JP7366745B2 - 抗体－薬物コンジュゲートの改良製造方法 - Google Patents

抗体－薬物コンジュゲートの改良製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、抗体－薬物コンジュゲートの薬物リンカー中間体の改良製造方法、及びこれを用いた抗体－薬物コンジュゲートの改良製造方法に関する。
がん細胞表面に発現し、かつ細胞に内在化できる抗原に結合する抗体に、細胞毒性を有する薬物を結合させた抗体－薬物コンジュゲート（Ａｎｔｉｂｏｄｙ－Ｄｒｕｇ Ｃｏｎｊｕｇａｔｅ； ＡＤＣ）は、がん細胞に選択的に薬物を送達できることによって、がん細胞内に薬物を蓄積させ、がん細胞を死滅させることが期待できる（非特許文献１～５）。
抗体－薬物コンジュゲートの一つとして、抗体とトポイソメラーゼＩ阻害剤であるエキサテカンを構成要素とする抗体－薬物コンジュゲートが知られている（特許文献１～５、非特許文献６、７）。これらの抗体－薬物コンジュゲートは、優れた抗腫瘍効果と安全性を有することから、現在、臨床試験が進行中である。
上記の抗体－薬物コンジュゲートを製造するための薬物リンカー中間体の製造方法として、特許文献１～４に記載された方法が知られている。
国際公開第２０１４／０５７６８７号 国際公開第２０１５／０９８０９９号 国際公開第２０１５／１１５０９１号 国際公開第２０１５／１５５９９８号 国際公開第２０１８／１３５５０１号
Ducry, L., et al., Bioconjugate Chem. (2010) 21, 5-13. Alley, S. C., et al., Current Opinion in Chemical Biology (2010) 14, 529-537. Damle N. K. Expert Opin. Biol. Ther. (2004) 4, 1445-1452. Senter P. D., et al., Nature Biotechnology (2012) 30, 631-637. Howard A. et al., J Clin Oncol 29: 398-405. Ogitani Y. et al., Clinical Cancer Research (2016) 22(20), 5097-5108. Ogitani Y. et al., Cancer Science (2016) 107, 1039-1046.
本発明の抗体－薬物コンジュゲートを製造するための薬物リンカー中間体は、式（１）

で表される化合物である。
式（１）で表される化合物の製造方法として、特許文献１～４に記載された方法が知られている。しかし、式（１）で表される化合物が結晶として取得され得るということは知られておらず、クロマトグラフィーでの精製を要する等、煩雑な操作を行う必要があるため、工業的により優れた製造方法の開発が望まれる。
本発明の一つの課題は、クロマトグラフィーでの精製を要しない、工業的に優れた薬物リンカー中間体の改良製造方法を見出すことである。本発明の他の一つの課題は、該薬物リンカー中間体の改良製造方法を用いた抗体－薬物コンジュゲートの改良製造方法を構築することである。
本発明者らは、薬物リンカー中間体の製造方法を鋭意検討した結果、驚くべきことに、式（１）で表される化合物が結晶として取得できることを見出した。また、式（１）で表される化合物の製造方法を改良した結果、クロマトグラフィーでの精製を要しない、工業的に優れた製造方法を見出した。さらに式（１）で表される化合物の結晶を用いた抗体－薬物コンジュゲートの改良製造方法を構築し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
［１］
式（１）
で表される化合物の結晶。
［２］
銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、［１］に記載の結晶。
［３］
式（１）
で表される化合物が溶解した溶液を調製する工程、次いで、前記の溶液から式（１）で表される化合物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１）で表される化合物の結晶の製造方法。
［４］
式（１）で表される化合物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、［３］に記載の製造方法。
［５］
式（１）で表される化合物が溶解した溶液が、低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含む、［３］又は［４］に記載の製造方法。
［６］
低級ケトンがアセトンである、［５］に記載の製造方法。
［７］
低級ケトンがメチルエチルケトンである、［５］に記載の製造方法。
［８］
低級アルコールが１－プロパノールである、［５］から［７］のいずれか１項に記載の製造方法。
［９］
低級アルコールが２－ブタノールである、［５］から［７］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１０］
式（１）で表される化合物の結晶の種晶を添加する工程を含む、［３］から［９］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１１］
式（１）で表される化合物が、製造方法（Ｉ）によって製造されることを特徴とする、［３］から［１０］のいずれか１項に記載の製造方法；
（ここで、製造方法（Ｉ）は、
式（Ｂ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）のアミノ基及びカルボキシ基の保護基を脱保護し、
式（８）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（８）で表される化合物と、
式（Ｃ）
で表される化合物（ここで、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示す）を縮合することにより、
式（１０）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１０）で表される化合物と、式（１１）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１）
で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
［１２］
式（１）で表される化合物が、製造方法（ＩＩ）によって製造されることを特徴とする、［３］から［１０］のいずれか１項に記載の製造方法；
（ここで、製造方法（ＩＩ）は、
式（Ｂ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（Ｄ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｄ）で表される化合物と、
式（Ｃ）
で表される化合物（ここで、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示す）を縮合することにより、
式（Ｅ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｅ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、
式（１０）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１０）で表される化合物と、式（１１）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１）
で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
［１３］
１，２－ジメトキシエタンを含む溶媒に、式（１０）で表される化合物を溶解させる工程、次いで、式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶を析出させる工程、を含む、［１１］又は［１２］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１４］
式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、［１３］に記載の製造方法。
［１５］
式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、
式（１）で表される化合物へ変換する工程が、硫酸ナトリウム水溶液とテトラヒドロフランの２相系中にて行われる、［１１］から［１４］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１６］
式（１）で表される化合物が、製造方法（ＩＩＩ）によって製造されることを特徴とする、［３］から［１０］のいずれか１項に記載の製造方法；
（ここで、製造方法（ＩＩＩ）は、
式（Ｂ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、
式（Ｆ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｆ）で表される化合物と、
式（１１）
で表される化合物を縮合することにより、
式（Ｇ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｇ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（１６）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１６）で表される化合物と、
式（Ｃ）
で表される化合物（ここで、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示す）を縮合することにより、
式（１）
で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
［１７］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩である、［１１］から［１６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１８］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・ｍ水和物（ここで、ｍは０～３個の範囲内である）である、［１１］から［１６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１９］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・無水物である、［１１］から［１６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［２０］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・１水和物である、［１１］から［１６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［２１］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・２水和物である、［１１］から［１６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［２２］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・３水和物である、［１１］から［１６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［２３］
式（Ｂ）で表される化合物が、製造方法（ＩＶ）によって製造されることを特徴とする、［１１］から［２２］のいずれか１項に記載の製造方法；
（ここで、製造方法（ＩＶ）は、
式（Ｈ）
で表される化合物（ここで、Ｒ３は保護基で保護されたアミノ基を示す）と、四酢酸鉛と反応させることにより、
式（Ｊ）
で表される化合物（ここで、Ｒ３は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｊ）で表される化合物と、
式（Ｋ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は請求項１１から２２のいずれか１項に記載のＲ２と同義を示す）を、酸又は塩基の存在下で反応させることにより、
式（Ｌ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２及びＲ３は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（Ｍ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｍ）で表される化合物と、
式（Ｎ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１は［１１］から［２２］のいずれか１項に記載のＲ１と同義を示す）を縮合することにより、
式（Ｂ）
で表される化合物（ここで、Ｒ１及びＲ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、を含む製造方法である）。
［２４］
式（Ｈ）で表される化合物を四酢酸鉛と反応させることにより式（Ｊ）で表される化合物へ変換する工程が、酢酸の存在下で行われる、［２３］に記載の製造方法。
［２５］
式（Ｊ）で表される化合物と式（Ｋ）で表される化合物を反応させ、式（Ｌ）で表される化合物へ変換する工程が、水酸化ナトリウム水溶液の存在下で行われる、［２３］又は［２４］に記載の製造方法。
［２６］
式（Ｊ）で表される化合物と式（Ｋ）で表される化合物を反応させ、式（Ｌ）で表される化合物へ変換する工程が、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの存在下で行われる、［２３］又は［２４］に記載の製造方法。
［２７］
式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（Ｍ）で表される化合物へ変換する工程の後、酸を添加することにより、式（Ｍ）で表される化合物と酸との塩を析出させる工程を含む、［２３］から［２６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［２８］
酸が、１－ヒドロキシベンゾトリアゾールである、［２７］に記載の製造方法。
［２９］
Ｒ１がベンジルオキシカルボニル基で保護されたアミノ基である、［１１］から［２８］のいずれか１項に記載の製造方法。
［３０］
Ｒ１が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、［１１］から［２８］のいずれか１項に記載の製造方法。
［３１］
Ｒ２がベンジル基で保護されたカルボキシ基である、［１１］から［３０］のいずれか１項に記載の製造方法。
［３２］
Ｒ３が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、［２３］から［３１］のいずれか１項に記載の製造方法。
［３３］
Ｘが（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基である、［１１］から［３２］のいずれか１項に記載の製造方法。
［３４］
式（１）で表される化合物が、製造方法（Ｖ）によって製造されることを特徴とする、［３］から［１０］のいずれか１項に記載の製造方法；
（ここで、製造方法（Ｖ）は、
式（２）
で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、
式（３）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（３）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下、グリコール酸ベンジルと反応させることにより、
式（４）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（４）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（５）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（５）で表される化合物と、
式（６）
で表される化合物を縮合することにより、
式（７）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（７）で表される化合物のアミノ基及びカルボキシ基の保護基を脱保護し、
式（８）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（８）で表される化合物と、
式（９）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１０）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１０）で表される化合物と、式（１１）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１）
で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
［３５］
１，２－ジメトキシエタンを含む溶媒に、式（１０）で表される化合物を溶解させる工程、次いで、式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶を析出させる工程、を含む、［３４］に記載の製造方法。
［３６］
式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、［３５］に記載の製造方法。
［３７］
式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程が、硫酸ナトリウム水溶液とテトラヒドロフランの２相系中にて行われる、［３４］から［３６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［３８］
式（１）で表される化合物が、製造方法（ＶＩ）によって製造されることを特徴とする、［３］から［１０］のいずれか１項に記載の製造方法；
（ここで、製造方法（ＶＩ）は、
式（２）
で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、
式（３）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（３）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下、グリコール酸ベンジルと反応させることにより、
式（４）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（４）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（５）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（５）で表される化合物と、
式（１２）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１３）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１３）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、
式（１４）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１４）で表される化合物と、
式（１１）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１５）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１５）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（１６）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１６）で表される化合物と、
式（９）
で表される化合物を縮合することにより、
式（１）
で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
［３９］
式（２）で表される化合物を四酢酸鉛と反応させることにより式（３）で表される化合物へ変換する工程が、酢酸の存在下で行われる、［３４］から［３８］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４０］
式（３）で表される化合物を式（４）で表される化合物へ変換する工程が、水酸化ナトリウム水溶液の存在下で行われる、［３４］から［３９］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４１］
式（３）で表される化合物を式（４）で表される化合物へ変換する工程が、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの存在下で行われる、［３４］から［３９］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４２］
式（４）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（５）で表される化合物へ変換する工程の後、酸を添加することにより、式（５）で表される化合物と酸との塩を析出させる工程を含む、［３４］から［４１］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４３］
酸が、１－ヒドロキシベンゾトリアゾールである、［４２］に記載の製造方法。
［４４］
式（６）で表される化合物が、
式（２３）
で表される化合物とＮ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することにより、
式（２４）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（２４）で表される化合物と、Ｌ－フェニルアラニンを縮合することにより、式（６）で表される化合物へ変換する工程、を含む方法により製造されたものである、［３４］から［４３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４５］
式（９）で表される化合物が、
式（１７）
で表される化合物と無水マレイン酸を反応させることにより、
式（１８）
で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１８）で表される化合物と、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、及び２，６－ルチジンを含む混合溶液に、塩化チオニルを添加することにより、式（９）で表される化合物へ変換する工程、を含む方法により製造されたものである、［３４］から［４４］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４６］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩である、［３４］から［４５］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４７］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・ｍ水和物（ここで、ｍは０～３個の範囲内である）である、［３４］から［４５］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４８］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・無水物である、［３４］から［４５］のいずれか１項に記載の製造方法。
［４９］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・１水和物である、［３４］から［４５］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５０］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・２水和物である、［３４］から［４５］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５１］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・３水和物である、［３４］から［４５］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５２］
式（Ｈ）
で表される化合物（ここで、Ｒ３は保護基で保護されたアミノ基を示す）を、酢酸の存在下で、四酢酸鉛と反応させることにより、
式（Ｊ）
で表される化合物（ここで、Ｒ３は前記と同意義を示す）へ変換する工程を含む、式（Ｊ）で表される化合物の製造方法。
［５３］
Ｒ３が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、［５２］に記載の製造方法。
［５４］
式（Ｊ）
で表される化合物（ここで、Ｒ３は保護基で保護されたアミノ基を示す）と、
式（Ｋ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）を、水酸化ナトリウム水溶液又はトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの存在下で反応させることにより、
式（Ｌ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２及びＲ３は前記と同意義を示す）へ変換する工程を含む、式（Ｌ）で表される化合物の製造方法。
［５５］
水酸化ナトリウム水溶液の存在下で反応させることを特徴とする、［５４］に記載の製造方法。
［５６］
トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの存在下で反応させることを特徴とする、［５４］に記載の製造方法。
［５７］
Ｒ２がベンジル基で保護されたカルボキシ基である、［５４］から［５６］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５８］
Ｒ３が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、［５４］から［５７］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５９］
式（Ｌ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示し、Ｒ３は保護基で保護されたアミノ基を示す）のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
式（Ｍ）
で表される化合物（ここで、Ｒ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、酸を添加することにより、式（Ｍ）で表される化合物と酸との塩を析出させる工程を含む、式（Ｍ）で表される化合物と酸との塩の製造方法。
［６０］
酸が、１－ヒドロキシベンゾトリアゾールである、［５９］に記載の製造方法。
［６１］
Ｒ２がベンジル基で保護されたカルボキシ基である、［５９］又は［６０］に記載の製造方法。
［６２］
Ｒ３が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、［５９］から［６１］のいずれか１項に記載の製造方法。
［６３］
式（１８）
で表される化合物と、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、及び２，６－ルチジンを含む混合溶液に、塩化チオニルを添加することにより、
式（９）
で表される化合物へ変換する工程を含む、式（９）で表される化合物の製造方法。
［６４］
式（１８）で表される化合物が、
式（１７）
で表される化合物と無水マレイン酸を反応させる工程を含む方法により製造されたものである、［６３］に記載の製造方法。
［６５］
１，２－ジメトキシエタンを含む溶媒に、
式（１０）
で表される化合物を溶解させる工程、次いで、式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶の製造方法。
［６６］
式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）にピークを示す、［６５］に記載の製造方法。
［６７］
式（１０）
で表される化合物と、
式（１１）
で表される化合物を、硫酸ナトリウム水溶液とテトラヒドロフランの２相系中にて縮合することにより、
式（１）
で表される化合物へ変換する工程を含む、式（１）で表される化合物の製造方法。
［６８］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩である、［６７］に記載の製造方法。
［６９］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・ｍ水和物（ここで、ｍは０～３個の範囲内である）である、［６７］に記載の製造方法。
［７０］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・無水物である、［６７］に記載の製造方法。
［７１］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・１水和物である、［６７］に記載の製造方法。
［７２］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・２水和物である、［６７］に記載の製造方法。
［７３］
式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・３水和物である、［６７］に記載の製造方法。
［７４］
クロマトグラフィーを使用しないことを特徴とする、［３］から［７３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［７５］
式（１０）
で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶。
［７６］
銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、［７５］に記載の結晶。
［７７］
式（５）
で表される化合物と酸との塩。
［７８］
酸が１－ヒドロキシベンゾトリアゾールである、［７７］に記載の塩。
［７９］
［３］から［５１］のいずれか１項に記載された方法により製造された
式（１）
で表される化合物の結晶を出発原料として使用することを特徴とし、
ｉ）抗体を、還元する工程、次いで、
ｉｉ）上記方法で製造された式（１）で表される化合物の結晶が溶解した溶液を添加し、還元された抗体と反応させる工程、
を含む、
式（１９）
（式中、Ａは抗体との結合位置を示す）
で示される薬物リンカーと、抗体とがチオエーテル結合によって結合した抗体－薬物コンジュゲートの製造方法。
［８０］
抗体が、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＨＥＲ３抗体、抗ＴＲＯＰ２抗体、抗Ｂ７－Ｈ３抗体、又は抗ＧＰＲ２０抗体である、［７９］に記載の製造方法。
［８１］
抗体が、抗ＨＥＲ２抗体である、［８０］に記載の製造方法。
［８２］
抗ＨＥＲ２抗体が、配列番号１においてアミノ酸番号１乃至４４９に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号２においてアミノ酸番号１乃至２１４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、配列番号１に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号２に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体である、［８１］に記載の製造方法。
［８３］
抗体－薬物コンジュゲートにおける１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数が７から８個の範囲である、［８１］又は［８２］に記載の製造方法。
［８４］
抗体が、抗ＨＥＲ３抗体である、［８０］に記載の製造方法。
［８５］
抗ＨＥＲ３抗体が、配列番号３に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である、［８４］に記載の製造方法。
［８６］
抗体－薬物コンジュゲートにおける１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数が７から８個の範囲である、［８４］又は［８５］に記載の製造方法。
［８７］
抗体が、抗ＴＲＯＰ２抗体である、［８０］に記載の製造方法。
［８８］
抗ＴＲＯＰ２抗体が、配列番号５においてアミノ酸番号２０乃至４７０に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号６においてアミノ酸番号２１乃至２３４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である、［８７］に記載の製造方法。
［８９］
抗体－薬物コンジュゲートにおける１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数が３から５個の範囲である、［８７］又は［８８］に記載の製造方法。
［９０］
抗体が、抗Ｂ７－Ｈ３抗体である、［８０］に記載の製造方法。
［９１］
抗Ｂ７－Ｈ３抗体が、配列番号７においてアミノ酸番号２０乃至４７１に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号８においてアミノ酸番号２１乃至２３３に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である、［９０］に記載の製造方法。
［９２］
抗体－薬物コンジュゲートにおける１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数が３から５個の範囲である、［９０］又は［９１］に記載の製造方法。
［９３］
抗体が、抗ＧＰＲ２０抗体である、［８０］に記載の製造方法。
［９４］
抗ＧＰＲ２０抗体が、配列番号９においてアミノ酸番号２０乃至４７２に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号１０においてアミノ酸番号２１乃至２３４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である、［９３］に記載の製造方法。
［９５］
抗体－薬物コンジュゲートにおける１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数が７から８個の範囲である、［９３］又は［９４］に記載の製造方法。
に関する。
本発明により、式（１）で表される化合物の結晶の取得が可能となり、一定品質の式（１）で表される化合物を提供することができる。また、クロマトグラフィーでの精製を要しない、工業的に優れた式（１）で表される化合物の製造方法を提供することができる。さらにこれを用いた抗体－薬物コンジュゲートの改良製造方法を提供することができる。
抗ＨＥＲ２抗体重鎖のアミノ酸配列（配列番号１）を示す。 抗ＨＥＲ２抗体軽鎖のアミノ酸配列（配列番号２）を示す。 式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶の粉末Ｘ線回折を示す。 式（１）で表される化合物の結晶の粉末Ｘ線回折を示す。 抗ＨＥＲ３抗体重鎖のアミノ酸配列（配列番号３）を示す。 抗ＨＥＲ３抗体軽鎖のアミノ酸配列（配列番号４）を示す。 抗ＴＲＯＰ２抗体重鎖のアミノ酸配列（配列番号５）を示す。 抗ＴＲＯＰ２抗体軽鎖のアミノ酸配列（配列番号６）を示す。 抗Ｂ７－Ｈ３抗体重鎖のアミノ酸配列（配列番号７）を示す。 抗Ｂ７－Ｈ３抗体軽鎖のアミノ酸配列（配列番号８）を示す。 抗ＧＰＲ２０抗体重鎖のアミノ酸配列（配列番号９）を示す。 抗ＧＰＲ２０抗体軽鎖のアミノ酸配列（配列番号１０）を示す。
以下、本発明を実施するための好適な形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これによって本発明の範囲が狭く解釈されることはない。
［抗体－薬物コンジュゲート］
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートは、
式（１９）
（式中、Ａは抗体との結合位置を示す）
で示される薬物リンカーと、抗体とがチオエーテル結合によって結合した抗体－薬物コンジュゲートである。
本発明においては、抗体－薬物コンジュゲートのうち、リンカー及び薬物からなる部分構造を「薬物リンカー」と称する。この薬物リンカーは抗体の鎖間のジスルフィド結合部位（２箇所の重鎖－重鎖間、及び２箇所の重鎖－軽鎖間）において生じたチオール基（言い換えれば、システイン残基の硫黄原子）に結合している。
本発明の薬物リンカーは、トポイソメラーゼＩ阻害剤であるエキサテカンを構成要素としている。エキサテカンは、
式（１１）
で示される、抗腫瘍効果を有するカンプトテシン誘導体である。
本発明において使用される抗体－薬物コンジュゲートは、
式（２０）
で表されることもできる。
ここで、薬物リンカーは抗体とチオエーテル結合によって結合している。また、ｎはいわゆる平均薬物結合数（ＤＡＲ； Ｄｒｕｇ－ｔｏ－Ａｎｔｉｂｏｄｙ Ｒａｔｉｏ）と同義であり、１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数を示す。
本発明で使用される抗体－薬物コンジュゲートは、がん細胞内に移行した後に
式（２２）

で表される化合物を遊離することにより、抗腫瘍効果を発揮する。
式（２２）で表される化合物は、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートの抗腫瘍活性の本体であると考えられ、トポイソメラーゼＩ阻害作用を有することが確認されている（Ogitani Y. et al., Clinical Cancer Research, 2016, Oct 15;22(20):5097-5108, Epub 2016 Mar 29）。
式（２２）で表される化合物は、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートのリンカー部分が切断されることにより生じると考えられる、
式（２１）
で表される化合物のアミナール構造が分解することにより生じると考えられる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートは、バイスタンダー効果を有することも知られている（Ogitani Y. et al., Cancer Science (2016) 107, 1039-1046）。
このバイスタンダー効果は、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートが、標的発現がん細胞に内在化した後、遊離された式（２２）で表される化合物が、標的を発現していない近傍のがん細胞に対しても抗腫瘍効果を及ぼすことにより発揮される。
［抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される薬物リンカー中間体］
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される薬物リンカー中間体は、
式（１）
で表される化合物である。本発明によって、式（１）で表される化合物は結晶として取得することができ、該結晶は本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造のために好適に使用することができる。
式（１）で表される化合物の結晶の品質は、例えば、不純物含有率、残留溶媒量、及び外観等を指標に評価することができる。また、例えば、２５℃／６０％ＲＨ下、又は４０℃／７５％ＲＨ下のような環境下における、３ヵ月間、６ヵ月間、１２ヵ月間、２４ヵ月間、及び３６ヵ月間での保存安定性を指標に評価することができる。
これらの品質評価により、非晶性の式（１）で表される化合物に対する優位性を確認することもできる。
本発明の製造方法は、式（１）で表される化合物が溶解した溶液から、式（１）で表される化合物の結晶を析出させることにより、式（１）で表される化合物の結晶を製造することを特徴とする。これにより、純度が高く、一定の品質を有する式（１）で表される化合物の結晶を製造することができる。
式（１）で表される化合物の結晶は、好適には、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６°、１５．５°、及び２２．０°の回折角度（２θ）に主要なピークを示すことを特徴とする。一般に、粉末Ｘ線回折における回折角度（２θ）は、±０．２°の範囲内で誤差が生じ得るため、上記の回折角度の値は±０．２°の範囲内の数値も含むものとして理解される必要がある（粉末Ｘ線回折による測定・評価の技術常識については、例えば、第十六改正日本薬局方 p64-68（2.58 粉末Ｘ線回折測定法）、又は第十七改正日本薬局方 p71-74（2.58 粉末Ｘ線回折測定法）等を参照することができる）。
従って、上記の回折角度と完全に一致する結晶だけでなく、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを有する結晶も同一であり、本発明に含まれる。本発明において、「±０．２°」とは、特定の数値に対し－０．２°～＋０．２°の範囲の数値であることを示す。例えば、「５．６±０．２°」とは、５．４°～５．８°の範囲の数値であることを示す。
式（１）で表される化合物の結晶を析出させるための溶液は、好適には、アセトンと低級アルコールを溶媒として含む溶液である。同様に、低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含む溶液も、式（１）で表される化合物の結晶を析出させるための溶液として好適に使用することができる。
本発明において、「低級ケトン」とは、炭素数が３～６個のケトン類を示し、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｔｅｒｔ－ブチルケトン、エチルエチルケトン、エチルプロピルケトン、及びエチルイソプロピルケトンを挙げることができ、好適には、アセトン、及びメチルエチルケトンを挙げることができ、より好適には、アセトンを挙げることができる。
本発明において、「低級アルコール」とは、炭素数が１～４個のアルコール類を示し、例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－ブタノール、及びｔｅｒｔ－ブタノールを挙げることができ、好適には、１－プロパノール、及び２－ブタノールを挙げることができ、より好適には、１－プロパノールを挙げることができる。
従って、式（１）で表される化合物の結晶を析出させるための溶液は、好適には、アセトンと１－プロパノールを含む溶液、又は、アセトンと２－ブタノールを含む溶液であり、より好適には、アセトンと１－プロパノールを含む溶液である。
式（１）で表される化合物の結晶の析出は、式（１）で表される化合物を含む溶液に、式（１）で表される化合物の結晶の種晶を添加することにより、行うこともできる。
式（１）で表される化合物の結晶の種晶は、上記の方法を直接行っても取得することができるが、好適には、式（１）で表される化合物の少量をクロマトグラフィーで精製した後に、アセトンと１－プロパノールを含む溶媒、又はアセトンと２－ブタノールを含む溶媒に溶解し、該溶液から晶析させることにより取得することができる。
式（１）で表される化合物は、国際公開第２０１４／０５７６８７号、国際公開第２０１５／０９８０９９号、国際公開第２０１５／１１５０９１号、国際公開第２０１５／１５５９９８号等の記載を参考に製造することもできるが、好適には、以下の製造方法（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、及び（ＩＸ）により製造されたものを用いることができる。これにより、全工程において、クロマトグラフィーを使用せずに、高収率にて式（１）で表される化合物の結晶を製造することができる。
［製造方法（Ｉ）］
製造方法（Ｉ）は、式（Ｂ）で表される化合物から、工程１～３を経て式（１）で表される化合物へ変換する方法である。以下、工程１～３について詳細に説明する。

［式中、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、好適には、ベンジルオキシカルボニル基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示し、好適には、ベンジル基で保護されたカルボキシ基を示し、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示し、好適には、（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基を示す。］
工程１：
本工程は、式（Ｂ）で表される化合物のアミノ基及びカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、式（８）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｂ）で表される化合物のアミノ基及びカルボキシ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
Ｒ１がベンジルオキシカルボニル基で保護されたアミノ基であり、Ｒ２がベンジル基で保護されたカルボキシ基である場合、本工程は、好適には、以下の方法で行うことができる。
式（Ｂ）で表される化合物のアミノ基及びカルボキシ基の保護基の脱保護は、反応が進行する限り方法は制限されないが、好適には、水素雰囲気下、パラジウム触媒、白金触媒、ニッケル触媒、ルテニウム触媒、又はロジウム触媒を用いて行うことができ、より好適には、パラジウム触媒を用いて行うことができ、更により好適には、パラジウム炭素を用いて行うことができ、更により好適には、５％パラジウム炭素を用いることができる。本工程に用いられる５％パラジウム炭素の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｂ）で表される化合物に対して、５～４０重量％である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、テトラヒドロフランと水の混合溶媒を挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１～５時間である。
工程２：
本工程は、式（８）で表される化合物と、式（Ｃ）で表される化合物を縮合することにより、式（１０）で表される化合物へ変換する工程である。式（Ｃ）で表される化合物は市販のもの、又は公知の方法により製造したもの、又は、下記の製造方法（ＶＩＩ）に準じた方法により製造したものを用いることができる。Ｘが（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基である場合、本工程は、好適には、以下の方法で行うことができる。
本工程に用いられる式（Ｃ）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（８）で表される化合物に対して、１～４当量である。
本工程は好適には塩基を用いる。本工程に用いられる塩基は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－メチルピロリジン、及びＮ－メチルピペリジン等を挙げることができ、好適には、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミンを挙げることができる。本工程に用いられるＮ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（８）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、アセトニトリルと水の混合溶媒を挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、７～３０時間である。
式（１０）で表される化合物は、好適には、１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶として取得することができる。
式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶の品質は、例えば、不純物含有率、残留溶媒量、及び外観等を指標に評価することができる。また、例えば、２５℃／６０％ＲＨ下、又は４０℃／７５％ＲＨ下のような環境下における、３ヵ月間、６ヵ月間、１２ヵ月間、２４ヵ月間、及び３６ヵ月間での保存安定性を指標に評価することができる。これらの品質評価により、非晶性の式（１０）で表される化合物に対する優位性を確認することもできる。
式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶は、好適には、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０°、及び２５．０°の回折角度（２θ）に主要なピークを示すことを特徴とする。一般に、粉末Ｘ線回折における回折角度（２θ）は、±０．２°の範囲内で誤差が生じ得るため、上記の回折角度の値は±０．２°の範囲内の数値も含むものとして理解される必要がある（粉末Ｘ線回折による測定・評価の技術常識については、例えば、第十六改正日本薬局方 p64-68（2.58 粉末Ｘ線回折測定法）、又は第十七改正日本薬局方 p71-74（2.58 粉末Ｘ線回折測定法）等を参照することができる）。従って、上記の回折角度と完全に一致する結晶だけでなく、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを有する結晶も同一であり、本発明に含まれる。
工程３：
本工程は、式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程である。式（１１）で表される化合物は、好適には、メタンスルホン酸塩として用いることができ、より好適には、メタンスルホン酸塩・ｍ水和物（ここでｍは０～３個である）として用いることができ、更により好適には、メタンスルホン酸塩・無水物、メタンスルホン酸塩・１水和物、メタンスルホン酸塩・２水和物、又はメタンスルホン酸塩・３水和物として用いることができ、更により好適には、メタンスルホン酸塩・２水和物として用いることができるが、いずれも本発明の製造方法に用いることができる。なお、上記の水和物数は、結晶取得・乾燥時の湿度を調整することにより、コントロールすることができる。
本工程に用いられる式（１１）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１０）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。
式（１０）で表される化合物は、好適には、活性エステルへ誘導することにより、式（１１）で表される化合物と縮合させることができる。本工程における活性エステルへの誘導は、反応が進行する限り方法は制限されないが、例えば、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（ＷＳＣＤ・ＨＣｌ）、又はＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の縮合剤を用いて、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、シアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチル、又はｐ－ニトロフェノール等の添加剤と反応させることにより行うことができ、好適には、３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩とシアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチルを用いて行うことができる。本工程に用いられる３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１０）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。本工程に用いられるシアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチルの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１０）で表される化合物に対して、０．０２～０．２当量である。
本工程は、好適には塩基を用いる。本工程に用いられる塩基は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－メチルピロリジン、及びＮ－メチルピペリジン等を挙げることができ、好適には、Ｎ－メチルモルホリンを挙げることができる。本工程に用いられるＮ－メチルモルホリンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１０）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、テトラヒドロフランと水の混合溶媒を挙げることができる。
なお、式（１１）で表される化合物のメタンスルホン酸塩は、塩基で中和され、フリー体となった後に反応が進行する。ここで、式（１１）で表される化合物のメタンスルホン酸塩が、親水性である一方、式（１１）で表される化合物のフリー体は、親油性であるため、一連の反応を効率よく進行させるためには、本工程は好適には、水層と有機層の２相系にて行うことができる。有機層がテトラヒドロフランである場合、これに混和しにくい水層として、イオン強度の高い水溶液、例えば、硫酸ナトリウム水溶液を好適に用いることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、０．５～２時間である。
［製造方法（ＩＩ）］
製造方法（ＩＩ）は、式（Ｂ）で表される化合物から、工程４～７を経て式（１）で表される化合物へ変換する方法である。以下、工程４～７について詳細に説明する。

［式中、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示し、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示し、好適には、（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基を示す。］
工程４：
本工程は、式（Ｂ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（Ｄ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｂ）で表される化合物のアミノ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
工程５：
本工程は、式（Ｄ）で表される化合物と、式（Ｃ）で表される化合物を縮合することにより、式（Ｅ）で表される化合物へ変換する工程である。
本工程は、製造方法（Ｉ）の工程２と同様の方法により、行うことができる。
工程６：
本工程は、式（Ｅ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、式（１０）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｂ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
式（１０）で表される化合物は、好適には、製造方法（Ｉ）の工程２と同様の方法により、１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶として取得することができる。
工程７：
本工程は、式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程である。
本工程は、製造方法（Ｉ）の工程３と同様の方法により行うことができる。
［製造方法（ＩＩＩ）］
製造方法（ＩＩＩ）は、式（Ｂ）で表される化合物から、工程８～１１を経て式（１）で表される化合物へ変換する方法である。以下、工程８～１１について詳細に説明する。

［式中、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、好適には、（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示し、好適には、ベンジル基で保護されたカルボキシ基を示し、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示し、好適には、（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基を示す。］
工程８：
本工程は、式（Ｂ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、式（Ｆ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｂ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
Ｒ２がベンジル基で保護されたカルボキシ基である場合、本工程は、好適には、以下の方法で行うことができる。
式（Ｂ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基の脱保護は、反応が進行する限り方法は制限されないが、好適には、水素雰囲気下、パラジウム触媒、白金触媒、ニッケル触媒、ルテニウム触媒、ロジウム触媒を用いて行うことができ、より好適には、パラジウム触媒を用いて行うことができ、更により好適には、パラジウム炭素を用いて行うことができ、更により好適には、パラジウム炭素－エチレンジアミン錯体を用いることができる。本工程に用いられるパラジウム炭素－エチレンジアミン錯体の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｂ）で表される化合物に対して、３４～１３６重量％である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、テトラヒドロフランと水の混合溶媒を挙げることができる。
本工程の反応温度は、好適には、１０～４０℃であるが、反応が進行する限りこれに制限されない。本工程の反応時間は、好適には、１～５４時間であるが、反応が進行する限りこれに制限されない。
工程９：
本工程は、式（Ｆ）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（Ｇ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｆ）で表される化合物は、好適には、活性エステルへ誘導することにより、式（１１）で表される化合物と縮合することができる。本工程に用いられる式（１１）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｆ）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。本工程における活性エステルへの誘導は、反応が進行する限り方法は制限されないが、例えば、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（ＷＳＣＤ・ＨＣｌ）、又はＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の縮合剤を用いて、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、シアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチル、又はｐ－ニトロフェノール等の添加剤と反応させることにより行うことができ、好適には、３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールを用いて行うことができる。本工程に用いられる３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｆ）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。本工程に用いられる１－ヒドロキシベンゾトリアゾールの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｆ）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
本工程は、好適には塩基を用いる。本工程に用いられる塩基は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－メチルピロリジン、及びＮ－メチルピペリジン等を挙げることができ、好適には、トリエチルアミンを挙げることができる。本工程に用いられるトリエチルアミンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｆ）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、テトラヒドロフランを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１～４時間である。
工程１０：
本工程は、式（Ｇ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（１６）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｇ）で表される化合物のアミノ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
Ｒ１が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である場合、本工程は、好適には、以下の方法で行うことができる。
式（Ｇ）で表される化合物のアミノ基の保護基の脱保護は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセン、トリメチルグアニジン、１，５，７－トリアザビシクロ［４，４，０］デカ－５－エン、又は７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４，４，０］デカ－５－エン１，５－ジアザビシクロ［４，３，０］－５－ノネンを用いて行うことができ、好適には、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセンを用いて行うことができる。本工程に用いられる１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１５）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、テトラヒドロフランを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１～５時間である。
工程１１：
本工程は、式（１６）で表される化合物と、式（Ｃ）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程である。式（Ｃ）で表される化合物は市販のもの、公知の方法により製造したもの、又は、下記の製造方法（ＶＩＩ）に準じた方法により製造したものを用いることができる。Ｘが（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基である場合、本工程は、好適には、以下の方法で行うことができる。
本工程に用いられる式（Ｃ）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１６）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。
本工程は、好適には塩基を用いる。本工程に用いられる塩基は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－メチルピロリジン、及びＮ－メチルピペリジン等を挙げることができ、好適には、トリエチルアミンを挙げることができる。本工程に用いられるトリエチルアミンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１６）で表される化合物に対して、０．７５～６当量である。
本工程は、好適には、さらに、ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナートを用いることができる。本工程に用いられるピリジニウム ｐ－トルエンスルホナートの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１６）で表される化合物に対して、１～４当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ピリジン、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、ピリジン、アセトニトリル、及びテトロヒドロフランの混合溶媒を挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１．５～７時間である。
製造方法（Ｉ）～（ＩＩＩ）における、式（Ｂ）で表される化合物は、好適には、以下の製造方法（ＩＶ）により製造されたものを用いることができる。
［製造方法（ＩＶ）］
製造方法（ＩＶ）は、式（Ｈ）で表される化合物から、工程１２～１５を経て式（Ｂ）で表される化合物へ変換する方法である。以下、工程１２～１５について詳細に説明する。

［式中、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、好適には、ベンジルオキシカルボニル基、又は（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示し、好適には、ベンジル基で保護されたカルボキシ基を示し、Ｒ３は保護基で保護されたアミノ基を示し、好適には、（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基を示し、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示し、好適には、（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基を示す。］
工程１２：
本工程は、式（Ｈ）で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、式（Ｊ）で表される化合物へ変換する工程である。式（Ｈ）で表される化合物は、市販のもの又は公知の方法を参考に製造したものを用いることができる。本工程に用いられる四酢酸鉛の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｈ）で表される化合物に対して、１～３当量である。
本工程は、好適には、酢酸、又はピリジンの存在下で行うことができ、より好適には、酢酸の存在下で行うことができる。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、及びジメチルスルホキシド、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、テトラヒドロフランを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、４５～８５℃であり、より好適には、テトラヒドロフランの加熱還流下となる温度である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、０．５～３時間である。
工程１３：
本工程は、式（Ｊ）で表される化合物と式（Ｋ）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下で反応させることにより、式（Ｌ）で表される化合物へ変換する工程である。本工程に用いられる式（Ｋ）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｊ）で表される化合物に対して、１～４当量である。
本工程は、塩基、又は酸の存在下で行うことができる。本工程に用いられる塩基は、好適には、水酸化ナトリウム水溶液である。本工程に用いられる水酸化ナトリウム水溶液の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｊ）で表される化合物に対して、０．５～２当量である。本工程に用いられる酸は、好適には、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。本工程に用いられるトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｊ）で表される化合物に対して、０．０１～０．１当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、及び１，４－ジオキサンを挙げることができ、好適には、１，２－ジメトキシエタンを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、－１０～１５℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、０．５～６時間である。
工程１４：
本工程は、式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（Ｍ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
Ｒ３が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である場合、本工程は、好適には、以下の方法で行うことができる。
式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基の脱保護は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセン、トリメチルグアニジン、１，５，７－トリアザビシクロ［４，４，０］デカ－５－エン、又は７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４，４，０］デカ－５－エン１，５－ジアザビシクロ［４，３，０］－５－ノネンを用いて行うことができ、好適には、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセンを用いて行うことができる。本工程に用いられる１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｌ）で表される化合物に対して、０．２５～１当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、アセトニトリル、及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミドを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、２～８時間である。
式（Ｍ）で表される化合物は、酸との塩にすることにより、反応溶液から析出させ、好適に単離精製することができる。これにより、以降の工程の反応阻害要因となり得る副生成物を除去することができる。
上記の酸は、好適には、１－ヒドロキシベンゾトリアゾールである。本工程で用いた１－ヒドロキシベンゾトリアゾールは、次の工程１５において、縮合剤の一つとして機能することもできる。同様に、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール以外の酸も、縮合剤の一つとして機能するものであれば、本工程に好適に用いることができる。
工程１５：
本工程は、式（Ｍ）で表される化合物と、式（Ｎ）で表される化合物を縮合することにより、式（Ｂ）で表される化合物へ変換する工程である。式（Ｎ）で表される化合物は市販のもの、公知の方法により製造したもの、又は、下記の製造方法（ＶＩＩＩ）に準じた方法により製造したものを用いることができる。本工程に用いられる式（Ｎ）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｍ）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
式（Ｍ）で表される化合物は、好適には、活性エステルへ誘導することにより、式（Ｎ）で表される化合物と縮合させることができる。活性エステルへの誘導は、例えば、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（ＷＳＣＤ・ＨＣｌ）、又はＮ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の縮合剤を用いて、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、シアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチル、又はｐ－ニトロフェノール等の添加剤と反応させることにより行うことができ、好適には、３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールを用いて行うことができる。本工程に用いられる３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（５）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。 本工程に用いられる１－ヒドロキシベンゾトリアゾールの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（Ｍ）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
また、式（Ｍ）で表される化合物が１－ヒドロキシベンゾトリアゾール塩である場合には、本工程は、好適には、新たな１－ヒドロキシベンゾトリアゾールを添加せずに行うことができる。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、アセトニトリル及び水の混合溶媒を挙げることができる。
なお、工程１４において、式（Ｍ）で表される化合物を単離せずに、連続して本工程を行う場合、本工程の溶媒は、工程１４で使用した溶媒をそのまま用いることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、－１０～１５℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１．５～７時間である。
より具体的な態様として、式（１）で表される化合物は、好適には、以下の製造方法（Ｖ）又は（ＶＩ）により製造されたものを用いることができる。
［製造方法（Ｖ）］
製造方法（Ｖ）は、式（２）で表される化合物から、工程１６～２２を経て式（１）で表される化合物へ変換する方法である。以下、工程１６～２２について詳細に説明する。
工程１６：
本工程は、式（２）で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、式（３）で表される化合物へ変換する工程である。式（２）で表される化合物は、市販のもの又は公知の方法を参考に製造したものを用いることができる。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１２と同様の方法により、行うことができる。
工程１７：
本工程は、式（３）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下で、グリコール酸ベンジルと反応させることにより、式（４）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１３と同様の方法により、行うことができる。
工程１８：
本工程は、式（４）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（５）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１４と同様の方法により、行うことができる。
工程１９：
本工程は、式（５）で表される化合物と、式（６）で表される化合物を縮合することにより、式（７）で表される化合物へ変換する工程である。式（６）で表される化合物は、市販のもの、公知の方法により製造したもの、又は下記の製造方法（ＶＩＩＩ）により製造したものを用いることができる。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１５と同様の方法により、行うことができる。
工程２０：
本工程は、式（７）で表される化合物のアミノ基及びカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、式（８）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（Ｉ）の工程１と同様の方法により、行うことができる。
工程２１：
本工程は、式（８）で表される化合物と、式（９）で表される化合物を縮合することにより、式（１０）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（Ｉ）の工程２と同様の方法により、行うことができる。
工程２２：
本工程は、式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（Ｉ）の工程３と同様の方法により、行うことができる。
［製造方法（ＶＩ）］
製造方法（ＶＩ）は、式（２）で表される化合物から、工程２３～３０を経て式（１）で表される化合物へ変換する方法である。以下、工程２３～３０について詳細に説明する。
工程２３：
本工程は、式（２）で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、式（３）で表される化合物へ変換する工程である。式（２）で表される化合物は、市販のもの又は公知の方法を参考に製造したものを用いることができる。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１２と同様の方法により、行うことができる。
工程２４：
本工程は、式（３）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下で、グリコール酸ベンジルと反応させることにより、式（４）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１３と同様の方法により、行うことができる。
工程２５：
本工程は、式（４）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（５）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１４と同様の方法により、行うことができる。
工程２６：
本工程は、式（５）で表される化合物と、式（１２）で表される化合物を縮合することにより、式（１３）で表される化合物へ変換する工程である。式（１３）で表される化合物は市販のもの、又は公知の方法により製造したものを用いることができる。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１５と同様の方法により、行うことができる。
工程２７：
本工程は、式（１３）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、式（１４）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＩＩ）の工程８と同様の方法により、行うことができる。
工程２８：
本工程は、式（１４）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１５）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＩＩ）の工程９と同様の方法により、行うことができる。
工程２９：
本工程は、式（１５）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（１６）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＩＩ）の工程１０と同様の方法により、行うことができる。
工程３０：
本工程は、式（１６）で表される化合物と、式（９）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＩＩ）の工程１１と同様の方法により、行うことができる。
［製造方法（ＶＩＩ）］
式（９）で表される化合物は、好適には、以下の製造方法（ＶＩＩ）により製造したものを用いることができる。これにより、以降の工程で製造される化合物の品質に影響を及ぼす可能性がある不純物を抑制することができ、高品質の式（１）で表される化合物の取得に寄与することができる。

工程３１：
本工程は、式（１７）で表される化合物と無水マレイン酸を縮合することにより、式（１８）で表される化合物へ変換する工程である。本工程に用いられる無水マレイン酸の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１７）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
本工程は、好適には、酢酸中にて行われる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、８０～１２０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、８～３２時間である。
工程３２：
本工程は、式（１８）で表される化合物とＮ－ヒドロキシスクシンイミドを縮合することにより、式（９）で表される化合物へ変換する工程である。本工程に用いられるＮ－ヒドロキシスクシンイミドの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１７）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
式（１８）で表される化合物は、活性エステル、混合酸無水物、又は酸ハロゲン化物等に誘導することにより、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することができ、好適には、酸ハロゲン化物に誘導することにより、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することができる。
酸ハロゲン化物への誘導は、好適には、塩化チオニルを用いて行うことができる。本工程に用いられる塩化チオニルの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１８）で表される化合物に対して、０．５～１．５当量である。本工程では好適には塩基を用いる。本工程に用いられる塩基は好適には２，６－ルチジンである。本工程に用いられる２，６－ルチジンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（１８）で表される化合物に対して、１～３当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、及びクロロベンゼン、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、アセトニトリルを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、－２５℃～０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、０．５～２時間である。
［製造方法（ＶＩＩＩ）］
式（６）で表される化合物は、以下の製造方法（ＶＩＩＩ）により製造したものを用いることができる。
Figure 0007366745000089
工程３３：
本工程は、式（２３）で表される化合物をＮ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することにより、式（２４）で表される化合物へ変換する工程である。本工程に用いられる式（２３）で表される化合物の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（２３）で表される化合物に対して、０．７～１．５当量である。
式（２３）で表される化合物は、活性エステル、混合酸無水物、又は酸ハロゲン化物等に誘導することにより、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することができ、好適には、活性エステル化物に誘導することにより、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することができる。
活性エステル化は、好適には、３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩を用いて行うことができる。本工程に用いられる３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩の量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（２３）で表される化合物に対して、０．７～１．５当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、アセトニトリルを挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１０～４０℃である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、２～８時間である。
工程３４：
本工程は、式（２４）で表される化合物を、Ｌ－フェニルアラニンと縮合することにより、式（６）で表される化合物へ変換する工程である。本工程に用いられるＬ－フェニルアラニンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（２４）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
本工程は、好適には塩基を用いる。本工程に用いられる塩基は、反応が進行する限り特に制限は無いが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、Ｎ－メチルピロリジン、及びＮ－メチルピペリジン等を挙げることができ、好適には、トリエチルアミンを挙げることができる。本工程に用いられるトリエチルアミンの量は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（２４）で表される化合物に対して、０．７～１．３当量である。
本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アセトン、２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び水、並びにこれらの混合溶媒を挙げることができ、好適には、アセトニトリルと水の混合溶媒を挙げることができる。
本工程の反応温度は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、式（２３）で表される化合物である。本工程の反応時間は、反応が進行する限り制限されないが、好適には、１～４時間である。
［製造方法（ＩＸ）］
式（１）で表される化合物は、以下の製造方法（ＩＸ）により製造されたものを用いることもできる。
［式中、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示し、Ｒ３は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示し、好適には、（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基を示す。］
工程３５：
本工程は、式（Ｈ）で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、式（Ｊ）で表される化合物へ変換する工程である。式（Ｈ）で表される化合物は、市販のもの又は公知の方法を参考に製造したものを用いることができる。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１２と同様の方法により、行うことができる。
工程３６：
本工程は、式（Ｊ）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下で、式（Ｋ）で表される化合物と反応させることにより、式（Ｌ）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＶ）の工程１３と同様の方法により、行うことができる。
工程３７：
本工程は、式（Ｌ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、式（Ｏ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｌ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
工程３８：
本工程は、式（Ｏ）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（Ｐ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｏ）で表される化合物は、好適には、活性エステルへ誘導することにより、式（１１）で表される化合物と縮合することができる。
工程３９：
本工程は、式（Ｐ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（２５）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｐ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基の脱保護は、当業者に周知の方法で行うことができる（例えば、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition (2007), Wiley-Interscience等を参照）。
工程４０：
本工程は、式（２５）で表される化合物と、式（Ｎ）で表される化合物を縮合することにより、式（Ｇ）で表される化合物へ変換する工程である。
式（Ｎ）で表される化合物は、好適には、活性エステルへ誘導することにより、式（２５）で表される化合物と縮合することができる。
工程４１：
本工程は、式（Ｇ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、式（１６）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＩＩ）の工程１０と同様の方法により、行うことができる。
工程４２：
本工程は、式（１６）で表される化合物と、式（Ｃ）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程である。本工程は、製造方法（ＩＩＩ）の工程１１と同様の方法により、行うことができる。
［抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される抗体］
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される抗体は、いずれの種に由来してもよいが、好適には、ヒト、ラット、マウス、及びウサギに由来する抗体である。抗体がヒト以外の種に由来する場合は、周知の技術を用いて、キメラ化又はヒト化することが好ましい。本発明の抗体は、ポリクローナル抗体であっても、モノクローナル抗体であってもよいが、モノクローナル抗体が好ましい。
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される抗体は、好適にはがん細胞を標的にできる性質を有するものであり、がん細胞を認識できる特性、がん細胞に結合できる特性、がん細胞内に取り込まれて内在化する特性、及び／又はがん細胞に対する殺細胞活性等を備えているものが好ましい。
抗体のがん細胞への結合性は、フローサイトメトリーを用いて確認できる。がん細胞内への抗体の取り込みは、（１）治療抗体に結合する二次抗体（蛍光標識）を用いて細胞内に取り込まれた抗体を蛍光顕微鏡で可視化するアッセイ（Cell Death and Differentiation (2008) 15, 751-761）、（２）治療抗体に結合する二次抗体（蛍光標識）を用いて細胞内に取り込まれた蛍光量を測定するアッセイ（Molecular Biology of the Cell Vol. 15, 5268-5282, December 2004）、又は（３）治療抗体に結合するイムノトキシンを用いて、細胞内に取り込まれると毒素が放出されて細胞増殖が抑制されるというＭａｂ－ＺＡＰアッセイ（Bio Techniques 28:162-165, January 2000）を用いて確認できる。イムノトキシンとしては、ジフテテリア毒素の触媒領域とプロテインＧとのリコンビナント複合蛋白質も使用可能である。
抗体の抗腫瘍活性は、ｉｎ ｖｉｔｒｏでは、細胞の増殖の抑制活性を測定することで確認できる。例えば、抗体の標的蛋白質を過剰発現しているがん細胞株を培養し、培養系に種々の濃度で抗体を添加し、フォーカス形成、コロニー形成及びスフェロイド増殖に対する抑制活性を測定することができる。ｉｎ ｖｉｖｏでは、例えば、標的蛋白質を高発現しているがん細胞株を移植したヌードマウスに抗体を投与し、がん細胞の変化を測定することによって、抗腫瘍活性を確認できる。
抗体自体が抗腫瘍効果を有することは、好ましいが、抗体－薬物コンジュゲートは抗腫瘍効果を発揮する化合物を結合させてあるので、抗体自体の抗腫瘍効果は必須ではない。抗腫瘍性化合物の細胞障害性をがん細胞において特異的・選択的に発揮させる目的からは、抗体が内在化してがん細胞内に移行する性質のあることが重要であり、好ましい。
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される抗体は、公知の手段によって取得することができる。例えば、この分野で通常実施される方法を用いて、抗原となるポリペプチドを動物に免疫し、生体内に産生される抗体を採取、精製することによって得ることができる。抗原の由来はヒトに限定されず、マウス、ラット等のヒト以外の動物に由来する抗原を動物に免疫することもできる。この場合には、取得された異種抗原に結合する抗体とヒト抗原との交差性を試験することによって、ヒトの疾患に適用可能な抗体を選別できる。
また、公知の方法（例えば、Kohler and Milstein, Nature (1975) 256, p.495-497;Kennet, R. ed., Monoclonal Antibodies, p.365-367, Plenum Press, N.Y.(1980)）に従って、抗原に対する抗体を産生する抗体産生細胞とミエローマ細胞とを融合させることによってハイブリドーマを樹立し、モノクローナル抗体を得ることもできる。
なお、抗原は抗原蛋白質をコードする遺伝子を遺伝子操作によって宿主細胞に産生させることによって得ることができる。具体的には、抗原遺伝子を発現可能なベクターを作製し、これを宿主細胞に導入して該遺伝子を発現させ、発現した抗原を精製すればよい。上記の遺伝子操作による抗原発現細胞、或は抗原を発現している細胞株、を動物に免疫する方法を用いることによっても抗体を取得できる。
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される抗体は、ヒトに対する異種抗原性を低下させること等を目的として人為的に改変した遺伝子組換え型抗体、例えば、キメラ（Ｃｈｉｍｅｒｉｃ）抗体、ヒト化（Ｈｕｍａｎｉｚｅｄ）抗体であることが好ましく、又はヒト由来の抗体の遺伝子配列のみを有する抗体、すなわちヒト抗体であることが好ましい。これらの抗体は、既知の方法を用いて製造することができる。
キメラ抗体としては、抗体の可変領域と定常領域が互いに異種である抗体、例えばマウス又はラット由来抗体の可変領域をヒト由来の定常領域に接合したキメラ抗体を挙げることができる（Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A., 81, 6851-6855,(1984)）。
ヒト化抗体としては、異種抗体の相補性決定領域（ＣＤＲ；ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｉｔｙ ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ ｒｅｇｉｏｎ）のみをヒト由来の抗体に組み込んだ抗体（Nature(1986) 321, p.522-525）、ＣＤＲ移植法によって、異種抗体のＣＤＲの配列に加えて、異種抗体の一部のフレームワークのアミノ酸残基もヒト抗体に移植した抗体（国際公開第９０／０７８６１号）、遺伝子変換突然変異誘発（ｇｅｎｅ ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ ｍｕｔａｇｅｎｅｓｉｓ）ストラテジーを用いてヒト化した抗体（米国特許第５８２１３３７号）を挙げることができる。
ヒト抗体としては、ヒト抗体の重鎖と軽鎖の遺伝子を含むヒト染色体断片を有するヒト抗体産生マウスを用いて作成した抗体（Tomizuka, K. et al., Nature Genetics(1997) 16, p.133-143;Kuroiwa, Y. et. al., Nucl. Acids Res.(1998) 26, p.3447-3448;Yoshida, H. et. al., Animal Cell Technology:Basic and Applied Aspects vol.10, p.69-73(Kitagawa, Y., Matsuda, T. and Iijima, S. eds.), Kluwer Academic Publishers, 1999;Tomizuka, K. et. al., Proc. Natl. Acad. Sci. USA(2000) 97, p.722-727等を参照。）を挙げることができる。或いは、ヒト抗体ライブラリーより選別したファージディスプレイにより取得した抗体（Wormstone, I. M. et. al, Investigative Ophthalmology & Visual Science. (2002)43 (7), p.2301-2308;Carmen, S. et. al., Briefings in Functional Genomics and Proteomics(2002), 1(2), p.189-203;Siriwardena, D. et. al., Ophthalmology(2002) 109(3), p.427-431等参照。）も挙げることができる。
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用される抗体には、抗体の修飾体も含まれる。当該修飾体とは、本発明に係る抗体に化学的又は生物学的な修飾が施されてなるものを意味する。化学的な修飾体には、アミノ酸骨格への化学部分の結合、Ｎ－結合又はＯ－結合炭水化物鎖への化学部分の結合を有する化学修飾体等が含まれる。生物学的な修飾体には、翻訳後修飾（例えば、Ｎ－結合又はＯ－結合型糖鎖の付加、Ｎ末端又はＣ末端のプロセッシング、脱アミド化、アスパラギン酸の異性化、メチオニンの酸化等）されたもの、原核生物宿主細胞を用いて発現させることによってＮ末にメチオニン残基が付加されたもの等が含まれる。また、本発明に係る抗体又は抗原の検出又は単離を可能にするために標識されたもの、例えば、酵素標識体、蛍光標識体、アフィニティ標識体もかかる修飾体の意味に含まれる。この様な本発明に係る抗体の修飾体は、抗体の安定性及び血中滞留性の改善、抗原性の低減、抗体又は抗原の検出又は単離等に有用である。
また、本発明に係る抗体に結合している糖鎖修飾を調節すること（グリコシル化、脱フコース化等）によって、抗体依存性細胞傷害活性を増強することが可能である。抗体の糖鎖修飾の調節技術としては、国際公開第９９／５４３４２号、国際公開第００／６１７３９号、国際公開第０２／３１１４０号等が知られているが、これらに限定されるものではない。本発明に係る抗体には当該糖鎖修飾が調節された抗体も含まれる。
なお、哺乳類培養細胞で生産される抗体では、その重鎖のカルボキシル末端のリシン残基が欠失することが知られており（Journal of Chromatography A, 705: 129-134(1995)）、また、同じく重鎖カルボキシル末端のグリシン、リシンの２アミノ酸残基が欠失し、新たにカルボキシル末端に位置するプロリン残基がアミド化されることが知られている（Analytical Biochemistry, 360: 75-83(2007)）。しかし、これらの重鎖配列の欠失及び修飾は、抗体の抗原結合能及びエフェクター機能（補体の活性化や抗体依存性細胞障害作用等）には影響を及ぼさない。したがって、本発明に係る抗体には、当該修飾を受けた抗体及び当該抗体の機能性断片も含まれ、重鎖カルボキシル末端において１又は２のアミノ酸が欠失した欠失体、及びアミド化された当該欠失体（例えば、カルボキシル末端部位のプロリン残基がアミド化された重鎖）等も包含される。但し、抗原結合能及びエフェクター機能が保たれている限り、本発明に係る抗体の重鎖のカルボキシル末端の欠失体は上記の種類に限定されない。本発明に係る抗体を構成する２本の重鎖は、完全長及び上記の欠失体からなる群から選択される重鎖のいずれか一種であってもよいし、いずれか二種を組み合わせたものであってもよい。各欠失体の量比は本発明に係る抗体を産生する哺乳類培養細胞の種類及び培養条件に影響を受け得るが、本発明に係る抗体は、好ましくは２本の重鎖の双方でカルボキシル末端のひとつのアミノ酸残基が欠失しているものを挙げることができる。
本発明に係る抗体のアイソタイプとしては、例えばＩｇＧ（ＩｇＧ１、ＩｇＧ２、ＩｇＧ３、ＩｇＧ４）等を挙げることができるが、好ましくはＩｇＧ１又はＩｇＧ２を挙げることができる。
本発明の抗体－薬物コンジュゲートの製造に使用できる抗体は、特に制限はないが、例えば、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＨＥＲ３抗体、抗ＴＲＯＰ２抗体、抗Ｂ７－Ｈ３抗体、抗ＣＤ３抗体、抗ＣＤ３０抗体、抗ＣＤ３３抗体、抗ＣＤ３７抗体、抗ＣＤ５６抗体、抗ＣＤ９８抗体、抗ＤＲ５抗体、抗ＥＧＦＲ抗体、抗ＥＰＨＡ２抗体、抗ＦＧＦＲ２抗体、抗ＦＧＦＲ４抗体、抗ＦＯＬＲ１抗体、抗ＶＥＧＦ抗体、及び抗ＧＰＲ２０抗体を挙げることができ、好適には、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＨＥＲ３抗体、抗ＴＲＯＰ２抗体、抗Ｂ７－Ｈ３抗体、及び抗ＧＰＲ２０抗体を挙げることができる。
本発明において、「抗ＨＥＲ２抗体」とは、ＨＥＲ２（Ｈｕｍａｎ Ｅｐｉｄｅｒｍａｌ Ｇｒｏｗｔｈ Ｆａｃｔｏｒ Ｒｅｃｅｐｔｏｒ Ｔｙｐｅ ２； ＥｒｂＢ－２）に特異的に結合し、好ましくは、ＨＥＲ２と結合することによってＨＥＲ２発現細胞に内在化する活性を有する抗体を示す。
抗ＨＥＲ２抗体としては、例えば、トラスツズマブ（ｔｒａｓｔｕｚｕｍａｂ）（米国特許第５８２１３３７号）、及び、ペルツズマブ（ｐｅｒｔｕｚｕｍａｂ）（国際公開第０１／００２４５号）を挙げることができ、好適にはトラスツズマブを挙げることができる。
本発明において、「トラスツズマブ」は、配列番号１（図１）においてアミノ酸番号１乃至４４９に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号２（図２）においてアミノ酸番号１乃至２１４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなるヒト化抗ＨＥＲ２モノクローナル抗体である。
本発明において、「抗ＨＥＲ３抗体」とは、ＨＥＲ３（Ｈｕｍａｎ Ｅｐｉｄｅｒｍａｌ Ｇｒｏｗｔｈ Ｆａｃｔｏｒ Ｒｅｃｅｐｔｏｒ Ｔｙｐｅ ３； ＥｒｂＢ－３）に特異的に結合し、好適には、ＨＥＲ３発現細胞表面上のＨＥＲ３と結合して該ＨＥＲ３発現細胞に内在化する活性を有する抗体を示す。
抗ＨＥＲ３抗体としては、例えば、パトリツマブ（ｐａｔｒｉｔｕｍａｂ； Ｕ３－１２８７）、Ｕ１－５９（国際公開第２００７／０７７０２８号）、ＭＭ－１２１（ｓｅｒｉｂａｎｔｕｍａｂ）、国際公開２００８／１００６２４号記載の抗ＥＲＢＢ３抗体、ＲＧ－７１１６（ｌｕｍｒｅｔｕｚｕｍａｂ）、及びＬＪＭ－７１６（ｅｌｇｅｍｔｕｍａｂ）を挙げることができ、好適には、パトリツマブ、及びＵ１－５９を挙げることができる。
本発明において、「抗ＴＲＯＰ２抗体」とは、ＴＲＯＰ２（ＴＡＣＳＴＤ２：Ｔｕｍｏｒ－ａｓｓｏｃｉａｔｅｄ ｃａｌｃｉｕｍ ｓｉｇｎａｌ ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ ２； ＥＧＰ－１）に特異的に結合し、好ましくは、ＴＲＯＰ２と結合することによってＴＲＯＰ２発現細胞に内在化する活性を有する抗体を示す。
抗ＴＲＯＰ２抗体としては、例えば、ｈＴＩＮＡ１－Ｈ１Ｌ１（国際公開第２０１５／０９８０９９号）を挙げることができる。
本発明において、「抗Ｂ７－Ｈ３抗体」とは、Ｂ７－Ｈ３（Ｂ ｃｅｌｌ ａｎｔｉｇｅｎ ＃７ ｈｏｍｏｌｏｇ ３； ＰＤ－Ｌ３； ＣＤ２７６）に特異的に結合し、好ましくは、Ｂ７－Ｈ３と結合することによってＢ７－Ｈ３発現細胞に内在化する活性を有する抗体を示す。
抗Ｂ７－Ｈ３抗体としては、例えば、Ｍ３０－Ｈ１－Ｌ４（国際公開第２０１４／０５７６８７号）を挙げることができる。
本発明において、「抗ＧＰＲ２０抗体」とは、ＧＰＲ２０（Ｇ Ｐｒｏｔｅｉｎ－ｃｏｕｐｌｅｄ ｒｅｃｅｐｔｏｒ ２０）に特異的に結合し、好ましくは、ＧＰＲ２０と結合することによってＧＰＲ２０発現細胞に内在化する活性を有する抗体を示す。
抗ＧＰＲ２０抗体としては、例えば、ｈ０４６－Ｈ４ｅ／Ｌ７（国際公開第２０１８／１３５５０１号）を挙げることができる。
［抗体と薬物リンカー中間体のコンジュゲーション］
本発明の抗体－薬物コンジュゲートは、式（１）で表される化合物と、チオール基（又はスルフヒドリル基とも言う）を有する抗体を反応させることによって製造することができる。
本発明の式（１）で表される化合物の結晶は、好適には、溶媒に溶解し、式（１）で表される化合物を含む溶液とした後、反応に用いることができる。本工程に用いられる溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定はされないが、好適には、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンを含む溶媒を用いることができ、より好適には、ジメチルスルホキシドを含む溶媒を用いることができる。
スルフヒドリル基を有する抗体は、当業者周知の方法で得ることができる（Hermanson, G. T, Bioconjugate Techniques, pp.56-136, pp.456-493, Academic Press(1996)）。例えば、トリス（２－カルボキシエチル）ホスフィン塩酸塩（ＴＣＥＰ）等の還元剤を、抗体内鎖間ジスルフィド１個当たりに対して０．３乃至３モル当量用い、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）等のキレート剤を含む緩衝液中で、抗体と反応させることで、抗体内鎖間ジスルフィドが部分的若しくは完全に還元されたスルフヒドリル基を有する抗体を得ることができる。
さらに、スルフヒドリル基を有する抗体１個あたり、２乃至２０モル当量の式（１）で表される化合物を使用して、抗体１個当たり２個乃至８個の薬物が結合した抗体―薬物コンジュゲートを製造することができる。
製造した抗体－薬物コンジュゲートの抗体一分子あたりの平均薬物結合数の算出は、例えば、２８０ｎｍ及び３７０ｎｍの二波長における抗体－薬物コンジュゲートとそのコンジュゲーション前駆体のＵＶ吸光度を測定することにより算出する方法（ＵＶ法）や、抗体－薬物コンジュゲートを還元剤で処理し得られた各フラグメントをＨＰＬＣ測定により定量し算出する方法（ＨＰＬＣ法）により行うことができる。
抗体と薬物リンカー中間体（式（１）で表される化合物）のコンジュゲーション、及び抗体－薬物コンジュゲートの抗体一分子あたりの平均薬物結合数の算出は、国際公開第２０１４／０５７６８７号、国際公開第２０１５／０９８０９９号、国際公開第２０１５／１１５０９１号、国際公開第２０１５／１５５９９８号、及び国際公開第２０１８／１３５５０１号等の記載を参考に実施することができる。
本発明において、「抗ＨＥＲ２抗体－薬物コンジュゲート」とは、抗体－薬物コンジュゲートにおける抗体が抗ＨＥＲ２抗体である抗体－薬物コンジュゲートを示す。
抗ＨＥＲ２抗体は、好適には、配列番号１においてアミノ酸番号１乃至４４９に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号２においてアミノ酸番号１乃至２１４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、配列番号１に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号２に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体である。
本発明によって製造される抗ＨＥＲ２抗体－薬物コンジュゲートの１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数は、好適には２から８であり、より好適には３から８であり、更により好適には７から８であり、更により好適には７．５から８であり、更により好適には約８である。
該抗ＨＥＲ２抗体－薬物コンジュゲートは、本発明の製造方法により製造した式（１）で表される化合物の結晶を用いて、国際公開第２０１５／１１５０９１号等の記載を参考に製造することができる。
本発明において、「抗ＨＥＲ３抗体－薬物コンジュゲート」とは、抗体－薬物コンジュゲートにおける抗体が抗ＨＥＲ３抗体である抗体－薬物コンジュゲートを示す。
抗ＨＥＲ３抗体は、好適には、配列番号３に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である。
本発明によって製造される抗ＨＥＲ３抗体－薬物コンジュゲートの１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数は、好適には２から８であり、より好適には３から８であり、更により好適には７から８であり、更により好適には７．５から８であり、更により好適には約８である。
該抗ＨＥＲ３抗体－薬物コンジュゲートは、本発明の製造方法により製造した式（１）で表される化合物の結晶を用いて、国際公開第２０１５／１５５９９８号等の記載を参考に製造することができる。
本発明において、「抗ＴＲＯＰ２抗体－薬物コンジュゲート」とは、抗体－薬物コンジュゲートにおける抗体が抗ＴＲＯＰ２抗体である抗体－薬物コンジュゲートを示す。
抗ＴＲＯＰ２抗体は、好適には、配列番号５においてアミノ酸番号２０乃至４７０に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号６においてアミノ酸番号２１乃至２３４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である。
本発明によって製造される抗ＴＲＯＰ２抗体－薬物コンジュゲートの１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数は、好適には２から８であり、より好適には３から５であり、更により好適には３．５から４．５であり、更により好適には約４である。
該抗ＴＲＯＰ２抗体－薬物コンジュゲートは、本発明の製造方法により製造した式（１）で表される化合物の結晶を用いて、国際公開第２０１５／０９８０９９号等の記載を参考に製造することができる。
本発明において、「抗Ｂ７－Ｈ３抗体－薬物コンジュゲート」とは、抗体－薬物コンジュゲートにおける抗体が抗Ｂ７－Ｈ３抗体である抗体－薬物コンジュゲートを示す。
抗Ｂ７－Ｈ３抗体は、好適には、配列番号７においてアミノ酸番号２０乃至４７１に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号８においてアミノ酸番号２１乃至２３３に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である。
本発明によって製造される抗Ｂ７－Ｈ３抗体－薬物コンジュゲートの１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数は、好適には２から８であり、より好適には３から５であり、更により好適には３．５から４．５であり、更により好適には約４である。
該抗Ｂ７－Ｈ３抗体－薬物コンジュゲートは、本発明の製造方法により製造した式（１）で表される化合物の結晶を用いて、国際公開第２０１４／０５７６８７号等の記載を参考に製造することができる。
本発明において、「抗ＧＰＲ２０抗体－薬物コンジュゲート」とは、抗体－薬物コンジュゲートにおける抗体が抗ＧＰＲ２０抗体である抗体－薬物コンジュゲートを示す。
抗ＧＰＲ２０抗体は、好適には、配列番号９においてアミノ酸番号２０乃至４７２に記載のアミノ酸配列からなる重鎖及び配列番号１０においてアミノ酸番号２１乃至２３４に記載のアミノ酸配列からなる軽鎖を含んでなる抗体、又は、該抗体の重鎖カルボキシル末端のリシン残基が欠失している抗体である。
本発明によって製造される抗ＧＰＲ２０抗体－薬物コンジュゲートの１抗体あたりの薬物リンカーの平均結合数は、好適には２から８であり、より好適には３から８であり、更により好適には７から８であり、更により好適には７．５から８であり、更により好適には約８である。
該抗ＧＰＲ２０抗体－薬物コンジュゲートは、本発明の製造方法により製造した式（１）で表される化合物の結晶を用いて、国際公開第２０１８／１３５５０１号等の記載を参考に製造することができる。
［医薬組成物］
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートは、１種以上の薬学的に適合性の成分を含み投与され得る。薬学的に適合性の成分は、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートの投与量や投与濃度等に応じて、この分野において通常使用される製剤添加物その他から適宜選択して適用することができる。例えば、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートは、ヒスチジン緩衝剤等の緩衝剤、スクロース又はトレハロース等の賦形剤、並びにポリソルベート８０又はポリソルベート２０等の界面活性剤を含む医薬組成物として投与され得る。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、患者に対しては全身療法として適用する他、がん組織に局所的に適用して治療効果を期待することができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、哺乳動物に対して好適に使用することができるが、より好適にはヒトに対して使用することができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、好適には、注射剤として使用することができ、より好適には、水性注射剤又は凍結乾燥注射剤として使用することができ、更により好適には、凍結乾燥注射剤として使用することができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物が水性注射剤である場合、好適には、適切な希釈液で希釈した後、静脈内に点滴投与することができる。希釈液としては、ブドウ糖溶液（好適には５％ブドウ糖溶液）や、生理食塩液、等を挙げることができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物が凍結乾燥注射剤である場合、好適には、注射用水により溶解した後、必要量を適切な希釈液で希釈した後、静脈内に点滴投与することができる。希釈液としては、ブドウ糖溶液（好適には５％ブドウ糖溶液）や、生理食塩液等を挙げることができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物を投与するために使用され得る導入経路としては、例えば、静脈内、皮内、皮下、筋肉内、及び腹腔内の経路を挙げることができ、好適には、静脈内の経路を挙げることができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートは、ヒトに対して、１～１８０日間に１回の間隔で投与することができ、好適には、１週、２週、３週、又は４週に１回の間隔で投与することができ、さらにより好適には、３週に１回の間隔で投与することができる。また、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートは、１回あたり約０．００１～１００ｍｇ／ｋｇの投与量で投与することができ、好適には、１回あたり０．８～１２．４ｍｇ／ｋｇの投与量で投与することができる。本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートが抗ＨＥＲ２抗体－薬物コンジュゲートである場合、好適には、１回あたり５．４、６．４、又は７．４ｍｇ／ｋｇの投与量で投与することができ、更により好適には、１回あたり５．４ｍｇ／ｋｇ又は６．４ｍｇ／ｋｇの投与量で投与することができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、がんの治療のために使用することができ、好適には、乳がん、胃がん（胃腺がんと呼ぶこともある）、大腸がん（結腸直腸がんと呼ぶこともあり、結腸がん及び直腸がんを含む）、肺がん（小細胞肺がん及び非小細胞肺がんを含む）、食道がん、唾液腺がん、胃食道接合部腺がん、胆管がん、ページェット病、膵臓がん、卵巣がん、子宮がん肉腫、尿路上皮がん、前立腺がん、膀胱がん、胃腸間質腫瘍、消化管間質腫瘍、子宮頸がん、扁平上皮がん、腹膜がん、肝臓がん、肝細胞がん、結腸がん、直腸がん、子宮内膜がん、子宮がん、腎臓がん、外陰部がん、甲状腺がん、陰茎がん、白血病、悪性リンパ腫、形質細胞腫、骨髄腫、神経上皮組織性腫瘍、神経鞘性腫瘍、頭頸部がん、皮膚がん、咽頭がん、胆のうがん、胆管がん、中皮腫、及び肉腫からなる群より選択される少なくとも一つのがんの治療のために使用することができ、例えば、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートが抗ＨＥＲ２抗体－薬物コンジュゲートである場合、より好適には、乳がん、胃がん、大腸がん、非小細胞肺がん、食道がん、唾液腺がん、胃食道接合部腺がん、胆管がん、ページェット病、膵臓がん、卵巣がん、及び子宮がん肉腫からなる群より選択される少なくとも一つのがんの治療のために使用することができ、より好適には、乳がん、胃がん、大腸がん、非小細胞肺がん、食道がん、唾液腺がん、胃食道接合部腺がん、胆管がん、及びページェット病からなる群より選択される少なくとも一つのがんの治療のために使用することができ、さらにより好適には、乳がん、胃がん、大腸がん、又は非小細胞肺がんの治療のために使用することができる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、がん治療の主要な治療法である薬物療法のための薬剤として選択して使用することができ、その結果として、がん細胞の成長を遅らせ、増殖を抑え、さらにはがん細胞を破壊することができる。これらの作用によって、がん患者において、がんによる症状からの解放や、ＱＯＬの改善を達成でき、がん患者の生命を保って治療効果が達成される。がん細胞の破壊には至らない場合であっても、がん細胞の増殖の抑制やコントロールによってがん患者においてより高いＱＯＬを達成しつつより長期の生存を達成させることができる。
このような薬物療法においての薬物単独での使用の他、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、アジュバント療法において他の療法と組み合わせて使用することもでき、外科手術や、放射線療法、ホルモン療法等と組み合わせることができる。さらにはネオアジュバント療法における薬物療法として使用することもできる。
以上のような治療的使用の他、本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、微細な転移がん細胞の増殖を押さえ、さらには破壊するといった予防効果も期待することができる。例えば、転移過程で体液中にあるがん細胞を抑制し破壊する効果や、いずれかの組織に着床した直後の微細ながん細胞に対する抑制、破壊等の効果が期待できる。したがって、特に外科的ながんの除去後においてのがん転移の抑制、予防効果が期待できる。
本発明によって製造される抗体－薬物コンジュゲートを含む医薬組成物は、他のがん治療剤と併用して投与することもでき、これによって抗腫瘍効果を増強させることができる。この様な目的で使用される他のがん治療剤として、５－フルオロウラシル（５－ＦＵ）、ペルツズマブ（Ｐｅｒｔｕｚｕｍａｂ）、トラスツズマブ（Ｔｒａｓｔｕｚｕｍａｂ）、パクリタキセル（Ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）、カルボプラチン（Ｃａｒｂｏｐｌａｔｉｎ）、シスプラチン（Ｃｉｓｐｌａｔｉｎ）、ゲムシタビン（Ｇｅｍｃｉｔａｂｉｎｅ）、カペシタビン（Ｃａｐｅｃｉｔａｂｉｎｅ）、イリノテカン（Ｉｒｉｎｏｔｅｃａｎ）（ＣＰＴ－１１）、ドセタキセル（Ｄｏｃｅｔａｘｅｌ）、ペメトレキセド（Ｐｅｍｅｔｒｅｘｅｄ）、ソラフェニブ（Ｓｏｒａｆｅｎｉｂ）、ビンブラスチン（Ｖｉｎｂｌａｓｔｉｎ）、ビノレルビン（Ｖｉｎｏｒｅｌｂｉｎｅ）、エベロリムス（Ｅｖｅｒｏｌｉｍｓ）、タネスピマイシン（Ｔａｎｅｓｐｉｍｙｃｉｎ）、ベバシズマブ（Ｂｅｖａｃｉｚｕｍａｂ）、オキサリプラチン（Ｏｘａｌｉｐｌａｔｉｎ）、ラパチニブ（Ｌａｐａｔｉｎｉｂ）、トラスツズマブエムタンシン（Ｔｒａｓｔｕｚｕｍａｂ ｅｍｔａｎｓｉｎｅ）（Ｔ－ＤＭ１）及び国際公開第２００３／０３８０４３号に記載の薬剤、更にＬＨ－ＲＨアナログ（リュープロレリン（Ｌｅｕｐｒｏｒｅｌｉｎ）、ゴセレリン（Ｇｏｓｅｒｅｌｉｎ）等）、エストラムスチン・フォスフェイト（Ｅｓｔｒａｍｕｓｔｉｎｅ Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）、エストロジェン拮抗薬（タモキシフェン（Ｔａｍｏｘｉｆｅｎ）、ラロキシフェン（Ｒａｌｏｘｉｆｅｎｅ）等）、アロマターゼ阻害剤（アナストロゾール（Ａｎａｓｔｒｏｚｏｌｅ）、レトロゾール（Ｌｅｔｒｏｚｏｌｅ）、及びエキセメスタン（Ｅｘｅｍｅｓｔａｎｅ）等）等を挙げることができるが、抗腫瘍活性を有する薬剤であれば限定されることはない。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
実施例中の「１Ｈ－ＮＭＲ」及び「１３Ｃ－ＮＭＲ」は、「核磁気共鳴スペクトル」を意味し、括弧内のＣＤＣｌ３は測定溶媒である重クロロホルムを意味し、ＤＭＳＯ－ｄ６は測定溶媒である重ジメチルスルホキシドを意味し、Ｄ２Ｏは測定溶媒である重水を意味し、ＭｅＯＨ－ｄ４は測定溶媒である重メタノールを意味する。内部標準物質としてＴＭＳ（テトラメチルシラン）を用いた。１Ｈ－ＮＭＲにおける多重度は、ｓ＝ｓｉｎｇｌｅｔ、ｄ＝ｄｏｕｂｌｅｔ、ｔ＝ｔｒｉｐｌｅｔ、ｑ＝ｑｕａｒｔｅｔ、、ｍ＝ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ、及びｂｒｓ＝ｂｒｏａｄ ｓｉｎｇｌｅｔを意味する。
（実施例１）
２，５－ジオキソピロリジン－１－イル Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシナート
Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシン（２００．００ｇ，０．７５１ｍｏｌ）のアセトニトリル（２．０Ｌ）混合物に、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド（９５．１０ｇ，０．８２６ｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３―エチルカルボジイミド塩酸塩（１７２．８０ｇ，０．９０１ｍｏｌ）を加え、室温で約４時間撹拌した。反応液を１℃まで冷却し、約３時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末をアセトニトリル（４００ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、２，５－ジオキソピロリジン－１－イル Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシナート（２２１．６ｇ，０．６１０ｍｏｌ，収率８１．２％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２．８１（４Ｈ，ｓ），δ３．６９（２Ｈ，ｄ，６．７Ｈｚ），δ４．２８（２Ｈ，ｄ，６．１Ｈｚ），δ５．０４（２Ｈ，ｓ），δ７．２９－７．３９（５Ｈ，ｍ），δ７．５６（１Ｈ，ｔ，６．４Ｈｚ），δ８．５５（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２５．４，３８．２，４３．３，６５．６，１２７．７，１２７．８，１２８．３，１３７．０，１５６．５，１６６．３，１７０．０，１７０．０．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：３６４（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例２）
Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニン
Ｌ－フェニルアラニン（８０．０ｇ，０．４８７ｍｏｌ）のアセトニトリル（４００ｍＬ）、水（４００ｍＬ）の混合物に、トリエチルアミン（７４．７ｍＬ，０．５３６ｍｏｌ）、２，５－ジオキソピロリジン－１－イル Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシナート（２１２．４ｇ，０．５８５ｍｏｌ）を加え、室温で約２時間撹拌した。反応液に水（８００ｍＬ）、濃塩酸（４０．６ｍＬ）を加えた後、Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニン（８０ｍｇ）を加え、室温で約６時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を水（１６０ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニン（１５７．２ｇ，０．３８０ｍｏｌ，収率７８．０％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２．８６－２．９１（１Ｈ，ｍ），δ３．０３－３．０８（１Ｈ，ｍ），δ３．６４－３．７８（４Ｈ，ｍ），δ４．４１－４．４７（１Ｈ，ｍ），δ５．０４（２Ｈ，ｓ），δ７．１８－７．４０（１０Ｈ，ｍ），δ７．５０（１Ｈ，ｔ，６．１Ｈｚ），δ８．０５（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ），δ８．１７（１Ｈ，ｄ，７．９Ｈｚ），δ１２．７７（１Ｈ，ｓ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ３６．８，４１．６，４３．５，５３．５，６５．５，１２６．５，１２７．７，１２７．８，１２８．２，１２８．３，１２９．１，１３７．０，１３７．４，１５６．５，１６８．６，１６９．３，１７２．７．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：４１２（［Ｍ－Ｈ］－）．
（実施例３）
（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メチルアセテート

Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシン（６５０．０ｇ，１．８３４ｍｏｌ）にテトラヒドロフラン（９．７５Ｌ）、酢酸（１．９５Ｌ）を加え、４０℃に加温し溶解させた。四酢酸鉛（１３０１．３ｇ，２．９３５ｍｏｌ）を加え、約１．５時間還流した。室温に冷却し、不溶物を濾去し、濾別した不溶物を酢酸エチル（３．２５Ｌ）で洗浄し、濾液と合致した。得られた溶液に２０（ｗ／ｖ）％クエン酸三ナトリウム二水和物水溶液（３．２５Ｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。得られた有機層を２０（ｗ／ｖ）％クエン酸三ナトリウム二水和物水溶液（３．２５Ｌ）で２回洗浄し、その後有機層を６．５Ｌまで減圧濃縮した。水（１．９５Ｌ）を加えた後、（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メチルアセテート（０．６５ｇ）を添加し、室温で約１時間撹拌した。水（６．５Ｌ）を滴下し、０～５℃に冷却して約３時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を冷３０（ｖ／ｖ）％テトラヒドロフラン水溶液（２．６Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メチルアセテート（６１７．１ｇ，１．６７５ｍｏｌ，収率９１．３％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ２．０６（３Ｈ，ｓ），δ３．９０（２Ｈ，ｄ，４．９Ｈｚ），δ４．２３（１Ｈ，ｔ，６．７Ｈｚ），δ４．４５（２Ｈ，ｄ，６．７Ｈｚ），δ５．２５（２Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），δ５．３９（１Ｈ，ｂｒｓ），δ７．０５（１Ｈ，ｂｒｓ），δ７．３０－７．３４（２Ｈ，ｍ），δ７．４１（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ７．５９（２Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），δ７．７７（２Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ２０．８，４４．４，４７．０，６３．９，６７．２，１２０．０，１２５．０，１２７．１，１２７．７，１４１．３，１４３．６，１５６．６，１６９．８，１７１．７．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：３６９（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例４）
ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート
（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メチルアセテート（６１０．０ｇ，１．６５６ｍｏｌ）の１，２－ジメトキシエタン（９．１５Ｌ）混合物に、ベンジルグリコレート（４７０ｍＬ，３．３１２ｍｏｌ）を加え、０～５℃に冷却した。１０ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液（１６２．６ｍＬ，１．６２６ｍｏｌ）を加え、約１時間撹拌した。酢酸（４７．４ｍＬ）を加え、１℃で約１時間撹拌した後、水（２．０Ｌ）を滴下し、ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（０．６１ｇ）を添加して０～５℃で約１時間撹拌した。水（４．７Ｌ）を滴下し、０～５℃で約２．５時間攪拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を冷５０（ｖ／ｖ）％１，２－ジメトキシエタン水溶液（２．４４Ｌ）で洗浄した。得られた湿品粉末に１，２－ジメトキシエタン（９．１５Ｌ）を加えて、室温で約３０分間撹拌し溶解させた。水（３．６６Ｌ）を加えた後、ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（０．６１ｇ）を添加し、室温で約１時間撹拌した。水（３．０５Ｌ）を滴下し、室温で約１時間撹拌した。０～５℃に冷却し、約１時間撹拌した後、析出物を濾過し、濾別した粉末を冷５０（ｖ／ｖ）％１，２－ジメトキシエタン水溶液（２．４４Ｌ）で洗浄した。得られた湿品粉末に１，２－ジメトキシエタン（９．０Ｌ）を加えて、室温で約３０分間撹拌し溶解させた。水（３．６Ｌ）を加えた後、ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（０．０１ｇ）を添加し、室温で約１時間撹拌した。水（３．０Ｌ）を滴下し、室温で約１時間撹拌した。０～５℃に冷却し、約１時間撹拌した後、析出物を濾過し、濾別した粉末を冷（ｖ／ｖ）５０％１，２－ジメトキシエタン水溶液（２．４Ｌ）で洗浄した。得られた湿品粉末に１，２－ジメトキシエタン（９．０Ｌ）を加えて、室温で約２０分間撹拌し溶解させた。水（３．６Ｌ）を加えた後、ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（０．１５ｇ）を添加し、室温で約２時間撹拌した。水（３．０Ｌ）を滴下し、室温で約１時間撹拌した。０～５℃に冷却し、約２時間撹拌した後、析出物を濾過し、濾別した粉末を冷５０（ｖ／ｖ）％１，２－ジメトキシエタン水溶液（２．４Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、粗ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテートを得た。得られた粗ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテートにトルエン（１２Ｌ）を加え、７０℃に加熱し、溶解させた。０～５℃まで冷却し、約２時間撹拌した後、析出物を濾過し、濾別した粉末を冷トルエン（２．４Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（５７５．５ｇ，１．２１３ｍｏｌ，収率７３．２％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ３．８２（２Ｈ，ｄ，４．９Ｈｚ），δ４．１９－４．２２（３Ｈ，ｍ），δ４．４５（２Ｈ，ｄ，６．７Ｈｚ），δ４．８３（２Ｈ，ｄ，６．７Ｈｚ），δ５．１５（２Ｈ，ｓ），δ５．３４（１Ｈ，ｂｒｓ），δ６．９５（１Ｈ，ｂｒｓ），δ７．２９－７．３７（７Ｈ，ｍ），δ７．４０（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ７．５８（２Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），δ７．７６（２Ｈ，ｄ，７．９Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ４４．５，４７．１，６６．６，６６．８，６７．１，７０．６，１２０．０，１２４．９，１２７．１，１２７．８，１２８．４，１２８．５，１２８．６，１３５．２，１４１．３，１４３．６，１７０．２，１７０．２，１７０．４．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：４７５（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例５）
グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド
ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（３４０．０ｇ，０．７１７ｍｏｌ）のアセトニトリル（１０．２Ｌ）混合物に、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセン（５３．６ｍＬ，０．３５８ｍｏｌ）を加え、室温で約２時間撹拌した。０～５℃に冷却し、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物（１３２．０ｇ，０．８６２ｍｏｌ）、Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニン（３１１．０ｇ，０．７５２ｍｏｌ）を加えた後、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３―エチルカルボジイミド塩酸塩（１５８．０ｇ，０．８２４ｍｏｌ）を分割添加し、０～５℃で約１時間撹拌した。１０（ｗ／ｖ）％リン酸緩衝液（ｐＨ３，３．４Ｌ）を加え、室温まで加温した。分液して水層を取り除いた後、３．７Ｌまで減圧濃縮した。酢酸エチル（３．４Ｌ）、水（１．７Ｌ）を加え、分液して水層を取り除いた。１０（ｗ／ｖ）％炭酸水素カリウム水溶液（３．４Ｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。１０（ｗ／ｖ）％炭酸水素カリウム水溶液（３．４Ｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。水（３．４Ｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた後、１．５Ｌまで減圧濃縮した。２－メトキシエタノール（３．７４Ｌ）を加え、３．０６Ｌまで減圧濃縮した。２０Ｌオートクレーブへ移し、テトラヒドロフラン（１．３６Ｌ）、水（３．４Ｌ）、５％パラジウム炭素（７２．６ｇ，水分５３．２％）を加え、雰囲気を水素に置換した。室温で約１９時間撹拌した後、雰囲気を窒素に置換し、水（３６０ｍＬ）を加え、室温で約３０分間撹拌した。パラジウム炭素を濾別し、パラジウム炭素を水（１．３６Ｌ）で洗浄し、濾液と合致した。酢酸エチル（０．８５Ｌ）、ｎ－ヘプタン（２．５５Ｌ）を加えて撹拌した後、分液して有機層を取り除き、１．６Ｌまで減圧濃縮した。水（２２１ｍＬ）、２－メトキシエタノール（１２６ｍＬ）を加えた後、グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（０．３４ｇ）を添加し、４０℃に加熱して約１９時間攪拌した。エタノール（３．４Ｌ）を滴下し、室温で約１８時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末をエタノール（１．０２Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（２４３．７ｇ，０．５７６ｍｏｌ，収率８０．３％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）δ３．０３－３．２０（２Ｈ，ｍ），δ３．７９－３．９６（６Ｈ，ｍ），δ３．９７（２Ｈ，ｓ），δ４．６４（１Ｈ，ｔ，７．９Ｈｚ），δ４．６７－４．７５（２Ｈ，ｍ），δ７．２９－７．４２（５Ｈ，ｍ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）δ３７．３，４１．０，４２．７，４３．２，５６．０，６７．３，７０．０，１２７．８，１２９．４，１２９．８，１３６．９，１６８．４，１７１．７，１７２．９，１７４．４，１７８．１．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：４２２（［Ｍ－Ｈ］－）．
（実施例６）
ベンジル［（グリシルアミノ）メトキシ］アセテート １Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－オール

ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（５０．００ｇ，１０５．４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１．５Ｌ）混合物に、１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］－７－ウンデセン（８．０２ｇ，５２．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で約４時間撹拌した。室温で１－ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物（３５．５１ｇ，２３１．９ｍｍｏｌ）を分割添加し、約３０分撹拌した。１℃まで冷却し、約１１時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末をアセトニトリル（２５０ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、ベンジル［（グリシルアミノ）メトキシ］アセテート １Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－オール（３８．９８ｇ，１００．６ｍｏｌ，収率９５．４％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （５００ＭＨｚ，ＭｅＯＨ－ｄ４）δ３．６３－３．６８（２Ｈ，ｂｒｓ），δ４．１９－４．２３（２Ｈ，ｂｒｓ），δ４．７９（２Ｈ，ｓ），δ５．１６－５．２０（２Ｈ，ｂｒｓ），δ７．２５－７．３８（７Ｈ，ｍ），δ７．６４－７．７２（２Ｈ，ｄｄ，１７．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１２５ＭＨｚ，ＭｅＯＨ－ｄ４）δ４１．９，６６．３，６７．６，７１．０，１１２．３，１１８．７，１２５．２４，１２５．２７，１２８．８，１２９．２５，１２９．３０，１２９．５，１３６．９，１４４．４，１６９．５，１７１．８
（実施例７）
Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボキシル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－｛［２－（ベンジルオキシ）－２－オキソエトキシ］メチル｝グリシンアミド

Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニン（１０．９９ｇ，２６．５８ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１２０ｍＬ）、水（２０ｍＬ）の混合物に、ベンジル［（グリシルアミノ）メトキシ］アセテート １Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－オール（１０．００ｇ，２５．８１ｍｍｏｌ）を加え、２℃まで冷却し、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（５．７０ｇ，２９．７３ｍｍｏｌ）を添加し、０～５℃で約３．５時間撹拌した。反応液にエタノール（１００ｍＬ）、水（１５０ｍＬ）を添加し、室温で１４時間攪拌した。水（１３０ｍｌＬ）を分割添加し、２時間攪拌した後、１℃まで冷却し約１時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末をアセトニトリル：水＝１：２（６０ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボキシル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－｛［２－（ベンジルオキシ）－２－オキソエトキシ］メチル｝グリシンアミド（１５．３４ｇ，２３．６８ｍｍｏｌ，収率９１．７％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２．７９（１Ｈ，ｄｄ，１４Ｈｚ，９．２Ｈｚ），δ３．０６（１Ｈ，ｄｄ，１４Ｈｚ，４．５Ｈｚ），δ３．５５－３．８０（６Ｈ，ｍ），δ４．１５（２Ｈ，ｓ），δ４．５１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｈｚ，９．２Ｈｚ，８．６Ｈｚ，４．５Ｈｚ），δ４．６３（２Ｈ，ｄ，６．５Ｈｚ），δ５．０３（２Ｈ，ｓ），δ５．１５（２Ｈ，ｓ），δ７．１５－７．４０（１５Ｈ，ｍ），δ７．１５－７．４０（１５Ｈ，ｍ），δ７．５０（１Ｈ，ｔ，６Ｈｚ），δ８．０２（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ），δ８．１５（１Ｈ，ｄ，８．６Ｈｚ），δ８．３３（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ），δ８．６０（１Ｈ，ｔ，７Ｈｚ）
１３Ｃ－ＮＭＲ （１２５ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ３７．４，４１．９，４２．２，４３．６，５４．２，６４．５，６５．６，６５．７，６９．１，１２６．３，１２７．７７，１２７．８５，１２８．１０，１２８．１４，１２８．２，１２８．４，１２８．５，１２９．２，１３５．８，１３７．０，１３７．９，１５６．６，１６８．９，１６９．５，１６９．９，１７０．２，１７１．５．
（実施例８）
グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド

Ｎ－［（ベンジルオキシ）カルボキシル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－｛［２－（ベンジルオキシ）－２－オキソエトキシ］メチル｝グリシンアミド（１５．０ｇ、２３．１６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３１５ｍＬ）、水（２１０ｍＬ）の混合物に、５％パラジウム炭素（３．３１ｇ，水分５４．７％）を加え、雰囲気を水素に置換した。室温で約２．５時間撹拌した後、雰囲気を窒素に置換し、パラジウム炭素を濾別し、パラジウム炭素を水（６０ｍＬ）で洗浄し、濾液と合致した。濾液を２４０ｍＬまで減圧濃縮した。エタノール（１５０ｍＬ）を加え、１８０ｍＬまで減圧濃縮した。エタノール（１５０ｍＬ）を加え、１３５ｍＬまで減圧濃縮した。エタノール（１５０ｍＬ）を加え、９０ｍＬまで減圧濃縮した。エタノール（３００ｍＬ）加え、１７時間攪拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末をエタノール（７５ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（８．９５ｇ，２１．１４ｍｍｏｌ，収率９１．３％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）δ３．０３－３．２０（２Ｈ，ｍ），δ３．７９－３．９６（６Ｈ，ｍ），δ３．９７（２Ｈ，ｓ），δ４．６４（１Ｈ，ｔ，７．９Ｈｚ），δ４．６７－４．７５（２Ｈ，ｍ），δ７．２９－７．４２（５Ｈ，ｍ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）δ３７．３，４１．０，４２．７，４３．２，５６．０，６７．３，７０．０，１２７．８，１２９．４，１２９．８，１３６．９，１６８．４，１７１．７，１７２．９，１７４．４，１７８．１．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：４２２（［Ｍ－Ｈ］－）．
（実施例９）
６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサン酸
６－アミノヘキサン酸（２．５ｋｇ，１９．１ｍｏｌ）の酢酸（１０Ｌ）溶液に、無水マレイン酸（１．８７ｋｇ，１９．１ｍｏｌ）の酢酸（１０Ｌ）溶液を２５～３０℃下で１時間かけて滴下し、同温で２時間攪拌した。得られたスラリー液に硫酸（０．９３ｋｇ，９．５５ｍｏｌ）を滴下し、１００℃まで昇温後、１６時間攪拌した。反応液を３０℃まで冷却後、７．０Ｌまで減圧濃縮した。０～５℃の冷水（２０Ｌ）に攪拌条件下、得られた濃縮液（約７．０Ｌ）を１時間かけて滴下し、同温で１時間攪拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を冷水（５．０Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサン酸（１．４６ｋｇ，６．９５ｍｏｌ，収率３６．４％）を得た。
得られた６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサン酸 （１．４０ｋｇ，６．６６ｍｏｌ）を酢酸（２．１Ｌ）、精製水（１．４Ｌ）の混合液に２５～３０℃で溶解し、精製水（０．７Ｌ）を加えた後、２０～２５℃に冷却後、２時間攪拌した。得られた懸濁液に精製水（７．０Ｌ）を１時間かけて滴下し、０～５℃に冷却後、１時間攪拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を冷水（２．１Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサン酸（１．２７ｋｇ，６．０２ｍｏｌ，収率９０．４％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ１．１８－１．２４（２Ｈ，ｍ），δ１．４５－１．５２（４Ｈ，ｍ），δ２．１８（２Ｈ，ｔ，７．５Ｈｚ），δ３．３８（２Ｈ，ｔ，７．５Ｈｚ），δ７．０１（２Ｈ，ｓ），δ１１．９８（１Ｈ，ｓ）．
（実施例１０）
１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン
６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサン酸（５．０ｇ，２３．６ｍｍｏｌ）、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド（３．０ｇ，２６．０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５０ｍＬ）混合物に、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３―エチルカルボジイミド塩酸塩（５．４５ｇ，２８．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で約３．５時間撹拌した。水（１００ｍＬ）、トルエン（１００ｍＬ）を加えて撹拌した後、分液して水層を取り除いた。有機層を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、有機層を２５ｍＬまで減圧濃縮した。シリカゲルカートリッジ（ＫＰ－ｓｉｌ １０ｇ）にチャージし、トルエン：アセトン＝９：１（１００ｍＬ）で通液して溶出液を回収し、２５ｍＬまで減圧濃縮した。１－ブタノール（５０ｍＬ）を加えた後、１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン（１０ｍｇ）を添加し、室温で１時間撹拌した。１－ブタノール（５０ｍＬ）を滴下し、－１０℃に冷却して撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を冷１－ブタノール（２０ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン（６．５２ｇ，２１．１ｍｍｏｌ，収率８９．４％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ１．２７－１．３５（２Ｈ，ｍ），δ１．４８－１．５６（２Ｈ，ｍ），δ１．５９－１．６７（２Ｈ，ｍ），δ２．６５（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ２．８１（４Ｈ，ｓ），δ３．３９（２Ｈ，ｔ，７．０Ｈｚ），δ７．００（２Ｈ，ｓ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２３．７，２５．１，２５．４，２７．４，３０．０，３６．８，１３４．４，１６８．９，１７０．２，１７１．１．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：３０９（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例１１）
１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン
６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサン酸（１．１ｋｇ，５．２１ｍｏｌ）、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド（０．７２ｋｇ，６．２５ｍｏｌ）のアセトニトリル（１１Ｌ）混合液を－１５℃まで冷却し、２，６－ルチジン（１．３４ｋｇ，１２．５０ｍｏｌ）を添加した後、塩化チオニル（０．７４ｋｇ，６．２５ｍｏｌ）を－１５℃～－１０℃で１時間かけて滴下した。水（１１Ｌ）、トルエン（１１Ｌ）を加えて撹拌した後、分液して水層を取り除いた。有機層を０－５℃の冷水（１１Ｌ）で２回、０－５℃の２０％食塩水（１１Ｌ）で洗浄し、有機層を５．５Ｌまで減圧濃縮した後、トルエン（５．５Ｌ）を加え、再度５．５Ｌまで減圧濃縮した。トルエンで湿潤させた中性シリカゲル（Ｓｉｌｉｃａｇｅｌ６０Ｎ，３．３ｋｇ）を漏斗に充填し、濃縮液を通液し、トルエン：アセトン＝９：１（２９Ｌ）で洗浄してろ液を得た。得られたろ液を５．５Ｌまで減圧濃縮後、１－ブタノール（８．８Ｌ）を加えた後、２０－２５℃で１６時間攪拌した。１－ブタノール（１３．２Ｌ）を滴下し、－１５℃に冷却して１時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を冷１－ブタノール（４．４Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン（１．４５ｋｇ，４．７２ｍｏｌ，収率９０．５％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ１．２７－１．３５（２Ｈ，ｍ），δ１．４８－１．５６（２Ｈ，ｍ），δ１．５９－１．６７（２Ｈ，ｍ），δ２．６５（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ２．８１（４Ｈ，ｓ），δ３．３９（２Ｈ，ｔ，７．０Ｈｚ），δ７．００（２Ｈ，ｓ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２３．７，２５．１，２５．４，２７．４，３０．０，３６．８，１３４．４，１６８．９，１７０．２，１７１．１．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：３０９（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例１２）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド
１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン（２９１．３ｇ，０．９４５ｍｏｌ）のアセトニトリル（１．８Ｌ）溶液に、グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（２００．０ｇ，０．４７２ｍｏｌ）、水（４．２Ｌ）、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（４８．８ｇ，０．３７８ｍｏｌ）を加え、室温で約９時間撹拌した。酢酸イソプロピル（２．０Ｌ）、無水リン酸二水素ナトリウム（４００．０ｇ）、無水リン酸水素二ナトリウム（２６．０ｇ）を加えて撹拌した後、分液して有機層を取り除いた。テトラヒドロフラン（１．０Ｌ）、酢酸エチル（１．０Ｌ）、無水リン酸二水素ナトリウム（１６０．０ｇ）を加えて撹拌した後、分液して水層を取り除いた。１０（ｗ／ｖ）％リン酸緩衝液（ｐＨ３．４，０．６Ｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた後、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（４．０Ｌ）を加え、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（４．０Ｌ）、アセトニトリル（０．４Ｌ）を加え、１．０Ｌまで減圧濃縮した。アセトニトリル（２０ｍＬ）を加え、溶液の水分測定した結果６．１％（水１８．８ｍＬ相当）であった。水（１９ｍＬ）を加えた後、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（０．２ｇ）を添加し、１，２－ジメトキシエタン（０．８Ｌ）を滴下し、室温で約１６時間撹拌した。１，２－ジメトキシエタン（３．２Ｌ）を滴下し、４．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（１．０Ｌ）を加え、０～５℃に冷却し、約１９．５時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末を１，２－ジメトキシエタン（０．８Ｌ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下４０℃で乾燥し、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（２６８．３ｇ，０．４３５ｍｏｌ，収率９２．１％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ１．１５－１．２３（２Ｈ，ｍ），δ１．４３－１．５２（４Ｈ，ｍ），δ２．１１（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ２．７８－２．８４（１Ｈ，ｍ），δ３．０４－３．０９（１Ｈ，ｍ），δ３．３７（２Ｈ，ｔ，７．０Ｈｚ）δ３．６１－３．７９（６Ｈ，ｍ），δ３．９４（２Ｈ，ｓ），δ４．４７－４．５２（１Ｈ，ｍ），δ４．６１（２Ｈ，ｄ，６．７Ｈｚ），δ６．９９（２Ｈ，ｓ），δ７．１５－７．２７（５Ｈ，ｍ），δ８．１１－８．１５（２Ｈ，ｍ），δ８．２２（１Ｈ，ｄ，８．５Ｈｚ），δ８．３１（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ），δ８．６３（１Ｈ，ｔ，６．４Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２４．６，２５．８，２７．８，３４．９，３７．０，３７．２，４１．９，４２．１，４２．１，５４．２，６５．１，６９．２，１２６．２，１２８．１，１２９．１，１３４．４，１３７．９，１６８．９，１６９．５，１６９．８，１７１．１，１７１．４，１７１．９，１７２．６．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：６１５（［Ｍ－Ｈ］－）．
（実施例１３）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミドの１，２－ジメトキシエタン付加物
１－｛６－［（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシ］－６－オキソヘキシル｝－１Ｈ－ピロール－２，５－ジオン（７２．８ｇ，０．２３６ｍｏｌ）のアセトニトリル（４５０．０ｍＬ）溶液に、グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（５０．０ｇ，０．１１８ｍｏｌ）、水（１０５０．０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（１６．５ｍＬ，０．０９５ｍｏｌ）を加え、室温で約１５時間撹拌した。酢酸イソプロピル（５００．０ｍＬ）、無水リン酸二水素ナトリウム（１００．０ｇ）、無水リン酸水素二ナトリウム（６．５ｇ）を加えて撹拌した後、分液して有機層を取り除いた。酢酸イソプロピル（５００．０ｍＬ）を加えて撹拌した後、分液して有機層を取り除いた。１，２－ジメトキシエタン（２５０．０ｍＬ）、酢酸エチル（２５０．０ｍＬ）、アセトニトリル（２５．０ｍＬ）、無水リン酸二水素ナトリウム（４００．０ｇ）を加えて撹拌した後、分液して水層を取り除いた。アセトニトリル（７５０．０ｍＬ）、水（１１３．０ｍＬ）、塩化ナトリウム（３０．０ｇ）、無水リン酸二水素ナトリウム（７．５ｇ）、リン酸（８５％、１．５ｇ、０．０１２ｍｏｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。水（１１３．０ｍＬ）、塩化ナトリウム（３０．０ｇ）、無水リン酸二水素ナトリウム（７．５ｇ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。水（１１３ｍＬ）、塩化ナトリウム（３０．０ｇ）、無水リン酸二水素ナトリウム（７．５ｇ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた後、５００．０ｍＬまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（７５０．０ｍＬ）を加えた後、５００．０ｍＬまで減圧濃縮した。溶液の水分測定した結果６．９％（水３１．３ｇ相当）であった。水（９．５ｍＬ）、１，２－ジメトキシエタン（１．０Ｌ）を加えた後、室温で約１３時間撹拌した。１，２－ジメトキシエタン（２５０．０ｍＬ）を滴下し、室温で約５時間撹拌した後、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（１．０Ｌ）を滴下し、室温で約１時間撹拌した後、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（２５０．０ｍＬ）を滴下し、室温で約１６時間撹拌した後、析出物を濾過し、濾別した粉末を１，２－ジメトキシエタン（２５０．０Ｌ）で洗浄した。得られた湿品粉末に１，２－ジメトキシエタン（２．０Ｌ）、水（６５．０ｍＬ）を加え、４５℃に昇温した。３０分間撹拌した後、塩化ナトリウムを濾別し、塩化ナトリウムを１，２－ジメトキシエタン／水（９７／３、１５０ｍＬ）で洗浄して濾液を合致し、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（１．０Ｌ）を加え、室温で約３時間撹拌した後、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（１．０Ｌ）を滴下し、１．０Ｌまで減圧濃縮した。１，２－ジメトキシエタン（２５０．０ｍＬ）を滴下し、室温で約１６時間撹拌した後、析出物を濾過し、濾別した粉末を１，２－ジメトキシエタン（２５０ｍＬ）で洗浄した。得られた粉末を減圧下（４ｋＰａ）２５℃で乾燥し、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミドの１，２－ジメトキシエタン付加物（６５．７ｇ，０．１０７ｍｏｌ，収率９０．３％）を結晶として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ１．１６－１．２３（２Ｈ，ｍ），δ１．４４－１．５２（４Ｈ，ｍ），δ２．１１（２Ｈ，ｔ，７．５Ｈｚ），δ２．７９－２．８４（１Ｈ，ｍ），δ３．０５－３．０９（１Ｈ，ｍ），δ３．２４（６Ｈ，ｓ），δ３．３７（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ３．４３（４Ｈ，ｓ），δ３．５６－３．７８（６Ｈ，ｍ），δ３．９９（２Ｈ，ｓ），δ４．４８－４．５２（１Ｈ，ｍ），δ４．６１（２Ｈ，ｄ，６．５Ｈｚ），δ７．００（２Ｈ，ｓ），δ７．１６－７．２７（５Ｈ，ｍ），δ８．０２－８．１０（２Ｈ，ｍ），δ８．１５（１Ｈ，ｄ，８．０Ｈｚ），δ８．３２（１Ｈ，ｔ，６．０Ｈｚ），δ８．５８（１Ｈ，ｔ，６．８Ｈｚ）．δ１２．６１（１Ｈ，ｂｒｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２５．５，２６．８，２８．７，３５．９，３７．９，３８．２，４２．８，４３．０，４３．１，５５．１，５９．０，６５．２，６９．８，７２．０，１２７．２，１２９．０，１３０．１，１３５．４，１３８．８，１６９．８，１７０．４，１７０．９，１７２．０，１７２．３，１７２．４，１７３．６．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：６１５（［Ｍ－Ｈ］－）．
粉末Ｘ線回折：
標題化合物の結晶について、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折を行った。結果を表１及び図３に示す。１９．０°、及び２５．０°の回折角度（２θ）に主要なピークが認められた。
Figure 0007366745000104
（実施例１４）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド
メタンスルホン酸（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－アミニウム２水和物（グロス量１５４．６ｇ，水分値２．９５％補正後内容量１５０．０ｇ，０．２８２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．８Ｌ）懸濁液に、５（ｗ／ｖ）％硫酸ナトリウム水溶液（１．５Ｌ）、Ｎ－メチルモルホリン（２８．５ｇ，０．２８２ｍｏｌ）を加え、３２℃で約１時間撹拌した。シアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチル（８．０ｇ，５６．３ｍｍｏｌ）、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（グロス量２３２．０ｇ，１，２－ジメトキシエタン２．５０％換算後内容量２２６．２ｇ，０．３６７ｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３―エチルカルボジイミド塩酸塩（１０８．２ｇ，０．５６４ｍｏｌ）を加え、２９～３２℃で約１時間撹拌した後、分液して水層を取り除いた。酢酸エチル（１．８Ｌ）、５（ｖ／ｖ）％酢酸水溶液（０．４５Ｌ）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。活性炭（１５．０ｇ，強力白鷺（大阪ガスケミカル株式会社製））を加えて室温で約３０分間撹拌した後、活性炭を濾別し、活性炭をテトラヒドロフラン（０．４５Ｌ）で洗浄して濾液を合致し、０．７５Ｌまで減圧濃縮した。１－プロパノール（１．５Ｌ）を加え、０．７５Ｌまで減圧濃縮し、アセトン：１－プロパノール＝１：１（３．０Ｌ）を加えた。Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（０．１５ｇ）を添加し、室温で約４５時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した粉末をアセトン：１－プロパノール＝１：１（０．６Ｌ）で洗浄した。得られた湿品粉末にテトラヒドロフラン（１．５Ｌ）、水（０．３Ｌ）を加えて溶解し、０．７５Ｌまで減圧濃縮した。１－プロパノール（１．５Ｌ）を加え、０．７５Ｌまで減圧濃縮し、アセトン：１－プロパノール＝１：１（３．０Ｌ）を加えた。Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（０．１５ｇ）を添加し、室温で約２４時間撹拌した。析出物を濾過し、濾別した結晶をアセトン：１－プロパノール＝１：１（０．６Ｌ）で洗浄した。得られた結晶を減圧下４０℃で乾燥し、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（２５４．６ｇ，収率８７．３％）を結晶として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ０．８７（３Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ１．１４－１．２１（２Ｈ，ｍ），δ１．４１－１．５０（４Ｈ，ｍ），δ１．７８－１．９３（２Ｈ，ｍ），δ２．０９（２Ｈ，ｔ，７．３Ｈｚ），δ２．１３－２．２３（２Ｈ，ｍ），δ２．３６（３Ｈ，ｓ），δ２．７４－２．８０（１Ｈ，ｍ），δ３．００－３．０４（１Ｈ，ｍ），δ３．０８－３．２５（２Ｈ，ｍ），δ３．３２－３．３７（２Ｈ，ｍ），δ３．５６－３．７７（６Ｈ，ｍ），δ４．０２（２Ｈ，ｓ），δ４．４４－４．５０（１Ｈ，ｍ），δ４．６４（２Ｈ，ｄ，６．７Ｈｚ），δ５．１７（２Ｈ，ｄ，５．５Ｈｚ），δ５．４１（２Ｈ，ｓ），δ５．５７－５．６２（１Ｈ，ｍ），δ６．５１（１Ｈ，ｓ），δ６．９９（２Ｈ，ｓ），δ７．１４－７．２６（５Ｈ，ｍ），δ７．３０（１Ｈ，ｓ），δ７．７５（１Ｈ，ｄ，１１．０Ｈｚ），δ８．００（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ），δ８．０６（１Ｈ，ｔ，５．３Ｈｚ），δ８．１２（１Ｈ，ｄ，７．９Ｈｚ），δ８．２９（１Ｈ，ｔ，５．８Ｈｚ），δ８．４９（１Ｈ，ｄ，８．５Ｈｚ），δ８．６２（１Ｈ，ｔ，６．７Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ７．６，１０．８，１０．９，２３．５，２４．６，２５．７，２７．７，３０．２，３０．６，３４．８，３６．９，３７．１，４１．７，４２．０，４４．４，４９．５，５４．１，６５．１，６６．９，６９．７，７２．２，９６．６，１０９．６，１０９．８，１１９．０，１２１．５，１２３．４，１２３．６，１２５．３，１２６．２，１２８．０，１２９．０，１３４．３，１３６．２，１３６．３，１３７．７，１４０．４，１４５．０，１４７．７，１４７．８，１４９．９，１５２．２，１５６．６，１６０．２，１６２．７，１６８．８，１６９．１，１６９．３，１７０．０，１７１．０，１７１．３，１７２．３，１７２．５．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：１０３４（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
粉末Ｘ線回折：
標題化合物の結晶について、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折を行った。結果を表２及び図４に示す。５．６°、１５．５°、及び２２．０°の回折角度（２θ）に主要なピークが認められた。
Figure 0007366745000106
（実施例１５）
（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メチルアセテート
窒素雰囲気下、Ｎ－９－フルオレニルメトキシカルボニルグリシルグリシン（２．８５ｋｇ，８．０４ｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（３８．０ｋｇ）懸濁液に、酢酸（２．４１ｋｇ，４０．１ｍｏｌ）、四酢酸鉛（ＩＶ）（５．３５ｋｇ，１２．０ｍｏｌ）を加え、１．５時間還流した。室温まで冷却した後、析出している固体を濾別し、濾別した固体をテトラヒドロフラン（１０．１ｋｇ）で洗浄した。得られた濾洗液を減圧下、液量が１６Ｌ程度になるまで濃縮し、得られた濃縮液に酢酸エチル（２６ｋｇ）、１０％くえん酸水溶液（１７．１Ｌ）、２０％食塩水（５．７Ｌ）を加え、撹拌後分液した。得られた有機層を１０％くえん酸水溶液（１７．１Ｌ）、９％炭酸水素ナトリウム水溶液（２８．５Ｌ）、２０％食塩水（１４．３Ｌ）で順次分液洗浄した。得られた有機層にシリカゲル６０（５．７ｋｇ）、酢酸エチル（１０．３ｋｇ）を加え１時間撹拌した後、固体を濾別し、濾別した固体を酢酸エチル（７．７ｋｇ）で洗浄した。得られた濾洗液を減圧下、液量が５Ｌ程度になるまで濃縮し、シクロペンチルメチルエーテル（２４．５ｋｇ）を添加した。再度減圧下、液量が５Ｌ程度になるまで濃縮し、得られた濃縮液にでシクロペンチルメチルエーテル（１４．７ｋｇ）を添加し、５℃程度で１時間撹拌した。析出した固体を濾過し、得られた結晶を５℃程度に冷却したシクロペンチルメチルエーテル（４．９ｋｇ）で洗浄した。得られた結晶を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物（２．０１ｋｇ，収率６８％）を無色固体として得た。
（実施例１６）
ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート
窒素雰囲気下、（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メチルアセテート（２．０１ｋｇ、５．４６ｍｏｌ）の無水１，２－ジメトキシエタン（２１ｋｇ）懸濁液にグリコール酸ベンジル（１．８１ｋｇ，１０．９ｍｏｌ）を加え、０℃程度に冷却した。トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（１４２ｇ、０．２７ｍｏｌ）を加え、同温度で３時間撹拌後、酢酸エチル（２７．１ｋｇ）、１０％炭酸水素カリウム水溶液を添加し、室温に昇温し、分液した。得られた有機層に１０％食塩水（２０．１Ｌ）を加え分液洗浄した。得られた有機層を減圧下、液量が４Ｌ程度になるまで濃縮し、メタノール（１５．７ｋｇ）を添加した。減圧下、液量が４Ｌ程度になるまで濃縮し、得られた濃縮液にメタノール（７．８ｋｇ）を添加した。減圧下、液量が４Ｌ程度になるまで濃縮した。得られた濃縮液にメタノール（１２．５ｋｇ）を添加し、５℃程度に冷却し、１時間撹拌した。析出した結晶を濾過し、得られた結晶を５℃程度に冷却したメタノール（４．７ｋｇ）で洗浄した。得られた固体を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物（２．２８ｋｇ，収率８８％）を得た。
（実施例１７）
ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル｝アミノ）メトキシ］アセテート
窒素雰囲気下、ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシル｝アミノ）メトキシ］アセテート（２．２８ｋｇ、４．８１ｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１５．０ｋｇ）溶液に１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク－７－エン（０．３７ｋｇ、２．４ｍｏｌ）を加え、室温下３０分撹拌した。ピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（０．６０ｋｇ，２．４ｍｏｌ），１－ヒドロキシベンゾトリアゾール １水和物（０．７４ｋｇ、４．８ｍｏｌ）、Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニン（２．１９ｋｇ、４．３７ｍｏｌ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）－カルボジイミド塩酸塩（０．８４ｋｇ、４．３７ｍｏｌ）を加え、室温下３時間撹拌した。酢酸エチル（２１．０ｋｇ）、１０％食塩水（３４Ｌ）を加え、撹拌後分液した。得られた有機層を１０％くえん酸水溶液（１１．４Ｌ）で分液洗浄した。 得られた有機層にテトラヒドロフラン（２０ｋｇ）、１５％炭酸水素カリウム水溶液（２２．８Ｌ）を加え、撹拌分液した。得られた有機層を１０％食塩水（２２．８Ｌ）で分液洗浄した。得られた有機層を減圧下、液量が６．８Ｌ程度になるまで濃縮し、２－プロパノール（１２．４ｋｇ）を添加した。減圧下、再度液量が６．８Ｌ程度になるまで濃縮し、得られた濃縮液に約５０℃の加温下、２－プロパノール（３０．２ｋｇ）を添加した。同温度で１時間撹拌後、５℃程度まで冷却し更に２時間撹拌した。析出した固体を濾過し、濾別した固体を５℃程度に冷却した２－プロパノール（１４．２ｋｇ）で洗浄した。得られた結晶２を２－プロパノール（３６ｋｇ）に懸濁させ、５℃程度で１時間撹拌した後に、析出している固体を濾過し、濾別した固体を５℃程度に冷却した２－プロパノール（２８．５ｋｇ）で洗浄した。得られた結晶を減圧下５０℃で乾燥し、標記化合物（３．３４ｋｇ，収率９４％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．０， ９．８Ｈｚ），３．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．０， ４．３Ｈｚ），３．５８－３．７９（６Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｓ），４．２０－４．２４（１Ｈ，ｍ），４．２８－４．３０（２Ｈ，ｍ），４．４８－４．５３（１Ｈ，ｍ），４．６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），５．１４（２Ｈ，ｓ），７．１５－７．４３（１３Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），８．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ３７．３， ４１．８， ４２．１， ４３．５， ４６．６， ５４．１， ６４．４， ６５．６， ６５．７， ６９．０， １２０．１， １２５．２， １２６．３， １２７．１， １２７．６， １２８．０， １２８．１，１２８．１， １２８．４， １２９．１， １３５．８， １３７．８， １４０．７， １４３．８， １５６．５， １６８．８， １６９．４， １６９．９， １７０．１， １７１．４．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：７３６（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例１８）
Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド
ベンジル［（｛Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル｝アミノ）メトキシ］アセテート（３６７ｇ、０．４９９ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．８８ｋｇ）、水（１．６１Ｌ）懸濁液にパラジウム炭素－エチレンジアミン錯体（２８ｇ）を添加し、常圧の水素ガス雰囲気、室温下１時間から３時間撹拌した。触媒を濾別し、濾別した触媒をテトラヒドロフラン（１．６３ｋｇ）で洗浄し、濾洗液を得た。上記、反応と触媒の濾別操作を９回繰り返し、得られた９回分の濾洗液を合致した。減圧下、液量が１７Ｌ程度になるまで濃縮した。得られた濃縮液に２－プロパノール（３９ｋｇ）を添加し、減圧下、液量が１７Ｌ程度になるまで濃縮する操作を３回繰り返した。得られた濃縮液に酢酸エチル（４５ｋｇ）を添加し、室温下で６時間撹拌した。この懸濁液を５℃程度で更に１時間撹拌した。析出した固体を濾過し、濾別した固体を５℃程度に冷却した２－プロパノールと酢酸エチルの１：３混合液（２３．１Ｌ）で洗浄した。得られた結晶を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物の粗体（２．１８ｋｇ，収率７５％）を得た。得られた粗体（４００ｇ，０．６２ｍｏｌ）にテトラヒドロフラン（２．４Ｌ）、酢酸エチル（５．６Ｌ）に懸濁させ、１％硫酸水素カリウム水溶液（４Ｌ）を加え３２℃程度まで加温撹拌し、溶解させた。分液し、得られた有機層を水（２Ｌ）で分液洗浄した。得られた有機層を減圧下液量２Ｌ程度まで濃縮した。得られた濃縮液にアセトニトリル（６Ｌ）を添加し、減圧下液量２．８Ｌ程度まで濃縮したところ固体が析出した。酢酸エチル（６Ｌ）を添加し、室温で１８時間撹拌した後、５℃程度に冷却し、３時間撹拌した。析出している固体を濾過し、濾別した結晶をアセトニトリルと酢酸エチルの１：２混合液（７Ｌ）で洗浄した。得られた固体を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物（３５６ｇ，収率８９％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ２．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．０， ９．８Ｈｚ），３．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．７， ４．６Ｈｚ），３．５８－３．７９（６Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．２１－４．２５（１Ｈ，ｍ），４．２８－４．３０（２Ｈ，ｍ），４．４８－４．５４（１Ｈ，ｍ），４．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），７．１６－７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２２－７．２７（４Ｈ，ｍ），７．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ３７．４， ４１．８， ４２．１， ４３．５， ４６．６， ５４．１， ６４．２， ６５．７， ６８．８， １２０．１， １２５．２， １２６．３， １２７．１， １２７．６， １２８．１， １２９．１， １３７．８， １４０．７， １４３．８， １５６．５， １６８．８， １６９．４， １７０．０， １７１．４， １７１．４．
ＭＳ（ＥＳＩ）（ｍ／ｚ）：６４６（［Ｍ＋Ｈ］＋）．
（実施例１９）
Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド
窒素雰囲気下、メタンスルホン酸 （１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－アミニウム ２水和物（２６０ｇ，０．４５８ｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（１．８Ｌ）、テトラヒドロフラン（１．３Ｌ）懸濁液にトリエチルアミン（５５．６ｇ，０．５４９ｍｏｌ ）、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール １水和物（８４．２ｇ，０．５４９ｍｏｌ）、Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（３２５ｇ，０．５０３ｍｏｌ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）－カルボジイミド塩酸塩（１１４ｇ、０．５９５ｍｏｌ）を加え、室温下２時間撹拌した。テトラヒドロフラン（３．９Ｌ）、酢酸エチル（２．６Ｌ）、１１％炭酸水素カリウム水溶液（５．２Ｌ）を加え、撹拌分液した。得られた有機層を１９％くえん酸水溶液（３．９Ｌ）、２２％炭酸水素カリウム水溶液（２．６Ｌ）、１８％食塩水（０．７８Ｌ）で順次洗浄した。得られた有機層に活性炭（５２ｇ）を添加し、３０分撹拌した後、テトラヒドロフラン（０．７８Ｌ）、無水硫酸マグネシウム（０．７８ｇ）を添加し、３０分撹拌した。固体を濾別し、濾別した固体をテトラヒドロフラン（０．７８Ｌ）で洗浄した。得られた濾洗液を減圧下液量２００ｍＬ程度まで濃縮した。得られた濃縮液に酢酸エチル（１．３Ｌ）を添加し、減圧下液量２００ｍＬ程度まで濃縮した。得られた濃縮液にテトラヒドロフラン（１．８Ｌ）を添加した。得られた溶液を別容器に用意した酢酸エチル（１．３Ｌ）、シクロペンチルメチルエーテル（１．３Ｌ）混合液に１２分かけて滴下した。この懸濁液にシクロペンチルメチルエーテル（２．６Ｌ）を添加し、１８時間撹拌した後、５℃程度に冷却し、更に１時間撹拌した。析出している固体を濾過し、濾別した固体をテトラヒドロフランとシクロペンチルメチルエーテルの１：３混合液（１．３Ｌ）で洗浄した。得られた固体を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物（４０８ｇ，収率８４％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），１．７９－１．９０（２Ｈ，ｍ），２．１１－２．２２（２Ｈ，ｍ），２．３７（３Ｈ，ｓ），２．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．０， ９．８Ｈｚ），３．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．７， ４．６Ｈｚ），３．０７－３．２５（２Ｈ，ｍ），３．５８－３．７９（６Ｈ，ｍ），４．０２（２Ｈ，ｓ），４．１８－４．２３（１Ｈ，ｍ），４．２６－４．３０（２Ｈ，ｍ），４．４５－４．５４（１Ｈ，ｍ），４．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），５．１７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２３．５，Ｊ＝１９．２Ｈｚ），５．４０（２Ｈ，ｓ），５．５６－５．６１（１Ｈ，ｍ），６．５２（１Ｈ，ｓ），７．１４－７．４３（１０Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）．
１３Ｃ－ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ７．７， １０．９， １１．０， ２３．１， ２３．７， ２７．８， ３０．３， ３１．４， ３７．３， ４１．８， ４２．１， ４３．５， ４４．６， ４６．６， ４９．６， ５４．２， ５５．６， ６５．２， ６５．８， ６７．０， ６９．８， ７２．３， ８２．０， ９６．７， １０９．７， １０９．９， １１９．１， １２０．０， １２１．６， １２３．５， １２３．７， １２５．２， １２５．３， １２６．３， １２７．０， １２７．６，１２８．１， １２９．１， １３６．３， １３６．４， １３７．８， １４０．５， １４０．７， １４３．８， １４３．８， １４５．１， １４７．８， １４７．９， １５０．０， １５２．３， １５６．５， １５６．７， １６０．３， １６２．８， １６８．９， １６９．２， １６９．４， １７０．２， １７１．４， １７２．４．
ＭＳ（ＥＳＩ）１０６３：（Ｍ＋Ｈ）＋
（実施例２０）
グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド
窒素気流下、Ｎ－［（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（４００ｇ，０．３７６ｍｏｌ）の脱水テトラヒドロフラン（８Ｌ）懸濁液に１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク－７－エン（５１．６ｇ，０．３３９ｍｏｌ）を５分毎、８回に分割して添加し、２．５時間撹拌した。窒素気流下、析出している固体を濾過し、濾別した固体をテトラヒドロフラン（２．４Ｌ）で洗浄した。得られた固体を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物を含む混合物（３６３ｇ，収率１１５％）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３），１．５７－１．６７（６Ｈ，ｍ），１．８０－１．９２（２Ｈ，ｍ），２．０６－２．２５（２Ｈ，ｍ），２．３５－２．３８（３Ｈ，ｍ），２．６１－２．６３（２Ｈ，ｍ），２．７３－２．８９（１Ｈ，ｍ），３．００－３．７９（２９Ｈ，ｍ），３．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．２， ７．０Ｈｚ），３．９９－４．１０（２Ｈ，ｍ），４．３０－４．５１（１Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．８， ６．１Ｈｚ），４．６３－４．６９（１Ｈ，ｍ），５．０１（０．５Ｈ，ｂｒ），５．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ），５．２４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１８．３Ｈｚ），５．４１（２Ｈ，ｓ），５．５４－５．６２（１Ｈ，ｍ），６．５２（０．６Ｈ，ｂｒ），７．１１－７．３１（６Ｈ，ｍ），７．７５－７．７９（１Ｈ，ｍ），８．１２－８．１５（０．６Ｈ，ｍ），８．２２（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．３６（０．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），８．５２（０．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），８．６６（０．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），８．９３（０．６Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），９．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２０．１， ９．２Ｈｚ），９．８２（０．６Ｈ，ｂｒ）．
ＭＳ（ＥＳＩ）８４１：（Ｍ＋Ｈ）＋
（実施例２１）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミドの種晶の調製
グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（２００ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）のピリジン（０．２ｍＬ）、テトロヒドロフラン（２．０ｍＬ）、アセトニトリル（０．６ｍＬ）懸濁液にピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（１２０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ），トリエチルアミン（１００μＬ，０．７２ｍｍｏｌ），６－マレイミドヘキサン酸Ｎ－スクシンイミジル（７３ｍｇ， ０．２４ｍｍｏｌ）を加え、室温下３時間撹拌した。反応液をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（Ｂｉｏｔａｇｅ ＡＢ）［テトラヒドロフラン：アセトン＝３：７～７：３（ｖ／ｖ）］にて精製し、標記化合物を油状物として得た。得られた油状物１９．５ｍｇにアセトン（０．４ｍＬ），２－ブタノール（０．２ｍＬ）を加え、約６０℃に加温し、析出した固体を室温にて濾過し、濾別した固体を２－ブタノール（約０．２ｍＬ）で洗浄し、標記化合物（１４．３ｍｇ）を無色粉末として得た。得られた粉末は種晶として次の反応に用いることとした。
（実施例２２）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド
窒素雰囲気下、ピリジン（０．３５Ｌ）、アセトニトリル（１．１Ｌ）、テトロヒドロフラン（３．５Ｌ）にピリジニウム ｐ－トルエンスルホナート（２０９ｇ，０．８３２ｍｏｌ），６－マレイミドヘキサン酸Ｎ－スクシンイミジル（１２８ｇ， ０．４１５ｍｏｌ）、グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３‘，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（３５０ｇ，０．４１６ｍｏｌ）を溶解させた後、トリエチルアミン（６３．２ｇ，０．６２５ｍｏｌ）を加え、室温下３．５時間撹拌した。テトラヒドロフラン（３．５Ｌ）、１９％くえん酸水溶液（３．５Ｌ）、酢酸エチル（２．５Ｌ）、１８％食塩水（２．５Ｌ）を添加し、撹拌後分液した。得られた有機層に１９％くえん酸水溶液（２．５Ｌ）、１８％食塩水（２．５Ｌ）を添加し、撹拌後分液した。得られた有機層を２２％炭酸水素カリウム水溶液（２．１Ｌ）次いで１８％食塩水（１．８Ｌ）で分液洗浄した。得られた有機層を別容器に用意した活性炭（３５ｇ）のアセトニトリル（３５Ｌ）懸濁液に滴下し、３０分撹拌した後、活性炭を濾別し、濾別した活性炭をアセトニトリル（１．８Ｌ）で洗浄した。得られた濾洗液を減圧下外温４０℃程度で溶媒が留出しなくなるまで濃縮した。得られた濃縮残渣にアセトン（１．８Ｌ）、１－プロパノール（３．５Ｌ）を順次添加し、５５℃に加温し溶解させた後、室温まで冷却した。実施例２１で得た粉末（０．２ｇ）を種晶として添加し、８６時間撹拌した後、析出している固体を濾過し、濾別した固体をアセトン（１．１Ｌ）で洗浄した。得られた固体を減圧下４０℃で乾燥し、標記化合物（１９１ｇ，収率４４％）を結晶として得た。
（実施例２３）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド
無水硫酸ナトリウム（１．８ｇ）、シアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチル（０．１６ｇ，１．１３ｍｍｏｌ）、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（グロス量５．７６ｇ，１，２－ジメトキシエタン１２．４０％換算後内容量５．０５ｇ，８．１８ｍｍｏｌ）を含む精製水とテトラヒドロフラン（２４ｍL及び１８ｍL）の混合液に対し、２０～３０℃でメタンスルホン酸（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－アミニウム（３．０ｇ，５．６４ｍｍｏｌ）を含む精製水とテトラヒドロフラン（９ｍL及び１５ｍL）の混合懸濁液を加えた。混合液にテトラヒドロフラン（９ｍL）及びＮ－メチルモルホリン（０．６３ｇ，６．２３ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン７．５ｍLの溶液を添加し、同温にて１５分攪拌後、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３―エチルカルボジイミド塩酸塩（２．１６ｇ，１１．２７ｍｍｏｌ）及び精製水とテトラヒドロフラン（１．５ｍL及び１．５ｍL）の混合液を添加した。混合液を２０～３０℃で３０分以上攪拌し、反応終了を確認後、分液して水層を取り除いた。有機層を１５～２５℃に温度調整し、酢酸エチル（３６ｍL）及び無水硫酸ナトリウム（１．２６ｇ）、Ｎ－メチルモルホリン（０．１４ｇ，１．３８ｍｍｏｌ）を含む精製水（２４ｍL）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。有機層に精製水（９ｍL）を加えて撹拌、分液し、更に、酢酸（０．４５ｍL）を含む精製水（９ｍL）を加えて攪拌、分液して、有機層を得た。活性炭（０．３０ｇ，強力白鷺（大阪ガスケミカル株式会社製））を加えて室温で約１５分間撹拌した後、活性炭を濾別し、活性炭をテトラヒドロフラン（９ｍL）で洗浄して濾液を合致し、３０ｍLまで減圧濃縮した。濃縮液にテトラヒドロフラン（７５ｍL）を加え、３０ｍLまで減圧濃縮し、更にテトラヒドロフラン（４５ｍL）を加え、３０ｍLまで減圧濃縮した。濃縮液中の水分量が８．０％（ｖ／ｖ）以下であることを確認後、アセトンと１－プロパノール（３０ｍL及び７１ｍL）の混合液を加えた。Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（３０ｍｇ）を添加し、２０～３０℃で１２時間以上撹拌した。懸濁液を０～５℃に冷却後、更に２４時間以上撹拌し、析出物を濾過し、濾別した粉末を０～５℃にてアセトンと１－プロパノールの１：１混合液（３０ｍL）で洗浄した。得られた結晶を減圧下３５℃で乾燥し、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミドの粗結晶（５．２３ｇ，収率８９．６％）を得た。
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミドの粗結晶（４．５０ｇ，４．３５ｍｍｏｌ）に酢酸（１５μL）を含むアセトンと精製水（１０．６ｍL及び２．９ｍL）の混合液を加え、３４～３８℃で１時間以上攪拌し、溶解を確認後、２０～２５℃に冷却した。アセトンと１－プロパノール（３１．５ｍL及び６４．８ｍL）の混合液を加え、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド（２７ｍｇ）を添加し、２０～２５℃で２４時間以上撹拌した。懸濁液を０～５℃に冷却後、更に１２時間以上撹拌し、析出物を濾過し、濾別した粉末を０～５℃アセトンと１－プロパノールの１：１混合液（２７ｍL）で洗浄した。得られた結晶を減圧下３５℃で乾燥し、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミドの精結晶（４．３７ｇ，収率９３．０％）を得た。
機器データは、実施例１４に記載の化合物と同様であった。
（実施例２４）
Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミド
無水硫酸ナトリウム（１．８ｇ）、シアノ（ヒドロキシイミノ）酢酸エチル（０．１６ｇ，１．１３ｍｍｏｌ）、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（カルボキシメトキシ）メチル］グリシンアミド（グロス量５．７６ｇ，１，２－ジメトキシエタン１２．４０％換算後内容量５．０５ｇ，８．１８ｍｍｏｌ）を含む精製水とテトラヒドロフラン（２４ｍL及び１８ｍL）の混合液に対し、２０～３０℃でメタンスルホン酸（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－アミニウム（３．０ｇ，５．６４ｍｍｏｌ）を含む精製水とテトラヒドロフラン（９ｍL及び１５ｍL）の混合懸濁液を加えた。混合液にテトラヒドロフラン（９ｍL）及びＮ－メチルモルホリン（０．６３ｇ，６．２３ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン７．５ｍLの溶液を添加し、同温にて１５分攪拌後、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３―エチルカルボジイミド塩酸塩（２．１６ｇ，１１．２７ｍｍｏｌ）及び精製水とテトラヒドロフラン（１．５ｍL及び１．５ｍL）の混合液を添加した。混合液を２０～３０℃で３０分以上攪拌し、反応終了を確認後、分液して水層を取り除いた。有機層を１５～２５℃に温度調整し、酢酸エチル（３６ｍL）及び無水硫酸ナトリウム（１．２６ｇ）、Ｎ－メチルモルホリン（０．１４ｇ，１．３８ｍｍｏｌ）を含む精製水（２４ｍL）を加えて撹拌し、分液して水層を取り除いた。有機層に精製水（９ｍL）を加えて撹拌、分液し、更に、酢酸（０．４５ｍL）を含む精製水（９ｍL）を加えて攪拌、分液して、有機層を得た。活性炭（０．３０ｇ，強力白鷺（大阪ガスケミカル株式会社製））を加えて室温で約１５分間以上撹拌した後、活性炭を濾別し、活性炭をテトラヒドロフラン（９ｍL）で洗浄して濾液を合致し、３０ｍLまで減圧濃縮した。濃縮液にテトラヒドロフラン（７５ｍL）を加え、３０ｍLまで減圧濃縮し、更にテトラヒドロフラン（４５ｍL）を加え、３０ｍLまで減圧濃縮した。濃縮液中の水分量が８．０％（ｖ／ｖ）以下であることを確認後、アセトンと１－プロパノール（３０ｍL及び７１ｍL）の混合液を加え、２０～３０℃で２２時間撹拌した。懸濁液を０～５℃に冷却後、更に２４時間以上撹拌し、析出物を濾過し、濾別した粉末を０～５℃アセトンと１－プロパノールの１：１混合液（３０ｍL）で洗浄した。得られた結晶を減圧下３５℃で乾燥し、Ｎ－［６－（２，５－ジオキソ－２，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピロール－１－イル）ヘキサノイル］グリシルグリシル－Ｌ－フェニルアラニル－Ｎ－［（２－｛［（１Ｓ，９Ｓ）－９－エチル－５－フルオロ－９－ヒドロキシ－４－メチル－１０，１３－ジオキソ－２，３，９，１０，１３，１５－ヘキサヒドロ－１Ｈ，１２Ｈ－ベンゾ［ｄｅ］ピラノ［３’，４’：６，７］インドリジノ［１，２－ｂ］キノリン－１－イル］アミノ｝－２－オキソエトキシ）メチル］グリシンアミドの結晶（５.０８ｇ，収率８７．０％）を得た。
機器データは、実施例１４に記載の化合物と同様であった。
配列番号１：抗ＨＥＲ２抗体重鎖のアミノ酸配列
配列番号２：抗ＨＥＲ２抗体軽鎖のアミノ酸配列
配列番号３：抗ＨＥＲ３抗体の重鎖のアミノ酸配列
配列番号４：抗ＨＥＲ３抗体の軽鎖のアミノ酸配列
配列番号５：抗ＴＲＯＰ２抗体重鎖のアミノ酸配列
配列番号６：抗ＴＲＯＰ２抗体軽鎖のアミノ酸配列
配列番号７：抗Ｂ７－Ｈ３抗体重鎖のアミノ酸配列
配列番号８：抗Ｂ７－Ｈ３抗体軽鎖のアミノ酸配列
配列番号９：抗ＧＰＲ２０抗体重鎖のアミノ酸配列
配列番号１０：抗ＧＰＲ２０抗体軽鎖のアミノ酸配列

Claims (39)

  1. 式（１）で表される化合物を製造方法（Ｉ）によって製造する工程、

    式（１）で表される化合物が溶解した溶液を調製する工程、
    次いで、前記の溶液から式（１）で表される化合物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１）で表される化合物の結晶の製造方法であり、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液が低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含み、低級ケトンが炭素数３－６個のケトンであり、低級アルコールが炭素数１－４のアルコールであり、
    式（１）で表される化合物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、製造方法。
    （ここで、製造方法（Ｉ）は、
    式（Ｂ）で表される化合物を製造方法（ＩＶ）によって製造する工程、

    式（Ｂ）で表される化合物（ここで、Ｒ １ は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ ２ は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）のアミノ基及びカルボキシ基の保護基を脱保護し、
    式（８）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（８）で表される化合物と、
    式（Ｃ）

    で表される化合物（ここで、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示す）を縮合することにより、
    式（１０）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１０）で表される化合物と、式（１１）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１）

    で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法であり、
    製造方法（ＩＶ）は、
    式（Ｈ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ３ は保護基で保護されたアミノ基を示す）と、四酢酸鉛と反応させることにより、
    式（Ｊ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ３ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    次いで、式（Ｊ）で表される化合物と、
    式（Ｋ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ は前記と同義を示す）を、酸又は塩基の存在下で反応させることにより、
    式（Ｌ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ 及びＲ ３ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    次いで、式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（Ｍ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    １－ヒドロキシベンゾトリアゾールを添加することにより、式（Ｍ）で表される化合物と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールとの塩を析出させる工程、
    次いで、式（Ｍ）で表される化合物と、
    式（Ｎ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ １ は前記と同義を示す）を縮合することにより、
    式（Ｂ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ １ 及びＲ ２ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、を含む製造方法である）。
  2. 低級ケトンがアセトンである、請求項１に記載の製造方法。
  3. 低級ケトンがメチルエチルケトンである、請求項１に記載の製造方法。
  4. 低級アルコールが１－プロパノールである、請求項１から３のいずれか１項に記載の製造方法。
  5. 低級アルコールが２－ブタノールである、請求項１から３のいずれか１項に記載の製造方法。
  6. 式（１）で表される化合物の結晶の種晶を添加する工程を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載の製造方法。
  7. 式（１）で表される化合物を製造方法（ＩＩ）によって製造する工程、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液を調製する工程、
    次いで、前記の溶液から式（１）で表される化合物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１）で表される化合物の結晶の製造方法であり、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液が低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含み、低級ケトンが炭素数３－６個のケトンであり、低級アルコールが炭素数１－４のアルコールであり、
    式（１）で表される化合物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、製造方法。
    （ここで、製造方法（ＩＩ）は、
    式（Ｂ）で表される化合物を製造方法（ＩＶ）によって製造する工程、

    式（Ｂ）で表される化合物（ここで、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（Ｄ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｄ）で表される化合物と、
    式（Ｃ）

    で表される化合物（ここで、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示す）を縮合することにより、
    式（Ｅ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ２は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｅ）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、
    式（１０）

    で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１０）で表される化合物と、式（１１）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１）

    で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法であり、
    製造方法（ＩＶ）は、
    式（Ｈ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ３ は保護基で保護されたアミノ基を示す）と、四酢酸鉛と反応させることにより、
    式（Ｊ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ３ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    次いで、式（Ｊ）で表される化合物と、
    式（Ｋ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ は前記と同義を示す）を、酸又は塩基の存在下で反応させることにより、
    式（Ｌ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ 及びＲ ３ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    次いで、式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（Ｍ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    １－ヒドロキシベンゾトリアゾールを添加することにより、式（Ｍ）で表される化合物と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールとの塩を析出させる工程、
    次いで、式（Ｍ）で表される化合物と、
    式（Ｎ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ １ は前記と同義を示す）を縮合することにより、
    式（Ｂ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ １ 及びＲ ２ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、を含む製造方法である）。
  8. １，２－ジメトキシエタンを含む溶媒に、式（１０）で表される化合物を溶解させる工程、次いで、式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶を析出させる工程、を含む、請求項１又は７に記載の製造方法。
  9. 式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、請求項８に記載の製造方法。
  10. 式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程が、硫酸ナトリウム水溶液とテトラヒドロフランの２相系中にて行われる、請求項１、７－９のいずれか１項に記載の製造方法。
  11. 式（１）で表される化合物を製造方法（ＩＩＩ）によって製造する工程、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液を調製する工程、
    次いで、前記の溶液から式（１）で表される化合物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１）で表される化合物の結晶の製造方法であり、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液が低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含み、低級ケトンが炭素数３－６個のケトンであり、低級アルコールが炭素数１－４のアルコールであり、
    式（１）で表される化合物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、製造方法。
    （ここで、製造方法（ＩＩＩ）は、
    式（Ｂ）で表される化合物を製造方法（ＩＶ）によって製造する工程、

    式（Ｂ）で表される化合物（ここで、Ｒ１は保護基で保護されたアミノ基を示し、Ｒ２は保護基で保護されたカルボキシ基を示す）のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、
    式（Ｆ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ１は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｆ）で表される化合物と、
    式（１１）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（Ｇ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ１は前記と同意義を示す）へ変換する工程、次いで、式（Ｇ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（１６）

    で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（１６）で表される化合物と、
    式（Ｃ）

    で表される化合物（ここで、Ｘは活性エステル基、又はカルボキシ基を示す）を縮合する
    ことにより、
    式（１）

    で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法であり、
    製造方法（ＩＶ）は、
    式（Ｈ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ３ は保護基で保護されたアミノ基を示す）と、四酢酸鉛と反応させることにより、
    式（Ｊ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ３ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    次いで、式（Ｊ）で表される化合物と、
    式（Ｋ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ は前記と同義を示す）を、酸又は塩基の存在下で反応させることにより、
    式（Ｌ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ 及びＲ ３ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    次いで、式（Ｌ）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（Ｍ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ ２ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、
    １－ヒドロキシベンゾトリアゾールを添加することにより、式（Ｍ）で表される化合物と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールとの塩を析出させる工程、
    次いで、式（Ｍ）で表される化合物と、
    式（Ｎ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ １ は前記と同義を示す）を縮合することにより、
    式（Ｂ）

    で表される化合物（ここで、Ｒ １ 及びＲ ２ は前記と同意義を示す）へ変換する工程、を含む製造方法である）。
  12. 式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩である、請求項１、７－１１のいずれか１項に記載の製造方法。
  13. 式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・ｍ水和物（ここで、ｍは０～３個の範囲内である）である、請求項１、７－１１のいずれか１項に記載の製造方法。
  14. 式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・２水和物である、請求項１、７－１１のいずれか１項に記載の製造方法。
  15. 式（Ｈ）で表される化合物を四酢酸鉛と反応させることにより式（Ｊ）で表される化合物へ変換する工程が、酢酸の存在下で行われる、請求項１、７－１４のいずれか１項に記載の製造方法。
  16. 式（Ｊ）で表される化合物と式（Ｋ）で表される化合物を反応させ、式（Ｌ）で表される化合物へ変換する工程が、水酸化ナトリウム水溶液の存在下で行われる、請求項１、７－１５のいずれか１項に記載の製造方法。
  17. 式（Ｊ）で表される化合物と式（Ｋ）で表される化合物を反応させ、式（Ｌ）で表される化合物へ変換する工程が、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの存在下で行われる、請求項１、７－１５のいずれか１項に記載の製造方法。
  18. Ｒ１がベンジルオキシカルボニル基で保護されたアミノ基である、請求項１、７－１７のいずれか１項に記載の製造方法。
  19. Ｒ１が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、請求項１、７－１７のいずれか１項に記載の製造方法。
  20. Ｒ２がベンジル基で保護されたカルボキシ基である、請求項１、７－１９のいずれか１項に記載の製造方法。
  21. Ｒ３が（９Ｈ－フルオレン－９－イルメトキシ）カルボニル基で保護されたアミノ基である、請求項１、７－２０のいずれか１項に記載の製造方法。
  22. Ｘが（２，５－ジオキソピロリジン－１－イル）オキシカルボニル基である、請求項１、７－２１のいずれか１項に記載の製造方法。
  23. 式（１）で表される化合物を製造方法（Ｖ）によって製造する工程、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液を調製する工程、
    次いで、前記の溶液から式（１）で表される化合物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１）で表される化合物の結晶の製造方法であり、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液が低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含み、低級ケトンが炭素数３－６個のケトンであり、低級アルコールが炭素数１－４のアルコールであり、
    式（１）で表される化合物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、製造方法。
    （ここで、製造方法（Ｖ）は、
    式（２）

    で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、
    式（３）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（３）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下、グリコール酸ベンジルと反応させることにより、
    式（４）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（４）で表される化合物のアミノ基の保護
    基を脱保護することにより、
    式（５）

    で表される化合物へ変換する工程、
    １－ヒドロキシベンゾトリアゾールを添加することにより、式（５）で表される化合物と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールとの塩を析出させる工程、
    次いで、式（５）で表される化合物と、
    式（６）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（７）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（７）で表される化合物のアミノ基及びカルボキシ基の保護基を脱保護し、
    式（８）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（８）で表される化合物と、
    式（９）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１０）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１０）で表される化合物と、式（１１）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１）

    で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
  24. １，２－ジメトキシエタンを含む溶媒に、式（１０）で表される化合物を溶解させる工程、次いで、式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶を析出させる工程、を含む、請求項２３に記載の製造方法。
  25. 式（１０）で表される化合物の１，２－ジメトキシエタン付加物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、１９．０±０．２°、及び２５．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、請求項２４に記載の製造方法。
  26. 式（１０）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を縮合することにより、式（１）で表される化合物へ変換する工程が、硫酸ナトリウム水溶液とテトラヒドロフランの２相系中にて行われる、請求項２３から２５のいずれか１項に記載の製造方法。
  27. 式（１）で表される化合物を製造方法（ＶＩ）によって製造する工程、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液を調製する工程、
    次いで、前記の溶液から式（１）で表される化合物の結晶を析出させる工程、を含む、式（１）で表される化合物の結晶の製造方法であり、
    式（１）で表される化合物が溶解した溶液が低級ケトンと低級アルコールを溶媒として含み、低級ケトンが炭素数３－６個のケトンであり、低級アルコールが炭素数１－４のアルコールであり、
    式（１）で表される化合物の結晶が、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折において、５．６±０．２°、１５．５±０．２°、及び２２．０±０．２°の回折角度（２θ）に主要なピークを示す、製造方法。
    （ここで、製造方法（ＶＩ）は、
    式（２）

    で表される化合物を、四酢酸鉛と反応させることにより、
    式（３）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（３）で表される化合物を、酸又は塩基の存在下、グリコール酸ベンジルと反応させることにより、
    式（４）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（４）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（５）

    で表される化合物へ変換する工程、
    １－ヒドロキシベンゾトリアゾールを添加することにより、式（５）で表される化合物と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールとの塩を析出させる工程、
    次いで、式（５）で表される化合物と、
    式（１２）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１３）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１３）で表される化合物のカルボキシ基の保護基を脱保護することにより、
    式（１４）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１４）で表される化合物と、
    式（１１）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１５）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１５）で表される化合物のアミノ基の保護基を脱保護することにより、
    式（１６）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１６）で表される化合物と、
    式（９）

    で表される化合物を縮合することにより、
    式（１）

    で表される化合物へ変換する工程、を含む製造方法である）。
  28. 式（２）で表される化合物を四酢酸鉛と反応させることにより式（３）で表される化合物へ変換する工程が、酢酸の存在下で行われる、請求項２３から２７のいずれか１項に記載の製造方法。
  29. 式（３）で表される化合物を式（４）で表される化合物へ変換する工程が、水酸化ナトリウム水溶液の存在下で行われる、請求項２３から２８のいずれか１項に記載の製造方法。
  30. 式（３）で表される化合物を式（４）で表される化合物へ変換する工程が、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランの存在下で行われる、請求項２３から２８のいずれか１項に記載の製造方法。
  31. 式（６）で表される化合物が、
    式（２３）

    で表される化合物とＮ－ヒドロキシスクシンイミドと縮合することにより、
    式（２４）

    で表される化合物へ変換する工程、次いで、式（２４）で表される化合物と、Ｌ－フェニルアラニンを縮合することにより、式（６）で表される化合物へ変換する工程、を含む方法により製造されたものである、請求項２３から３０のいずれか１項に記載の製造方法。
  32. 式（９）で表される化合物が、
    式（１７）

    で表される化合物と無水マレイン酸を反応させることにより、
    式（１８）

    で表される化合物へ変換する工程、
    次いで、式（１８）で表される化合物と、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、及び２，６－ルチジンを含む混合溶液に、塩化チオニルを添加することにより、式（９）で表される化合物へ変換する工程、を含む方法により製造されたものである、請求項２３から３１のいずれか１項に記載の製造方法。
  33. 式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩である、請求項２３から３２のいずれか１項に記載の製造方法。
  34. 式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・ｍ水和物（ここで、ｍは０～３個の範囲内である）である、請求項２３から３２のいずれか１項に記載の製造方法。
  35. 式（１１）で表される化合物が、メタンスルホン酸塩・２水和物である、請求項２３から３２のいずれか１項に記載の製造方法。
  36. クロマトグラフィーを使用しないことを特徴とする、請求項１から３５のいずれか１項に記載の製造方法。
  37. 式（５）

    で表される化合物と１－ヒドロキシベンゾトリアゾールとの塩。
  38. 請求項１から３６のいずれか１項に記載された方法により製造された
    式（１）

    で表される化合物の結晶を出発原料として使用することを特徴とし、
    ｉ）抗体を、還元する工程、次いで、
    ｉｉ）上記方法で製造された式（１）で表される化合物の結晶が溶解した溶液を添加し、
    還元された抗体と反応させる工程、
    を含む、
    式（１９）

    （式中、Ａは抗体との結合位置を示す）
    で示される薬物リンカーと、抗体とがチオエーテル結合によって結合した抗体－薬物コンジュゲートの製造方法。
  39. 抗体が、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＨＥＲ３抗体、抗ＴＲＯＰ２抗体、抗Ｂ７－Ｈ３抗体、又は抗ＧＰＲ２０抗体である、請求項３８に記載の製造方法。
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