JP7372496B1 - ジルコニアゾル、及び、ジルコニアゾルの製造方法 - Google Patents
ジルコニアゾル、及び、ジルコニアゾルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7372496B1 JP7372496B1 JP2023054629A JP2023054629A JP7372496B1 JP 7372496 B1 JP7372496 B1 JP 7372496B1 JP 2023054629 A JP2023054629 A JP 2023054629A JP 2023054629 A JP2023054629 A JP 2023054629A JP 7372496 B1 JP7372496 B1 JP 7372496B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diameter
- less
- zirconia sol
- ratio
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 172
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 claims abstract description 17
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 50
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 28
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 abstract description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 25
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 8
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 241000588731 Hafnia Species 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- HAIMOVORXAUUQK-UHFFFAOYSA-J zirconium(iv) hydroxide Chemical class [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Zr+4] HAIMOVORXAUUQK-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Abstract
Description
[1] 粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内であり、
以下の手順により得られる割合Xが40%以上であることを特徴とするジルコニアゾル。
<手順>
孤立粒子が20個以上含まれている透過型電子顕微鏡画像を得る。
前記透過型電子顕微鏡画像中の各孤立粒子に対して、以下の1)~5)の操作を行う。
1)外接円と、その外接円と中心が同じ内接円を求める。
2)得られた外接円の直径と内接円の直径との比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
3)前記透過型電子顕微鏡画像中のすべての孤立粒子について、前記比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
4)比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]が2.0以上である孤立粒子Aの個数をカウントする。
5)全孤立粒子に対する前記孤立粒子Aの割合Xを求める。
(割合X(%))=[(孤立粒子Aの数)/(全孤立粒子数)]×100
特に、前記[1]の構成によれば、粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内である。つまり、前記[1]の構成によれば、粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内であり、且つ、その中に角張った、歪な形状の粒子が一定数以上含まれている。粒子径D50が50nm以上250nm以下であり、且つ、歪な形状の粒子を含むジルコニアゾルは、特に、半導体などの精密研磨において、既存品よりも高レート、かつ、高平滑性(低表面粗さ)が期待できる。
[2] 前記割合Xが50%以上である前記[1]に記載のジルコニアゾル。
[3] 前記粒子径D50が200nm以下である前記[1]又は前記[2]に記載のジルコニアゾル。
[4] オキシ塩化ジルコニウム水溶液にアンモニア水を滴下添加して中和させる工程A
を含み、
前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度が10質量%以上(ZrO2換算値、以下同様)であり、
前記アンモニア水の濃度が10質量%以上であり、
前記工程Aにおいて滴下するアンモニア水の液滴の容量が1.0ml以下である前記[1]~[3]のいずれか1に記載のジルコニアゾルの製造方法。
また、前記[4]の構成によれば、中和させる工程Aにおいて、特定の濃度範囲にあるオキシ塩化ジルコニウム水溶液に、液滴の容量を特定範囲に制御した特定の濃度範囲にあるアンモニア水を滴下添加する。具体的に、濃度10質量%以上のオキシ塩化ジルコニウム水溶液に、濃度10質量%以上のアンモニア水を滴下添加する。そして、この滴下添加するアンモニア水の液滴容量は1.0ml以下である。これにより、前記[1]のジルコニアゾル、すなわち、前記割合Xが40%以上であるジルコニアゾルを得ることができる。その理由は定かではないが、オキシ塩化ジルコニウム水溶液とアンモニア水が反応して水酸化ジルコニウムが生成する過程は以下(1)および(2)のようなものであると考えられる。
(1)オキシ塩化ジルコニウムとアンモニアの反応により水酸化ジルコニウムの核(化学式{Zr(OH)4}nで表現されるクラスターのようなものと推測される。)が生成し、
(2)水酸化ジルコニウムの核同士の凝集および水酸化ジルコニウムの核の粒成長が同時進行する。
この点、本発明者らは、初期オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度、アンモニア水の濃度、及び、アンモニア水の滴下添加時の液滴容量が、核生成速度とその生成密度の決定要因であり、結果として、前記(2)における核同士の凝集および核の粒成長のバランスの制御要因となると推察している。最終的に得られるジルコニアゾルの粒子特性(粒子径および形状等)は、工程Aにおいて生成される水酸化ジルコニウムの粒子特性(粒子径および形状等)によって決定されると考えられる。
このように、前記[4]の構成によれば、中和剤としてアンモニア水を用い、オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度を10質量%以上とし、アンモニア水の濃度を10質量%以上とし、オキシ塩化ジルコニウム水溶液にアンモニア水を滴下添加し、滴下添加時のアンモニア水の液滴の大きさを1.0ml以下に制御することで得た水酸化ジルコニウムを原料として用いることで、粒径が大きく、歪な形の粒子が多く得られる。すなわち、前記割合Xが40%以上であるジルコニアゾルを得ることができる。
一方、オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度が10質量%未満の場合、アンモニア水の濃度が10質量%未満の場合、アンモニア水の滴下時の液滴容量が1.0mlを超える場合には、前記(2)のバランスが不適切となり、前記[1]のジルコニアゾルを得ることが困難となる。
以下、本実施形態に係るジルコニアゾルの一例について説明する。ただし、本発明のジルコニアゾルは、以下の例示に限定されない。
粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内であり、
以下の手順により得られる割合Xが40%以上である。
<手順>
孤立粒子が20個以上含まれている透過型電子顕微鏡画像を得る。
前記透過型電子顕微鏡画像中の各孤立粒子に対して、以下の1)~5)の操作を行う。
1)外接円と、その外接円と中心が同じ内接円を求める。
2)得られた外接円の直径と内接円の直径との比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
3)前記透過型電子顕微鏡画像中のすべての孤立粒子について、前記比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
4)比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]が2.0以上である孤立粒子Aの個数をカウントする。
5)全孤立粒子に対する前記孤立粒子Aの割合Xを求める。
(割合X(%))=[(孤立粒子Aの数)/(全孤立粒子数)]×100
前記粒子径D50は、好ましくは200nm以下、より好ましくは180nm以下、さらに好ましくは150nm以下である。
前記粒子径D50は、好ましくは55nm以上、より好ましくは60nm以上、さらに好ましくは65nm以上である。
前記粒子径D50は、好ましくは55nm以上200nm以下、より好ましくは60nm以上180nm以下、さらに好ましくは65nm以上150nm以下である。
前記粒子径D50の測定方法は、より詳細には実施例に記載の方法による。
<手順>
孤立粒子が20個以上含まれている透過型電子顕微鏡画像を得る。
前記透過型電子顕微鏡画像中の各孤立粒子に対して、以下の1)~5)の操作を行う。
1)外接円と、その外接円と中心が同じ内接円を求める。
2)得られた外接円の直径と内接円の直径との比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
3)前記透過型電子顕微鏡画像中のすべての孤立粒子について、前記比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
4)比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]が2.0以上である孤立粒子Aの個数をカウントする。
5)全孤立粒子に対する前記孤立粒子Aの割合Xを求める。
(割合X(%))=[(孤立粒子Aの数)/(全孤立粒子数)]×100
前記割合Xは、大きいほど好ましいが、例えば、99%以下、90%以下等である。
前記割合Xは、好ましくは50%以上99%以下、より好ましくは55%以上90%以下、さらに好ましくは60%以上85%以下である。
前記割合Xは、より詳細には、実施例に記載の方法により得られる値である。
特に、前記ジルコニアゾルによれば、粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内である。つまり、前記ジルコニアゾルによれば、粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内であり、且つ、その中に角張った、歪な形状の粒子が一定数以上含まれている。粒子径D50が50nm以上250nm以下であり、且つ、歪な形状の粒子を含むジルコニアゾルは、特に、半導体などの精密研磨において、既存品よりも高レート、かつ、高平滑性(低表面粗さ)が期待できる。
前記ジルコニアゾルの濃度は、より好ましくは10質量%以上、さらに好ましくは15質量%以上である。
前記ジルコニアゾルの濃度は、より好ましくは70質量%以下、さらに好ましくは60質量%以下である。
前記ジルコニアゾルの濃度は、より好ましくは10質量%以上70質量%以下、さらに好ましくは15質量%以上60質量%以下である。
前記ジルコニアゾルは、純水で希釈してZrO2換算で5.0質量%とした液を研磨剤とし、ソーダガラス(表面粗さRa(算術平均粗さ):0.3μm以上0.5μm以下)の研磨を行った際の研磨速度が、0.12μm/分以上であり、且つ、被研磨面の表面粗さRaが0.6nm以下であることが好ましい。
前記研磨速度が、0.12μm/分以上であり、且つ、前記被研磨面の表面粗さRaが0.6nm以下であると、短時間で、低表面粗さの研磨面を得ることができる。
表面粗さが一定を超えない限り研磨速度は高いほど良いが、具体的には、前記研磨速度は、より好ましくは1.0μm/分以下、さらに好ましくは0.7μm/分以下である。
前記研磨速度は、より好ましくは0.12μm/分以上1.0μm/分以下、さらに好ましくは0.13μm/分以上0.7μm/分以下である。
前記被研磨面の表面粗さRaは、小さいほど好ましいが、例えば、0.10nm以上、0.20nm以上等である。
前記被研磨面の表面粗さRaは、より好ましくは0.10nm以上0.55nm以下、さらに好ましくは0.20nm以上0.50nm以下である。
以下、ジルコニアゾルの製造方法の一例について説明する。ただし、ジルコニアゾルの製造方法は、以下の例示に限定されない。
オキシ塩化ジルコニウム水溶液にアンモニア水を滴下添加して中和させる工程A
を含み、
前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度が10質量%以上であり、
前記アンモニア水の濃度が10質量%以上であり、
前記工程Aにおいて滴下するアンモニア水の液滴の容量が1.0ml以下である。
まず、工程Aでは、オキシ塩化ジルコニウム水溶液にアンモニア水を滴下添加して中和させる。
前記アンモニア水の濃度は、10質量%以上である。
前記アンモニア水の濃度は、好ましくは15質量%以上、より好ましくは20質量%以上である。
前記アンモニア水の濃度は、特に上限はないが、例えば、30質量%以下、28質量%以下等である。
前記アンモニア水の濃度は、好ましくは15質量%以上30質量%以下、より好ましくは20質量%以上28質量%以下である。
前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度は、好ましくは15質量%以上、より好ましくは18質量%以上である。
前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度は、特に上限はないが、例えば、28質量%以下、25質量%以下等である。
前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度は、好ましくは15質量%以上28質量%以下、より好ましくは18質量%以上25質量%以下である。
前記液滴の容量は、好ましくは0.7ml以下、より好ましくは0.5ml以下である。
前記液滴の容量は、小さいほど好ましいが、例えば、0.05ml以上、0.1ml以上等である。
前記液滴の容量は、好ましくは0.05ml以上0.7ml以下、より好ましくは0.1ml以上0.5ml以下である。
前記滴下時間は、より好ましくは90分以下、さらに好ましくは60分以下である。
前記滴下時間は、適度に反応が進行する範囲内であれば特に限定されず、例えば、15分以上、20分以上等である。
前記滴下時間は、好ましくは15分以上90分以下、より好ましくは20分以上60分以下である。
温度の調整を行う場合、前記工程Aを行う前の前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の温度、及び、前記アンモニア水の温度は、50℃以下が好ましく、40℃以下がより好ましい。
温度の調整を行う場合、前記工程Aを行う前の前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の温度、及び、前記アンモニア水の温度の下限値は、適度に反応が進行する範囲内であれば特に限定されず、例えば、5℃以上、10℃以上等である。
温度の調整を行う場合、前記工程Aを行う前の前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の温度、及び、前記アンモニア水の温度は、5℃以上50℃以下が好ましく、10℃以上40℃以下がより好ましい。
また、前記ジルコニアゾルの製造方法によれば、中和させる工程Aにおいて、濃度10質量%以上のオキシ塩化ジルコニウム水溶液に、濃度10質量%以上のアンモニア水を滴下添加し、且つ、この滴下添加するアンモニア水の液滴容量を1.0ml以下とするため、粒径が大きく、歪な形の粒子が多く得られる。すなわち、前記割合Xが40%以上であるジルコニアゾルを得ることができる。
このように、前記ジルコニアゾルの製造方法によれば、中和剤としてアンモニア水を用い、オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度を10質量%以上とし、アンモニア水の濃度を10質量%以上とし、アンモニア水の滴下時の液滴容量を1.0ml以下とすることにより、粒径が大きく、歪な形の粒子が多く得られる。すなわち、前記割合Xが40%以上であるジルコニアゾルを得ることができる。
水酸化ジルコニウムの解膠剤としては、水溶性の無機酸、有機酸であれば特に限定されず、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、りんご酸、マンデル酸等が例示されるが、塩酸、硝酸がジルコニアゾル中に過剰に存在していても、ジルコニアゾル生成後、水にて精製することで容易に除去できるという理由で、好ましい。
解膠剤の添加量としては、酸/ZrO2(モル比)=0.01以上3以下、さらに好ましくは、0.1以上1.5以下である。
酸/ZrO2(モル比)が0.01以上であると、ジルコニウム水酸化物の解膠を充分とすることができる。また、前記酸/ZrO2(モル比)が3を超えても量的効果は少ないことから、前記酸/ZrO2(モル比)が3以下であると、経済的である。
前記加熱・熟成時間は、収率の観点から、好ましくは24時間以上、より好ましくは48時間以上である。記加熱・熟成時間は、好ましくは120時間以下、より好ましくは100時間以下である。前記加熱・熟成時間は、好ましくは24時間以上120時間以下、より好ましくは48時間以上100時間以下である。
過剰に添加された酸は限外濾過を用いて、容易に除去することが可能である。
<式(X)>
([酸化ハフニウムの質量]/([酸化ジルコニウムの質量]+[酸化ハフニウムの質量]))×100(%)
また、以下の実施例で示される測定値の最大値、最小値は、各成分の含有量(組成)に関係なく、本発明の好ましい最小値、最大値であると考慮されるべきである。
(実施例1)
恒温槽で25℃に調整したオキシ塩化ジルコニウム水溶液(ZrO2換算で10質量%)1000gに、同じく25℃に調整したアンモニア水(10質量%)1380gを30分かけて滴下投入した。このとき、アンモニア水の液滴の容量は0.1~0.5mlの範囲となるように送液管の本数および滴下速度を調整した。その後、30分攪拌を継続して水酸化ジルコニウムの沈殿を得た。水酸化ジルコニウムを濾別し再びイオン交換水で分散する洗浄操作を繰り返し行った。前記操作は、Cl濃度が0.01%以下になるまで行った。
洗浄後の水酸化ジルコニウムの濃度はZrO2換算で31.9質量%であった。得られた水酸化ジルコニウム300gにイオン交換水299g、及び、硝酸(60質量%)39.1gを混合して、調製したスラリーを攪拌しながら還流下100℃で48時間保持し、得られたジルコニアゾル前駆体を限外濾過を用いて精製することで、実施例1に係るジルコニアゾルを得た。
オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度、及び/又は、アンモニア水の濃度を表1に記載の通りに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例2-実施例4、比較例1に係るジルコニアゾルを得た。なお、表1中「ZOC」は、オキシ塩化ジルコニウムを意味する。
(比較例2-比較例3)
オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度、及び/又は、アンモニア水の濃度、並びに、アンモニア水の液滴の容量を表1に記載の通りに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、比較例2-比較例3に係るジルコニアゾルを得た。
アンモニア水の代わりに、15質量%の苛性ソーダ(水酸化ナトリウム水溶液)を用いたこと以外は、実施例2と同様にして、比較例4に係るジルコニアゾルを得た。
ZrO2換算で1質量%に純水で希釈したオキシ塩化ジルコニウム水溶液を還流下100℃で60時間保持して得たジルコニアゾル前駆体を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較例5に係るジルコニアゾルを得た。
実施例、比較例のジルコニアゾルをイオン交換水で、ZrO2換算で0.1質量%に希釈し、装置(動的光散乱法粒子径分布測定装置(「ゼータサイザーナノZS」Malvern Panalytical製))に投入して、ジルコニアゾルの粒子径D50を測定した。結果を表1に示す。
<測定条件>
測定温度:25℃
散乱角度:173°
分散質:ZrO2
分散媒:水
セル:純正ディスポセル
まず、実施例、比較例のジルコニアゾルのTEM画像(透過型電子顕微鏡画像)を得た。TEM画像の撮像には、透過型電子顕微鏡(日立製作所製、製品名:HV-8100)を用い、1視野のサイズを1.15μm×0.90μmとした。
次に、目視により、孤立粒子の数をカウントした。具体的には、粒子に外接する外接円の直径が50nm以上の粒子の数をカウントした。粒子に外接する外接円が複数存在する場合は、外接円の直径と、その外接円と中心が同じ内接円(同心内接円)の直径との比(下記「2)」を参照)が最小となる方を採用することとした。なお、粒子に外接する外接円の直径が50nm未満の粒子をカウント対象としなかったのは、当該粒子は、研磨剤としての効果が低いためである。
孤立粒子の数が20個以上ある場合は、当該TEM画像を評価対象の画像とした。孤立粒子の数が20個未満である場合は、別視野のTEM画像を撮像し、孤立粒子が20個以上あるTEM画像が得られるまで繰り返した。
得られたTEM画像中の各孤立粒子(カウント対象とした孤立粒子)に対して、以下の操作を行った。
1)まず、粒子の外接円と、その外接円と中心が同じ内接円(同心内接円)を求めた(図1参照)。なお、外接円、内接円の定義は、JIS B 7451:1997の真円度MCC法と同一である。
2)次に、得られた外接円の直径と内接円の直径との比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求めた。
3)TEM画像中のすべての孤立粒子(カウント対象としたすべての孤立粒子)について、比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求めた。
4)比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]が2.0以上である孤立粒子(以下、「孤立粒子A」ともいう)の個数をカウントした。
5)全孤立粒子(カウント対象とした全孤立粒子)に対する孤立粒子Aの存在割合(以下、「割合X」ともいう)を求めた。
(割合X(%))=[(孤立粒子Aの数)/(全孤立粒子数)]×100
結果を表1に示す。
実施例、比較例のジルコニアゾルを純水で希釈してZrO2換算で5.0質量%とした液を研磨剤とし、ソーダガラス(Ra:0.3~0.5μm)の研磨を行い、研磨速度、被研磨面の表面粗さRaを測定した。
研磨条件は以下の通りとした。
基板(研磨対象物):ソーダガラス(表面粗さRa(算術平均粗さ):0.3μm以上0.5μm以下)
研磨装置:片面研磨装置(ENGIS社製 EJ-380N)
研磨パッド:スウェード型パッド
研磨荷重:100g/cm2(9.8kPa)
定盤の回転速度:80rpm(線速度:9.5m/分)
研磨時間:15分
研磨用組成物の供給速度:10mL/分
研磨対象物の測定面積:0.143×0.107mm(表面粗さ)
ピッチ:0.164μm
研磨対象物の研磨後の被研磨面の表面粗さ(算術平均粗さ(Ra)は、AMETEC社製の非接触式3D形状測定/表面粗さ測定機『NewView5032』を使用して、視野角が0.143×0.107mmとなる条件で測定した。結果を表1に示す。
Claims (4)
- 粒子径D50が50nm以上250nm以下の範囲内であり、
以下の手順により得られる割合Xが45%以上であることを特徴とするジルコニアゾル。
<手順>
孤立粒子が20個以上含まれている透過型電子顕微鏡画像を得る。
前記透過型電子顕微鏡画像中の各孤立粒子に対して、以下の1)~5)の操作を行う。
1)外接円と、その外接円と中心が同じ内接円を求める。
2)得られた外接円の直径と内接円の直径との比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
3)前記透過型電子顕微鏡画像中のすべての孤立粒子について、前記比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]を求める。
4)比[(外接円の直径)/(内接円の直径)]が2.0以上である孤立粒子Aの個数をカウントする。
5)全孤立粒子に対する前記孤立粒子Aの割合Xを求める。
(割合X(%))=[(孤立粒子Aの数)/(全孤立粒子数)]×100 - 前記割合Xが50%以上であることを特徴とする請求項1に記載のジルコニアゾル。
- 前記粒子径D50が200nm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のジルコニアゾル。
- オキシ塩化ジルコニウム水溶液にアンモニア水を滴下添加して中和させる工程A
を含み、
前記オキシ塩化ジルコニウム水溶液の濃度が10質量%以上であり、
前記アンモニア水の濃度が10質量%以上であり、
前記工程Aにおいて滴下するアンモニア水の液滴の容量が1.0ml以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のジルコニアゾルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023054629A JP7372496B1 (ja) | 2023-03-30 | 2023-03-30 | ジルコニアゾル、及び、ジルコニアゾルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023054629A JP7372496B1 (ja) | 2023-03-30 | 2023-03-30 | ジルコニアゾル、及び、ジルコニアゾルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7372496B1 true JP7372496B1 (ja) | 2023-10-31 |
Family
ID=88509918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023054629A Active JP7372496B1 (ja) | 2023-03-30 | 2023-03-30 | ジルコニアゾル、及び、ジルコニアゾルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7372496B1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5019826B2 (ja) | 2006-07-28 | 2012-09-05 | 第一稀元素化学工業株式会社 | ジルコニアゾル及びその製造方法 |
JP2021075413A (ja) | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 昭和電工株式会社 | ジルコン酸カルシウム系粉末及びその製造方法 |
-
2023
- 2023-03-30 JP JP2023054629A patent/JP7372496B1/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5019826B2 (ja) | 2006-07-28 | 2012-09-05 | 第一稀元素化学工業株式会社 | ジルコニアゾル及びその製造方法 |
JP2021075413A (ja) | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 昭和電工株式会社 | ジルコン酸カルシウム系粉末及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW373015B (en) | Brightener compsn. | |
US6372003B1 (en) | Polishing abrasive of crystalline ceric oxide particles having surfaces modified with hydroxyl groups | |
US5733819A (en) | Polishing composition | |
JP5524094B2 (ja) | フュームド金属酸化物分散体の製造方法 | |
EP1044163B1 (en) | Alumina powder, process for producing the same and polishing composition | |
JP4963825B2 (ja) | 研磨用シリカゾルおよびそれを含有してなる研磨用組成物 | |
US20240116763A1 (en) | Method for producing silica sol | |
WO2012101871A1 (ja) | 研磨材微粒子及びその製造方法 | |
JP2014505784A (ja) | 単結晶ナノ銀粒子の安定な分散系 | |
JPH09142840A (ja) | 酸化セリウム超微粒子及びその製造方法 | |
JP6207345B2 (ja) | シリカ粒子の製造方法 | |
KR20190100921A (ko) | 실리카 입자 분산액 및 그 제조 방법 | |
TW201621026A (zh) | 基於奈米粒子的氧化鈰漿料 | |
KR100329123B1 (ko) | 웨이퍼 폴리싱용 실리카 슬러리의 제조 방법 | |
JP2004203638A (ja) | 落花生様双子型コロイダルシリカ粒子およびその製造方法 | |
JP7372496B1 (ja) | ジルコニアゾル、及び、ジルコニアゾルの製造方法 | |
JP5622386B2 (ja) | Zr−O系粒子を分散質とするゾル及びその製造方法 | |
JP2002338951A (ja) | 研磨剤用水熱処理コロイダルシリカ | |
CN113773806B (zh) | 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途 | |
JPH10172934A (ja) | 研磨用組成物 | |
JP3738401B2 (ja) | アルカリ性アルミナ水和物ゾルおよびその製造方法 | |
JP3123652B2 (ja) | 球状シリカの製造方法 | |
JP2006116617A (ja) | 固定砥粒研削研磨用工具とその製造方法、並びに固定砥粒研削研磨用工具を用いた被研磨体の研磨方法 | |
JP4620851B2 (ja) | 半球状シリカ微粒子の製造方法および半球状シリカ微粒子 | |
JP7464201B2 (ja) | シリカ粒子とその製造方法、シリカゾル、研磨組成物、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230714 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230913 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231011 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231019 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7372496 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |