JP7376424B2 - 基板処理用の処理液の交換方法および基板処理装置 - Google Patents

Description

本願は、基板処理用の処理液の交換方法および基板処理装置に関する。

従来から、処理液を用いて基板に対する処理を行う基板処理装置が提案されている（例えば特許文献１）。基板処理装置は処理チャンバを含む。処理チャンバ内には、基板を保持するスピンチャックと、基板に処理液を吐出するノズルとが設けられる。また、基板処理装置には、処理液を貯留するタンクが設けられている。タンク内の処理液は給液管（以下、ユニット給液管と呼ぶ）を通じて処理チャンバに供給される。このユニット給液管にはヒータおよび開閉弁が設けられる。開閉弁は、ヒータよりも処理チャンバに近い位置に設けられており、当該開閉弁が開くことで、タンクからの処理液が処理ユニットに供給される。ヒータは、処理に適した温度まで処理液を加熱する。

特許文献１では、循環配管も設けられる。循環配管の上流端はヒータと開閉弁との間の分岐点においてユニット給液管に接続され、循環配管の下流端はタンクに接続される。よって、タンクからユニット給液管に供給される処理液の一部は、循環配管を経由してタンクに戻る。以下では、ユニット給液管の上流端と分岐点との間の部分を往き配管とも呼ぶ。

ヒータが処理液を加熱しつつ、処理液が往き配管および循環配管を流れて循環することにより、タンク内の処理液、往き配管および循環配管内の処理液の温度が規定範囲内に制御される。

また、特許文献１では、薬液供給源から薬液給液管を通じて薬液がタンク内に供給され、純水供給源から純水給液管を通じて純水がタンク内に供給される。特許文献１では、処理液は薬液および純水を混合したものである。

特開２０１９－１９２８６３号公報

タンク内の処理液を交換する場合がある。この場合、まず、タンクに接続された第１排液管を通じてタンク内の処理液を排出しつつ、循環配管に接続された第２排液管を通じて往き配管および循環配管内の処理液を排出する。タンク、往き配管および循環配管内の処理液の排出が完全に完了すると、タンク、往き配管および循環配管は空になる。次に、薬液供給源および純水供給源から新たな処理液（薬液および純水）をタンク内に供給する。これにより、タンクから往き配管および循環配管にも処理液が供給される。以上のようにして、処理液を交換することができる。

しかしながら、上記交換処理では、往き配管および循環配管内の処理液の排出により、往き配管および循環配管内が空になる。よって、タンクから新たな処理液が往き配管および循環配管に供給されると、往き配管および循環配管内に気体が混入し得る。

処理液の交換後、往き配管に気体が混入した状態で開閉弁を開いて処理液を処理チャンバに供給すると、混入した気体の影響により、処理液の流量が大きく変動する。このような流量変動は、基板の適切な処理を阻害する。

そこで、本願は、処理液の交換時に配管内の気体の混入を抑制できる技術を提供することを目的とする。

基板処理用の処理液の交換方法の第１の態様は、処理液を貯留するタンクから送液管を通じて前記処理液を供給する基板処理装置において、前記処理液を交換する方法であって、前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記タンクに接続されたタンク排液管に設けられた第１排液バルブを開いて、前記タンク内の前記処理液を前記タンク排液管を通じて排出する第１タンク排液工程と、前記第１タンク排液工程の後に、タンク給液管に設けられた第１給液バルブを開いて、交換液としての前記処理液を、前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給する第１タンク給液工程と、前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記送液管に設けられた送液部の作動により、前記タンクから前記送液管を通じて前記交換液を排出する配管処理液交換工程とを備える。

基板処理用の処理液の交換方法の第２の態様は、第１の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記タンク内の前記処理液の貯留量を検出するためのセンサに基づいて、前記貯留量が第１規定量よりも小さい状態で前記第１排液バルブを閉じて、前記第１タンク排液工程を終了し、前記第１タンク給液工程の開始後に、前記センサに基づいて、前記貯留量が前記第１規定量よりも大きな第２規定量以上となる状態で前記送液部を作動させて、前記配管処理液交換工程を開始する。

基板処理用の処理液の交換方法の第３の態様は、第１の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記タンク内の前記処理液の貯留量を検出するためのセンサに基づいて、前記貯留量が第２規定量以上であるときに、前記送液部を作動させて前記配管処理液交換工程を開始し、前記第２規定量は、前記配管処理液交換工程において前記送液管の容量以上の前記交換液を前記タンクから前記送液管に供給可能な量、以上に設定される。

基板処理用の処理液の交換方法の第４の態様は、第３の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記タンクの底部に接続された前記送液管の上流端に、前記送液部の作動により、前記タンク内の前記処理液を流入させ、前記第２規定量は、前記送液管の容量以上に設定される。

基板処理用の処理液の交換方法の第５の態様は、第３の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記タンクの底部よりも鉛直上方に位置して前記タンク内の前記処理液に浸漬した前記送液管の上流端に、前記送液部の作動により、前記タンク内の前記処理液を吸入させ、前記第２規定量は、前記送液管の前記上流端が前記タンク内の前記処理液に浸漬可能な前記貯留量の最小値である臨界量と、前記送液管の容量との和以上に設定される。

基板処理用の処理液の交換方法の第６の態様は、第１から第５のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程の開始から交換時間が経過したときに、前記配管処理液交換工程を終了する。

基板処理用の処理液の交換方法の第７の態様は、第５の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において前記第１給液バルブは閉じており、前記貯留量が、前記臨界量よりも大きく前記第２規定量よりも小さい第１規定量となったときに前記送液部を停止させて、前記配管処理液交換工程を終了する。

基板処理用の処理液の交換方法の第８の態様は、第１から第６のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程は前記第１タンク給液工程と並行して実行される。

基板処理用の処理液の交換方法の第９の態様は、第８の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記送液管を通じて排出される前記処理液の流量は、前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給される前記交換液の流量以下である。

基板処理用の処理液の交換方法の第１０の態様は、第１から第９のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において前記送液管を通じて排出される前記処理液の流量は、通常動作において基板を処理する処理ユニットに対して前記送液管を通じて供給される前記処理液の流量よりも小さい。

基板処理用の処理液の交換方法の第１１の態様は、第１から第１０のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記タンク内の前記処理液を、前記送液管を含む循環配管を通じて排出する。

基板処理用の処理液の交換方法の第１２の態様は、第１１の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程の後に、前記第１タンク給液工程と並行して、前記循環配管に設けられたヒータおよび前記送液部を作動させる循環加熱工程をさらに備える。

基板処理用の処理液の交換方法の第１３の態様は、第１１または第１２の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記第１排液バルブを閉じ、前記循環配管から分岐した循環排液管に設けられた第２排液バルブを開き、且つ、前記送液部を作動させて、前記タンク内の前記交換液を前記循環配管および前記循環排液管を通じて排出する。

基板処理用の処理液の交換方法の第１４の態様は、第１１の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記第１排液バルブを開き、前記送液部を作動させて、前記タンクから前記循環配管の上流端に流入した前記交換液を、前記循環配管、前記タンクおよび前記タンク排液管を通じて排出する。

基板処理用の処理液の交換方法の第１５の態様は、第１４の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、前記送液部の作動により、前記タンクの底部よりも鉛直上方に位置する前記循環配管の上流端に、前記タンク内の前記処理液を吸入させ、前記循環配管の上流端が前記タンク内の前記処理液に浸漬した状態で、前記送液部を停止させて前記配管処理液交換工程を終了し、前記交換方法は、前記配管処理液交換工程の後に、前記循環配管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記第１排液バルブを開いて前記タンク排液管を通じて前記タンク内の前記処理液を排出する第２タンク排液工程と、前記第２タンク排液工程の後に、前記第１給液バルブを開いて、前記交換液としての前記処理液を前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給する第２タンク給液工程とをさらに備える。

基板処理用の処理液の交換方法の第１６の態様は、第１５の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記第２タンク給液工程と並行して、前記循環配管に設けられたヒータおよび前記送液部を作動させる循環加熱工程をさらに備える。

基板処理用の処理液の交換方法の第１７の態様は、第１から第１０のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、基板を処理する処理ユニットに前記処理液を供給し前記送液管を含んだユニット給液管から分岐したユニット排液管に設けられた第３排液バルブを開いて、前記タンク内の前記交換液を前記ユニット給液管および前記ユニット排液管を通じて排出する。

基板処理用の処理液の交換方法の第１８の態様は、第１から第１７のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程の後に、基板を処理する処理ユニットに前記基板が搬入されていない状態で行われるノズル排液工程をさらに備え、前記ノズル排液工程において、前記処理ユニット内のノズルに接続され前記送液管を含むユニット給液管に設けられた第２給液バルブを開いて、前記タンク内の前記交換液を前記ユニット給液管を通じて、前記ノズルから吐出させる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１９の態様は、第１８の態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記ノズル排液工程において、前記処理ユニットからの前記処理液を前記タンクに回収する回収管から分岐した回収排液管に設けられた第４排液バルブを開く。

基板処理用の処理液の交換方法の第２０の態様は、第１から第１０のいずれか一つの態様にかかる基板処理用の処理液の交換方法であって、前記配管処理液交換工程において、基板を処理する処理ユニット内のノズルに接続され前記送液管を含むユニット給液管に設けられた第２給液バルブを開いて、前記タンク内の前記交換液を前記ユニット給液管を通じて前記ノズルから排出する。

基板処理装置の態様は、基板処理装置であって、処理液を貯留するタンクと、前記タンクに接続されたタンク排液管と、前記タンク排液管に設けられた第１排液バルブと、前記処理液を前記タンク内に供給するタンク給液管と、前記タンク給液管に設けられた第１給液バルブと、基板を処理する処理ユニットと前記タンクとの間に位置する送液管と、前記送液管に設けられ、前記処理液を送液する送液部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記第１排液バルブを開いて、前記タンク内の前記処理液を前記タンク排液管を通じて排出し、前記第１給液バルブを開いて、交換液としての前記処理液を、前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給し、前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記送液部の作動により、前記タンクから前記送液管を通じて前記交換液を排出する。

基板処理用の処理液の交換方法の第１の態様および基板処理装置の態様によれば、配管処理液交換工程では、送液管内の古い処理液がタンクからの交換液によって押し出されて排出される。よって、送液管に混入する気体の量を抑制しつつ、送液管内の処理液を交換できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第２の態様によれば、貯留量が第１規定量よりも小さい状態で第１タンク排液工程が終了する。よって、タンク内の古い処理液をより多く排出でき、交換処理後の古い処理液の残留量を低減させることができる。一方で、貯留量が第２規定量以上である状態で配管処理液交換工程を開始する。よって、配管処理液交換工程においてタンクから送液管に供給する処理液をより多く確保できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第３から第５の態様によれば、送液管の古い処理液のほぼ全てを押し出すことが可能な処理液の量を、配管処理液交換工程の開始時点から確保できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第６の態様によれば、簡易な条件で配管処理液交換工程を終了できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第７の態様によれば、送液管の上流端がタンク内の処理液に浸漬した状態で、送液部を停止させるので、送液管内の処理液が上流端から流下することを回避できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第８の態様によれば、交換処理に要する時間を短縮することができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第９の態様によれば、配管処理液交換工程の全期間において、タンクから送液管に処理液を供給し続けることができる。よって、送液管内への気体の混入を最小化できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１０の態様によれば、配管処理液交換工程において流量が小さいので、処理液の流れが乱れにくく、気体の混入をさらに低減させることができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１１の態様によれば、処理液の交換処理で気体が混入しやすい循環配管でも、気体の混入を低減させることができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１２の態様によれば、処理液の温度が規定温度に達するタイミングを早めることができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１３の態様によれば、循環配管内の処理液がタンクを経由しないので、処理液の交換後に残留する古い処理液の量を低減させることができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１４の態様によれば、循環配管内の古い処理液をタンクを経由して排出することができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１５の態様によれば、配管処理液交換工程において、循環配管内の古い処理液がタンクを経由するので、配管処理液交換工程の終了時点で、タンク内の処理液には、古い処理液が混ざっている。第２タンク排液工程によって、タンク内の古い処理液の量を低減させることができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１６の態様によれば、処理液の温度が規定温度に達するタイミングを早めることができる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１７の態様によれば、気体の混入を低減させつつ、ユニット給液管内の処理液を交換できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１８の態様によれば、排出工程により、ユニット給液管内の処理液を交換できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第１９の態様によれば、回収管内に残留した古い処理液を排出できる。

基板処理用の処理液の交換方法の第２０の態様によれば、気体の混入を低減させつつ、ユニット給液管内の処理液を交換できる。

基板処理装置の構成の一例を概略的に示す平面図である。 基板処理装置の構成の一例を概略的に示す図である。 制御部の構成の一例を概略的に示す機能ブロック図である。 処理液の交換処理の一例を示すフローチャートである。 処理液の交換処理の一例を示すタイミングチャートである。 タンク排液工程を説明するための図である。 タンク給液工程を説明するための図である。 配管処理液交換工程を説明するための図である。 循環加熱工程を説明するための図である。 配管処理液交換工程を開始する動作の具体的な一例を示すフローチャートである。 供給ユニットの構成の他の例を概略的に示す図である。 処理液の交換処理の他の例を示すタイミングチャートである。 処理液の交換処理の他の例を示すフローチャートである。 処理液の交換処理の他の例を示すタイミングチャートである。 第１タンク排液工程を説明するための図である。 第１タンク排液工程を説明するための図である。 第１タンク給液工程を説明するための図である。 配管処理液交換工程を説明するための図である。 第２タンク排液工程を説明するための図である。 第２タンク給液工程を説明するための図である。 供給ユニットの構成の他の例を概略的に示す図である。 処理液の交換処理の他の例を示すフローチャートである。 処理液の交換処理の他の例を示すタイミングチャートである。 処理液の交換処理の他の例を示すタイミングチャートである。

以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、図面に示される構成の大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。

また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。

また、以下に記載される説明において、「第１」または「第２」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。

相対的または絶対的な位置関係を示す表現（例えば「一方向に」「一方向に沿って」「平行」「直交」「中心」「同心」「同軸」など）は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表すものとする。等しい状態であることを示す表現（例えば「同一」「等しい」「均質」など）は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表すものとする。形状を示す表現（例えば、「四角形状」または「円筒形状」など）は、特に断らない限り、幾何学的に厳密にその形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲で、例えば凹凸や面取りなどを有する形状も表すものとする。一の構成要素を「備える」「具える」「具備する」「含む」または「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的表現ではない。「Ａ，ＢおよびＣの少なくともいずれか一つ」という表現は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、Ａ，ＢおよびＣのうち任意の２つ、ならびに、Ａ，ＢおよびＣの全てを含む。

＜基板処理装置の概略構成＞
図１は、基板処理装置１００の構成の一例を概略的に示す平面図である。図１で示されるように、基板処理装置１００は、例えば、基板の一例としての半導体基板（ウエハ）Ｗの表面に付着した有機系のゴミを除去する処理に用いることができる枚葉式の装置である。有機系の残渣としては、例えば、基板Ｗの表面に不純物を注入するイオン注入処理等の後において基板Ｗの表面に残っている不要になったレジスト、あるいは基板Ｗの表面のうちの外周部の近傍に付着しているレジスト等に由来する有機系のゴミ等、が含まれる。また、基板処理装置１００は無機系の残渣除去および基板Ｗのエッチングにも用いることができる。

基板処理装置１００は、収容器としての複数のキャリアＣを保持する収容器保持機構としてのロードポートＬＰと、基板Ｗを処理する複数（この実施の形態では、１２台）の処理ユニット１０とを含む。具体的には、例えば、平面的に配置されている４台の処理ユニット１０でそれぞれ構成されている３組の処理ユニット１０が、鉛直方向に積層するように配置されている。

基板処理装置１００は、さらに、例えば、インデクサロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、制御部９０とを含む。インデクサロボットＩＲは、例えば、ロードポートＬＰとセンターロボットＣＲとの間で基板Ｗを搬送することができる。センターロボットＣＲは、例えば、インデクサロボットＩＲと各処理ユニット１０との間で基板Ｗを搬送することができる。制御部９０は、例えば、基板処理装置１００に備えられた各部の動作およびバルブの開閉等を制御することができる。

ここでは、図１で示されるように、ロードポートＬＰと各処理ユニット１０とは、水平方向に間隔を空けて配置されている。ロードポートＬＰにおいて、複数枚の基板Ｗを収容する複数のキャリアＣは、平面視したときに水平な配列方向Ｄに沿って配列されている。ロードポートＬＰは、基板Ｗを搬入する搬入部として機能する。ここで、インデクサロボットＩＲは、例えば、キャリアＣから基板載置部１１０に複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができるとともに、基板載置部１１０からキャリアＣに複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができる。基板載置部１１０は、基板Ｗを載置する載置台を含む。

センターロボットＣＲは、例えば、基板載置部１１０から各処理ユニット１０に複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができるとともに、各処理ユニット１０から基板載置部１１０に複数枚の基板Ｗを一枚ずつ搬送することができる。また、例えば、センターロボットＣＲは、必要に応じて複数の処理ユニット１０の間において基板Ｗを搬送することができる。インデクサロボットＩＲ、基板載置部１１０およびセンターロボットＣＲは、基板Ｗを搬入部（ロードポートＬＰ）から受け取り、処理ユニット１０に受け渡す基板受渡部として機能する。

図１の例では、インデクサロボットＩＲは、平面視Ｕ字状のハンドＨを有している。ここでは、インデクサロボットＩＲは２つのハンドＨを有する。２つのハンドＨは、互いに異なる高さに配置される。各ハンドＨは基板Ｗを水平な姿勢で支持することができる。インデクサロボットＩＲはハンドＨを水平方向および鉛直方向に移動させることができる。さらに、インデクサロボットＩＲは、鉛直方向に沿った軸を中心として回転（自転）することで、ハンドＨの向きを変更することができる。インデクサロボットＩＲは、受渡位置（図１でインデクサロボットＩＲが描かれている位置）を通る経路において配列方向Ｄに沿って移動する。受渡位置は、平面視したときにインデクサロボットＩＲと基板載置部１１０とが配列方向Ｄに直交する方向において対向する位置である。インデクサロボットＩＲは、任意のキャリアＣおよび基板載置部１１０にそれぞれハンドＨを対向させることができる。ここで、例えば、インデクサロボットＩＲはハンドＨを移動させることにより、キャリアＣに基板Ｗを搬入する搬入動作と、キャリアＣから基板Ｗを搬出する搬出動作とを行うことができる。また、例えば、インデクサロボットＩＲは受渡位置においてハンドＨを移動させることにより、基板載置部１１０に基板Ｗを搬入する搬入動作と、基板載置部１１０ら基板Ｗを搬出する搬出動作とを行うことができる。

図１の例では、センターロボットＣＲは、インデクサロボットＩＲと同様に、平面視Ｕ字状のハンドＨを有している。ここでは、センターロボットＣＲは２つのハンドＨを有する。２つのハンドＨは、互いに異なる高さに配置される。各ハンドＨは基板Ｗを水平な姿勢で支持することができる。センターロボットＣＲは各ハンドＨを水平方向および鉛直方向に移動させることができる。さらに、センターロボットＣＲは、鉛直方向に沿った軸を中心として回転（自転）することで、ハンドＨの向きを変更することができる。センターロボットＣＲは、平面視したときに、複数台の処理ユニット１０に取り囲まれている。センターロボットＣＲは、任意の処理ユニット１０および基板載置部１１０のいずれかにハンドＨを対向させることができる。ここで、例えば、センターロボットＣＲはハンドＨを移動させることにより、各処理ユニット１０に基板Ｗを搬入する搬入動作と、各処理ユニット１０から基板Ｗを搬出する搬出動作とを行うことができる。また、例えば、センターロボットＣＲはハンドＨを移動させることにより、基板載置部１１０に基板Ｗを搬入する搬入動作と、基板載置部１１０から基板Ｗを搬出する搬出動作とを行うことができる。

未処理の基板ＷはキャリアＣからインデクサロボットＩＲによって取り出され、基板載置部１１０を経由してセンターロボットＣＲに受け渡される。センターロボットＣＲはこの未処理の基板Ｗを処理ユニット１０に搬入する。処理ユニット１０は基板Ｗに対して処理を行う。処理済みの基板ＷはセンターロボットＣＲによって処理ユニット１０から取り出され、必要に応じて他の処理ユニット１０を経由した上で、基板載置部１１０を介してインデクサロボットＩＲに受け渡される。インデクサロボットＩＲは処理済みの基板ＷをキャリアＣに搬入する。以上により、基板Ｗに対する処理が行われる。

図１の例では、ユーザインターフェース９４が設けられている。ユーザインターフェース９４は例えばいずれも不図示のディスプレイおよび入力デバイスを有している。ディスプレイは、例えば液晶ディスプレイなどのディスプレイである。ディスプレイは制御部９０によって制御されて、各種情報を表示する。入力デバイスは、例えば、キーボードおよびマウスなどのデバイスである。入力デバイスはユーザによって入力された情報を制御部９０に出力する。例えばユーザは入力デバイスを用いて、基板処理装置１００の動作開始を指示することができる。

＜処理ユニット＞
図２は、基板処理装置１００の構成の一例を概略的に示す図である。各処理ユニット１０は、例えば、処理チャンバ１１と、基板保持部１２と、ノズル１３と、カップ１４とを含む。処理チャンバ１１は処理室を形成しており、基板保持部１２、ノズル１３およびカップ１４を収納する。

基板保持部１２は基板Ｗを水平姿勢で保持する。ここでいう水平姿勢とは、基板Ｗの法線が鉛直方向に沿う姿勢である。また、基板保持部１２は、基板Ｗの中心部を通って鉛直方向に沿って延在する回転軸線のまわりで、基板Ｗを回転させる。基板保持部１２はスピンチャックとも呼ばれる。基板保持部１２は、基板Ｗの端部を複数の保持ピンで保持してもよいし、基板Ｗの裏面を真空吸着により保持してもよい。

ノズル１３は、基板保持部１２によって保持された基板Ｗの主面に向かって処理液を吐出する。回転中の基板Ｗの主面に処理液が着液すると、処理液は遠心力を受けて基板Ｗの主面上を外側に向かって流れ、基板Ｗの周縁から外側に飛散する。処理液が基板Ｗの主面に作用することで、基板Ｗに対する処理が行われる。

カップ１４は、基板保持部１２を囲む筒状の形状を有しており、基板Ｗの周縁から飛散した処理液を受け止める。

＜供給ユニット＞
図２で示されるように、基板処理装置１００は、処理ユニット１０に処理液を供給する供給ユニット２０を含んでいる。この供給ユニット２０は適宜に流体ボックス１２０および処理液キャビネット１３０（図１参照）に跨って設けられる。供給ユニット２０は第１タンク２１ａを含んでいる。第１タンク２１ａ内には処理液が貯留されており、この処理液がユニット給液管３０を通じて処理ユニット１０に供給される。処理液は、例えば、エッチング液等の薬液、当該薬液を洗い流すリンス液、および、基板Ｗを除電する除電液の少なくともいずれか一つを含む。より具体的な一例として、処理液は、フッ酸と過酸化水素と水とを混合して得られるフッ酸過酸化水素水溶液（ＦＰＭ）、フッ酸（ＨＦ）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、硫酸と過酸化水素水との混合液（ＳＰＭ）、アンモニア水、および、アンモニアと過酸化水素と水との混合液（ＳＣ－１）の少なくともいずれか一つを含む。なお、処理液は混合液ではなく、単液でもよい。例えば、フッ酸、過酸化水素水および硫酸などの単液を処理液として採用できる。

＜ユニット給液管系＞
図２の具体例では、第１タンク２１ａ内の処理液は複数の処理ユニット１０に供給され得るものの、以下ではまず、第１タンク２１ａから１つの処理ユニット１０へ向かって処理液が流れるユニット給液管３０について述べる。

図２の具体例では、ユニット給液管３０は、後述のように、共通管３０１、分岐管３０２Ａおよび分岐管３０３Ａによって構成される。ユニット給液管３０の上流端３０ａは第１タンク２１ａに接続されており、図２の具体例では、第１タンク２１ａの底部に接続されている。つまり、ユニット給液管３０の上流端３０ａは第１タンク２１ａの底面において開口している。ユニット給液管３０の下流端３０ｂはノズル１３に接続される。

ユニット給液管３０には、第１送液部３１および給液バルブ３４が設けられている。第１送液部３１は、第１タンク２１ａからノズル１３に向かって処理液を流す駆動機構であり、例えばポンプである。給液バルブ３４は第１送液部３１よりも下流側に設けられている。給液バルブ３４はユニット給液管３０の流路を開閉する。

図２の具体例では、ユニット給液管３０には、さらに第１ヒータ３２、フィルタ３３およびバルブ３５が設けられている。第１ヒータ３２は、ユニット給液管３０の内部を流れる処理液を加熱する。具体的には、第１ヒータ３２は、処理液の温度が基板Ｗの処理に適した温度範囲内となるように当該処理液を加熱する。第１ヒータ３２は例えば電熱線を有していてもよい。図２の具体例では、第１ヒータ３２は第１送液部３１よりも上流側に設けられている。フィルタ３３は、処理液に含まれる不純物を捕捉する。これにより、フィルタ３３よりも下流側の処理液の不純物濃度を低減させることができる。図２の具体例では、フィルタ３３は第１送液部３１と給液バルブ３４との間に設けられている。バルブ３５も給液バルブ３４と同様に、ユニット給液管３０の開閉を切り替える。図２の具体例では、バルブ３５は第１タンク２１ａの直後に設けられている。つまり、バルブ３５は第１ヒータ３２よりも上流側に設けられている。

給液バルブ３４およびバルブ３５が開いた状態で第１送液部３１が作動することにより、第１タンク２１ａ内の処理液がユニット給液管３０の内部を処理ユニット１０に向かって流れる。当該処理液は処理ユニット１０内のノズル１３の吐出口から基板Ｗに向かって吐出される。

次に、複数の処理ユニット１０に処理液を供給するユニット給液管３０の構成の一例について述べる。図２の具体例では、ユニット給液管３０は、共通管３０１と、分岐管３０２Ａ，３０２Ｂと、分岐管３０３Ａ～３０３Ｄとを含んでいる。共通管３０１の上流端はユニット給液管３０の上流端３０ａに相当し、第１タンク２１ａに接続されている。共通管３０１の下流端は、分岐管３０２Ａ，３０２Ｂの上流端に共通して接続されている。分岐管３０２Ａの下流端は分岐管３０３Ａ，３０３Ｂの上流端に共通して接続されており、分岐管３０２Ｂの下流端は分岐管３０３Ｃ，３０３Ｄの上流端に共通して接続されている。分岐管３０３Ａの下流端はユニット給液管３０の下流端３０ｂに相当し、対応する処理ユニット１０のノズル１３に接続される。分岐管３０３Ｂ～３０３Ｄの下流端も同様である。

以上のように、図２の具体例では、ユニット給液管３０は第１タンク２１ａと、４つの処理ユニット１０の各々とを接続することができる。

図２の具体例では、２つの第１ヒータ３２およびバルブ３５が共通管３０１に設けられている。第１ヒータ３２は一つでもよい。また図２の具体例では、第１送液部３１は第１送液部３１Ａ，３１Ｂを含んでおり、第１送液部３１Ａは分岐管３０２Ａに設けられ、第１送液部３１Ｂは分岐管３０２Ｂに設けられる。また図２の具体例では、フィルタ３３はフィルタ３３Ａ～３３Ｄを含んでおり、フィルタ３３Ａは分岐管３０３Ａに設けられ、フィルタ３３Ｂ～３３Ｄも同様に、それぞれ分岐管３０３Ｂ～３０３Ｄに設けられる。図２では図示を省略しているものの、４つの給液バルブ３４が設けられ、これらの給液バルブ３４は、それぞれ分岐管３０３Ａ～３０３Ｄに設けられる。

なお、ユニット給液管３０の構成は図２の具体例に限らず、種々の変形が可能である。例えば、１つの第１送液部３１が共通管３０１に設けられていてもよく、あるいは、４つの第１送液部３１が分岐管３０３Ａ～３０３Ｄにそれぞれ設けられてもよい。第１ヒータ３２およびフィルタ３３も同様である。

＜循環配管系＞
図２の具体例では、ユニット給液管３０内の処理液を第１タンク２１ａに戻すための、循環渡り配管４０２および循環戻り配管４０３が設けられている。以下では、代表的に、第１タンク２１ａから１つの処理ユニット１０に向かう処理液が流れるユニット給液管３０に着目して説明する。循環渡り配管４０２の上流端は、ユニット給液管３０の分岐点３０ｃに接続されている。分岐点３０ｃは、例えば給液バルブ３４の直前に位置している。具体的には、分岐点３０ｃは、第１送液部３１、第１ヒータ３２およびフィルタ３３の一組と、給液バルブ３４との間に位置している。循環渡り配管４０２の下流端は循環戻り配管４０３に接続されている。循環戻り配管４０３の下流端４０ａは第１タンク２１ａに接続されており、図２の具体例では、第１タンク２１ａの底部に接続されている。つまり、循環戻り配管４０３の下流端４０ａは第１タンク２１ａの底面において開口している。

図２の具体例では、循環渡り配管４０２には第１循環バルブ４１が設けられており、循環戻り配管４０３には第２循環バルブ４２が設けられている。第１循環バルブ４１は循環渡り配管４０２の流路の開閉を切り替える。第２循環バルブ４２は循環戻り配管４０３の流路の開閉を切り替える。

以下では、ユニット給液管３０のうち上流端３０ａから分岐点３０ｃまでの配管（送液管に相当）を循環往き配管４０１とも呼ぶ。循環往き配管４０１、循環渡り配管４０２および循環戻り配管４０３は循環配管４０を構成する。上流端３０ａは循環配管４０の上流端に相当し、下流端４０ａは循環配管４０の下流端に相当する。

バルブ３５、第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２が開いた状態で第１送液部３１が作動することにより、第１タンク２１ａから上流端３０ａに流入した処理液は循環配管４０の内部を流れて再び第１タンク２１ａに戻る。

図２に示されるように、第１ヒータ３２は循環配管４０に設けられるので、第１ヒータ３２によって加熱された高温の処理液が循環配管４０の内部を流れて循環する。これにより、第１タンク２１ａおよび循環配管４０内の処理液の温度を規定の温度範囲に維持することができる。

図２の具体例では、循環渡り配管４０２として循環渡り配管４０２Ａ～４０２Ｄが設けられている。循環渡り配管４０２Ａの上流端は、対応する給液バルブ３４の直前の分岐点３０ｃにおいて分岐管３０３Ａに接続される。循環渡り配管４０２Ｂ～４０２Ｄの上流端も同様に、それぞれ、対応する給液バルブ３４の直前において分岐管３０４Ｂ～３０４Ｄに接続される。循環渡り配管４０２Ａの下流端は循環戻り配管４０３に接続されており、循環渡り配管４０２Ｂ～４０２Ｄの下流端も同様に、循環戻り配管４０３に接続されている。図２では図示省略されているものの、循環渡り配管４０２Ｂ～４０２Ｄにも、循環渡り配管４０２Ａと同様に、第１循環バルブ４１が設けられる。

なお、図２の具体例では、４つの循環渡り配管４０２が１つの循環戻り配管４０３に共通して接続されているものの、必ずしもこれに限らない。例えば、４つの循環戻り配管４０３が設けられ、４つの循環戻り配管４０３の下流端４０ａが個別に第１タンク２１ａに接続され、循環戻り配管４０３の各上流端が対応する循環渡り配管４０２の下流端に接続されてもよい。この場合、互いに接続された循環渡り配管４０２および循環戻り配管４０３は１本の配管を構成する。

＜回収配管系＞
図２の具体例では、処理ユニット１０のノズル１３から吐出された処理液を第１タンク２１ａに戻すための回収管２２も設けられている。図２の具体例では、回収管２２の上流端は処理ユニット１０に接続され、回収管２２の下流端は第１タンク２１ａの内側に位置しており、第１タンク２１ａの底部と間隔を空けて対向している。回収管２２の下流端は吐出口として機能する。回収管２２には回収バルブ２３が設けられている。回収バルブ２３は回収管２２の流路の開閉を切り替える。

ノズル１３から吐出された処理液は、基板Ｗの主面を流れて基板Ｗの周縁から外側に飛散し、カップ１４の内周面で受け止められて、回収管２２の上流端へと導かれる。回収バルブ２３が開いているときには、処理液は回収管２２の内部を流れて、第１タンク２１ａ内に供給される。これにより、処理液を再利用することができる。なお、回収管２２から回収される処理液は、基板Ｗに対する処理によって不純物をより多く含んでいたり、あるいは、基板Ｗの処理に必要な成分の濃度が低下していたりする。つまり、回収された処理液は劣化している。

＜タンク供給部＞
図２で示されるように、供給ユニット２０はタンク供給部６０も含んでいる。タンク供給部６０は処理液を第１タンク２１ａに供給する。タンク供給部６０が供給する処理液は新液であり、ほとんど劣化していない。

タンク供給部６０は第１タンク２１ａに処理液を供給できればよく、その構成は特に制限されないものの、以下、タンク供給部６０の構成の具体的な一例についても説明する。図２の具体例では、タンク供給部６０は第２タンク２１ｂを含んでいる。第２タンク２１ｂ内の処理液は第１タンク給液管６１を通じて第１タンク２１ａに供給される。第１タンク給液管６１の上流端６１ａは第２タンク２１ｂに接続されており、図２の具体例では、第２タンク２１ｂの底部に接続されている。第１タンク給液管６１の下流端６１ｂは第１タンク２１ａの内側において開口する。第１タンク給液管６１の下流端６１ｂは、処理液を吐出する吐出口として機能する。

図２の具体例では、第１タンク給液管６１には第２送液部６２、第２ヒータ６３、給液バルブ６４およびバルブ６５が設けられている。第２送液部６２は、第２タンク２１ｂから第１タンク２１ａに向かって処理液を流す駆動機構であり、例えばポンプである。給液バルブ６４は第２送液部６２よりも下流側に設けられており、第１タンク給液管６１の流路を開閉する。第２ヒータ６３は、第１タンク給液管６１の内部を流れる処理液を加熱する。第２ヒータ６３は例えば電熱線を有していてもよい。図２の具体例では、２つの第２ヒータ６３が設けられている。２つの第２ヒータ６３は第２送液部６２よりも上流側に設けられている。バルブ６５は第２タンク２１ｂの直後に設けられている。つまり、バルブ６５は第２ヒータ６３よりも上流側に設けられている。

バルブ６５および給液バルブ６４の両方が開いた状態で第２送液部６２が作動することにより、処理液が第２タンク２１ｂから第１タンク給液管６１の内部を流れて第１タンク２１ａに供給される。

図２の具体例では、第１タンク給液管６１内の処理液を第２タンク２１ｂに戻すための循環戻り配管６６も設けられている。循環戻り配管６６の上流端は、第２送液部６２および第２ヒータ６３と一組と、給液バルブ６４との間の分岐点６１ｃにおいて、第１タンク給液管６１に接続されている。循環戻り配管６６の下流端は第２タンク２１ｂ内において開口している。循環戻り配管６６の下流端は、処理液を吐出する吐出口として機能する。循環戻り配管６６には循環バルブ６７が設けられている。循環バルブ６７は循環戻り配管６６の流路の開閉を切り替える。バルブ６５および循環バルブ６７の両方が開いた状態で第２送液部６２が作動することにより、第１タンク給液管６１からの処理液が循環戻り配管６６を流れて第２タンク２１ｂに戻る。

つまり、第２タンク２１ｂからの処理液は、第１タンク給液管６１のうち上流端６１ａから分岐点６１ｃまでの配管（以下、循環往き配管６８と呼ぶ）および循環戻り配管６６を順に経由して再び第２タンク２１ｂに流入する。よって、循環往き配管６８は循環戻り配管６６とともに循環配管６９を構成する。

第２ヒータ６３は循環配管６９に設けられるので、第２ヒータ６３によって加熱された高温の処理液が循環配管６９の内部を流れて循環する。これにより、第２タンク２１ｂおよび循環配管６９内の処理液の温度を規定の温度範囲に維持することができる。

第２タンク２１ｂには、処理液供給源７３から第２タンク給液管７１を通じて処理液が供給される。処理液供給源７３から供給される処理液は新液であって、ほとんど劣化していない。第２タンク給液管７１には、給液バルブ７２が設けられている。給液バルブ７２は第２タンク給液管７１の流路の開閉を切り替える。給液バルブ７２が開くと、処理液供給源７３からの処理液が第２タンク給液管７１の内部を流れて第２タンク２１ｂに供給される。

＜排液系＞
図２で示されるように、第１タンク２１ａには、第１タンク排液管８０の上流端が接続されている。図２の具体例では、第１タンク排液管８０の上流端は第１タンク２１ａの底部に接続される。つまり、第１タンク排液管８０の上流端は第１タンク２１ａの底面において開口している。また、第１タンク排液管８０の下流端は外部の排液部８８に接続される。第１タンク排液管８０には排液バルブ８１が設けられている。排液バルブ８１は第１タンク排液管８０の流路の開閉を切り替える。排液バルブ８１が開くと、第１タンク２１ａ内の処理液が第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出される。排液部８８は例えば工場の排液設備である。

図２の具体例では、循環配管４０の分岐点４０ｂには、循環排液管８２の上流端が接続されている。分岐点４０ｂは、循環戻り配管４０３のうち第２循環バルブ４２よりも上流側に位置している。また、循環排液管８２の下流端は排液部８８に接続される。循環排液管８２には排液バルブ８３が設けられている。排液バルブ８３は循環排液管８２の流路の開閉を切り替える。排液バルブ８３が開くと、循環配管４０内の処理液が循環排液管８２を通じて排液部８８に排出される。

図２の具体例では、第２タンク２１ｂには、第２タンク排液管８４の上流端が接続されている。図２の具体例では、第２タンク排液管８４の上流端は第２タンク２１ｂの底部に接続される。また、第２タンク排液管８４の下流端は排液部８８に接続される。第２タンク排液管８４には排液バルブ８５が設けられている。排液バルブ８５は第２タンク排液管８４の流路の開閉を切り替える。排液バルブ８５が開くと、第２タンク２１ｂ内の処理液が第２タンク排液管８４を通じて排液部８８に排出される。

図２の具体例では、回収管２２の分岐点２２ａには、回収排液管２４の上流端が接続されている。分岐点２２ａは、回収バルブ２３よりも上流側に位置している。回収排液管２４の下流端は排液部８８に接続されている。回収排液管２４には排液バルブ２５が設けられている。排液バルブ２５は回収排液管２４の流路の開閉を切り替える。排液バルブ２５が開くと、回収管２２内の処理液が回収排液管２４を通じて排液部８８に排出される。

＜センサ＞
図２の具体例では、第１タンク２１ａ内にはセンサ５０が設けられている。センサ５０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量を検出するためのセンサである。具体的な一例として、センサ５０は液面センサを含む。液面センサはレベルセンサとも呼ばれる。液面センサは例えばフロート式のレベルセンサまたは静電容量式のレベルセンサであってもよい。

図２の具体例では、センサ５０は、第１液面センサ５１、第２液面センサ５２および第３液面センサ５３を含んでいる。第１液面センサ５１、第２液面センサ５２および第３液面センサ５３は、第１タンク２１ａ内において異なる高さ位置に設けられている。図２の具体例では、第１液面センサ５１は最も低い位置に設けられており、第３液面センサ５３は最も高い位置に設けられており、第２液面センサ５２は第１液面センサ５１と第３液面センサ５３との間の高さ位置に設けられている。

第１液面センサ５１は、処理液の液面が第１高さ基準値Ｈ１になったことを検出することができる。言い換えれば、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出する時、第１タンク２１ａ内の処理液の液面の高さは第１高さ基準値Ｈ１に一致している（図６も参照）。以下では、処理液の液面の高さが第１高さ基準値Ｈ１と一致したときの処理液の貯留量を第１規定量Ｍ１とも呼ぶ。

第２液面センサ５２は、処理液の液面が第２高さ基準値Ｈ２になったことを検出することができる。言い換えれば、第２液面センサ５２が処理液の液面を検出する時、第１タンク２１ａ内の処理液の液面の高さは第２高さ基準値Ｈ２に一致している。以下では、処理液の液面の高さが第２高さ基準値Ｈ２と一致したときの処理液の貯留量を第２規定量Ｍ２とも呼ぶ。第２高さ基準値Ｈ２は第１高さ基準値Ｈ１よりも高いので、第２規定量Ｍ２は第１規定量Ｍ１よりも大きい。

第３液面センサ５３は、処理液の液面が第３高さ基準値Ｈ３になったことを検出することができる。言い換えれば、第３液面センサ５３が処理液の液面を検出する時、第１タンク２１ａ内の処理液の液面の高さは第３高さ基準値Ｈ３に一致している。以下では、処理液の液面の高さが第３高さ基準値Ｈ３と一致したときの処理液の貯留量を第３規定量Ｍ３とも呼ぶ。第３高さ基準値Ｈ３は第２高さ基準値Ｈ２よりも高いので、第３規定量Ｍ３は第２規定量Ｍ２よりも大きい。

第３高さ基準値Ｈ３と第２高さ基準値Ｈ２との差は、例えば、第２高さ基準値Ｈ２と第１高さ基準値Ｈ１との差よりも大きく設定される。つまり、第３規定量Ｍ３と第２規定量Ｍ２との差は、例えば、第２規定量Ｍ２と第１規定量Ｍ１との差よりも大きく設定される。

センサ５０は、検出結果を示す信号を制御部９０に出力する。具体的には、第１液面センサ５１、第２液面センサ５２および第３液面センサ５３の各々は、検出結果を示す信号を制御部９０に出力する。

＜制御部＞
制御部９０は基板処理装置１００を統括的に制御することができる。例えば、制御部９０は、インデクサロボットＩＲの搬送制御、センターロボットＣＲの搬送制御、各処理ユニット１０の基板保持部１２の回転制御、供給ユニット２０の各バルブの開閉制御、各送液部の駆動制御、各ヒータの加熱制御を行うことができる。また、制御部９０はセンサ５０からの信号を受け取ることができる。

図３は、制御部９０の内部構成の一例を概略的に示す機能ブロック図である。制御部９０は電子回路であって、例えばデータ処理部９１および記憶媒体９２を有している。図３の具体例では、データ処理部９１と記憶媒体９２とはバス９３を介して相互に接続されている。データ処理部９１は例えばＣＰＵ（Central Processor Unit）などの演算処理装置であってもよい。記憶媒体９２は非一時的な記憶媒体（例えばＲＯＭ（Read Only Memory）またはハードディスク）９２１および一時的な記憶媒体（例えばＲＡＭ（Random Access Memory））９２２を有していてもよい。非一時的な記憶媒体９２１には、例えば制御部９０が実行する処理を規定するプログラムが記憶されていてもよい。データ処理部９１がこのプログラムを実行することにより、制御部９０が、プログラムに規定された処理を実行することができる。もちろん、制御部９０が実行する処理の一部または全部がハードウェアによって実行されてもよい。図３の具体例では、処理ユニット１０および供給ユニット２０がバス９３に接続された態様が一例として概略的に示されている。

なお、記憶媒体９２以外の他の記憶媒体が制御部９０に接続されていてもよい。記憶媒体９２に記憶される各種情報は当該他の記憶媒体に記憶されていてもよい。

＜通常動作＞
次に、基板処理装置１００の通常動作の一例について概説する。ここでいう通常動作とは、基板処理装置１００が基板Ｗを処理する動作をいう。ここでは、通常動作において、バルブ３５、第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２は常時開いており、第１送液部３１および第１ヒータ３２は常時作動しているものとする。これにより、第１タンク２１ａ内の処理液は循環配管４０を流れて循環し、第１タンク２１ａおよび循環配管４０内の処理液の温度が規定の温度範囲内に維持される。バルブ６５および循環バルブ６７も常時開いており、第２送液部６２および第２ヒータ６３も常時作動している。

基板ＷがセンターロボットＣＲから処理ユニット１０に搬入されると、基板保持部１２が基板Ｗを水平姿勢で保持する。基板保持部１２が基板Ｗを回転させ、給液バルブ３４が開くことにより、回転中の基板Ｗの主面に向かってノズル１３から処理液が吐出される。基板Ｗの主面に着液した処理液は、遠心力により基板Ｗの主面上を外側に向かって流れ、基板Ｗの周縁から飛散する。処理液が基板Ｗの主面に作用することにより、基板Ｗに対する処理が行われる。

基板Ｗの周縁から飛散した処理液はカップ１４によって受け止められ、回収管２２の上流端に導かれる。ここでは、回収バルブ２３は開いており、当該処理液は回収管２２を通じて、第１タンク２１ａに流入する。これにより、処理ユニット１０に供給された処理液の一部は回収管２２を通じて第１タンク２１ａに回収される。

基板Ｗに対する処理を終了する際には、制御部９０は給液バルブ３４を閉じる。これにより、ノズル１３から基板Ｗへの処理液の吐出が停止する。その後、処理ユニット１０は必要に応じて他の処理液を基板Ｗに供給し、基板Ｗに対する種々の処理を行う。その後、処理ユニット１０は基板Ｗに対する乾燥処理を行う。例えば、基板保持部１２が回転速度を高めて、基板Ｗに対するスピン乾燥処理を行う。これにより、基板Ｗに対する処理が終了する。そして、センターロボットＣＲによって処理ユニット１０から処理済みの基板Ｗが搬出され、次の基板Ｗが処理ユニット１０に搬入される。以後、同様の動作が繰り返される。

＜補充処理＞
上述の一例では、処理ユニット１０に供給された処理液が回収管２２を通じて第１タンク２１ａに回収される。しかしながら、処理液の全量が回収される訳ではないので、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は徐々に低下する。

第１タンク２１ａ内の処理液が低下すると、補充処理が行われる。ここでは、一例として、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がほぼ第３規定量Ｍ３以上となるように、制御部９０は給液バルブ６４を制御する。より具体的には、制御部９０は、貯留量が第３規定量Ｍ３を下回るタイミングを、第３液面センサ５３の検出結果に基づいて特定する。制御部９０は、貯留量が第３規定量Ｍ３よりも下回ったと判断すると、給液バルブ６４を開く。これにより、第２タンク２１ｂ内の処理液が第１タンク給液管６１を通じて第１タンク２１ａに供給される。よって、第１タンク２１ａの貯留量が時間の経過とともに徐々に増加する。

制御部９０は、例えば貯留量が第３規定量Ｍ３以上であるか否かを、第３液面センサ５３の検出結果に基づいて判断する。貯留量が第３規定量Ｍ３以上であるときには、制御部９０は給液バルブ６４を閉じる。これにより、第２タンク２１ｂから第１タンク２１ａへの処理液の供給が停止する。なお、給液バルブ６４の開閉が頻繁に行われると、給液バルブ６４の寿命が短くなる。そこで、第３規定量Ｍ３にヒステリシスを設けてもよい。例えば制御部９０は、処理液が第３規定量Ｍ３を下回った時点から所定時間が経過したときに給液バルブ６４を開き、処理液が第３規定量Ｍ３を上回った時点から所定時間が経過したときに給液バルブ６４を閉じてもよい。時間の計測はタイマ回路（不図示）を用いて行うことができる。

これにより、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量を、第３規定量Ｍ３を含む所定範囲内に維持することができる。ただし、本実施の形態はこれに限らない。第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がより少ない規定量を下回ったときに、タンク供給部６０が第１タンク２１ａに処理液を供給しても構わない。例えば、貯留量が第２規定量Ｍ２または第１規定量Ｍ１を下回ったときに、タンク供給部６０が第１タンク２１ａに処理液を供給しても構わない。

＜処理液の交換処理の第１具体例＞
上述の一例では、処理ユニット１０に供給された処理液の一部が回収管２２を通じて第１タンク２１ａに回収される。処理ユニット１０から回収された処理液には、基板Ｗの処理によって不純物が混入していたり、あるいは、処理に必要な成分の濃度が低下していたりする。つまり、回収された処理液は、回収前の処理液に比して劣化する。そして、処理液が処理ユニット１０に繰り返し供給されることにより、第１タンク２１ａ内の処理液の劣化の程度は大きくなる。

そこで、本基板処理装置１００においては、第１タンク２１ａ内の古い処理液を、新たな処理液（交換液に相当）に交換する交換処理が行われる。この交換処理は、例えば、前回の交換処理からの基板Ｗの処理枚数が所定枚数以上になったときに行われる。あるいは、この交換処理は、前回の交換処理から所定期間が経過したときに行われてもよい。なお交換処理を行うための条件は適宜に変更してもよい。

図４は、交換処理の第１具体例を示すフローチャートであり、図５は、交換処理の第１具体例における各工程を示すタイミングチャートである。ここでは一例として、交換処理の実行中において、給液バルブ３４は常時閉じており、供給ユニット２０は処理ユニット１０に処理液を供給しない。また初期的には、第１送液部３１および第１ヒータ３２は作動しておらず、給液バルブ６４は閉じており、バルブ３５、第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２は開いているものとする。また、以下では、説明の簡単のために、１つの処理ユニット１０に対応する構成に着目して説明を行う。

まず、供給ユニット２０は第１タンク２１ａ内の処理液を排出する（ステップＳ１：タンク排液工程）。図６は、タンク排液工程を説明するための図である。具体的には、供給ユニット２０は、循環配管４０の内部を処理液で満たした状態を維持しながら、第１タンク排液管８０を通じて第１タンク２１ａ内の処理液を排出する。より具体的な一例として、制御部９０は、第１送液部３１が停止し且つ排液バルブ８３が閉じた状態で、排液バルブ８１を開く。第１送液部３１が停止し且つ排液バルブ８３が閉じていれば、循環配管４０内の処理液は静止しており、循環配管４０の内部は処理液で満たされたままとなる。図６の例では、循環配管４０の内部が処理液で満たされていることを、模式的に太線で示している。この点は以下で参照する各図面においても同様である。

一方、排液バルブ８１が開くことにより、第１タンク２１ａ内の処理液は第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出される。第１タンク２１ａ内の処理液が排液部８８に排出されることにより、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに低下する。なお、図６の例では、処理液の流れる方向を破線の矢印で示している。この点は以下で参照する各図面においても同様である。

ここでは一例として、供給ユニット２０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１よりも小さくなった状態で、タンク排液工程を終了する。例えば、供給ユニット２０は貯留量がほぼゼロとなるまで、タンク排液工程を行う。これより、第１タンク２１ａ内の古い処理液をほぼ全て排出することができる。より具体的な一例として、制御部９０は、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出した時点から所定のタンク排液時間が経過したときに、排液バルブ８１を閉じる。タンク排液時間は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がほぼゼロとなるのに十分な時間であり、例えば予め設定される。例えば、ユーザはユーザインターフェース９４にタンク排液時間の情報を入力してもよい。ユーザインターフェース９４は、入力されたタンク排液時間の情報を制御部９０に出力する。制御部９０はタンク排液時間の情報を例えば記憶媒体９２に記憶する。

上述のタンク排液工程によって、第１タンク２１ａ内の古い処理液をほぼ全て排出することができる。その一方で、タンク排液工程においては循環配管４０内の処理液は静止しているので、タンク排液工程後でも、循環配管４０の内部には古い処理液が満ちている。

次に、タンク供給部６０は第１タンク２１ａに新しい処理液（交換液に相当）を供給し始める（ステップＳ２：タンク給液工程の開始）。具体的には、制御部９０は給液バルブ６４を開く。図７は、タンク給液工程を説明するための図である。給液バルブ６４が開くことにより、第２タンク２１ｂからの新しい処理液が第１タンク給液管６１を通じて第１タンク２１ａに供給される。これにより、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。

このタンク給液工程の初期において第１送液部３１は停止している（図５参照）。よって、タンク給液工程の初期において循環配管４０内の処理液は静止している。したがって、循環配管４０の内部には未だ古い処理液が満ちている。

供給ユニット２０は、例えば第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２以上となる状態で、後述の配管処理液交換工程を行う（ステップＳ３）。例えば制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２以上であるか否かをセンサ５０の検出結果に基づいて判断し、貯留量が第２規定量Ｍ２以上であると判断したときに、配管処理液交換工程を行う。より具体的な一例として、制御部９０は、第２液面センサ５２が処理液の液面を検出したときに、配管処理液交換工程を行う。

図８は、配管処理液交換工程を説明するための図である。供給ユニット２０は、循環配管４０の内部を処理液で満たした状態を維持しながら、第１送液部３１の作動により、第１タンク２１ａから循環配管４０を通じて処理液を排液部８８に排出する。より具体的には、制御部９０は第２循環バルブ４２を閉じ排液バルブ８３を開きつつ、第１送液部３１を作動させる。これにより、第１タンク２１ａ内の新たな処理液が循環配管４０の上流端３０ａに流入しつつ、循環配管４０内に残留していた古い処理液が分岐点４０ｂから循環排液管８２を通じて排液部８８に排出される。

この排出により、循環配管４０内の処理液は、その上流側から順次に新たな処理液に交換される。

そして、循環配管４０内に残留していた古い処理液がほぼ全て排出されると、循環配管４０の内部は新しい処理液で満たされる。なお、排液バルブ８３が開いている限り、この循環配管４０内の新しい処理液は循環排液管８２を通じて順次に排出され得る。

制御部９０は、例えば配管処理液交換工程の開始時点から所定の交換時間ｔ１が経過したときに、排液バルブ８３を閉じる。これにより、循環配管４０内の処理液の排出が終了する。つまり、配管処理液交換工程が終了する。交換時間ｔ１は、例えば、循環配管４０内の古い処理液のほぼ全てを新たな処理液に交換するのに十分な時間であり、例えば予め設定される。例えば、交換時間ｔ１は、第１送液部３１による処理液の流量Ｆ１と交換時間ｔ１との積が循環配管４０の容量以上となるように設定されてもよい。交換時間ｔ１は例えば記憶媒体９２に記憶されてもよい。例えば、ユーザはユーザインターフェース９４に交換時間ｔ１の情報を入力してもよい。ユーザインターフェース９４は、入力された交換時間ｔ１の情報を制御部９０に出力する。制御部９０は交換時間ｔ１の情報を例えば記憶媒体９２に記憶する。

配管処理液交換工程の終了後に、第２循環バルブ４２を開く場合には、第１送液部３１は作動し続けてもよい（図５参照）。これによれば、配管処理液交換工程後に、処理液は循環配管４０の内部を流れて循環する。また、図４および図５に例示されるように、配管処理液交換工程の終了後に、制御部９０は第１ヒータ３２を作動させ始めてもよい（ステップＳ４：循環加熱工程の開始）。図９は、循環加熱工程を説明するための図である。第１送液部３１および第１ヒータ３２が作動することにより、処理液は循環配管４０の内部を流れつつ第１ヒータ３２によって加熱される。したがって、循環配管４０内の処理液の温度は時間の経過とともに徐々に増加する。

ところで、給液バルブ６４は、配管処理液交換工程でも開き続けており（図５）、また配管処理液交換工程後にも開いている。よって、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は増加する。図５の例では、循環加熱工程の初期はタンク給液工程と並行して実行される。

タンク供給部６０は、例えば第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第３規定量Ｍ３以上となったときに、第１タンク２１ａへの処理液の供給を停止してもよい（ステップＳ５：タンク給液工程の終了）。具体的な一例として、制御部９０は、第３液面センサ５３が処理液の液面を検出したときに、給液バルブ６４を閉じる。これにより、タンク給液工程が終了する。

図４の例では、タンク給液工程の終了後にノズル排液工程（ステップＳ６）が行われているものの、これについては後に述べる。

以上のように、本交換処理の第１具体例によって、第１タンク２１ａおよび循環配管４０内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。

しかも、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内に貯留された新たな処理液が循環配管４０を通じて排液部８８に排出される。これにより、循環配管４０内に残留していた古い処理液を新しい処理液で押し出して排出し、循環配管４０内を新たな処理液で満たすことができる。つまり、循環配管４０の内部を処理液で満たした状態を維持しつつ、循環配管４０内の処理液が交換されるので、気体が循環配管４０内に混入しにくい。言い換えれば、循環配管４０内の混入する気体の量を抑制しつつ、処理液を交換することができる。

したがって、処理液の交換直後であっても、給液バルブ３４を開いたときに、処理液をスムーズに処理ユニット１０に供給できる。具体的には、循環配管４０内の気体（特に循環往き配管４０１内の気体）に起因した処理液の流量変動を低減することができる。つまり、処理液の交換直後であっても、流量変動が抑制された状態で適切に処理液を処理ユニット１０に供給することができる。よって、処理液の交換直後でも、処理ユニット１０が基板Ｗの処理を行うことができる。

また、図４および図５の第１具体例では、配管処理液交換工程はタンク給液工程と並行して実行される。つまり、配管処理液交換工程においても、タンク供給部６０は第１タンク２１ａに処理液を供給し続けている。これによれば、配管処理液交換工程中にタンク給液工程を中断する場合に比して、交換処理に要する時間を短縮することができる。

しかも、配管処理液交換工程において第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がゼロになる可能性を低減できる。配管処理液交換工程の全期間において第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がゼロにならなければ、循環排液工程の全期間において第１タンク２１ａから循環配管４０に新しい処理液を供給し続けることができる。これによれば、循環配管４０内に混入する気体の量を最小化させることができる。なお、配管処理液交換工程の全期間において貯留量をゼロよりも大きく維持する具体的な手法については、後に詳述する。

また上述の第１具体例では、タンク排液工程（ステップＳ１）は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１よりも少ない状態で終了する。より具体的な一例として、タンク排液工程は、貯留量がほぼゼロとなる状態で終了する。ここでいう貯留量がほぼゼロな状態とは、例えば、第１タンク２１ａの底面の少なくとも一部が処理液によって覆われていない状態を意味する。これによれば、第１タンク２１ａ内の古い処理液のほぼ全てを排出できる。この状態で新しい処理液が第１タンク２１ａに供給されると、第１タンク２１ａ内のほぼ全てを新しい処理液で満たすことができる。これによれば、交換処理後に残留する古い処理液の量を低減させることができる。

また上述の第１具体例では、供給ユニット２０は第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１よりも大きな第２規定量Ｍ２以上となる状態で、配管処理液交換工程を開始する。これにより、予めより多くの処理液を第１タンク２１ａ内に確保した状態で、配管処理液交換工程を開始することができる。よって、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がゼロになる可能性を低減させることができる。

また上述の第１具体例では、配管処理液交換工程（ステップＳ３）はタンク給液工程の開始（ステップＳ２）の後に行われる。よって、配管処理液交換工程の初期から、第１タンク２１ａ内の新しい処理液を循環配管４０内に供給できる。

また上述の第１具体例では、配管処理液交換工程の直後に第１ヒータ３２の作動を開始している。つまり、循環配管４０内の処理液を加熱する循環加熱工程を、タンク給液工程と並行して行っている。これによれば、配管処理液交換工程後、早期に処理液の加熱を開始しているので、交換処理後において、処理液の温度が所定の規定温度に達するタイミングを早めることができる。よって、より早いタイミングで、処理ユニット１０に処理液の供給を許可することができる。

また上述の第１具体例では、配管処理液交換工程の終了トリガとして、交換時間ｔ１の経過を採用している。これによれば、より簡易に終了判定を行うことができる。言い換えれば、簡易な条件で配管処理液交換工程を終了できる。

＜混入気体の最小化＞
ところで、配管処理液交換工程の全期間において、第１タンク２１ａ内の処理液が循環配管４０内に流入し続ければ、循環配管４０内に混入する気体の量を最小化することができる。そこで、配管処理液交換工程の全期間において、第１タンク２１ａ内に処理液が貯留された状態を維持できることが望ましい。第１タンク２１ａ内に処理液が貯留されていれば、その処理液が循環配管４０内に流入するからである。つまり、配管処理液交換工程の全期間において、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がゼロよりも大きい状態を維持できることが望ましい。

＜処理液の貯留量＞
具体的な一例として、配管処理液交換工程の開始時点において十分な処理液を第１タンク２１ａ内に確保してもよい。ここでは、貯留量が第２規定量Ｍ２以上であるときに、配管処理液交換工程を行う。図１０は、配管処理液交換工程を開始する動作の具体的な一例を示すフローチャートである。このフローチャートは、例えばタンク給液工程の開始（ステップＳ２）後に開始される。制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２以上であるか否かを、センサ５０の検出結果に基づいて判断する（ステップＳ２０）。

第２規定量Ｍ２は、配管処理液交換工程において循環配管４０の容量以上の処理液を第１タンク２１ａから循環配管４０に供給可能な量、以上に設定される。具体的には、第２規定量Ｍ２は循環配管４０の容量以上に設定される。循環配管４０の容量は例えば２～２０Ｌ（リットル）程度であり、第２規定量Ｍ２は例えば循環配管４０の容量よりも数Ｌ（例えば５Ｌ）だけ大きく設定される。

例えば制御部９０は、第２液面センサ５２が処理液の液面を検出したか否かを判断する。制御部９０は、第２液面センサ５２が処理液の液面を検出したときに、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２以上であると判断する。一方で、制御部９０は、第２液面センサ５２が未だ処理液の液面を検出していないときには、貯留量が第２規定量Ｍ２未満であると判断する。第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２未満であるときには、制御部９０は再びステップＳ２０を実行し、貯留量が第２規定量Ｍ２以上であるときに、制御部９０は配管処理液交換工程を開始する（ステップＳ２１）。

これによれば、配管処理液交換工程の開始時において、循環配管４０内の古い処理液を押し出すのに十分な量の処理液が既に第１タンク２１ａに貯留されている。よって、配管処理液交換工程において、より確実に循環配管４０内の古い処理液の全てを新たな処理液に交換することができる。

これによれば、たとえ配管処理液交換工程においてタンク給液工程が中断する場合であっても、交換時間ｔ１を適切に設定することにより、循環配管４０の内部を処理液で満たした状態を維持しつつ、循環配管４０内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。図５の例では、配管処理液交換工程中に給液バルブ６４が閉じた状態を二点鎖線で示している。

＜流量設定＞
上述のように、配管処理液交換工程の全期間において、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がゼロにならなければ、循環配管４０に混入する気体の量を最小化することができる。そのため、上述の一例では、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が循環配管４０の容量以上であることを、配管処理液交換工程の開始条件に採用した。具体的には、第２規定量Ｍ２を循環配管４０の容量以上に設定した。しかしながら、必ずしもこれに限らない。

タンク供給部６０が配管処理液交換工程において第１タンク２１ａへ処理液を供給し続けている場合には、第２規定量Ｍ２は循環配管４０の容量未満であってもよい。例えば図８で示されるように、配管処理液交換工程においてタンク供給部６０から第１タンク２１ａへ供給される処理液の流量Ｆ２が、第１タンク２１ａから循環配管４０内に供給される処理液の流量Ｆ１以上となるように、制御部９０が第１送液部３１および第２送液部６２を制御してもよい。これによれば、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は低下しない。よって、配管処理液交換工程の全期間おいて第１タンク２１ａ内の貯留量がゼロになることを回避できる。なお、図８の例では、流量Ｆ１および流量Ｆ２の大きさを、模式的に破線のブロック矢印の太さで示している。流量Ｆ１は例えば５～１５Ｌ／ｍｉｎ程度に設定され、流量Ｆ２は例えば５～２５Ｌ／ｍｉｎ程度に設定される。

＜流量および貯留量設定＞
なお、流量Ｆ１は必ずしも流量Ｆ２以下である必要はなく、要するに、配管処理液交換工程の全期間において貯留量がゼロよりも大きな状態を維持できるように、第２規定量Ｍ２、流量Ｆ１および流量Ｆ２を設定すればよい。より具体的には、流量Ｆ１が流量Ｆ２よりも大きい場合には、第２規定量Ｍ２が、交換時間ｔ１を用いて（Ｆ１－Ｆ２）×ｔ１以上に設定されるとよい。これにより、配管処理液交換工程の全期間において、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量をゼロよりも大きな状態に維持することができる。

＜流量Ｆ１＞
制御部９０は、配管処理液交換工程における流量Ｆ１が、通常動作中に循環配管４０を流れる処理液の循環流量よりも小さくなるように、第１送液部３１を制御してもよい。通常動作における循環流量は例えば１５～３０Ｌ／ｍｉｎ程度に設定され、流量Ｆ１は例えば５～１５Ｌ／ｍｉｎ程度に設定される。通常動作中の流量を大きく設定することにより、処理ユニット１０に対して十分な流量で処理液を供給することができる。一方で、配管処理液交換工程における流量Ｆ１を小さく設定することにより、気体の混入を低減させることができる。つまり、流量Ｆ１が大きい場合には、処理液の流れが乱れやすく、気体が生じる可能性が高まるものの、流量Ｆ１を小さく設定することにより、そのような可能性を低減させることができる。

＜ユニット給液管３０および回収管２２の排液工程＞
さて、上述の交換処理（ステップＳ１～Ｓ５）によっても、ユニット給液管３０のうち分岐点３０ｃよりも下流側の部分では、古い処理液が残留している可能性がある。なぜなら、上記のステップＳ１～Ｓ５において当該部分の処理液が排出されないからである。

そこで、図４の例では、タンク給液工程の終了（ステップＳ５）後に、ノズル排液工程（ステップＳ６）が行われる。このノズル排液工程では、供給ユニット２０は、処理ユニット１０に基板Ｗが搬入されていない状態で、処理液を処理ユニット１０に供給する。より具体的には、制御部９０は、処理ユニット１０に基板Ｗが搬入されていない状態で給液バルブ３４を開く。給液バルブ３４が開くことにより、第１タンク２１ａ内の新しい処理液がユニット給液管３０を通じて処理ユニット１０に供給され、ノズル１３から吐出される。

このノズル排液工程によれば、新しい処理液がユニット給液管３０を通じてノズル１３から吐出されるので、ユニット給液管３０内に古い処理液が残留していたとしても、新しい処理液でその古い処理液を押し出して、ノズル１３から吐出させることができる。

また、このノズル排液工程において、制御部９０は回収バルブ２３を閉じ、排液バルブ２５を開く。ノズル１３から吐出された処理液は回収管２２の上流端に流入し、分岐点２２ａから回収排液管２４を通じて排液部８８に排出される。これにより、回収管２２のうち分岐点２２ａよりも上流側の部分に古い処理液が残留していたとしても、その古い処理液を排出させることができる。

そして、供給ユニット２０は、例えば、ノズル排液工程の開始から所定の排液時間が経過したときに、ノズル排液工程を終了する。排液時間は、ユニット給液管３０および回収管２２内の古い処理液を排出するのに十分な時間であり、例えば予め設定される。排液時間は例えば記憶媒体９２に記憶されてもよい。例えば、ユーザはユーザインターフェース９４に排液時間の情報を入力してもよい。ユーザインターフェース９４は、入力された排液時間の情報を制御部９０に出力する。制御部９０は排液時間の情報を例えば記憶媒体９２に記憶する。なお、ノズル排液工程（ステップＳ６）は以下で述べる種々の交換処理で採用することができる。

＜複数の処理ユニット＞
また、上述の例では、１つの処理ユニット１０に着目して説明しているものの、図２の具体例では、ユニット給液管３０は第１タンク２１ａと複数の処理ユニット１０とを接続しており、循環配管４０は複数の処理ユニット１０に対応して設けられている。

この場合、配管処理液交換工程においては、各循環配管４０の処理液の交換を並行して行ってもよく、循環配管４０ごとに処理液の交換を順次に行ってもよい。第２規定量Ｍ２は、第１タンク２１ａに連通する複数の循環配管４０の容量の総和以上に設定されてもよい。また、配管処理液交換工程において、循環配管４０を流れる処理液の流量Ｆ１の総和が、第１タンク２１ａに供給される処理液の流量Ｆ２以下となるように、第１送液部３１および第２送液部６２が制御されてもよい。

＜循環配管の他の例＞
図２の例では、循環配管４０の上流端３０ａ（つまり、ユニット給液管３０の上流端３０ａ）は第１タンク２１ａに接続されている。しかしながら、必ずしもこれに限らない。図１１は、供給ユニット２０の構成の他の一例を概略的に示す図である。以下では、図１１の供給ユニット２０を供給ユニット２０Ａとも呼ぶ。

供給ユニット２０Ａにおいて、上流端３０ａは第１タンク２１ａの底部よりも鉛直上方に位置しており、第１タンク２１ａの底部から離れている。上流端３０ａは鉛直方向において第１タンク２１ａの底部と向かい合う位置に設けられており、例えば鉛直下方に向けて開口する。上流端３０ａは、第１タンク２１ａ内の処理液に浸漬する。図１１の具体例では、循環往き配管４０１は、上流端３０ａから鉛直上方に延在している。以下では、図１１の循環配管４０を循環配管４０Ａとも呼ぶ。

第１送液部３１が作動することにより、第１タンク２１ａ内の処理液が上流端３０ａに流入し、第１送液部３１によって吸い上げられる。つまり、循環配管４０Ａの上流端３０ａは、処理液を吸入する吸入口として機能する。第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２が開いている場合には、処理液は循環配管４０Ａの内部を流れて循環する。また、給液バルブ３４が開いている場合には、当該処理液の一部が分岐点３０ｃからノズル１３に向かってユニット給液管３０の内部を流れて、処理ユニット１０に供給される。

このような構成であっても、図４および図５に示された交換処理を行うことができる。例えば制御部９０が排液バルブ８１が開いてタンク排液工程（ステップＳ１）を行うと、第１タンク２１ａ内の処理液は第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出される。よって、第１タンク２１ａ内の処理液の液面は時間の経過と共に下降する。ところで、図５の例では、タンク排液工程において第１送液部３１が停止している。ここでは、第１送液部３１の停止により、第１送液部３１の内部流路が閉じるものとする。

タンク排液工程において処理液の液面は下降するので、当該液面はいずれ循環配管４０Ａの上流端３０ａを下回る。タンク排液工程では、第１送液部３１の内部流路が閉じているので、たとえ第１タンク２１ａ内の処理液の液面が上流端３０ａを下回っても、循環配管４０Ａ内の処理液は上流端３０ａから流下しない。よって、タンク排液工程において、循環配管４０Ａの内部を古い処理液で満たした状態を維持できる。

処理液の液面がさらに下降し、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が例えばほぼゼロになると、制御部９０は排液バルブ８１を閉じてタンク排液工程を終了する。

次に、供給ユニット２０Ａはタンク給液工程を開始する（ステップＳ２）。このタンク給液工程により、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。よって、処理液の液面はいずれ循環配管４０Ａの上流端３０ａよりも高くなる。言い換えれば、循環配管４０Ａの上流端３０ａは第１タンク２１ａ内の処理液に浸漬する。

供給ユニット２０Ａは、循環配管４０Ａの上流端３０ａが処理液に浸漬した状態で、配管処理液交換工程を開始する（ステップＳ３）。ここで、臨界高さ位置ＣＨ１を導入する。臨界高さ位置ＣＨ１とは、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回ると、上流端３０ａが処理液に浸漬していた状態から処理液に浸漬しない状態に遷移する臨界位置を意味する。以下では、処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１に位置するときの第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量を、臨界量ＣＭ１とも呼ぶ。つまり、臨界量ＣＭ１は、循環配管４０Ａの上流端３０ａが処理液に浸漬可能な貯留量の最小値である。図１１の具体例では、臨界高さ位置ＣＨ１は第１高さ基準値Ｈ１よりも低い。つまり、臨界量ＣＭ１は第１規定量Ｍ１よりも小さい。

例えば、供給ユニット２０Ａは、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１以上であるときに、配管処理液交換工程を開始する。具体的には、制御部９０は、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出した以後に、排液バルブ８３を開きつつ第１送液部３１を作動させる。これにより、上流端３０ａが処理液に浸漬した状態で配管処理液交換工程を開始できる。

配管処理液交換工程においては、第１送液部３１の作動により、第１タンク２１ａ内の新しい処理液が循環配管４０Ａの上流端３０ａに吸入され、循環配管４０Ａ内の古い処理液を押し出し、循環排液管８２を通じて排出する。これにより、循環配管４０Ａ内の古い処理液を新しい処理液に交換できる。そして、供給ユニット２０Ａは、例えば交換時間ｔ１が経過したときに、配管処理液交換工程を終了する。具体的には、制御部９０は排液バルブ８３を閉じる。

なお、この配管処理液交換工程において、もし第１タンク２１ａ内の処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回ると、循環配管４０Ａ内の処理液に上流端３０ａから気体が流入し、循環配管４０Ａ内に気体が混入してしまう。したがって、配管処理液交換工程の全期間において、第１タンク２１ａの処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１よりも高くなる状態を維持することが望ましい。

具体的な一例として、供給ユニット２０Ａは、予め十分な量の処理液が第１タンク２１ａ内に貯留された状態で配管処理液交換工程を開始する。例えば供給ユニット２０Ａは、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２以上であるときに、配管処理液交換工程を開始する。第２規定量Ｍ２は臨界量ＣＭ１および循環配管４０Ａの容量の和以上に設定される。

これによれば、配管処理液交換工程の開始時において、循環配管４０Ａ内の古い処理液を押し出すのに十分な量の処理液が第１タンク２１ａ内に貯留されている。よって、配管処理液交換工程において、処理液の液面を臨界高さ位置ＣＨ１よりも高い状態を維持しながら、循環配管４０Ａ内の古い処理液の全てを新たな処理液で交換することができる。

あるいは、配管処理液交換工程において、流量Ｆ１を流量Ｆ２以下に設定してもよい。具体的には、制御部９０は、第１タンク２１ａから循環配管４０に供給される流量Ｆ１が、タンク供給部６０から第１タンク２１ａに供給される処理液の流量Ｆ２以下となるように、第１送液部３１および第２送液部６２を制御するとよい。これによっても、配管処理液交換工程において、処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１よりも高い状態を維持することができる。

なお、流量Ｆ１は流量Ｆ２よりも大きくてもよい。要するに、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回らないように、第２規定量Ｍ２、流量Ｆ１および流量Ｆ２を設定すればよい。

また上述の一例では、第１送液部３１が停止した状態において第１送液部３１の内部流路が閉じる。しかしながら、第１送液部３１が停止した状態で第１送液部３１の内部流路が開いても構わない。この場合には、タンク排液工程において、第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２の少なくとも一方を閉じればよい。これにより、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回っても、循環配管４０Ａの処理液は上流端３０ａから流出しない。これによって、循環配管４０Ａの内部を処理液で満たした状態を維持しつつ、第１タンク２１ａ内の古い処理をほぼ全て排出できる。

図４および図５の例では、供給ユニット２０Ａは配管処理液交換工程の後に、循環加熱工程（ステップＳ４）を行う。具体的には、制御部９０は第１送液部３１に作動を継続させ、第１ヒータ３２に作動させる。これにより、処理液を循環させながら加熱することができる。

また、供給ユニット２０Ａは、配管処理液交換工程（ステップＳ３）が終了した後も、タンク給液工程を継続するので、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。そして、供給ユニット２０Ａは、例えば第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第３規定量Ｍ３以上になると、タンク給液工程を終了する（ステップＳ５）。

以上のように、供給ユニット２０Ａも交換処理の第１具体例を実行することができる。これによれば、循環配管４０Ａ内に混入する気体の量を抑制させつつ、第１タンク２１ａおよび循環配管４０Ａ内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。

＜交換処理の他の具体例＞
以下、交換処理の他の具体例について述べる。以下の第２具体例から第５具体例は、循環配管４０および循環配管４０Ａの両方に適用可能であるものの、一例として、第２具体例から第４具体例では、循環配管４０を用いて説明し、第５具体例では、循環配管４０Ａを用いて説明する。

＜第２具体例＞
上述の第１具体例では、タンク排液工程（ステップＳ１）において、第１送液部３１は停止している（図５も参照）。しかしながら、第１送液部３１はタンク排液工程の初期において作動してもよい。なぜなら、第１送液部３１が作動しても、第１タンク２１ａ内の処理液が循環配管４０の上流端３０ａに流入する限り、循環配管４０の内部を処理液で満たした状態を維持できるからである。図５の例では、タンク排液工程中に第１送液部３１が作動している状態を二点鎖線で示している。具体的な一例として、制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１以下となったか否かを、センサ５０の検出結果に基づいて判断し、貯留量が第１規定量Ｍ１以下であると判断したときに、第１送液部３１を停止させてもよい。つまり、制御部９０は、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出したときに、第１送液部３１を停止させてもよい。

＜第３具体例＞
供給ユニット２０は配管処理液交換工程の実行中にタンク給液工程を中断しても構わない。図５の例では、配管処理液交換工程中に給液バルブ６４が閉じた状態を二点鎖線で示している。この場合、既述のように、第２規定量Ｍ２は循環配管４０の容量以上に設定される。

＜第４具体例＞
図１２は、交換処理の第４具体例を示すタイミングチャートである。図１２の例では、供給ユニット２０は、タンク排液工程の終了後にタンク給液工程を開始し、タンク給液工程の終了後に配管処理液交換工程を行う。この場合、タンク給液工程は、より多くの処理液が貯留された状態で終了するとよい。例えば供給ユニット２０は、第１タンク２１ａの処理液の貯留量が第３規定量Ｍ３に到達すると、タンク給液工程を終了する。具体的な一例として、制御部９０は、第３液面センサ５３が処理液を検出したときに、給液バルブ６４を閉じる。

これによっても、配管処理液交換工程において、循環配管４０内の古い処理液を全て排出することができる。

また図１２の例では、供給ユニット２０は配管処理液交換工程の終了の直後に循環加熱工程を行う。具体的には、制御部９０は第１送液部３１の作動を継続させつつ、第１ヒータ３２も作動させる。これにより、処理液が循環配管４０の内部を流れつつ、第１ヒータ３２によって加熱される。

このような交換処理の第４具体例でも、配管処理液交換工程では、第１タンク２１ａからの処理液が循環配管４０に供給され続けるので、循環配管４０への気体の混入を抑制しつつ、循環配管４０内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。

＜第５具体例＞
上述の例では、古い処理液のほぼ全てを新しい処理液に交換した。しかしながら、例えば処理液の種類によっては、古い処理液が少し残留していてもよい場合がある。このような場合には、交換処理の第５具体例を採用してもよい。

図１３は、交換処理の第５具体例を示すフローチャートであり、図１４は、交換処理の第５具体例の各工程を示すタイミングチャートである。また初期的には、第１送液部３１および第１ヒータ３２は作動しておらず、給液バルブ６４は閉じており、第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２は開いているものとする。

まず、供給ユニット２０Ａは、循環配管４０Ａの内部を古い処理液で満たした状態を維持しながら、第１タンク２１ａ内の処理液を、第１タンク排液管８０を通じて排液する（ステップＳ１１：第１タンク排液工程）。具体的には、制御部９０は、排液バルブ８３を閉じたまま排液バルブ８１を開く。図１４の例では、制御部９０は、第１タンク排液工程の初期において第１送液部３１を作動させている。

図１５および図１６は、第１タンク排液工程を説明するための図である。第１タンク排液工程の初期では、排液バルブ８１が開き、第１送液部３１が作動しているので、循環配管４０Ａの内部を古い処理液が流れて循環しつつ、第１タンク２１ａ内の古い処理液が第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出される（図１５参照）。これにより、第１タンク２１ａ内の処理液の液面は時間の経過とともに下降する。

制御部９０は、処理液の液面が未だ臨界高さ位置ＣＨ１を下回っていない状態で、第１送液部３１を停止させる。例えば制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１以下であるか否かをセンサ５０の検出結果に基づいて判断し、貯留量が第１規定量Ｍ１以下であると判断したときに、第１送液部３１を停止させる。より具体的には、制御部９０は、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出したときに、第１送液部３１を停止させる。これにより、第１送液部３１の内部流路が閉じる。

第１送液部３１の停止後も排液バルブ８１は開いているので、第１タンク２１ａ内の処理液の液面は下降し続け、いずれ臨界高さ位置ＣＨ１を下回る。しかしながら、第１送液部３１の内部流路が閉じているので、循環配管４０Ａ内の処理液は上流端３０ａから流下しない。なお、もし第１送液部３１の停止中に第１送液部３１の内部流路が開いている場合には、制御部９０は第１送液部３１の停止とともに、第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２の少なくともいずれか一方を閉じればよい。これによっても、循環配管４０Ａ内の処理液は上流端３０ａから流下しない。

ここでは一例として、供給ユニット２０は第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がほぼゼロとなるまで、第１タンク排液工程を行う。これより、図１６で例示されるように、第１タンク２１ａ内の古い処理液をほぼ全て排出することができる。より具体的な一例として、制御部９０は、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出した時点から所定のタンク排液時間が経過したときに、排液バルブ８１を閉じる。

次に、タンク供給部６０は新しい処理液を第１タンク２１ａ内に供給する（ステップＳ１２：第１タンク給液工程）。具体的には、制御部９０は給液バルブ６４を開く。図１７は、第１タンク給液工程を説明するための図である。給液バルブ６４を開くことにより、第２タンク２１ｂから第１タンク給液管６１を通じて第１タンク２１ａ内に新しい処理液が供給される。これにより、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。よって、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が時間の経過とともに上昇し、いずれ臨界高さ位置ＣＨ１よりも高くなる。つまり、循環配管４０Ａの上流端３０ａが再び第１タンク２１ａ内の処理液に浸漬する。

制御部９０は、例えば、第１タンク給液工程の開始から所定の給液時間が経過したときに、給液バルブ６４を閉じる。給液時間は、例えば、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が、第１規定量Ｍ１と循環配管４０Ａの配管容量との和以上となるのに十分な時間であり、例えば予め設定される。

次に、供給ユニット２０は、循環配管４０Ａの内部を処理液で満たした状態を維持しながら、第１送液部３１の駆動により、第１タンク２１ａから循環配管４０Ａを通じて処理液を排液する（ステップＳ１３：配管処理液交換工程）。具体的には、制御部９０は、排液バルブ８１を開きつつ、第１送液部３１を作動させる。これにより、第１タンク２１ａ内の新しい処理液の一部は上流端３０ａから循環配管４０Ａ内に吸入され、循環配管４０Ａの内部の古い処理液を押し出して下流端４０ａから第１タンク２１ａ内に流出させる。循環配管４０Ａの下流端４０ａから第１タンク２１ａ内に流出した古い処理液の一部は、第１タンク２１ａ内の新しい処理液に混ざりつつ、第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出される。循環配管４０Ａの下流端４０ａから流出した古い処理液の他の一部は、再び循環配管４０Ａの上流端３０ａに吸入され得る。

第１タンク２１ａ内の処理液は第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出されるので、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに低下する。制御部９０は、処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回るまでに、第１送液部３１を停止させる。例えば制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第１規定量Ｍ１以下であると、センサ５０の検出結果に基づいて判断したときに、第１送液部３１を停止させる。具体的には、制御部９０は、第１液面センサ５１が処理液の液面を検出したときに、第１送液部３１を停止させる。これにより、配管処理液交換工程が終了する。第１送液部３１の内部流路が開いている場合には、制御部９０は第１循環バルブ４１および第２循環バルブ４２の少なくともいずれか一方を閉じる。

この配管処理液交換工程では、初期的に循環配管４０Ａの内部に残留していた古い処理液のほぼ全てを、一旦は第１タンク２１ａに流出できることが望ましい。つまり、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が第１規定量Ｍ１を下回るまでに、循環配管４０Ａの容量以上の処理液を循環配管４０Ａに流すことが望ましい。例えば、配管処理液交換工程の開始のトリガとなる第２規定量Ｍ２が大きいほど、液面が第１規定量Ｍ１を下回るまでに要する時間、つまり、配管処理液交換工程の所要時間が長くなる。また、配管処理液交換工程において循環配管４０Ａを流れる処理液の流量Ｆ１を大きくするほど、当該所要時間内に循環配管４０Ａに流すことができる処理液の総量を大きくできる。つまり、第２規定量Ｍ２および流量Ｆ１を適宜に設定することで、循環配管４０Ａ内の古い処理液のほぼ全てを第１タンク２１ａに流出させることができる。要するに、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２から第１規定量Ｍ１に下降するまでに、循環配管４０Ａの古い処理液のほぼ全てが流出するように、第２規定量Ｍ２および流量Ｆ１を設定すればよい。

配管処理液交換工程の終了後に、供給ユニット２０は、循環配管４０Ａの内部を処理液で満たした状態を維持ながら、第１タンク２１ａ内の処理液を第１タンク排液管８０を通じて排液部８８に排出する（ステップＳ１４：第２タンク排液工程）。つまり、制御部９０は排液バルブ８１が開いた状態を維持する。図１９は、第２タンク排液工程を説明するための図である。第１タンク２１ａ内の処理液は第１タンク排液管８０を通じて排出されるので、処理液の液面は時間の経過とともに下降する。ただし、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回っても、循環配管４０Ａの内部の処理液は上流端３０ａから流下しない。

ここでは一例として、供給ユニット２０Ａは、第１タンク２１ａ内の貯留量がほぼゼロとなるまで、第２タンク排液工程を行う。これより、第１タンク２１ａ内の新旧が混ざった処理液をほぼ全て排出することができる。

次に、タンク供給部６０は再び第１タンク２１ａ内に新しい処理液を供給する（ステップＳ１５：第２タンク給液工程）。具体的には、制御部９０は給液バルブ６４を開く。図２０は、第２タンク給液工程を説明するための図である。給液バルブ６４が開くので、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第３規定量Ｍ３以上であると、センサ５０の検出結果に基づいて判断したときに、給液バルブ６４を閉じる。これにより、第２タンク給液工程が終了する。

以上のように、本交換処理の第５具体例によっても、第１タンク２１ａおよび循環配管４０Ａ内に残留した古い処理液を新しい処理液に交換することができる。しかも、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内の新しい処理液の一部が循環配管４０Ａを通じて排出される（ステップＳ１３）。具体的には、当該一部の処理液は循環配管４０Ａを通じて第１タンク２１ａに戻り、第１タンク排液管８０を通じて排出される。この配管処理液交換工程においても、循環配管４０Ａの上流端３０ａには処理液が流入するので、循環配管４０Ａ内に混入する気体の量を低減させることができる。つまり、本交換処理によっても、循環配管４０Ａ内に混入する気体の量を抑制させつつ、第１タンク２１ａおよび循環配管４０Ａ内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。

ただし、配管処理液交換工程において、新旧が混ざった処理液が循環配管４０Ａの上流端３０ａに流入し得るので、交換処理後の循環配管４０Ａの内部には、古い処理液が少し残留し得る。

古い処理液の割合を低減するには、例えば、第１タンク給液工程（ステップＳ１１）、配管処理液交換工程（ステップＳ１３）および第２タンク排液工程（ステップＳ１４）の組を複数回繰り返してもよい。これにより、古い処理液の割合を低減させることができる。

交換処理の第５具体例は、循環排液管８２および排液バルブ８３を利用しないので、これらが設けられていない基板処理装置１００にも適用できる。

また図１４の例では、供給ユニット２０Ａは第２タンク給液工程の開始後に、第２タンク給液工程と並行して循環加熱工程を行っている。具体的には、制御部９０は、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が臨界高さ位置ＣＨ１を上回ったときに、第１送液部３１および第１ヒータ３２を作動させる。より具体的な一例として、制御部９０は、貯留量が第１規定量Ｍ１以上であるとセンサ５０の検出結果に基づいて判断したときに、第１送液部３１および第１ヒータ３２を作動させる。これにより、循環配管４０Ａの上流端３０ａが処理液に浸漬した状態で、第１送液部３１および第１ヒータ３２が作動する。よって、第１タンク２１ａ内の処理液が循環配管４０Ａの上流端３０ａに吸入され、循環配管４０Ａの内部を流れて循環しつつ、第１ヒータ３２によって加熱される。これによれば、配管処理液交換工程後、早期に処理液の加熱を開始しているので、交換処理後において、処理液の温度が所定の規定量に達するタイミングを早めることができる。なお、制御部９０は、貯留量が第２規定量Ｍ２以上であるとセンサ５０の検出結果に基づいて判断したときに、第１送液部３１および第１ヒータ３２を作動させてもよい。

＜第６具体例＞
図１４の第５具体例では、第１タンク排液工程の初期において、第１送液部３１が作動しているものの、第１送液部３１は停止していてもよい。図１４の例では、第１送液部３１が停止した状態を二点鎖線で示している。

＜第７具体例＞
図１４の第５具体例では、配管処理液交換工程において給液バルブ６４は閉じている。しかしながら、給液バルブ６４は開いていても構わない。つまり、配管処理液交換工程は第１タンク給液工程と並行して行われてもよい。図１４の例では、給液バルブ６４が開いた状態を二点鎖線で示している。配管処理液交換工程が第１タンク給液工程と並行して実行される場合には、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内の処理液の液面が臨界高さ位置ＣＨ１を下回る可能性を低減させることができる。

＜複数の交換処理の切り替え＞
上述の第１具体例から第４具体例では、配管処理液交換工程において、循環配管４０内の処理液を、第１タンク２１ａを経由せずに循環排液管８２を通じて排出した。このような交換処理を、以下では第１交換処理と総称する。第５具体例から第７具体例では、配管処理液交換工程において、循環配管４０内の処理液を第１タンク２１ａおよび第１タンク排液管８０を通じて排出した。このような交換処理を、以下では第２交換処理と総称する。

制御部９０は、第１交換処理および第２交換処理を設定情報に基づいて切り替えて実行してもよい。設定情報は例えば記憶媒体９２に記憶される。設定情報は、例えば、ユーザによってユーザインターフェース９４に入力されてもよい。

＜供給ユニットの配管構成の他の例＞
上述の各具体例では、循環配管４０（循環配管４０Ａを含む、以下同様）が設けられていた。しかしながら、循環配管４０は設けられなくてもよい。図２１は、供給ユニット２０の構成の他の具体例を概略的に示す図である。以下では、図２１の供給ユニット２０を供給ユニット２０Ｂとも呼ぶ。図２１の例では、供給ユニット２０Ｂにおいて循環配管４０が設けられておらず、また第１ヒータ３２も設けられていない。図２１の例では、供給ユニット２０Ｂにはユニット排液管８６が設けられている。ユニット排液管８６の上流端はユニット給液管３０の分岐点３０ｃに接続されており、ユニット排液管８６の下流端は排液部８８に接続されている。ユニット排液管８６には排液バルブ８７が設けられている。排液バルブ８７はユニット排液管８６の流路の開閉を切り替える。排液バルブ８７が開くことにより、ユニット給液管３０の内部の処理液がユニット排液管８６を通じて排液部８８に排出される。

図２１の例では、ユニット給液管３０の上流端３０ａは第１タンク２１ａの底部に接続されているものの、供給ユニット２０Ａと同様に、第１タンク２１ａの底部よりも鉛直上方に位置していてもよい。

このような供給ユニット２０Ｂにおいて、通常動作の終了後には、ユニット給液管３０には処理液が残留し得る。具体的には、ユニット給液管３０のうち上流端３０ａから給液バルブ３４までの部分に処理液が残留し得る。このユニット給液管３０の当該部分の内部は処理液で満たされている。

このような供給ユニット２０Ｂにも、上述の交換処理と同様の処理を適用することができる。図２２は、交換処理の第８具体例を示すフローチャートであり、図２３は、交換処理の第８具体例の各工程を示すタイミングチャートである。

まず、供給ユニット２０Ｂはタンク排液工程（ステップＳ２１）を行う。以下では、ユニット給液管３０のうち上流端３０ａから分岐点３０ｃまでの配管（送液管に相当）を給液管３０５とも呼ぶ。供給ユニット２０Ｂは、給液管３０５の内部を古い処理液で満たした状態を維持しつつ、第１タンク２１ａ内の古い処理液を第１タンク排液管８０を通じて排出する。より具体的な一例として、制御部９０は、第１送液部３１の停止状態および排液バルブ８７の閉止状態を継続しつつ、排液バルブ８１を開く。第１送液部３１が停止し排液バルブ８７が閉じているので、給液管３０５の内部の古い処理液は静止しており、給液管３０５の内部は古い処理液で満ちている。また排液バルブ８１が開いているので、第１タンク２１ａ内の古い処理液は第１タンク排液管８０を通じて排出される。タンク排液工程は、ステップＳ１と同様に、例えば、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量がほぼゼロになるまで行われる。制御部９０が排液バルブ８１を閉じることにより、タンク排液工程が終了する。

次に、供給ユニット２０ＢはステップＳ２と同様に、タンク給液工程を開始する（ステップＳ２２）。具体的には制御部９０は給液バルブ６４を開く。これにより、第１タンク２１ａ内には新しい処理液が供給される。これにより、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。

供給ユニット２０Ｂは、例えば第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第２規定量Ｍ２以上となると、ステップＳ３と同様に、配管処理液交換工程を行う（ステップＳ２３）。第２規定量Ｍ２は、例えば、給液管３０５の容量以上に設定される。配管処理液交換工程では、供給ユニット２０Ｂは、給液管３０５の内部を処理液で満たした状態を維持しつつ、第１タンク２１ａ内の処理液を給液管３０５を通じて排出する。具体的には、制御部９０は第１送液部３１を作動させつつ排液バルブ８７を開く。これにより、第１タンク２１ａ内の新しい処理液が給液管３０５の上流端３０ａに流入しつつ、給液管３０５内に残留していた古い処理液がユニット排液管８６を通じて排液部８８に排出される。この排出により、給液管３０５内の処理液は、その上流側から順次に新たな処理液に交換される。そして、給液管３０５内に残留していた古い処理液がほぼ全て排出されると、給液管３０５の内部は新しい処理液で満たされる。なお、排液バルブ８７が開いている限り、給液管３０５内の新しい処理液はユニット排液管８６を通じて順次に排出され得る。

制御部９０は、例えば配管処理液交換工程の開始時点から所定の交換時間ｔ１が経過したときに、第１送液部３１を停止させつつ排液バルブ８７を閉じる。これにより、給液管３０５内の処理液の排出が終了する。つまり、配管処理液交換工程が終了する。交換時間ｔ１は、例えば、給液管３０５内の古い処理液のほぼ全てを新たな処理液に交換するのに十分な時間であり、例えば予め設定される。

図２３の例では、配管処理液交換工程およびその後においても給液バルブ６４が開いている。よって、第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量は時間の経過とともに増加する。

タンク供給部６０は、ステップＳ５と同様に、例えば第１タンク２１ａ内の処理液の貯留量が第３規定量Ｍ３以上となったときに、第１タンク２１ａへの処理液の供給を停止する（ステップＳ２４：タンク給液工程の終了）。具体的な一例として、制御部９０は、第３液面センサ５３が処理液の液面を検出したときに、給液バルブ６４を閉じる。これにより、タンク給液工程が終了する。

以上のように、本交換処理の第８具体例によって、第１タンク２１ａおよび給液管３０５内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。また、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内に貯留された新たな処理液が給液管３０５を通じて排液部８８に排出される。これにより、給液管３０５内に残留していた古い処理液を新しい処理液で押し出して排出し、給液管３０５内を新たな処理液で満たすことができる。つまり、給液管３０５の内部を処理液で満たした状態を維持しつつ、給液管３０５内の処理液が交換されるので、気体が給液管３０５内に混入しにくい。言い換えれば、給液管３０５内の混入する気体の量を低減しつつ、処理液を交換することができる。

配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａから給液管３０５に処理液を常時供給することができれば、給液管３０５に混入する気体の量を最小化することができる。そこで、これを実現できるように、配管処理液交換工程の開始トリガとなる第２規定量Ｍ２、配管処理液交換工程において給液管３０５からユニット排液管８６に流れる処理液の流量Ｆ１、および、第１タンク２１ａに供給される流量Ｆ２を、適宜に設定してもよい。

また、交換処理の第３具体例および第４具体例を供給ユニット２０Ｂに適用しても構わない。

また上述の例では、配管処理液交換工程において、第１タンク２１ａ内の処理液を給液管３０５およびユニット排液管８６を通じて排出しているものの、必ずしもこれに限らない。例えば、処理液をノズル１３から吐出してもよい。図２４は、交換処理の第９具体例の各工程を示すタイミングチャートである。図２４の例では、配管処理液交換工程において、第１送液部３１が作動し、ユニット給液管３０の給液バルブ３４が開き、回収排液管２４の排液バルブ２５が開いている。この場合、第１タンク２１ａ内の処理液がユニット給液管３０の上流端３０ａに流入しつつ、給液管３０５内に残留していた古い処理液が処理ユニット１０のノズル１３に向かってユニット給液管３０の内部を流れる。処理液はノズル１３から吐出されて、回収管２２および回収排液管２４を通じて排出される。

これによっても、第１タンク２１ａからの新しい処理液を給液管３０５内に供給しながら、給液管３０５内の古い処理液を回収管２２および回収排液管２４を通じて排液部８８に排出することができる。これにより、給液管３０５内に混入する気体の量を低減させつつも、給液管３０５内の古い処理液を新しい処理液に交換することができる。

以上のように、処理液の交換方法および基板処理装置１００は詳細に説明されたが、上記の説明は、全ての局面において、例示であって、この基板処理装置がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施の形態および各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。

１０ 処理ユニット
１３ ノズル
１００ 基板処理装置
２１ａ タンク（第１タンク）
２２ 回収管
２４ 回収排液管
２５ 第４排液バルブ（排液バルブ）
３０ ユニット給液管
３０ａ 上流端
３１ 送液部
３２ ヒータ
３４ 第２給液バルブ（給液バルブ）
３０５ 送液管（給液管）
４０，４０Ａ 循環配管
４０１ 送液管（循環往き配管）
５０ センサ
６１ タンク給液管（第１タンク給液管）
６４ 第１給液バルブ（給液バルブ）
８０ タンク排液管（第１タンク排液管）
８１ 第１排液バルブ（排液バルブ）
８２ 循環排液管
８３ 第２排液バルブ（排液バルブ）
８４ 第２タンク排液管
８５ 第３排液バルブ（排液バルブ）
８６ ユニット排液管
ＣＭ１ 臨界量
Ｆ１，Ｆ２ 流量
Ｍ１ 第１規定量
Ｍ２ 第２規定量
ｔ１ 交換時間

Claims (21)

1. 処理液を貯留するタンクから送液管を通じて前記処理液を供給する基板処理装置において、前記処理液を交換する方法であって、
   前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記タンクに接続されたタンク排液管に設けられた第１排液バルブを開いて、前記タンク内の前記処理液を前記タンク排液管を通じて排出する第１タンク排液工程と、
   前記第１タンク排液工程の後に、タンク給液管に設けられた第１給液バルブを開いて、交換液としての前記処理液を、前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給する第１タンク給液工程と、
   前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記送液管に設けられた送液部の作動により、前記タンクから前記送液管を通じて前記交換液を排出する配管処理液交換工程と
   を備える、基板処理用の処理液の交換方法。
2. 請求項１に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記タンク内の前記処理液の貯留量を検出するためのセンサに基づいて、前記貯留量が第１規定量よりも小さい状態で前記第１排液バルブを閉じて、前記第１タンク排液工程を終了し、
   前記第１タンク給液工程の開始後に、前記センサに基づいて、前記貯留量が前記第１規定量よりも大きな第２規定量以上となる状態で前記送液部を作動させて、前記配管処理液交換工程を開始する、基板処理用の処理液の交換方法。
3. 請求項１に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記タンク内の前記処理液の貯留量を検出するためのセンサに基づいて、前記貯留量が第２規定量以上であるときに、前記送液部を作動させて前記配管処理液交換工程を開始し、
   前記第２規定量は、前記配管処理液交換工程において前記送液管の容量以上の前記交換液を前記タンクから前記送液管に供給可能な量、以上に設定される、基板処理用の処理液の交換方法。
4. 請求項３に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記配管処理液交換工程において、前記タンクの底部に接続された前記送液管の上流端に、前記送液部の作動により、前記タンク内の前記処理液を流入させ、
   前記第２規定量は、前記送液管の容量以上に設定される、基板処理用の処理液の交換方法。
5. 請求項３に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記配管処理液交換工程において、前記タンクの底部よりも鉛直上方に位置して前記タンク内の前記処理液に浸漬した前記送液管の上流端に、前記送液部の作動により、前記タンク内の前記処理液を吸入させ、
   前記第２規定量は、前記送液管の前記上流端が前記タンク内の前記処理液に浸漬可能な前記貯留量の最小値である臨界量と、前記送液管の容量との和以上に設定される、基板処理用の処理液の交換方法。
6. 請求項１から請求項５のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記配管処理液交換工程の開始から交換時間が経過したときに、前記配管処理液交換工程を終了する、基板処理用の処理液の交換方法。
7. 請求項５に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記配管処理液交換工程において前記第１給液バルブは閉じており、
   前記貯留量が、前記臨界量よりも大きく前記第２規定量よりも小さい第１規定量となったときに前記送液部を停止させて、前記配管処理液交換工程を終了する、基板処理用の処理液の交換方法。
8. 請求項１から請求項６のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記配管処理液交換工程は前記第１タンク給液工程と並行して実行される、基板処理用の処理液の交換方法。
9. 請求項８に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
   前記配管処理液交換工程において、前記送液管を通じて排出される前記処理液の流量は、前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給される前記交換液の流量以下である、基板処理用の処理液の交換方法。
10. 請求項１から請求項９のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において前記送液管を通じて排出される前記処理液の流量は、通常動作において基板を処理する処理ユニットに対して前記送液管を通じて供給される前記処理液の流量よりも小さい、基板処理用の処理液の交換方法。
11. 請求項１から請求項１０のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において、前記タンク内の前記処理液を、前記送液管を含む循環配管を通じて排出する、基板処理用の処理液の交換方法。
12. 請求項１１に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程の後に、前記第１タンク給液工程と並行して、前記循環配管に設けられたヒータおよび前記送液部を作動させる循環加熱工程をさらに備える、基板処理用の処理液の交換方法。
13. 請求項１１または請求項１２に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において、前記第１排液バルブを閉じ、前記循環配管から分岐した循環排液管に設けられた第２排液バルブを開き、且つ、前記送液部を作動させて、前記タンク内の前記交換液を前記循環配管および前記循環排液管を通じて排出する、基板処理用の処理液の交換方法。
14. 請求項１１に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において、前記第１排液バルブを開き、前記送液部を作動させて、前記タンクから前記循環配管の上流端に流入した前記交換液を、前記循環配管、前記タンクおよび前記タンク排液管を通じて排出する、基板処理用の処理液の交換方法。
15. 請求項１４に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において、前記送液部の作動により、前記タンクの底部よりも鉛直上方に位置する前記循環配管の上流端に、前記タンク内の前記処理液を吸入させ、
    前記循環配管の上流端が前記タンク内の前記処理液に浸漬した状態で、前記送液部を停止させて前記配管処理液交換工程を終了し、
    前記交換方法は、
    前記配管処理液交換工程の後に、前記循環配管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記第１排液バルブを開いて前記タンク排液管を通じて前記タンク内の前記処理液を排出する第２タンク排液工程と、
    前記第２タンク排液工程の後に、前記第１給液バルブを開いて、前記交換液としての前記処理液を前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給する第２タンク給液工程と
    をさらに備える、基板処理用の処理液の交換方法。
16. 請求項１５に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記第２タンク給液工程と並行して、前記循環配管に設けられたヒータおよび前記送液部を作動させる循環加熱工程をさらに備える、基板処理用の処理液の交換方法。
17. 請求項１から請求項１０のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において、基板を処理する処理ユニットに前記処理液を供給し前記送液管を含んだユニット給液管から分岐したユニット排液管に設けられた第３排液バルブを開いて、前記タンク内の前記交換液を前記ユニット給液管および前記ユニット排液管を通じて排出する、基板処理用の処理液の交換方法。
18. 請求項１から請求項１７のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程の後に、基板を処理する処理ユニットに前記基板が搬入されていない状態で行われるノズル排液工程をさらに備え、
    前記ノズル排液工程において、前記処理ユニット内のノズルに接続され前記送液管を含むユニット給液管に設けられた第２給液バルブを開いて、前記タンク内の前記交換液を前記ユニット給液管を通じて、前記ノズルから吐出させる、基板処理用の処理液の交換方法。
19. 請求項１８に記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記ノズル排液工程において、前記処理ユニットからの前記処理液を前記タンクに回収する回収管から分岐した回収排液管に設けられた第４排液バルブを開く、基板処理用の処理液の交換方法。
20. 請求項１から請求項１０のいずれか一つに記載の基板処理用の処理液の交換方法であって、
    前記配管処理液交換工程において、基板を処理する処理ユニット内のノズルに接続され前記送液管を含むユニット給液管に設けられた第２給液バルブを開いて、前記タンク内の前記交換液を前記ユニット給液管を通じて前記ノズルから排出する、基板処理用の処理液の交換方法。
21. 基板処理装置であって、
    処理液を貯留するタンクと、
    前記タンクに接続されたタンク排液管と、
    前記タンク排液管に設けられた第１排液バルブと、
    前記処理液を前記タンク内に供給するタンク給液管と、
    前記タンク給液管に設けられた第１給液バルブと、
    基板を処理する処理ユニットと前記タンクとの間に位置する送液管と、
    前記送液管に設けられ、前記処理液を送液する送液部と、
    制御部と
    を備え、
    前記制御部は、
    前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記第１排液バルブを開いて、前記タンク内の前記処理液を前記タンク排液管を通じて排出し、
    前記第１給液バルブを開いて、交換液としての前記処理液を、前記タンク給液管を通じて前記タンク内に供給し、
    前記送液管の内部を前記処理液で満たした状態を維持しながら、前記送液部の作動により、前記タンクから前記送液管を通じて前記交換液を排出する、基板処理装置。

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