~9の整数を表す。)
で表されるジアルキルアニリン化合物の存在下、
下記一般式(3)
RCH2OCH2X (3)
(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは水素原子、炭素数1~9のn-アルキル基、又はフェニル基を表す。)
で表されるハロメチル=アルキル=エーテル化合物とアルコキシメチル化反応させて、下記一般式(4)
H-C≡C(CH2)aOCH2OCH2R (4)
(式中、R及びaは、上記で定義した通りである。)
で表される、末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法において、
前記アルコキシメチル化反応が、前記ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)に、前記アルキノール化合物(1)と前記ジアルキルアニリン化合物(2)とを滴下することにより行われる、
前記方法。 - 下記一般式(1)
H-C≡C(CH2)aOH (1)
(式中、aは1~10の整数を表す。)
で表される末端三重結合を有するアルキノール化合物を、
下記一般式(2)
[CH3(CH2)b][CH3(CH2)c]NC6H5 (2)
(式中、b及びcは独立して、0~9の整数を表す。)
で表されるジアルキルアニリン化合物の存在下、
下記一般式(3)
RCH2OCH2X (3)
(式中、Xはハロゲン原子を表し、Rは水素原子、炭素数1~9のn-アルキル基、又はフェニル基を表す。)
で表されるハロメチル=アルキル=エーテル化合物とアルコキシメチル化反応させて、下記一般式(4)
H-C≡C(CH2)aOCH2OCH2R (4)
(式中、R及びaは、上記で定義した通りである。)
で表される、末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物を製造する方法において、
下記一般式(5)
RCH2OCH2OCH2R (5)
(式中、Rは、上記で定義した通りである。)
で表されるジアルコキシメタン化合物を、亜鉛化合物の存在下、ハロゲン化剤と反応させて、前記ハロメチル=アルキル=エーテル化合物(3)を調製する工程を更に含む、
前記方法。
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Patent Citations (1)
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Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Stephen F.Martin et al.,Tetrahedron,1986年,Volume42, Issue 11,pp.2903-2910,https://doi.org/10.1016/S0040-4020(01)90579-4 |
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