JP7357297B2 - 撮像装置および撮像方法 - Google Patents

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Description

本開示は、撮像装置および撮像方法に関する。
従来、撮像装置から出力される画像の輝度値を調整することが行われている。輝度値の調整は、例えば、被写体の照度等に応じてなされる。
輝度値の調整は、例えば、撮像素子の入射光量の調整により実現できる。入射光量の調整は、例えば、レンズの絞りの調整、シャッタによる露光時間の調整、ND(Neutral Density)フィルタによる減光等により、実現できる。
輝度値の調整は、撮像素子の感度そのものの調整によっても実現できる。撮像素子の感度が調整されると、撮像素子から読み出される正または負の電荷の量が調整される。電荷の量の調整により、出力画像の輝度値が調整される。特許文献1および2には、感度の調整が可能な撮像素子が記載されている。
特許文献1および2の撮像素子では、光電変換層に電圧が印加される。この電圧印加の時間幅の制御を通じて、撮像素子の感度が調整される。
特開2007-104114号公報 特開2017-135704号公報 特開2017-005051号公報
従来技術の撮像装置には、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得る観点から、改善の余地がある。本開示は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適した技術を提供する。
本開示は、
画素アレイを備えた撮像装置であって、
1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れ、
前記第1期間において、前記画素アレイにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われ、
前記第2期間において、前記画素アレイにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われ、
前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、前記画素アレイにおける2つの行を含み、
前記第3期間において、前記画素アレイのいずれの行の画素信号読み出しも行われず、
前記第1期間および前記第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方であり、
前記第3期間は、前記高感度露光期間および前記低感度露光期間の他方である、撮像装置を提供する。
本開示に係る技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
図1は、撮像装置の模式図である。 図2は、単位画素のデバイス構造の模式的な断面図である。 図3は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図4は、信号読み出し期間における制御信号を説明するための図である。 図5は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図6は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図7は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図8は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図9は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図10は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図11は、対向電極の電圧と画素信号読み出しとの関係を表す図である。 図12は、画素電極-対向電極間の電位差と規格化感度との関係を表す図である。 図13は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図14は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図15は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図16は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図17は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図18は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図19は、撮像装置の模式図である。 図20は、撮像装置における動作を説明するための図である。 図21は、撮像装置における動作を説明するための図である。
(本開示に係る一態様の概要)
本開示の第1態様に係る撮像装置は、
画素アレイを備えた撮像装置であって、
1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れ、
前記第1期間において、前記画素アレイにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われ、
前記第2期間において、前記画素アレイにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われ、
前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、前記画素アレイにおける2つの行を含み、
前記第1期間および前記第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方であり、
前記第3期間は、前記高感度露光期間および前記低感度露光期間の他方である。
第1態様に係る技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。なお、前記第3期間において、前記画素アレイのいずれの行の画素信号読み出しも行われなくてもよい。
本開示の第2態様において、例えば、第1態様に係る撮像装置では、前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の両方が、前記画素アレイにおける2つの行を含んでいてもよい。
第2態様に係る技術は、フレームレートを確保する観点から有利である。
本開示の第3態様において、例えば、第2態様に係る撮像装置では、前記第1の少なくとも1つの行を構成する行の数と、前記第2の少なくとも1つの行を構成する行の数は、同じであってもよい。
第3態様に係る技術は、時間的に変化する被写体を良好に撮像する観点から有利である。
本開示の第4態様において、例えば、第1から第3態様のいずれか1つに係る撮像装置では、前記第1期間および前記第2期間は、前記高感度露光期間であってもよく、前記第3期間は、前記低感度露光期間であってもよい。
第4態様に係る技術は、高い感度での撮像を行う場合に適している。
本開示の第5態様において、例えば、第1から第3態様のいずれか1つに係る撮像装置では、前記第1期間および前記第2期間は、前記低感度露光期間であってもよく、前記第3期間は、前記高感度露光期間であってもよい。
第5態様に係る技術は、低い感度での撮像を行う場合に適している。
本開示の第6態様において、例えば、第1から第3態様のいずれか1つに係る撮像装置では、前記撮像装置の制御モードは、第1モードと第2モードとを備えていてもよく、前記第1モードにおいて、前記第1期間および前記第2期間は、前記高感度露光期間であってもよく、前記第3期間は、前記低感度露光期間であってもよく、前記第2モードにおいて、前記第1期間および前記第2期間は、前記低感度露光期間であってもよく、前記第3期間は、前記高感度露光期間であってもよい。
第1モードは、高い感度での撮像を行う場合に適している。第2モードは、低い感度での撮像を行う場合に適している。このため、第6態様によれば、両方の場合に適した撮像を行うことができる。
本開示の第7態様において、例えば、第1から第6態様のいずれか1つに係る撮像装置では、前記1つのフレームにおいて、前記高感度露光期間の総期間は、前記低感度露光期間の総期間以上であってもよい。
第7態様に係る技術によれば、高い感度での撮像を行い易い。
本開示の第8態様において、例えば、第1から第6態様のいずれか1つに係る撮像装置では、前記1つのフレームにおいて、前記高感度露光期間の総期間は、前記低感度露光期間の総期間未満である。
第8態様に係る技術によれば、低い感度での撮像を行い易い。
本開示の第9態様において、例えば、第1から第8態様のいずれか1つに係る撮像装置は、半導体基板と、光電変換部と、をさらに備えていてもよく、前記光電変換部は、光電変換層と、第1電極と、第2電極と、を備えていてもよく、前記半導体基板と、前記第1電極と、前記光電変換層と、前記第2電極とは、この順に積層されていてもよい。
第9態様によれば、感度の調整が容易な撮像素子を実現できる。
本開示の第10態様において、例えば、第9態様に係る撮像装置は、以下の特徴(i)および(ii)の少なくとも一方を有していてもよい。特徴(i)は、前記撮像装置は、第3電極をさらに備えていてもよく、前記半導体基板と、前記第3電極と、前記光電変換層と、前記第2電極とは、この順に積層されていてもよく、前記第3電極を、前記高感度露光期間と前記低感度露光期間とで互いに異なる電圧へと制御するという特徴であってもよい。特徴(ii)は、前記第2電極を、前記高感度露光期間と前記低感度露光期間とで互いに異なる電圧へと制御するという特徴であってもよい。
第10態様のように電極の電圧を制御すると、感度を調整できる。
本開示の第11態様において、例えば、第10態様に係る撮像装置は、以下の特徴(I)および(II)の少なくとも一方を有していてもよい。特徴(I)は、前記撮像装置は、前記特徴(i)と、第3時定数であって前記第3時定数に従って前記第3電極の電圧を変化させる第3時定数と、を有し、前記第3期間は、前記第3時定数の2倍以上であるという特徴であってもよい。特徴(II)は、前記撮像装置は、前記特徴(ii)と、第2時定数であって前記第2時定数に従って前記第2電極の電圧を変化させる第2時定数と、を有し、前記第3期間は、前記第2時定数の2倍以上であるという特徴であってもよい。
第11態様によれば、第3期間において、時定数の存在を考慮しても、電極の電圧を想定値に十分近づけることができる。このことは、所望の感度を得る観点から有利である。
本開示の第12態様に係る撮像方法は、
画素アレイを備えた撮像装置を用いた撮像方法であって、
1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れ、
前記第1期間において、前記画素アレイにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しを行い、
前記第2期間において、前記画素アレイにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しを行い、
前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、前記画素アレイにおける2つの行を含み、
前記第1期間および前記第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方であり、
前記第3期間は、前記高感度露光期間および前記低感度露光期間の他方である。
第12態様に係る技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。なお、前記第3期間において、前記画素アレイのいずれの行の画素信号読み出しも行わなくてもよい。
本開示の第13態様に係る撮像装置は、
信号線と、
それぞれが入射光の量に応じた画素信号を生成し、前記画素信号を前記信号線に順次に出力する複数の画素と、
第1のフレーム期間において、第1電圧と前記第1電圧と異なる第2電圧とをそれぞれ2回以上交互に、前記複数の画素のそれぞれに同時に供給する電圧供給回路と、
を備え、
前記複数の画素のそれぞれは、
前記第1電圧が供給される第1期間において第1の感度で光を電気信号に変換し、前記第2電圧が供給される第2期間において前記第1の感度と異なる第2の感度で光を電気信号に変換する光電変換部と、
前記電気信号を増幅して前記画素信号を出力する第1トランジスタと、
を含み、
前記複数の画素のうちの少なくとも2つの画素は、前記第1のフレーム期間内の前記第1期間のうちの1つの期間において、前記画素信号を前記信号線に順次に出力する。
本開示の第14態様において、例えば、第13態様に係る撮像装置では、前記複数の画素のそれぞれは、前記第1のフレーム期間内の前記第1期間において、前記画素信号を前記信号線に出力してもよい。
本開示の第15態様において、例えば、第13態様または第14態様に係る撮像装置では、前記複数の画素のそれぞれは、前記第1のフレーム期間内の前記第2期間において、前記画素信号を前記信号線に出力しなくてもよい。
本開示の第16態様において、例えば、第13態様に係る撮像装置では、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部は、前記第1トランジスタのゲートに電気的に接続される第1電極と、前記第1電極に対向する第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間の光電変換層とを含んでいてもよく、前記電圧供給回路は、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部の前記第2電極に、前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給してもよい。
本開示の第17態様において、例えば、第13態様に係る撮像装置では、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部は、第1面と前記第1面の反対側の第2面とを有する光電変換層と、前記第1面上に位置する第1電極および第3電極と、前記第2面上に位置し前記第1電極および前記第3電極に対向する第2電極とを含んでいてもよく、前記第1電極は、前記第1トランジスタのゲートに電気的に接続されていてもよく、前記電圧供給回路は、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部の前記第3電極に、前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給してもよい。
本開示の第17態様において、例えば、第13態様に係る撮像装置では、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部は、フォトダイオードを含んでいてもよく、前記複数の画素のそれぞれは、ソースおよびドレインの一方が前記フォトダイオードに電気的に接続され、ソースおよびドレインの他方が前記第1トランジスタのゲートに電気的に接続される第2トランジスタと、ソースおよびドレインの一方が前記フォトダイオードに電気的に接続され、ソースおよびドレインの他方に所定の電圧が印加される第3トランジスタと、を含んでいてもよく、前記電圧供給回路は、前記第3トランジスタのゲートに、前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給してもよい。
本開示の第19態様において、例えば、第18態様に係る撮像装置では、前記電圧供給回路は、前記第2トランジスタのゲートに、第3電圧と前記第3電圧と異なる第4電圧とを交互に供給してもよい。
本開示の第20態様において、例えば、第13から第19態様のいずれか1つに係る撮像装置は、前記電圧供給回路に、前記第1電圧および前記第2電圧を供給させる第1制御回路と、前記複数の画素のそれぞれに、前記画素信号を前記信号線に順次に出力させる、第2制御回路と、をさらに備えていてもよい。
本開示の第21態様に係る撮像装置は、
画素アレイを備えた撮像装置であって、
1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間とがこの順に現れ、
前記第1期間において、前記画素アレイにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われ、
前記第3期間において、前記画素アレイにおける第3の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われ、
前記第1期間と前記第3期間の境界を跨ぐ期間にわたって画素信号読み出しがなされる前記画素アレイの行は存在せず、
前記第1期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方であり、
前記第3期間は、前記高感度露光期間および前記低感度露光期間の他方である。
第21態様に係る技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
本開示の第22態様に係る撮像方法は、
画素アレイを備えた撮像装置を用いた撮像方法であって、
1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間とがこの順に現れ、
前記第1期間において、前記画素アレイにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しを行い、
前記第3期間において、前記画素アレイにおける第3の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しを行い、
前記第1期間と前記第3期間の境界を跨ぐ期間にわたって画素信号読み出しがなされる前記画素アレイの行は存在せず、
前記第1期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方であり、
前記第3期間は、前記高感度露光期間および前記低感度露光期間の他方である。
第22態様に係る技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
本明細書では、高感度露光期間という用語と、低感度露光期間という用語と、が用いられる。高感度露光期間は、低感度露光期間に比べ、高い感度が得られる期間を指す。低感度露光期間は、高感度露光期間に比べ、低い感度が得られる期間を指す。ここで、低い感度は、感度がゼロである様を含む概念である。低感度露光期間は、感度がゼロである期間が含む概念である。
本明細書では、第1、第2、第3・・・という序数詞を用いることがある。ある要素に序数詞が付されている場合に、より若番の同種類の要素が存在することは必須ではない。
以下、図面を参照しながら、本開示の実施形態を詳細に説明する。なお、以下で説明する実施形態は、いずれも包括的または具体的な例を示す。以下の実施形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置および接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本開示を限定する主旨ではない。本明細書において説明される種々の態様は、矛盾が生じない限り互いに組み合わせることが可能である。また、以下の実施形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。以下の説明において、実質的に同じ機能を有する構成要素は共通の参照符号で示し、説明を省略することがある。
一部の図面では、図面の簡略化のために、時定数の影響が無視されている。一方、図8および9では、時定数の影響が考慮されている。
(実施形態1)
(撮像装置の回路構成)
図1は、実施形態1に係る撮像装置の例示的な回路構成を示す。図1に示す撮像装置100は、2次元に配列された複数の単位画素10を含む画素アレイPAを有する。図1は、単位画素10が2行2列のマトリクス状に配置された例を模式的に示している。言うまでもないが、撮像装置100における単位画素10の数および配置は、図1に示す例に限定されない。
各単位画素10は、光電変換部13および信号検出回路14を有する。後に図面を参照して説明するように、光電変換部13は、互いに対向する2つの電極の間に挟まれた光電変換層を有し、入射した光を受けて信号を生成する。光電変換部13は、その全体が、単位画素10ごとに独立した素子である必要はなく、光電変換部13の例えば一部分が複数の単位画素10にまたがっていてもよい。信号検出回路14は、光電変換部13によって生成された信号を検出する回路である。この例では、信号検出回路14は、信号検出トランジスタ24およびアドレストランジスタ26を含んでいる。信号検出トランジスタ24およびアドレストランジスタ26は、典型的には、電界効果トランジスタ(FET)であり、ここでは、信号検出トランジスタ24およびアドレストランジスタ26としてNチャンネルMOSを例示する。
図1において模式的に示すように、信号検出トランジスタ24の制御端子(ここではゲート)は、光電変換部13との電気的な接続を有する。光電変換部13によって生成される信号電荷(正孔または電子)は、電荷蓄積部41に蓄積される。電荷蓄積部41は、信号検出トランジスタ24のゲートと光電変換部13との間の領域を含む領域に拡がっている。電荷蓄積部41は、いわゆるフローティングディフュージョンを含む部分である。光電変換部13の構造の詳細は、後述する。
撮像装置100は、画素アレイPAを駆動し、複数のタイミングで画像を取得する駆動部を備えている。駆動部は、電圧供給回路32、電圧供給回路35、リセット電圧源34、垂直走査回路36、カラム信号処理回路37、水平信号読み出し回路38および画素駆動信号生成回路39を含む。
各単位画素10の光電変換部13は、さらに、感度制御線42との接続を有している。図1に例示する構成において、感度制御線42は、電圧供給回路32に接続されている。以下において詳述するように、電圧供給回路32は、高感度露光期間と低感度露光期間との間で互いに異なる電圧を対向電極12に供給する。また、フレーム間で異なる電圧を対向電極12に供給してもよい。
後述するように、光電変換部13は、対向電極12に加えて、画素電極11および光電変換層15を有する。また、図1に例示する構成において、シールド電極17は、感度制御線45との接続を有している。感度制御線45は、電圧供給回路35に接続されている。電圧供給回路35は、シールド電圧をシールド電極17に供給する。典型的には、シールド電極17と画素電極11とは、電気的に分離されている。図1および2の例では、シールド電極17と画素電極11とは、互いに離間している。この例では、シールド電極17および画素電極11は光電変換層15の一方の表面に接し、対向電極12は光電変換層15の他方の表面に接している。
シールド電極17におけるシールド電圧は、単位画素10間のクロストーク抑制に利用可能である。例えば、このクロストーク抑制は、画素電極11に印加されるリセット電圧Vrよりも低いシールド電圧をシールド電極17に印加することによって実現される。シールド電極17に印加されるシールド電圧は、負電圧であってもよい。
画素電極11の厚さ方向に沿って観察したとき、すなわち平面視において、シールド電極17は、画素電極11を取り囲んでいてもよい。より具体的には、シールド電極17には複数の貫通穴が設けられており、1つの貫通穴につき1つの画素電極11が収容されていてもよい。シールド電極17は、ひとつながりの一体の電極であってもよく、互いに分離された複数の電極によって構成されていてもよい。
なお、感度制御線45および電圧供給回路35を省略し、シールド電極17を撮像装置100のグランドに接続してもよい。このようにしても、クロストークは抑制され得る。また、シールド電極17、感度制御線45および電圧供給回路35を省略してもよい。これらの点は、実施形態2についても同様である。
実施形態1における「高感度露光期間」では、光電変換により生成される正および負の電荷の一方(信号電荷)が、相対的に高い感度で電荷蓄積部41に蓄積される。すなわち「高感度露光期間」では、相対的に高い感度で光が電気信号に変換される。また、実施形態1における「低感度露光期間」では、光電変換により生成される正および負の電荷の一方(信号電荷)が、相対的に低い感度で電荷蓄積部41に蓄積される。すなわち「低感度露光期間」では、相対的に低い感度で光が電気信号に変換される。低い感度とは、感度が0である場合を含む。これらは、後述の実施形態2および3についても同様である。
画素電極11の電位に対する対向電極12の電位を制御することにより、光電変換によって光電変換層15内に生じた正孔-電子対のうち、正孔および電子のいずれか一方を、画素電極11によって収集することができる。例えば信号電荷として正孔を利用する場合には、画素電極11よりも対向電極12の電位を高くすることにより、画素電極11によって正孔を選択的に収集することが可能である。また、単位時間当たりに収集される信号電荷量は画素電極11と対向電極12との電位差に応じて変化する。以下では、信号電荷として正孔を利用する場合を例示する。もちろん、信号電荷として電子を利用することも可能である。電圧供給回路32および電圧供給回路35は、特定の電源回路に限定されず、所定の電圧を生成する回路であってもよいし、他の電源から供給された電圧を所定の電圧に変換する回路であってもよい。
各単位画素10は、電源電圧VDDを供給する電源線40との接続を有する。図示するように、電源線40には、信号検出トランジスタ24の入力端子(典型的にはドレイン)が接続されている。電源線40がソースフォロア電源として機能することにより、信号検出トランジスタ24は、光電変換部13によって生成された信号を増幅して出力する。
信号検出トランジスタ24の出力端子(ここではソース)には、アドレストランジスタ26の入力端子(ここではドレイン)が接続されている。アドレストランジスタ26の出力端子(ここではソース)は、画素アレイPAの列ごとに配置された複数の垂直信号線47のうちの1つに接続されている。アドレストランジスタ26の制御端子(ここではゲート)は、アドレス制御線46に接続されており、アドレス制御線46の電位を制御することにより、信号検出トランジスタ24の出力を、対応する垂直信号線47に選択的に読み出すことができる。
図示する例では、アドレス制御線46は、垂直走査回路(「行走査回路」とも呼ばれる)36に接続されている。垂直走査回路36は、アドレス制御線46に所定の電圧を印加することにより、各行に配置された複数の単位画素10を行単位で選択する。これにより、選択された単位画素10の信号の読み出しと、後述する、画素電極11のリセットとが実行される。
さらに、垂直走査回路36には、画素駆動信号生成回路39が接続されている。図示する例では、画素駆動信号生成回路39は、画素アレイPAの各行に配置された単位画素10を駆動する信号を生成する。生成された画素駆動信号は、垂直走査回路36により選択された行の単位画素10に供給される。
垂直信号線47は、画素アレイPAからの画素信号を周辺回路へ伝達する主信号線である。垂直信号線47には、カラム信号処理回路(「行信号蓄積回路」とも呼ばれる)37が接続されている。カラム信号処理回路37は、相関二重サンプリングに代表される雑音抑制信号処理およびアナログ-デジタル変換(AD変換)などを行う。図示するように、カラム信号処理回路37は、画素アレイPAにおける単位画素10の各列に対応して設けられる。これらのカラム信号処理回路37には、水平信号読み出し回路(「列走査回路」とも呼ばれる)38が接続されている。水平信号読み出し回路38は、複数のカラム信号処理回路37から水平共通信号線49に信号を順次読み出す。
図1に例示する構成において、単位画素10は、リセットトランジスタ28を有する。リセットトランジスタ28は、例えば、信号検出トランジスタ24およびアドレストランジスタ26と同様に、電界効果トランジスタであり得る。以下では、特に断りの無い限り、リセットトランジスタ28としてNチャンネルMOSを適用した例を説明する。図示するように、このリセットトランジスタ28は、リセット電圧Vrを供給するリセット電圧線44と、電荷蓄積部41との間に接続されている。リセットトランジスタ28の制御端子(ここではゲート)は、リセット制御線48に接続されており、リセット制御線48の電位を制御することによって、電荷蓄積部41の電位をリセット電圧Vrにリセットすることができる。この例では、リセット制御線48が、垂直走査回路36に接続されている。したがって、垂直走査回路36がリセット制御線48に所定の電圧を印加することにより、各行に配置された複数の単位画素10を行単位でリセットすることが可能である。
この例では、リセットトランジスタ28にリセット電圧Vrを供給するリセット電圧線44が、リセット電圧供給回路34(以下、単に「リセット電圧源34」と呼ぶ。)に接続されている。リセット電圧源34は、撮像装置100の動作時にリセット電圧線44に所定のリセット電圧Vrを供給可能な構成を有していればよく、上述の電圧供給回路32と同様に、特定の電源回路に限定されない。電圧供給回路32、電圧供給回路35およびリセット電圧源34の各々は、単一の電圧供給回路の一部分であってもよいし、独立した別個の電圧供給回路であってもよい。なお、電圧供給回路32、電圧供給回路35およびリセット電圧源34の少なくとも1つが、垂直走査回路36の一部分であってもよい。あるいは、電圧供給回路32からの感度制御電圧、電圧供給回路35からの感度制御電圧および/またはリセット電圧源34からのリセット電圧Vrが、垂直走査回路36を介して各単位画素10に供給されてもよい。
リセット電圧Vrとして、信号検出回路14の電源電圧VDDを用いることも可能である。この場合、各単位画素10に電源電圧を供給する電圧供給回路(図1において不図示)と、リセット電圧源34とを共通化し得る。また、電源線40と、リセット電圧線44を共通化できるので、画素アレイPAにおける配線を単純化し得る。ただし、リセット電圧Vrを、信号検出回路14の電源電圧VDDと異なる電圧とすることにより、撮像装置100のより柔軟な制御を可能にする。
(単位画素のデバイス構造)
図2は、単位画素10の例示的なデバイス構造を模式的に示す。図2に例示する構成では、上述の信号検出トランジスタ24、アドレストランジスタ26およびリセットトランジスタ28が、半導体基板20に形成されている。半導体基板20は、その全体が半導体である基板に限定されない。半導体基板20は、感光領域が形成される側の表面に半導体層が設けられた絶縁性基板などであってもよい。ここでは、半導体基板20としてP型シリコン(Si)基板を用いる例を説明する。
半導体基板20は、不純物領域(ここではN型領域)26s、24s、24d、28dおよび28sと、単位画素10間の電気的な分離のための素子分離領域20tとを有する。ここでは、素子分離領域20tは、不純物領域24dと不純物領域28dとの間にも設けられている。素子分離領域20tは、例えば所定の注入条件のもとでアクセプタのイオン注入を行うことによって形成される。
不純物領域26s、24s、24d、28dおよび28sは、典型的には、半導体基板20内に形成された拡散層である。図2に模式的に示すように、信号検出トランジスタ24は、不純物領域24sおよび不純物領域24dと、ゲート電極24g(典型的にはポリシリコン電極)とを含む。不純物領域24sは、信号検出トランジスタ24の例えばソース領域として機能する。不純物領域24dは、信号検出トランジスタ24の例えばドレイン領域として機能する。不純物領域24sと不純物領域24dとの間に、信号検出トランジスタ24のチャネル領域が形成される。
同様に、アドレストランジスタ26は、不純物領域26sおよび不純物領域24sと、アドレス制御線46(図1参照)に接続されたゲート電極26g(典型的にはポリシリコン電極)とを含む。この例では、信号検出トランジスタ24およびアドレストランジスタ26は、不純物領域24sを共有することによって互いに電気的に接続されている。不純物領域26sは、アドレストランジスタ26の例えばソース領域として機能する。不純物領域26sは、図2において不図示の垂直信号線47(図1参照)との接続を有する。リセットトランジスタ28は、不純物領域28dおよび28sと、リセット制御線48(図1参照)に接続されたゲート電極28g(典型的にはポリシリコン電極)とを含む。不純物領域28sは、リセットトランジスタ28の例えばソース領域として機能する。不純物領域28sは、図2において不図示のリセット電圧線44(図1参照)との接続を有する。
半導体基板20上には、信号検出トランジスタ24、アドレストランジスタ26およびリセットトランジスタ28を覆うように層間絶縁層50(典型的には二酸化シリコン層)が配置されている。図示するように、層間絶縁層50中には、配線層56が配置され得る。配線層56は、典型的には、銅などの金属から形成され、例えば、上述の垂直信号線47などの配線をその一部に含み得る。層間絶縁層50中の絶縁層の層数、および、層間絶縁層50中に配置される配線層56に含まれる層数は、任意に設定可能であり、図2に示す例に限定されない。
層間絶縁層50上には、上述の光電変換部13が配置される。別の言い方をすれば、本開示の実施形態では、画素アレイPA(図1参照)を構成する複数の単位画素10が、半導体基板20上に形成されている。半導体基板20上に2次元に配列された複数の単位画素10は、感光領域(画素領域)を形成する。隣接する2つの単位画素10間の距離(画素ピッチ)は、例えば2μm程度であり得る。
光電変換部13は、画素電極11と、対向電極12と、これらの間に配置された光電変換層15とを含む。この例では、対向電極12および光電変換層15は、複数の単位画素10にまたがって形成されている。他方、画素電極11は、単位画素10ごとに設けられており、隣接する他の単位画素10の画素電極11と空間的に分離されることによって、他の単位画素10の画素電極11から電気的に分離されている。
対向電極12は、典型的には、透明な導電性材料から形成される透明電極である。対向電極12は、光電変換層15において光が入射される側に配置される。したがって、光電変換層15には、対向電極12を透過した光が入射する。なお、撮像装置100によって検出される光は、可視光の波長範囲(例えば、380nm以上780nm以下)内の光に限定されない。本明細書における「透明」は、検出しようとする波長範囲の光の少なくとも一部を透過することを意味し、可視光の波長範囲全体にわたって光を透過することは必須ではない。本明細書では、赤外線および紫外線を含めた電磁波全般を、便宜上「光」と表現する。対向電極12には、例えば、ITO、IZO、AZO、FTO、SnO、TiO2、ZnOなどの透明導電性酸化物(Transparent Conducting Oxide(TCO))を用いることができる。
光電変換層15は、入射する光を受けて正孔-電子対を発生させる。光電変換層15は、典型的には、有機半導体材料から形成される。光電変換層15を構成する材料の具体例は、後述する。光電変換層15は、典型的には、膜の形状を有する。
図1を参照して説明したように、対向電極12は、電圧供給回路32に接続された感度制御線42との接続を有する。対向電極12は、複数の単位画素10にまたがって形成されていてもよい。このようにすれば、感度制御線42を介して、電圧供給回路32から所望の大きさの感度制御電圧を複数の単位画素10の間に一括して印加することが可能である。感度制御電圧を画素アレイPAの行ごとに一括印加するように対向電極12を構成することもできる。電圧供給回路32から所望の大きさの感度制御電圧を印加することができれば、対向電極12は、単位画素10ごとに分離して設けられていてもよい。同様に、光電変換層15が単位画素10ごとに分離して設けられていてもよい。
画素電極11の電位に対する対向電極12の電位を制御することにより、光電変換によって光電変換層15内に生じた正孔-電子対のうち、正孔および電子のいずれか一方を、画素電極11によって収集することができる。例えば信号電荷として正孔を利用する場合、画素電極11よりも対向電極12の電位を高くすることにより、画素電極11によって正孔を選択的に収集することが可能である。また、単位時間当たりに収集される信号電荷量は画素電極11と対向電極12との間の電位差に応じて変化する。以下では、信号電荷として正孔を利用する場合を例示する。もちろん、信号電荷として電子を利用することも可能である。
対向電極12に対向する画素電極11は、対向電極12と画素電極11との間に適切なバイアス電圧が与えられることにより、光電変換層15において光電変換によって発生した正および負の電荷のうちの一方を収集する。画素電極11は、アルミニウム、銅などの金属、金属窒化物、または、不純物がドープされることにより導電性が付与されたポリシリコンなどから形成される。
画素電極11を遮光性の電極としてもよい。例えば、画素電極11として、厚さが100nmのTaN電極を形成することにより、十分な遮光性を実現し得る。画素電極11を遮光性の電極とすることにより、半導体基板20に形成されたトランジスタ(この例では信号検出トランジスタ24、アドレストランジスタ26およびリセットトランジスタ28の少なくともいずれか)のチャネル領域または不純物領域への、光電変換層15を通過した光の入射を抑制し得る。上述の配線層56を利用して層間絶縁層50内に遮光膜を形成してもよい。これらの遮光性の電極ないし遮光膜によって半導体基板20に形成されたトランジスタのチャネル領域への光の入射を抑制することにより、トランジスタの特性のシフト(例えば閾値電圧の変動)などを抑制し得る。また、半導体基板20に形成された不純物領域への光の入射を抑制することにより、不純物領域における意図しない光電変換によるノイズの混入を抑制し得る。このように、半導体基板20への光の入射の抑制は、撮像装置100の信頼性の向上に貢献する。
図2に模式的に示すように、画素電極11は、プラグ52、配線53およびコンタクトプラグ54を介して、信号検出トランジスタ24のゲート電極24gに接続されている。言い換えれば、信号検出トランジスタ24のゲートは、画素電極11との電気的な接続を有する。プラグ52および配線53は、例えば銅などの金属から形成され得る。プラグ52、配線53およびコンタクトプラグ54は、信号検出トランジスタ24と光電変換部13との間の電荷蓄積部41(図1参照)の少なくとも一部を構成する。配線53は、配線層56の一部であり得る。また、画素電極11は、プラグ52、配線53およびコンタクトプラグ55を介して、不純物領域28dにも接続されている。図2に例示する構成において、信号検出トランジスタ24のゲート電極24g、プラグ52、配線53、コンタクトプラグ54および55、ならびに、リセットトランジスタ28のソース領域およびドレイン領域の一方である不純物領域28dは、画素電極11によって収集された信号電荷を蓄積する電荷蓄積部41として機能する。
画素電極11によって信号電荷が収集されることにより、電荷蓄積部41に蓄積された信号電荷の量に応じた電圧が、信号検出トランジスタ24のゲートに印加される。信号検出トランジスタ24は、この電圧を増幅する。信号検出トランジスタ24によって増幅された電圧が、信号電圧としてアドレストランジスタ26を介して選択的に読み出される。
(撮像装置の動作)
図3を参照しながら、高感度露光期間および低感度露光期間を用いた画像の取得について説明する。図3は、実施形態1に係る撮像装置における動作の一例を示すタイミングチャートである。図3中のグラフ(a)は、垂直同期信号VDの立ち下がり(または立ち上がり)のタイミングを示す。グラフ(b)は、水平同期信号HDの立ち下がり(または立ち上がり)のタイミングを示す。また、グラフ(c)は、感度制御線42を介して電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbの時間的変化の一例を示す。グラフ(d)は、画素アレイPAの各行における信号読み出し期間、高感度露光期間および低感度露光期間を模式的に示す。電圧Vbの基準は、例えば、撮像装置のグランド電位である。また、図3には示していないが、シールド電極17には感度制御線45を介して電圧供給回路35から所定の電圧Vsが印加されている。電圧Vsは、例えば0Vである。
図3のグラフ(d)では、画素アレイPAの各行における信号読み出し期間が、感度と関連付けられて示されている。網点の矩形は、各行における高感度露光期間を模式的に表している。斜線の付された矩形は、各行における低感度露光期間を模式的に表している。白の矩形は、各行における信号の読み出し期間を模式的に表している。グラフ(d)において、白の矩形領域は、斜線の付された矩形領域に重なっている。つまり、この例では、信号の読み出し期間は、低感度露光期間に含まれている。
以下、撮像装置100における動作の一例を説明する。簡単のため、ここでは、画素アレイPAに含まれる画素の行数が、第R0行から第R15行の合計16行である場合における動作の例を説明する。
画像の取得においては、画素アレイPA中の各単位画素10の電荷蓄積部41のリセットと、リセット後に蓄積された画素信号の読み出しとが実行される。本実施形態における撮像装置においては、一度の読み出し期間の中で、画素信号の読み出しおよび次の1フレーム期間における電荷蓄積のための電荷蓄積部41のリセットを行う。例えば、図3に示すように、垂直同期信号VDに基づき、第R0行に属する複数の画素の信号読み出しを開始する。時刻t0は、その開始時刻の1つである。
上述のとおり、図3の(d)における一つの白の矩形で示される期間が、信号読み出し期間である。図4に、信号読み出し期間における制御信号のタイミングチャートの一例を示す。図4において、Vselは、アドレス制御線46の電位を表す。電位Vselは、LowレベルであるVL1と、HighレベルであるVH1と、の間で変化し得る。Vrcは、リセット制御線48の電位を表す。電位Vrcは、LowレベルであるVL2と、HighレベルであるVH2と、の間で変化し得る。VFDは、電荷蓄積部41の電位を表す。電位VFDは、電荷蓄積部41に電荷が蓄積されているときには、画素信号Vpsigとして利用される。電位VFDは、電荷蓄積部41がリセットされているときには、リセット信号Vrsigとして利用される。
時刻t0において、信号読み出し期間が開始される。その信号読み出し期間において、まず初めに、垂直同期信号VDに基づいて、第R0行のアドレス制御線46の電位Vselが、LowレベルからHighレベルに切り替わる。これにより、そのアドレス制御線46にゲートが接続されているアドレストランジスタ26は、OFFからONに切り替わる。これにより、電荷蓄積部41の電位VFDが、垂直信号線47に出力される。具体的には、画素信号Vpsigが、垂直信号線47に出力される。この画素信号Vpsigは、前の1フレーム期間に電荷蓄積部41に蓄積された電荷量に対応する信号である。画素信号Vpsigは、カラム信号処理回路37へ伝達される。
図3の例では、グラフ(d)の白色の矩形で表された信号読み出し期間は、画素信号Vpsigを読み出すための期間とともに、リセット期間を含む。リセット期間は、単位画素10の電荷蓄積部41の電位をリセットするための期間である。具体的には、この例では、上記の画素読み出しの完了後に、第R0行に属する画素のリセットが行われる。画素読み出しの完了と第R0行に属する画素のリセットとの間に、カラム信号処理回路37における画素信号のAD変換等を介在させてもよい。
第R0行に属する画素のリセットは、以下の手順で行われる。第R0行のリセット制御線48の電位Vrcが、図4に示すように、LowレベルからHighレベルに切り替わる。これにより、そのリセット制御線48にゲートが接続されているリセットトランジスタ28は、OFFからONに切り替わる。これにより、電荷蓄積部41とリセット電圧線44とが接続され、電荷蓄積部41にリセット電圧Vrが供給される。これにより、電荷蓄積部41の電位が、リセット電圧Vrにリセットされる。ここで、リセット電圧Vrは、例えば0Vである。
その後、リセット制御線48の電位Vrcが、HighレベルからLowレベルに切り替わる。これにより、リセットトランジスタ28は、ONからOFFに切り替わる。リセットトランジスタ28がOFFであるときに、垂直信号線47を介して、第R0行の単位画素10からリセット信号Vrsigが読み出される。リセット信号Vrsigは、リセット電圧Vrの大きさに対応する信号である。リセット信号Vrsigは、カラム信号処理回路37へ伝達される。
リセット信号Vrsigの読み出し後、アドレス制御線46の電位Vselが、HighレベルからLowレベルに切り替わる。これにより、アドレストランジスタ26は、ONからOFFに切り替わる。
上述のとおり、読み出された画素信号Vpsigおよびリセット信号Vrsigは、それぞれ、カラム信号処理回路37に伝達される。これらの信号の差分をとることにより、固定パターンノイズを除去することができる。具体的には、リセット信号Vrsigがノイズ成分に対応し、そのノイズ成分を画素信号Vpsigから差し引くことにより、ノイズが除去される。
この例では、図3に模式的に示すように、水平同期信号HDにあわせて、第R0行から第R15行の各行に属する画素の信号読み出しおよびリセットを行単位で順次に実行する。以下では、水平同期信号HDのパルスの間隔、換言すれば、ある行が選択されてから次の行が選択されるまでの期間を「1H期間」と呼ぶことがある。
この例では、例えば、時刻t0から時刻t1までの期間H0が、1H期間に相当する。時刻t1から時刻t2までの期間H1も、1H期間に相当する。時刻t2から時刻t3までの期間H2も、1H期間に相当する。時刻t3から時刻t4までの期間H3も、1H期間に相当する。
期間H0において、第R0行の読出しが行われる。期間H1において、第R1行の読出しが行われる。期間H2において、第R2行の読出しが行われる。期間H3において、第R3行の読出しと、電荷蓄積部41への電荷の蓄積と、が行われる。なお、ある期間において読み出しが行われるという表現は、読み出しにその期間の全てを費やすことのみを表すと限定的に解釈されるべきでない。この表現は、読み出しにその期間の一部を費やすことを含む概念である。
本実施形態では、期間H0、期間H1、および期間H2の1H期間は、同一の長さHSを有する。これに対し、期間H3の長さHLは、長さHSに比べて長い。例えば、長さHLは、長さHSの数倍以上数百倍以下である。
図3の例においては、垂直同期信号VDに基づいて、第R0行から第R3行の4行分の走査が行われる。具体的には、第R0行から第R2行の3行分の走査が、それぞれ、長さHSの1H期間において行われる。その後、第R3行の1行分の走査が、長さHLの1H期間において行われる。図3の例においては、さらに、同じ垂直同期信号VDに基づいて、第R4行から第R15行の走査も行われる。ここで、走査は、各々の行に属する画素からの信号読み出しを指す。
図3に示すように、時刻t0から時刻t1までの期間H0において、第R0行に属する画素の読出しが行われる。時刻t1から時刻t2までの期間H1において、第R1行に属する画素の読出しが行われる。時刻t2から時刻t3までの期間H2において、第R2行に属する画素の読出しが行われる。期間H3のうち時刻t3から時刻tu0までの期間において、第R3行に属する画素の読出しが行われる。第R0行から第R3行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V2が印加される。
時刻tu0において、電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V2から電圧V1に変更される。その後、時刻td0において、電圧Vbは、再び電圧V2に切り替えられる。図3に示すように、時刻tu0および時刻td0は、同じ期間H3に属する。時刻tu0は、第R3行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。時刻td0は、第R4行に属する画素の信号読み出し期間の開始前の時刻である。
電圧V2は、典型的には、画素電極11と対向電極12との間の電位差が0V以下となるような電圧である。以下、この電位差について、さらに説明する。上述のとおり、リセットトランジスタ28をONにすることにより、リセット電圧源34から、リセット電圧線44およびリセットトランジスタ28を介して、電荷蓄積部41にリセット電圧Vrを供給できる。電荷蓄積部41にリセット電圧Vrを供給すると、画素電極11の電圧も電圧Vrにリセットされる。電圧V2を電圧Vrと同じに設定することにより、画素電極11の電圧が電圧Vrにリセットされているときにおいて上記電位差を0Vにできる。上述のとおり、電圧Vrは0Vであってもよい。
光電変換層15に印加されるバイアス電圧が0Vとなる状態において、光電変換層15で発生した電荷はほとんど消失する。その理由は、光の照射によって生じた正および負の電荷のほとんどが速やかに再結合し、消滅してしまうためであると推測される。その一方で、高感度露光時に電荷蓄積部41に蓄積された信号電荷は、画素のリセット動作が行われるまで失われることなく保持される。この信号電荷は、低感度露光状態および高感度露光状態の切り替えによって破棄されない。その結果、高感度露光期間と低感度露光期間とが繰り返されたとしても、各高感度露光時に蓄積された信号電荷は積分される。高感度露光時は、上記の例では、バイアス電圧が10Vのときである。なお、低感度露光時に光電変換層15に正のバイアス電圧が印加される場合は、低感度露光時にも信号電荷が蓄積される。このような場合には、高感度露光時に加え、低感度露光時に蓄積された信号電荷も積分される。
第R4行から第R7行に属する画素の読み出しは、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。具体的には、図3に示すように、時刻t4から時刻t5までの期間H4において、第R4行に属する画素の読出しが行われる。時刻t5から時刻t6までの期間H5において、第R5行に属する画素の読出しが行われる。時刻t6から時刻t7までの期間H6において、第R6行に属する画素の読出しが行われる。期間H7のうち時刻t7から時刻tu1までの期間において、第R7行に属する画素の読出しが行われる。第R4行から第R7行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V2が印加される。期間H4、H5およびH6は、それぞれ、長さHSの1H期間である。期間H7は、長さHLの1H期間である。
時刻tu1において、電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V2から電圧V1に変更される。その後、時刻td1において、電圧Vbは、再び電圧V2に切り替えられる。図3に示すように、時刻tu1および時刻td1は、同じ期間H7に属する。時刻tu1は、第R7行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。時刻td1は、第R8行に属する画素の信号読み出し期間の開始前の時刻である。
第R8行から第R11行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。第R12行から第R15行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。
このように、図3の例では、4行分の走査期間を周期として、対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V2と電圧V1との間で切り替えられる。4行分の走査期間は、3つの長さHSと、1つの長さHLの合計に相当する。時刻t0から時刻t16までの間に、4行分の走査期間に相当する周期が、4つ現れる。
高感度露光期間は、電圧供給回路32が、対向電極12に印加する電圧を、電圧V2よりも大きい電圧V1に切り替えることによって開始される。低感度露光期間は、電圧供給回路32が、対向電極12に印加する電圧を、電圧V2に切り替えることによって開始される。
具体的には、第R0行から第R3行に属する画素からの信号読み出しを行っている最中において、電圧供給回路32によって、対向電極12に印加される電圧Vbが、低い電圧V2に維持される。これにより、低感度露光状態が維持される。第R3行に属する画素の読み出しの完了後に、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、低い電圧V2から高い電圧V1に切り替わる。これにより、露光状態が、低感度露光状態から高感度露光状態に切り替わる。電圧Vbが電圧V1である状態が所定期間維持される。その後、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、電圧V1から電圧V2に再び切り替わる。
より具体的には、上述のように、第R3行を走査する1H期間は、第R0行から第R2行を走査する1H期間より長い。その長い1H期間において、第R3行に属する画素の読み出しと、電圧Vbの電圧V2から電圧V1への切り替えと、電圧Vbの電圧V1から電圧V2への切り替えと、が行われる。
第R4行から第R7行についても、第R0行から第R3行と同様に、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。第R8行から第R11行についても、同様である。第R12行から第R15行についても、同様である。このように、4行単位で、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。
本実施形態の技術は、以下のように表現できる。撮像装置100は、画素アレイPAを備える。1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れる。第1期間において、画素アレイPAにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第2期間において、画素アレイPAにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、画素アレイPAにおける2つの行を含む。第3期間において、画素アレイPAのいずれの行の画素信号読み出しも行われない。第1期間および第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方である。第3期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の他方である。なお、第1の少なくとも1つの行と、第2の少なくとも1つの行とは、互いに重複していない。上記1つのフレームの期間の長さは、図3の例では、ある行における、画素信号読み出しの開始時点から次の画素信号読み出しの開始時点までの期間の長さと同じである。具体的には、図3の例では、上記1つのフレームの期間の長さは、時刻t0からt16までの期間の長さである。この例では、駆動部が、第1期間、第2期間および第3期間を設定し、画素信号読み出しのタイミングを設定する。
具体的に、図3の例では、時刻t0から時刻tu0までの期間が、第1期間に対応し得る。時刻tu0から時刻td0までの期間が、第3期間に対応し得る。時刻td0から時刻tu1までの期間が、第2期間に対応し得る。第R0行、第R1行、第R2行および第R3行の組み合わせが、第1の少なくとも1つの行に対応し得る。第R4行、第R5行、第R6行および第R7行の組み合わせが、第2の少なくとも1つの行に対応し得る。第1期間および第2期間は、低感度露光期間である。第3期間は、高感度露光期間である。第1期間と第3期間とは、互いに隣り合っている。第3期間と第2期間とは、互いに隣り合っている。
別の捉え方をすると、図3の例において、時刻td0から時刻tu1までの期間が、第1期間に対応し得る。この期間は、低感度露光期間である。この第1期間に続く高感度露光期間が、第3期間に対応し得る。この第3期間に続く低感度露光期間が、第2期間に対応し得る。第R4行、第R5行、第R6行および第R7行の組み合わせが、第1の少なくとも1つの行に対応し得る。第R8行、第R9行、第R10行および第R11行の組み合わせが、第2の少なくとも1つの行に対応し得る。種々の捉え方があり得る点は、他の実施形態についても同様である。
上記本実施形態の技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。以下、この点について説明する。
図5から9の上段は、対向電極12に印加される電圧Vbの時間変化を表す。下段の各長方形は、画素信号読み出しがなされていることを表す。
図5の例では、本実施形態と同様、低感度露光期間と高感度露光期間とを跨ぐ期間に画素信号読み出しがなされる画素アレイPAの行は存在しない。このことは、後述の参考実施形態で説明するように、良好な画像を得る観点から有利である。
しかし、本発明者らの検討によれば、図5の例には、良好な画像を得る観点から、改善の余地がある。具体的には、図5の例では、低感度露光期間と高感度露光期間の両方において、画素信号読み出しがなされている。この場合、低感度露光期間に画素信号読み出しを行う画素アレイPAの行と、高感度露光期間に行う画素アレイPAの行との間に出力レベル差が発生し得る。そして、出力レベル差により、像に、周期的な横縞が現れ得る。
図6の例では、高感度露光期間において、画素信号読み出しはなされていない。一方、低感度露光期間において、画素信号読み出しがなされている。このようにすれば、周期的な横縞の出現を防止でき、良好な画像を確保し易い。
ここで、本発明者らは、フレームレートを確保することも考えた。図6の例において、フレームレートを確保するには、各高感度露光期間を短くすることが考えられる。しかし、そのようにすると、以下の理由で、良好な画像が得られない場合がある。
図8に示すように、電圧供給回路32によって、対向電極12の電圧Vbを、電圧Vsetのようにパルス状に変化させようとしたとする。そのように電圧供給回路32を動作させても、現実には、RC時定数による遅延が原因で、電圧Vbはシャープに変化できない。図8の電圧Vrealは、現実の電圧Vbを示している。図8では、電圧Vrealが電圧Vsetに十分に近いレベルまで高まる前に、高感度露光期間が終了している。この場合、感度不足が原因で、良好な画像が得られないおそれがある。
低感度露光期間ではなく高感度露光期間に画素信号読み出しを行い、低感度露光期間を短くする場合も、RC時定数による問題は発生し得る。具体的には、低感度露光期間において、電圧Vrealが十分に低いレベルまで下がる前に、低感度露光期間が終了するおそれがある。その場合、感度過剰が原因で、良好な画像が得られないおそれがある。
図8を参照して説明した感度不足の問題は、図7および図9に示すように、高感度露光期間を長くすることにより解決するようにも思われる。しかし、図7および9では、高感度露光期間が長いが故に隣接する低感度露光期間の間のインターバルが長く、しかも1つの低感度露光期間につき1行分の読み出ししかなされていない。このため、フレームレートを確保し難い。
一方、上記本実施形態の技術では、第1期間および第2期間において画素信号読み出しが行われ、第3期間において画素信号読み出しが行われない。このため、周期的な横縞の出現を防止でき、良好な画像を確保し易い。さらに、第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、画素アレイPAにおける2つの行を含む。このため、フレームレートを確保し易い。以上の理由で、本実施形態の技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
図3の例では、第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の両方が、画素アレイPAにおける2つの行を含む。このことは、フレームレートを確保する観点から有利である。なお、第1の少なくとも1つの行に含まれた2つの行と、第2の少なくとも1つの行に含まれた2つの行は、互いに重複していない。
第1の少なくとも1つの行が画素アレイPAにおける2つの行を含む場合、典型的には、その2つの行は、互いに隣り合っている。ただし、そのことは必須ではない。第1の少なくとも1つの行の数が複数である場合、その複数の行の全てが、他の行を介在させることなく連続して並んでいてもよい。ただし、そのことは必須ではない。
第2の少なくとも1つの行が画素アレイPAにおける2つの行を含む場合、典型的には、その2つの行は、互いに隣り合っている。ただし、そのことは必須ではない。第2の少なくとも1つの行の数が複数である場合、その複数の行の全てが、他の行を介在させることなく連続して並んでいてもよい。ただし、そのことは必須ではない。
第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行は、互いに隣り合っていてもよく、互いに隣り合っていなくてもよい。
上述のとおり、本実施形態では、1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れる。第X期間を第1期間または第2期間と定義したとき、1つのフレームにおいて、第X期間と第3期間とが交互に繰り返されてもよい。1つのフレームは、この繰り返しのみによって構成されていてもよい。
第1の少なくとも1つの行の数が複数である場合、その数は、例えば10行以上1000行以下であり、具体的には30行以上300行以下であり得る。第2の少なくとも1つの行の数が複数である場合、その数は、例えば10行以上1000行以下であり、具体的には30行以上300行以下であり得る。
上述の説明から理解されるように、本実施形態では、1つのフレームにおいて、高感度露光期間が、複数領域に分散されている。そして、各高感度露光期間における撮像データが重畳された画像が得られる。このようにすれば、1フレーム期間中の特定の領域に高感度露光期間が偏り難く、1フレーム期間の全体にわたる情報を取得し易い。このため、1つのフレームにおいて高感度露光期間を1領域にまとめる場合に比べ、時間的に変化する被写体を良好に撮像し易い。例えば、LED等の点滅する被写体を良好に撮像し易い。具体的には、高感度露光期間を1領域にまとめると、被写体が光るタイミングが高感度露光期間内に訪れないことがある。これに対し、高感度露光期間を複数領域に分散させると、そのような事態が発生し難いため、点滅する被写体を撮像し易い。
図3の例では、第1の少なくとも1つの行を構成する行の数と、第2の少なくとも1つの行を構成する行の数は、同じである。このようにすることは、時間的に変化する被写体を良好に撮像する観点から有利である。具体的には、画素信号読み出しのタイミングを均等に分散させ易い。このため、第1期間の長さと第2期間の長さを均等にし易い。これにより、高感度露光期間を均等に分散させ易い。このことは、上述の理由で、時間的に変化する被写体を良好に撮像する観点から有利である。なお、図3の例では、具体的には、第1の少なくとも1つの行を構成する行の数は、4つである。第2の少なくとも1つの行を構成する行の数は、4つである。
図3の例では、第1期間および第2期間は、低感度露光期間である。第3期間は、高感度露光期間である。これらの期間をこのように設定することは、低い感度での撮像を行う場合に適している。このことについて、図10および11を参照しながら説明する。図10および11において、画素信号読み出しの群(図10および11の例では、4つの群)が構成する期間を期間Tgとする。図11のように第1期間、第2期間および第3期間を上記とは反対に設定することを考える。その場合、感度を低くするために長い低感度露光期間および短い高感度露光期間を採用すると、高感度露光期間から期間Tgがはみ出し易くなる。このはみ出しは、良好な画像を得る観点から不利である。一方、図10では、図3と同様、第1期間および第2期間は低感度露光期間であり、第3期間は高感度露光期間である。この場合、感度を低くするために長い低感度露光期間および短い高感度露光期間を採用すると、低感度露光期間から期間Tgがはみ出し難くなる。このことから、各画素信号読み出しのタイミングを固定する(つまり、フレームレートを固定する)場合、図11の例に比べて図10の例の方が、低い感度を確保しつつ上記はみ出しによる画像劣化を防ぎ易いことが理解される。
本開示は、各画素信号読み出しのタイミングを変化させる形態を排除しない。各画素信号読み出しの間のインターバルを長くすることは可能である。その場合、図11のように第1期間および第2期間を高感度露光期間に設定し第3期間を低感度露光期間に設定しても、上記のはみ出しを発生させることなく低い感度を得ることができる。具体的には、長いインターバルを採用し、その長いインターバル内に長い低感度露光期間を収めることにより、上記のはみ出しを発生させることなく低い感度を得ることができる。しかし、インターバルを長くすると、フレームレートを確保し難い。このため、各画素信号読み出しのタイミングを変化させる形態を考慮しても、図11の例に比べ、図10の例は、低い感度を得る観点から有利である。
1つのフレームにおいて、高感度露光期間の総期間は、低感度露光期間の総期間未満であってもよい。このようにすれば、低い感度での撮像を行い易い。なお、この特徴は、他の実施形態にも適用可能である。
撮像装置100は、ローリングシャッタ方式で動作する制御モードを含んでいてもよい。ここで、ローリングシャッタ方式とは、画素アレイPAの行ごとに、画素信号読み出しを順次に行う方式である。また、ローリングシャッタ方式では、画素アレイPAの行ごとに、高感度露光期間が順次に設定される。図3の「1つのフレーム」は、撮像装置100がローリングシャッタ方式で動作しているときのフレームであってもよい。この点は、他の図についても同様である。
図1および2の例では、撮像装置100は、半導体基板20と、光電変換部13と、を備える。光電変換部13は、光電変換層15と、第1電極11と、第2電極12と、を備える。半導体基板20と、第1電極11と、光電変換層15と、第2電極12とは、この順に積層されている。このような積層構造によれば、感度の調整が容易な撮像素子を実現できる。第1電極11は、画素電極11に対応する。第2電極12は、対向電極12に対応する。具体的には、第1電極11および第2電極12は、それぞれ、光電変換層15に接している。
図1および2の例では、撮像装置100は、第1電圧供給回路32を備える。第1電圧供給回路32は、高感度露光期間において、第2電極12の電圧Vbを第1電圧へと制御する。第1電圧供給回路32は、低感度露光期間において、第2電極12の電圧Vbを第2電圧へと制御する。第1電圧と第2電圧とは互いに異なる。このように第2電極12の電圧を制御すると、感度を調整できる。第1電圧または第2電圧へと制御するという表現は、目標到達電圧が第1電圧または第2電圧であることを意とした表現である。この表現は、第2電極12の電圧Vbが第1電圧または第2電圧に瞬時に到達する態様に限定して解釈されるべきではない。この表現は、第2電極12の電圧Vbが時定数等の影響により第1電圧または第2電圧に時間をかけて到達する態様を含む。この点は、後述の第3電圧または第4電圧へと制御するという表現についても同様である。図1から3の例では、第1電圧は、電圧V1に対応する。第2電圧は、電圧V2に対応する。
図1および図2の例では、撮像装置は正孔を画素電極11に集める。このため、第1電圧を、第2電圧よりも大きくしている。しかし、上述のように、撮像装置を、正孔ではなく電子を画素電極11に集めるように構成することもできる。その場合、第1電圧を、第2電圧よりも小さくすることができる。
撮像装置100は、R成分およびC成分であって、第3期間の開始時点からR成分およびC成分によって定まる時定数に従って第2電極12の電圧を変化させるR成分およびC成分を有し得る。第3期間は、例えば、時定数の2倍以上である。このようにすれば、第3期間において、時定数の存在を考慮しても、第2電極の電圧を想定値に十分近づけることができる。このことは、所望の感度を得る観点から有利である。第3期間は、時定数の3倍以上であってもよい。第3期間は、例えば、20μs以上である。第3期間は、例えば、時定数の30倍以下である。第3期間は、例えば、300μs以下である。R成分は、抵抗成分である。C成分は、容量成分である。
同様に、第1期間の開始時点から、上記時定数に従って、第2電極12の電圧は変化する。第1期間は、時定数の2倍以上または3倍以上であってもよい。第1期間は、20μs以上であってもよい。第1期間は、時定数の30倍以下であってもよい。第1期間は、300μs以下であってもよい。
同様に、第2期間の開始時点から、上記時定数に従って、第2電極12の電圧は変化する。第2期間は、時定数の2倍以上または3倍以上であってもよい。第2期間は、20μs以上であってもよい。第2期間は、時定数の30倍以下であってもよい。第2期間は、300μs以下であってもよい。
上記のR成分は、第2電極12の抵抗を含み得る。具体的には、上記のR成分は、第2電極12の抵抗と、光電変換層15の抵抗と、を含み得る。より具体的には、第2電極12への電圧供給源を電源PSと定義し、電源PSにおける第2電極12への電圧出力部を第1端と定義し、光電変換層15と第1電極11の境界を第2端と定義したとき、上記のR成分は、第1端から第2端までの電気経路を構成する要素の合成抵抗であり得る。なお、R成分がある要素の抵抗R1を含むとは、当該R成分がR1である場合を含む概念である。また、R成分がある要素の抵抗R1を含むとは、抵抗R1のこの要素と抵抗R2の他の要素が直列接続されており当該R成分がR1+R2である場合、この要素と抵抗R2の他の要素が並列接続されており当該R成分がR1R2/(R1+R2)である場合等、当該R成分が複数の抵抗の合成抵抗である場合一般を含む概念である。
上記のC成分は、光電変換層15の容量を含み得る。具体的には、上記のC成分は、第2電極12の容量と、光電変換層15の容量と、を含み得る。より具体的には、第2電極12への電圧供給源を電源PSと定義し、電源PSにおける第2電極12への電圧出力部を第1端と定義し、光電変換層15と第1電極11の境界を第2端と定義したとき、上記のC成分は、第1端から第2端までの電気経路を構成する要素の合成容量であり得る。なお、C成分がある要素の容量C1を含むとは、当該C成分がC1である場合を含む概念である。また、C成分がある要素の容量C1を含むとは、容量C1のこの要素と容量C2の他の要素が並列接続されており当該C成分がC1+C2である場合、この要素と容量C2の他の要素が直列接続されており当該C成分がC1C2/(C1+C2)である場合等、当該C成分が複数の容量の合成容量である場合一般を含む概念である。
上述のように、本実施形態では、第1期間において、画素アレイPAにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第2期間において、画素アレイPAにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、画素アレイPAにおける2つの行を含む。第3期間において、画素アレイPAのいずれの行の画素信号読み出しも行われない。第1期間および第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方である。第3期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の他方である。これらが維持されるように、デューティ比が変更されてもよい。これらとともに、本実施形態の他の特徴が維持されるように、デューティ比が変更されてもよい。ここで、デューティ比は、1つのフレームの期間に対する、該1つのフレームにおける高感度露光期間の総期間の比率を指す。デューティ比の変更により、感度を調整できる。
具体的には、上記のデューティ比の変更により、電子ND(Neutral Density)制御が実現される。電子ND制御は、撮像素子の感度の電気的な制御を指す。電子ND制御は、高感度露光期間における画素電極11と対向電極12との間の電位差の大きさを調整することによっても実現できる。以下、これら2通りの電子ND制御について説明する。
まず、画素電極11と対向電極12との間の電位差の大きさの調整による電子ND制御について説明する。
先の説明から理解されるように、本実施形態によれば、画素電極11の電位に対する対向電極12の電位を制御できる。これにより、光電変換によって光電変換層15内に生じた正孔-電子対のうち、正孔および電子のいずれか一方を、画素電極11に収集できる。単位時間当たりに収集される信号電荷量は、画素電極11と対向電極12との間の電位差に応じて変化する。この電位差を変化させることで、電子ND制御を実現できる。
図12に、画素電極11と対向電極12との間の電位差に対する、光電変換層15の受光感度の変化の一例を示す。図12の横軸は、画素電極11と対向電極12との間の電位差を示している。図12の縦軸は、光電変換層15の規格化感度を示している。ここで、規格化感度は、画素電極11と対向電極12の電位差が10Vであるときの感度を1.0として規格化した値である。
図12は、画素電極11と対向電極12の間の電位差を調整することで、光電変換層15の受光感度を調整できることを示している。具体的には、図12において、「ND2」は、撮像素子への入射光量を半分に減光するND2フィルタに対応する規格化感度を表している。「ND4」は、撮像素子への入射光量を4分の1に減光するND4フィルタに対応する規格化感度を表している。「ND8」は、撮像素子への入射光量を8分の1に減光するND8フィルタに対応する規格化感度を表している。ND2フィルタに対応する規格化感度は、1.0の半分の0.5である。ND4フィルタに対応する規格化感度は、1.0の4分の1の0.25である。ND8フィルタに対応する規格化感度は、1.0の8分の1の0.125である。これらの規格化感度は、画素電極11と対向電極12の間の電位差を調整し、光電変換層15に印加される電界を調整することにより調整できる。
このように、所望のND機能に相当する受光感度に対応する電位差を、画素電極11と対向電極12の間に与えることができる。これにより、光電変換層15を電子NDフィルタとして機能させることができ、電子ND制御を実現できる。
画素電極11と対向電極12との間の電位差の大きさの調整による電子ND制御の例を、図13に示す。図13の例では、撮像装置100は、高感度露光期間において、第2電極12の電圧Vbを第1電圧V1へと制御する。撮像装置100は、第1電圧V1として第1駆動電圧Vmを用いる第1駆動と、第1電圧V1として第2駆動電圧Vnを用いる第2駆動と、を行う。第1駆動電圧と第2駆動電圧とは互いに異なる。図13の例は、上述の積層構造により実現可能である。
次に、デューティ比の変更による電子ND制御について説明する。
画素電極11と対向電極12との間の電位差を、相対的に大きい第1の値と、相対的に小さい第2の値の2種類から選択することを考える。このような選択がなされる場合、第1の値および第2の値を固定する場合であっても、感度の調整は可能である。第1の値の期間と第2の値の期間の合計に対する第1の値の期間の比率を変更することにより、感度を調整できる。
特に限定されないが、第1の値として、光電変換層15の規格化感度が1.0となる電位差を用いることができる。この電位差は、上記の例では、10Vである。第2の値として、光電変換層15の規格化感度が0.0となる電位差を用いることができる。この電位差は、上記の例では、0Vである。
図12の例では、画素電極11と対向電極12との間の電位差に対して、光電変換層15の受光感度が、非線形的に変化している。このような場合であっても、デューティ比の変更による電子ND制御によれば、デューティ比に対して受光感度を線形的に変化させることができる。このため、感度の調整が簡単である。ただし、このような場合であっても、画素電極11と対向電極12との間の電位差の大きさの調整による電子ND制御は実現可能である。例えば、電位差と受光感度との関係を示す関数を記憶させる記憶部を用いることによって、実現可能である。
図3の例においては、デューティ比は、(td1-tu1)/(3×HS+HL)である。このデューティ比によれば、デューティ比が1である場合に比べ、撮像感度は、(td1-tu1)/(3×HS+HL)倍に低下する。図3の例では、このような倍率で感度を低下させる電子NDの効果が得られている。
図3の例においては、対向電極12に印加する電圧Vbを電圧V1に設定する時間幅を調整できる。具体的には、時刻tu0から時刻td0までの時間幅を調整できる。このような調整により、露光時間を調整でき、受光感度を調整できる。
(周期が8行の例)
図3の例では、4行分の走査期間を周期として、対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V2と電圧V1との間で切り替えられる。他の周期も採用され得る。以下、図14を参照しつつ、8行分の走査期間を周期として電圧Vbが切り替える例について、説明する。
図14の例では、時刻t0から時刻t1までの期間H0において、第R0行に属する画素の読出しが行われる。時刻t1から時刻t2までの期間H1において、第R1行に属する画素の読出しが行われる。時刻t2から時刻t3までの期間H2において、第R2行に属する画素の読出しが行われる。時刻t3から時刻t4までの期間H3において、第R3行に属する画素の読出しが行われる。時刻t4から時刻t5までの期間H4において、第R4行に属する画素の読出しが行われる。時刻t5から時刻t6までの期間H5において、第R5行に属する画素の読出しが行われる。時刻t6から時刻t7までの期間H6において、第R6行に属する画素の読出しが行われる。期間H7のうち時刻t7から時刻tu0までの期間において、第R3行に属する画素の読出しが行われる。第R0行から第R7行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V2が印加される。期間H0、H1、H2、H3、H4、H5およびH6は、それぞれ、長さHSの1H期間である。期間H7は、長さHLの1H期間である。
時刻tu0において、電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V2から電圧V1に変更される。その後、時刻td0において、電圧Vbは、再び電圧V2に切り替えられる。図14に示すように、時刻tu0および時刻td0は、同じ期間H7に属する。時刻tu0は、第R7行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。時刻td0は、第R8行に属する画素の信号読み出し期間の開始前の時刻である。
第R8行から第R15行に属する画素の読み出しは、第R0行から第R7行に属する画素の読み出しと同様に行われる。
このように、図14の例では、8行分の走査期間を周期として、対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V1と電圧V2との間で切り替えられる。8行分の走査期間は、7つの長さHSと、1つの長さHLの合計に相当する。時刻t0から時刻t16までの間に、8行分の走査期間に相当する周期が、2つ現れる。
図14の例では、第R0行から第R7行に属する画素からの信号読み出しを行っている最中において、電圧供給回路32によって、対向電極12に印加される電圧Vbが、低い電圧V2に維持される。これにより、低感度露光状態が維持される。第R7行に属する画素の読み出しの完了後に、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、低い電圧V2から高い電圧V1に切り替わる。これにより、露光状態が、低感度露光状態から高感度露光状態に切り替わる。電圧Vbが電圧V1である状態が所定期間維持される。その後、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、電圧V1から電圧V2に再び切り替わる。
より具体的には、上述のように、第R7行を走査する1H期間は、第R0行から第R6行を走査する1H期間より長い。その長い1H期間において、第R7行に属する画素の読み出しと、電圧Vbの電圧V2から電圧V1への切り替えと、電圧Vbの電圧V1から電圧V2への切り替えと、が行われる。
第R8行から第R15行についても、第R0行から第R7行と同様に、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。このように、8行単位で、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。
図3の例に比べ、図14の例では、個々の高感度露光期間が長い。このため、図3の例に比べ、図14の例によれば、図8を参照して説明した感度不足の問題が発生し難い。
一方、図14の例に比べ、図3の例では、高感度露光期間が多くの領域に分散している。このため、図14の例に比べ、図3の例によれば、時間的に変化する被写体を良好に撮像し易い。
ある1フレーム期間と別の1フレーム期間とで、高感度露光期間が現れる数を変更することもできる。別の言い方をすると、ある1フレーム期間と別の1フレーム期間とで、電圧VbがV1に維持される期間の数を変更することもできる。例えば、図15の例では、時刻tv0から時刻tv1までの1フレーム期間において、電圧VbがV1に維持される期間が3つ存在する。このため、この1フレーム期間において、3つの高感度露光期間が現れている。一方、時刻tv1から時刻tv2までの1フレーム期間において、電圧VbがV1に維持される期間が1つ存在する。このため、この1フレーム期間において、1つの高感度露光期間が現れている。
図15の例では、時刻tv1から時刻tv2までの1フレーム期間において、第R3行に属する画素から読み出される画素信号は、図15の期間(A)に当該画素に蓄積された電荷に応じた信号である。この期間(A)は、第R3行の画素の電荷蓄積期間である。また、同じ1フレーム期間において、第R7行に属する画素から読み出される画素信号は、図15の期間(B)に当該画素に蓄積された電荷に応じた信号である。この期間(B)は、第R7行の画素の電荷蓄積期間である。
図15において、期間(A)には3つの高感度露光期間が現れており、一方で、期間(B)には2つの高感度露光期間が現れている。このように、第R3行と第R7行とでは、電荷蓄積期間において高感度露光期間が現れる回数が相違する。しかし、この相違があっても、同一画面中において画素アレイPAの行ごとの感度の不均一が発生するのを抑えることができる。
具体的には、画素アレイPAの各行について、画素の出力信号にゲインをかけることができる。より具体的には、画素の出力信号に、蓄積期間Taに対する高感度露光期間の総期間Ttの比Tt/Taに応じたゲインをかけることができる。さらに具体的には、画素の出力信号に、比Tt/Taに反比例するゲインをかけることができる。このようにゲインをかけることにより、行ごとの感度の不均一を抑制するための出力信号の補正が実現される。
図15の例では、第R3行に関する上記議論と同様の議論が、第R0行~第R2行についても成立する。第R7行に関する上記議論と同様の議論が、第R4行~第R6行および第R8行~第R11行についても成立する。
具体的には、図15の例では、例えば、第R0行~第R3行に属する画素の出力信号には1倍のゲインをかけ、第R4行~第R11行に属する画素の出力信号には3/2倍のゲインをかけることができる。
(実施形態2)
以下、実施形態2について説明する。実施形態2においては、実施形態1と同様の内容については、説明を省略することがある。
図16は、実施形態2に係る撮像装置における動作の一例を示すタイミングチャートである。図3と図16を比較することにより理解されるように、実施形態2では、高感度露光期間において、画素信号の読み出しがなされる。
具体的には、図16に示すように、時刻t0から時刻t1までの期間H0において、第R0行に属する画素の読出しが行われる。時刻t1から時刻t2までの期間H1において、第R1行に属する画素の読出しが行われる。時刻t2から時刻t3までの期間H2において、第R2行に属する画素の読出しが行われる。期間H3のうち時刻t3から時刻tu0までの期間において、第R3行に属する画素の読出しが行われる。第R0行から第R3行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V1が印加される。なお、シールド電極17には、実施形態1と同様に、電圧供給回路35によって所定の電圧Vsが印加されている。期間H0、H1およびH2は、それぞれ、長さHSの1H期間である。期間H3は、長さHLの1H期間である。
時刻tu0において、電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V1から電圧V2に変更される。その後、時刻t4において、電圧Vbは、再び電圧V1に切り替えられる。時刻tu0は、第R3行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。
第R4行から第R7行に属する画素の読み出しは、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。具体的には、図16に示すように、時刻t4から時刻t5までの期間H4において、第R4行に属する画素の読出しが行われる。時刻t5から時刻t6までの期間H5において、第R5行に属する画素の読出しが行われる。時刻t6から時刻t7までの期間H6において、第R6行に属する画素の読出しが行われる。期間H7のうち時刻t7から時刻tu1までの期間において、第R7行に属する画素の読出しが行われる。第R4行から第R7行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V1が印加される。期間H4、H5およびH6は、それぞれ、長さHSの1H期間である。期間H7は、長さHLの1H期間である。
時刻tu1において、電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V1から電圧V2に変更される。その後、時刻t8において、電圧Vbは、再び電圧V1に切り替えられる。時刻tu1は、第R7行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。
第R8行から第R11行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。第R12行から第R15行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。
このように、図16の例では、4行分の走査期間を周期として、対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V1と電圧V2との間で切り替えられる。4行分の走査期間は、3つの長さHSと、1つの長さHLの合計に相当する。時刻t0から時刻t16までの間に、4行分の走査期間に相当する周期が、4つ現れる。
図16の例では、第R0行から第R3行に属する画素からの信号読み出しを行っている最中において、電圧供給回路32によって、対向電極12に印加される電圧Vbが、高い電圧V1に維持される。これにより、高感度露光状態が維持される。第R3行に属する画素の読み出しの完了後に、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、高い電圧V1から低い電圧V2に切り替わる。これにより、露光状態が、高感度露光状態から低感度露光状態に切り替わる。電圧Vbが電圧V2である状態が所定期間維持される。その後、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、電圧V2から電圧V1に再び切り替わる。
より具体的には、上述のように、第R3行を走査する1H期間は、第R0行から第R2行を走査する1H期間より長い。その長い1H期間において、第R3行に属する画素の読み出しと、電圧Vbの電圧V1から電圧V2への切り替えと、電圧Vbの電圧V2から電圧V1への切り替えと、が行われる。
第R4行から第R7行についても、第R0行から第R3行と同様に、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。第R8行から第R11行についても、同様である。第R12行から第R15行についても、同様である。このように、4行単位で、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。
実施形態2の技術も、以下のように表現できる。撮像装置100は、画素アレイPAを備える。1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れる。第1期間において、画素アレイPAにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第2期間において、画素アレイPAにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、画素アレイPAにおける2つの行を含む。第3期間において、画素アレイPAのいずれの行の画素信号読み出しも行われない。第1期間および第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方である。第3期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の他方である。
具体的に、図16の例では、時刻t0から時刻tu0までの期間が、第1期間に対応し得る。時刻tu0から時刻t4までの期間が、第3期間に対応し得る。時刻t4から時刻tu1までの期間が、第2期間に対応し得る。第R0行、第R1行、第R2行および第R3行の組み合わせが、第1の少なくとも1つの行に対応し得る。第R4行、第R5行、第R6行および第R7行の組み合わせが、第2の少なくとも1つの行に対応し得る。第1期間および第2期間は、高感度露光期間である。第3期間は、低感度露光期間である。具体的には、第1期間と第3期間とは、互いに隣り合っている。第3期間と第2期間とは、互いに隣り合っている。
実施形態1で図5から9を参照して説明した理由と同じ理由で、実施形態2の技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
図16の例では、第1期間および第2期間は、高感度露光期間である。第3期間は、低感度露光期間である。これらの期間をこのように設定することは、高い感度での撮像を行う場合に適している。図10のように第1期間、第2期間および第3期間を上記とは反対に設定することを考える。その場合、感度を高くするために短い低感度露光期間および長い高感度露光期間を採用すると、低感度露光期間から期間Tgがはみ出し易くなる。このはみ出しは、良好な画像を得る観点から不利である。一方、図11では、図16と同様、第1期間および第2期間は高感度露光期間であり、第3期間は低感度露光期間である。この場合、感度を高くするために短い低感度露光期間および長い高感度露光期間を採用すると、高感度露光期間から期間Tgがはみ出し難くなる。このことから、各画素信号読み出しのタイミングを固定する(つまり、フレームレートを固定する)場合、図10の例に比べて図11の例の方が、高い感度を確保しつつ上記はみ出しによる画像劣化を防ぎ易いことが理解される。
上述のように、各画素信号読み出しの間のインターバルを長くすることは可能である。その場合、図10のように第1期間および第2期間を低感度露光期間に設定し第3期間を高感度露光期間に設定しても、上記のはみ出しを発生させることなく高い感度を得ることができる。具体的には、長いインターバルを採用し、その長いインターバル内に長い高感度露光期間を収めることにより、上記のはみ出しを発生させることなく高い感度を得ることができる。しかし、インターバルを長くすると、フレームレートを確保し難い。このため、各画素信号読み出しのタイミングを変化させる形態を考慮しても、図10の例に比べ、図11の例は、高い感度を得る観点から有利である。
1つのフレームにおいて、高感度露光期間の総期間は、低感度露光期間の総期間以上であってもよい。このようにすれば、高い感度での撮像を行い易い。なお、この特徴は、他の実施形態にも適用可能である。
低い感度での撮像と高い感度での撮像の両方に適した撮像装置を構成することもできる。図17の例では、そのような撮像装置の制御モードは、第1モードと第2モードとを備える。第1モードにおいて、第1期間および第2期間は、高感度露光期間である。第1モードにおいて、第3期間は、低感度露光期間である。第2モードにおいて、第1期間および第2期間は、低感度露光期間である。第2モードにおいて、第3期間は、高感度露光期間である。第1モードは、高い感度での撮像を行う場合に適している。第2モードは、低い感度での撮像を行う場合に適している。このため、このような撮像装置によれば、両方の場合に適した撮像を行うことができる。なお、撮像装置は、撮像装置の制御モードを設定する制御回路を備えていてもよい。制御回路は、上述の駆動部に含まれていてもよい。
図17の例では、時刻tv1において、第1モードから第2モードに切り替わっている。第1モードが実行される期間は、時刻tv0から時刻tv1までの期間を含む。この期間において、第1フレームが形成されている。第2モードが実行される期間は、時刻tv1から時刻tv2までの期間を含む。この期間において、第2フレームが形成されている。
この例では、第1モードと第2モードとは、感度の設定値(以下、設定感度と称することがある)に基づいて切り替えられる。ここで、設定値は、制御により得るべき目標値を指す。
この例では、設定感度は、デューティ比と、高感度露光期間における画素電極11と対向電極12との間の電位差の設定値(以下、設定電位差と称することがある)と、に応じて変化する値である。
具体的には、設定感度は、デューティ比が大きくなるにつれて大きくなる。設定感度は、設定電位差が大きくなるにつれて大きくなる。より具体的には、設定感度は、デューティ比に比例して大きくなる。設定感度は、設定電位差に対して非線形的に増加する。この非線形的な増加は、実験などを通じて予め知ることができる。
上記非線形的な増加について、さらに説明する。画素電極11と対向電極12との間の電位差がある値をとるときの光電変換層15の受光感度を、1に規格化する。この規格化された感度を、図12の例に倣い、規格化感度と称する。規格化感度は、図12のように、画素電極11と対向電極12との間の電位差に対して非線形的に変化する。以下では、規格化感度の設定値を、設定規格化感度と称することがある。上記ある値(すなわち規格化感度を1にする電位差)を、電位差Hと称することがある。規格化感度を0にする電位差を、電位差Lと称することがある。図12を用いた説明に倣い、電位差Hを10Vにできる。電位差Lは、例えば0Vである。
第1の例では、第1モードにおいて、設定感度が低下して切替閾値未満になったときに、第1モードから第2モードに切り替わる。第2モードにおいて、設定感度が上昇して切替閾値以上になったときに、第2モードから第1モードに切り替わる。第1の例の切替閾値として、例えば0.3以上0.7以下の値、具体的には0.5を用いることができる。
第2の例では、第1モードにおいて、設定感度が低下して第1閾値未満になったときに、第1モードから第2モードに切り替わる。第2モードにおいて、設定感度が上昇して第2閾値以上になったときに、第2モードから第1モードに切り替わる。第1閾値は、第2閾値よりも小さい。第2の例の第1閾値として、例えば0.25以上0.41以下の値、具体的には0.33を用いることができる。上記第2の例の第2閾値として、例えば0.42以上0.58以下の値、具体的には0.5を用いることができる。
一具体例では、低感度露光期間における設定電位差は、電位差Lに設定される。このため、低感度露光期間における設定規格化感度は、ゼロである。設定感度は、デューティ比と、高感度露光期間における設定規格化感度と、の積である。この具体例では、デューティ比が1(つまり100%)でありかつ高感度露光期間における設定規格化感度が1(つまり100%)であるときにおいて、設定感度は1(つまり100%)である。設定感度は、デューティ比が0であるときにおいて0であり、設定規格化感度が0であるときにおいても0である。この具体例と上記第2の例を組み合わせ、第1閾値として0.33を用い、第2閾値として0.5を用い、高感度露光期間における設定規格化感度を1に設定するとする。この場合、第1モードにおける高感度露光期間の長さと低感度露光期間の長さの比を1:2に設定することにより、設定感度0.33を第1モードにおいて実現できる。
図17の例では、時刻tv0から時刻tv1までの1フレーム期間において、第1モードで撮像を行っている。このため、この1フレーム期間において、第1期間および第2期間が高感度露光期間に設定され、第3期間が低感度露光期間に設定されている。一方、時刻tv1から時刻tv2までの1フレーム期間において、第2モードで撮像を行っている。このため、この1フレーム期間において、第1期間および第2期間が低感度露光期間設定され、第3期間が高感度露光期間に設定されている。
図17の例では、時刻tv1から時刻tv2までの1フレーム期間において、第R3行に属する画素から読み出される画素信号は、図17の期間(A)に当該画素に蓄積された電荷に応じた信号である。この期間(A)は、第R3行の画素の電荷蓄積期間である。また、同じ1フレーム期間において、第R7行に属する画素から読み出される画素信号は、図17の期間(B)に当該画素に蓄積された電荷に応じた信号である。この期間(B)は、第R7行の画素の電荷蓄積期間である。
図17において、期間(A)には2つの高感度露光期間が現れており、これらの期間の一方は第1期間であり、これらの期間の他方は第2期間である。これに対し、期間(B)には2つの高感度露光期間が現れており、これらの期間の一方は第1期間または第2期間であり、これらの期間の他方は第3期間である。第1期間、第2期間および第3期間のそれぞれの長さによっては、第R3行と第R7行とで、電荷蓄積期間における高感度露光期間の総期間が相違し得る。しかし、この相違があっても、同一画面中において画素アレイPAの行ごとの感度の不均一が発生するのを抑えることができる。
具体的には、画素アレイPAの各行について、画素の出力信号にゲインをかけることができる。より具体的には、画素の出力信号に、蓄積期間Taに対する高感度露光期間の総期間Ttの比Tt/Taに応じたゲインをかけることができる。さらに具体的には、画素の出力信号に、比Tt/Taに反比例するゲインをかけることができる。このようにゲインをかけることにより、行ごとの感度の不均一を抑制するための出力信号の補正が実現される。
図17の例では、第R3行に関する上記議論と同様の議論が、第R0行~第R2行についても成立する。第R7行に関する上記議論と同様の議論が、第R4行~第R6行についても成立する。
図17の例において、仮に、第1期間の長さと第2期間の長さと第3期間の長さの比が、2:2:1であり、高感度露光期間において設定規格化感度が1に設定され、かつ、低感度露光期間において設定規格化感度が0に設定されるとする。この場合、例えば、第R0行~第R3行に属する画素の出力信号には1倍のゲインをかけ、第R4行~第R7行に属する画素の出力信号には4/3倍のゲインをかけることができる。
図15および17の例では、画素アレイPAのある行の比Tt/Taがrat1であり別の行の比Tt/Taがrat2である場合において、当該ある行に属する画素の出力信号にかけるゲインと当該別の行に属する画素の出力信号にかけるゲインの比率を、rat2:rat1に設定することができる。このようにすれば、画素アレイPAのある行と別の行の感度の不均一を抑制できる。この抑制の効果は、特に、高感度露光期間における設定規格化感度をある1つの値に固定するとともに低感度露光期間における設定規格化感度を別の1つの値に固定する場合に、発揮され易い。ただし、これらが固定されない場合であっても、この効果は、ある程度発揮され得る。ここで、比Tt/Taは、蓄積期間Taに対する高感度露光期間の総期間Ttの比Tt/Taである。蓄積期間Taは、1つの行における画素信号読み出しと画素信号読み出しの間のインターバルの期間である。図15および図17の期間(A)は、このインターバル期間に該当し得る。図15および図17の期間(B)は、このインターバル期間に該当し得る。ゲインをかけるというのは、ゲインが1である場合を含む概念である。
(実施形態3)
実施形態1および2では、対向電極12の電圧Vbを変化させることによって、感度を変調させていた。しかし、対向電極12の電圧を一定に維持しつつ、シールド電極17の電圧を変化させることによって、感度を変調させることもできる。実施形態3では、シールド電極17の電圧を変化させることによって、感度を変調させる。
以下、実施形態3について、図18を参照しながら説明する。実施形態3においては、実施形態1と同様の内容については、説明を省略することがある。なお、実施形態3の技術は、実施形態1のみならず、他の実施形態にも適用可能である。
実施形態3では、図18に示すように、電圧供給回路32によって、対向電極12の電圧Vbが電圧V1に常時維持されている。一方、シールド電極17の電圧Vsは、感度制御線45を介して、電圧供給回路35によって電圧V3と電圧V4の間で変化している。電圧V3は、電圧V4に比べて高い電圧である。電圧V4は、電圧V3に比べて低い電圧である。例えば、電圧V3はリセット電圧Vrよりも大きく、電圧V4はリセット電圧Vrよりも小さい。また、例えば、電圧V3および電圧V4は、電圧V1よりも小さい。電圧Vsの基準は、例えば、撮像装置のグランド電位である。シールド電極17の電圧Vsが電圧V3に設定されている期間は、高感度露光期間に対応する。シールド電極17の電圧Vsが電圧V4に設定されている期間は、低感度露光期間に対応する。
時刻t0から時刻t1までの期間H0において、第R0行に属する画素の読出しが行われる。時刻t1から時刻t2までの期間H1において、第R1行に属する画素の読出しが行われる。時刻t2から時刻t3までの期間H2において、第R2行に属する画素の読出しが行われる。期間H3のうち時刻t3から時刻tu0までの期間において、第R3行に属する画素の読出しが行われる。第R0行から第R3行に属する画素の読み出しの間は、シールド電極17に電圧V3が印加される。期間H0、H1およびH2は、それぞれ、長さHSの1H期間である。期間H3は、長さHLの1H期間である。
時刻tu0において、シールド電極17に印加される電圧Vsが、電圧V3から電圧V4に変更される。その後、時刻td0において、電圧Vsは、再び電圧V3に切り替えられる。図18に示すように、時刻tu0および時刻td0は、同じ期間H3に属する。時刻tu0は、第R3行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。時刻td0は、第R4行に属する画素の信号読み出し期間の開始前の時刻である。
第R4行から第R7行に属する画素の読み出しは、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。具体的には、図18に示すように、時刻t4から時刻t5までの期間H4において、第R4行に属する画素の読出しが行われる。時刻t5から時刻t6までの期間H5において、第R5行に属する画素の読出しが行われる。時刻t6から時刻t7までの期間H6において、第R6行に属する画素の読出しが行われる。期間H7のうち時刻t7から時刻tu1までの期間において、第R7行に属する画素の読出しが行われる。第R4行から第R7行に属する画素の読み出しの間は、シールド電極17に電圧V3が印加される。期間H4、H5およびH6は、それぞれ、長さHSの1H期間である。期間H7は、長さHLの1H期間である。
時刻tu1において、シールド電極17に印加される電圧Vsが、電圧V3から電圧V4に変更される。その後、時刻td1において、電圧Vsは、再び電圧V3に切り替えられる。図14に示すように、時刻tu1および時刻td1は、同じ期間H7に属する。時刻tu1は、第R7行に属する画素の信号読み出し期間の終了後の時刻である。時刻td1は、第R8行に属する画素の信号読み出し期間の開始前の時刻である。
第R8行から第R11行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。
このように、図18の例では、4行分の走査期間を周期として、シールド電極17に印加される電圧Vsが、電圧V3と電圧V4との間で切り替えられる。4行分の走査期間は、3つの長さHSと、1つの長さHLの合計に相当する。時刻t0から時刻t12までの間に、4行分の走査期間に相当する周期が、3つ現れる。
図18の例では、第R0行から第R3行に属する画素からの信号読み出しを行っている最中において、シールド電極17に印加される電圧Vsが、高い電圧V3に維持される。これにより、高感度露光状態が維持される。第R3行に属する画素の読み出しの完了後に、電圧Vsが、高い電圧V3から低い電圧V4に切り替わる。これにより、露光状態が、高感度露光状態から低感度露光状態に切り替わる。電圧Vsが電圧V4である状態が所定期間維持される。その後、電圧Vsが、電圧V4から電圧V3に再び切り替わる。
より具体的には、上述のように、第R3行を走査する1H期間は、第R0行から第R2行を走査する1H期間より長い。その長い1H期間において、第R3行に属する画素の読み出しと、電圧Vsの電圧V3から電圧V4への切り替えと、電圧Vsの電圧V4から電圧V3への切り替えと、が行われる。
第R4行から第R7行についても、第R0行から第R3行と同様に、画素の信号読み出しと、電圧Vsの切り替えと、が行われる。第R8行から第R11行についても、同様である。このように、4行単位で、画素の信号読み出しと、電圧Vsの切り替えと、が行われる。
ここで、実施形態3における感度の変調の原理を説明する。感度は、画素電極11と対向電極12との間の電位差によって生じる電界、およびシールド電極17と対向電極12との間の電位差によって生じる電界によって変調される。
信号電荷が正孔であり、対向電極12の電圧が画素電極11の電圧よりも大きく、対向電極12から画素電極11に向かう電界が生じている状況を考える。シールド電極17の電圧が(例えば画素電極11の電圧よりも)大きい場合には、信号電荷は、シールド電極17に捕獲され難く、画素電極11に流れ込み易い。このため、高い感度が得られる。これに対し、シールド電極17の電圧が(例えば画素電極11の電圧よりも)小さい場合には、信号電荷は、シールド電極17に捕獲され易く、画素電極11に流れ込み難い。このため、低い感度が得られる。別の言い方をすると、前者の場合には、後者の場合に比べ、光電変換層15が広い領域で良好な感度を示し易い。例えば、高感度露光期間において、対向電極12の電圧>シールド電極17の電圧>画素電極11の電圧という大小関係を採用できる。低感度露光期間において、対向電極12の電圧>画素電極11の電圧>シールド電極17の電圧という大小関係を採用できる。
信号電荷が電子であり、画素電極11の電圧が対向電極12の電圧よりも大きく、画素電極11から対向電極12に向かう電界が生じている状況を考える。シールド電極17の電圧が(例えば画素電極11の電圧よりも)小さい場合には、信号電荷は、シールド電極17に捕獲され難く、画素電極11に流れ込み易い。このため、高い感度が得られる。これに対し、シールド電極17の電圧が(例えば画素電極11の電圧よりも)大きい場合には、信号電荷は、シールド電極17に捕獲され易く、画素電極11に流れ込み難い。このため、低い感度が得られる。別の言い方をすると、前者の場合には、後者の場合に比べ、光電変換層15が広い領域で良好な感度を示し易い。例えば、高感度露光期間において、対向電極12の電圧<シールド電極17の電圧<画素電極11の電圧という大小関係を採用できる。低感度露光期間において、対向電極12の電圧<画素電極11の電圧<シールド電極17の電圧という大小関係を採用できる。
シールド電極17による感度の変調の詳細については、特許文献3などを参照されたい。
対向電極12の電圧とシールド電極17の電圧の両方を変化させることもできる。そのようにしても、低感度露光期間と高感度露光期間とを設定できる。
実施形態3の技術も、以下のように表現できる。撮像装置100は、画素アレイPAを備える。1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れる。第1期間において、画素アレイPAにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第2期間において、画素アレイPAにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、画素アレイPAにおける2つの行を含む。第3期間において、画素アレイPAのいずれの行の画素信号読み出しも行われない。第1期間および第2期間は、低感度露光期間および高感度露光期間の一方である。第3期間は、低感度露光期間および高感度露光期間の他方である。
具体的に、図18の例では、時刻t0から時刻tu0までの期間が、第1期間に対応し得る。時刻tu0から時刻td0までの期間が、第3期間に対応し得る。時刻td0から時刻tu1までの期間が、第2期間に対応し得る。第R0行、第R1行、第R2行および第R3行の組み合わせが、第1の少なくとも1つの行に対応し得る。第R4行、第R5行、第R6行および第R7行の組み合わせが、第2の少なくとも1つの行に対応し得る。第1期間および第2期間は、高感度露光期間である。第3期間は、低感度露光期間である。具体的には、第1期間と第3期間とは、互いに隣り合っている。第3期間と第2期間とは、互いに隣り合っている。
実施形態1で図5から9を参照して説明した理由と同じ理由で、実施形態3の技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
実施形態3では、撮像装置100は、第2電圧供給回路35を備える。第2電圧供給回路35は、低感度露光期間において、シールド電極17の電圧Vsを第4電圧へと制御する。第2電圧供給回路35は、高感度露光期間において、シールド電極17の電圧Vsを第3電圧へと制御する。第3電圧と第4電圧とは互いに異なる。このように第1電極11の電圧を制御すると、感度を調整できる。第3電圧は、電圧V3に対応する。第4電圧は、電圧V4に対応する。
実施形態3では、正孔を画素電極11に集める。このため、第3電圧を、第4電圧よりも大きくしている。しかし、上述のように、撮像装置を、正孔ではなく電子を画素電極11に集めるように構成することもできる。その場合、第3電圧を、第4電圧よりも小さくすることができる。
撮像装置100は、R成分およびC成分であって、第3期間の開始時点からR成分およびC成分によって定まる時定数に従ってシールド電極17の電圧を変化させるR成分およびC成分を有し得る。第3期間は、例えば、時定数の2倍以上である。このようにすれば、第3期間において、時定数の存在を考慮しても、シールド電極17の電圧を想定値に十分近づけることができる。このことは、所望の感度を得る観点から有利である。第3期間は、時定数の3倍以上であってもよい。第3期間は、例えば、20μs以上である。第3期間は、例えば、時定数の30倍以下である。第3期間は、例えば、300μs以下である。
同様に、第1期間の開始時点から、上記時定数に従って、シールド電極17の電圧は変化する。第1期間は、時定数の2倍以上または3倍以上であってもよい。第1期間は、20μs以上であってもよい。第1期間は、時定数の30倍以下であってもよい。第1期間は、300μs以下であってもよい。
同様に、第2期間の開始時点から、上記時定数に従って、シールド電極17の電圧は変化する。第2期間は、時定数の2倍以上または3倍以上であってもよい。第2期間は、20μs以上であってもよい。第2期間は、時定数の30倍以下であってもよい。第2期間は、300μs以下であってもよい。
上記のR成分は、第1電極11の抵抗を含み得る。具体的には、上記のR成分は、シールド電極17の抵抗と、光電変換層15の抵抗と、を含み得る。より具体的には、シールド電極17への電圧供給源を電源PSと定義し、電源PSにおけるシールド電極17への電圧出力部を第1端と定義し、光電変換層15と第2電極12の境界を第2端と定義したとき、上記のR成分は、第1端から第2端までの電気経路を構成する要素の合成抵抗であり得る。
上記のC成分は、光電変換層15の容量を含み得る。具体的には、上記のC成分は、シールド電極17の容量と、光電変換層15の容量と、を含み得る。より具体的には、シールド電極17への電圧供給源を電源PSと定義し、電源PSにおけるシールド電極17への電圧出力部を第1端と定義し、光電変換層15と第2電極12の境界を第2端と定義したとき、上記のC成分は、第1端から第2端までの電気経路を構成する要素の合成容量であり得る。
実施形態1で説明した、第2電極12の電圧変化の仕方を規定する時定数を、第2時定数と称することができる。実施形態1で説明した、第2時定数を規定するR成分およびC成分を、第2R成分および第2C成分と称することができる。実施形態3で説明した、シールド電極17の電圧変化の仕方を規定する時定数を、第3時定数と称することができる。実施形態3で説明した、第3時定数を規定するR成分およびC成分を、第3R成分および第3C成分と称することができる。
上述の説明から理解されるように、電圧供給回路35は、電圧をシールド電極17に供給する。電圧供給回路35は、この電圧を、高感度露光期間と低感度露光期間との間で互いに異なる値に設定できる。また、電圧供給回路35は、この電圧を、フレーム間で異なる値に設定できる。
実施形態1および3の技術をまとめて、以下のように表現できる。撮像装置は、以下の特徴(i)および(ii)の少なくとも一方を有する。特徴(i)は、撮像装置は、第3電極17をさらに備え、半導体基板20と、第3電極17と、光電変換層15と、第2電極12とは、この順に積層され、第3電極17を、高感度露光期間と低感度露光期間とで互いに異なる電圧へと制御するという特徴である。特徴(ii)は、第2電極12を、高感度露光期間と低感度露光期間とで互いに異なる電圧へと制御するという特徴である。このように電極の電圧を制御すると、感度を調整できる。ここで、第3電極17は、シールド電極17に対応する。
具体的には、実施形態1および3の技術をまとめて、以下のように表現できる。撮像装置は、以下の特徴(I)および(II)の少なくとも一方を有する。特徴(I)は、撮像装置は、特徴(i)と、第3時定数であって該第3時定数に従って第3電極の電圧を変化させる第3時定数と、を有し、第3期間は、第3時定数の2倍以上であるという特徴である。特徴(II)は、撮像装置は、特徴(ii)と、第2時定数であって該第2時定数に従って第2電極の電圧を変化させる第2時定数と、を有し、第3期間は、第2時定数の2倍以上であるという特徴である。このようにすれば、第3期間において、時定数の存在を考慮しても、電極の電圧を想定値に十分近づけることができる。このことは、所望の感度を得る観点から有利である。
電子ND制御は、シールド電極17の電圧Vsの調整によっても実現できる。すなわち、この例では、撮像装置は、シールド電極17をさらに備える。半導体基板20と、シールド電極17と、光電変換層15と、第2電極12とは、この順に積層されている。撮像装置は、高感度露光期間において、シールド電極17の電圧Vsを第3電圧V3へと制御する。撮像装置は、第3電圧V3として第3駆動電圧を用いる第3駆動と、第3電圧V3として第4駆動電圧を用いる第4駆動と、を行う。第3駆動電圧と第4駆動電圧とは互いに異なる。この例は、上述の積層構造により実現可能である。
(実施形態4)
以下、実施形態4について説明する。実施形態4においては、実施形態1と同様の内容については、説明を省略することがある。
図19は、実施形態4に係る撮像装置の例示的な回路構成を示す。図19に示す撮像装置200は、2次元に配列された複数の単位画素60を含む画素アレイPAを有する。図19は、単位画素60が2行2列のマトリクス状に配置された例を模式的に示している。言うまでもないが、撮像装置200における単位画素60の数および配置は、図19に示す例に限定されない。
各単位画素60は、光電変換部69と、シャッタゲートトランジスタ61と、転送トランジスタ62と、を有する。
各単位画素60では、読み出し回路65が構成されている。読み出し回路65は、アドレストランジスタ26と、信号検出トランジスタ24と、リセットトランジスタ28と、を含んでいる。
本実施形態では、光電変換部69は、フォトダイオードである。具体的には、光電変換部69は、半導体基板に埋め込まれた埋め込みフォトダイオードである。光電変換部69は、入射光を受けて照度に応じた信号電荷を生成する。信号電荷の極性は、正および負のいずれであってもよい。
転送トランジスタ62は、光電変換部69によって生成された信号電荷を読み出し回路65に転送するか否かを切り替える。転送トランジスタ62は、典型的には、電界効果トランジスタ(FET)である。ここでは、転送トランジスタ62としてNチャンネルMOSを例示する。
転送トランジスタ62の入力である制御端子には、制御信号線81が接続されている。制御信号線81は、垂直走査回路36に接続されている。転送トランジスタ62のオンおよびオフは、制御信号線81の電圧レベルによって制御される。この電圧レベルの制御は、垂直走査回路36によって行われる。転送トランジスタ62をオンとすることにより、光電変換部69によって生成された信号電荷が、電荷蓄積部41に転送される。電荷蓄積部41は、転送トランジスタ62、信号検出トランジスタ24の制御端子およびリセットトランジスタ28の間の領域を含む領域に設けられている。
図示の例では、転送トランジスタ62の制御端子は、ゲートである。この点は、信号検出トランジスタ24、アドレストランジスタ26、シャッタゲートトランジスタ61および転送トランジスタ62についても同様である。
読み出し回路65は、光電変換部69で生成され、電荷蓄積部41に転送された電気信号を検出する。図示するように、信号検出トランジスタ24の制御端子は、転送トランジスタ62の出力(ソースおよびドレインの一方)に接続されている。信号検出トランジスタ24のソースは、アドレストランジスタ26を介して、垂直信号線47に接続されている。アドレストランジスタ26の制御端子には、アドレス制御線46が接続されている。アドレストランジスタ26のオンおよびオフは、アドレス制御線46を介して、垂直走査回路36によって制御される。
撮像装置200の動作時、信号検出トランジスタ24は、自身の制御端子に印加された電圧、すなわち、電荷蓄積部41の電圧を増幅して出力する。信号検出トランジスタ24によって増幅された信号は、アドレストランジスタ26および垂直信号線47を介して信号電圧として選択的に読み出される。
シャッタゲートトランジスタ61は、光電変換部69用のシャッタゲートトランジスタである。シャッタゲートトランジスタ61の制御端子は、垂直走査回路36に接続されたシャッタゲート制御線82に接続されている。したがって、垂直走査回路36は、シャッタゲートトランジスタ61におけるオンおよびオフを切り替えることができる。シャッタゲートトランジスタ61をオンとすることにより、光電変換部69の電荷をリセットし、シャッタゲートトランジスタ61がオンである期間は光電変換部69における光電変換動作を停止することができる。シャッタゲートトランジスタ61がオフである期間は、光電変換部69はリセットされない状態であり、光電変換部69における光電変換動作を行わせることができる。
図20は、実施形態4に係る撮像装置における動作の一例を示すタイミングチャートの一部である。具体的には、実施形態4の当該一例のタイミングチャートは、図3のグラフ(c)を、図20のグラフ(c1)および(c2)に置き換えものである。なお、図20において、図3のグラフ(c)を再掲している。
図20において、グラフ(c1)は、転送トランジスタ62の制御端子の電圧Vtrの時間変化の一例を示す。グラフ(c2)は、シャッタゲートトランジスタ61の制御端子の電圧Vrstの時間変化の一例を示す。
図20の例では、電圧Vtrは、電圧Vtr_onと電圧Vtr_offとの間で変化している。電圧Vtrが電圧Vtr_onである期間において、転送トランジスタ62はオン状態に維持される。電圧Vtrが電圧Vtr_offである期間において、転送トランジスタ62はオフ状態に維持される。電圧Vtr_onは、電圧Vtr_offよりも大きい。
電圧Vrstは、電圧Vrst_onと電圧Vrst_offとの間で変化している。電圧Vrstが電圧Vrst_onである期間において、シャッタゲートトランジスタ61はオン状態に維持される。電圧Vrstが電圧Vrst_offである期間において、シャッタゲートトランジスタ61はオフ状態に維持される。電圧Vrst_onは、電圧Vrst_offよりも大きい。
図20の例では、図3において対向電極12の電圧VbがV1である期間において、電圧Vtrは、電圧Vtr_onに維持されている。この期間において、電圧Vrstは、電圧Vrst_offに維持されている。図3において対向電極12の電圧VbがV2である期間において、電圧Vtrは、電圧Vtr_offに維持されている。この期間において、電圧Vrstは、電圧Vrst_onに維持されている。
図20に示す電圧Vtrおよび電圧Vrstによれば、図3に示す実施形態1の電圧Vbを採用した場合と同様に、高感度露光期間および低感度露光期間がもたらされる。
ここで、実施形態4の低感度露光期間について、説明する。低感度露光期間において、電圧Vrstが電圧Vrst_onに維持されかつ電圧Vtrが電圧Vtr_offに維持されている状況を考える。理想的には、この状況においては、光電変換部69で発生した電荷は電荷蓄積部41に移動せず、感度はゼロである。このような感度がゼロである期間は、実施形態4の低感度露光期間に該当し得る。一方、光電変換部69に太陽光などの強い光が入射する場合には、光電変換部69で発生した電荷があふれ出し、あふれ出した電荷が電荷蓄積部41に移動することがある。また、上記の場合には、電荷蓄積部41に入射した光が光電変換して電荷が発生することがある。このようにして生じる感度は、一般的には、寄生光感度(Parasitic Light Sensitivity)と呼ばれている。実施形態4では、寄生光感度が生じている期間も、低感度露光期間に該当し得る。
図20の例では、電圧Vtrが電圧Vtr_onである期間において、電圧Vrstは電圧Vrst_offに維持されている。電圧Vtrが電圧Vtr_offである期間において、電圧Vrstは電圧Vrst_onに維持されている。別の言い方をすると、転送トランジスタ62のターンオフのタイミングで、シャッタゲートトランジスタ61はターンオンされている。転送トランジスタ62のターンオンのタイミングで、シャッタゲートトランジスタ61はターンオフされている。つまり、電圧Vtrと電圧Vrstとは、相補的にオンオフ制御されている。
ただし、電圧Vtrと電圧Vrstのオンオフ制御が相補的であることは必須ではない。つまり、電圧Vtrが電圧Vtr_onである期間と、電圧Vrstが電圧Vrst_offである期間とが、一致していることは必須ではない。電圧Vtrが電圧Vtr_offである期間と、電圧Vrstが電圧Vrst_onである期間とが、一致していることは必須ではない。転送トランジスタ62のターンオフのタイミングと、シャッタゲートトランジスタ61はターンオンのタイミングとが、一致していることは必須ではない。転送トランジスタ62のターンオンのタイミングと、シャッタゲートトランジスタ61のターンオフのタイミングとが、一致していることは必須ではない。
実施形態4の技術も、以下のように表現できる。撮像装置200は、画素アレイPAを備える。1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れる。第1期間において、画素アレイPAにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第2期間において、画素アレイPAにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第1の少なくとも1つの行および第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、画素アレイPAにおける2つの行を含む。第3期間において、画素アレイPAのいずれの行の画素信号読み出しも行われない。第1期間および第2期間は、低感度露光期間および高感度露光期間の一方である。第3期間は、低感度露光期間および高感度露光期間の他方である。
具体的には、図20の例では、第1期間および第2期間は低感度露光期間であり、第3期間は高感度露光期間である。ただし、第1期間および第2期間が高感度露光期間であり、第3期間は低感度露光期間であってもよい。その場合、トランジスタ61および62のオンオフ制御を図20とは逆のタイミングで行えばよい。
図20の例では、撮像装置200は、半導体基板と、光電変換部69と、を備える。光電変換部69は、半導体基板に埋め込まれた埋め込みフォトダイオードである。
具体的には、撮像装置200は、第1トランジスタ61と、電荷蓄積部41と、第2トランジスタ62と、を備える。第1トランジスタ61は、埋め込みフォトダイオードをリセットする。電荷蓄積部41は、埋め込みフォトダイオードで生成された電荷を蓄積する。第2トランジスタ62は、埋め込みフォトダイオードから電荷蓄積部41に電荷を転送する。高感度露光期間は、第1トランジスタ61のターンオフから第2トランジスタ62のターンオフまでの期間である。低感度露光期間は、第2トランジスタ62のターンオフから第1トランジスタ61のターンオフまでの期間である。図19の例では、第1トランジスタ61は、シャッタゲートトランジスタ61に対応する。第2トランジスタ62は、転送トランジスタ62に対応する。
(参考実施形態1)
以下、参考実施形態1について説明する。参考実施形態1においては、実施形態1と同様の内容については、説明を省略することがある。
図21は、参考実施形態1に係る撮像装置における動作の一例を示すタイミングチャートである。
具体的には、図21の例では、時刻t0から時刻t1までの期間H0において、第R0行に属する画素の読出しが行われる。時刻t1から時刻t2までの期間H1において、第R1行に属する画素の読出しが行われる。時刻t2から時刻t3までの期間H2において、第R2行に属する画素の読出しが行われる。時刻t3から時刻t4までの期間H3において、第R3行に属する画素の読出しが行われる。時刻t4から時刻t5までの期間H4において、第R4行に属する画素の読出しが行われる。時刻t5から時刻t6までの期間H5において、第R5行に属する画素の読出しが行われる。第R0行から第R3行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V2が印加される。第R4行および第R5行に属する画素の読み出しの間は、電圧供給回路32によって対向電極12に電圧V1が印加される。期間H0、H1、H2、H3、H4およびH5は、それぞれ、長さHSの1H期間である。
時刻t4において、電圧供給回路32から対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V2から電圧V1に変更される。その後、時刻t6において、電圧Vbは、再び電圧V2に切り替えられる。
第R6行から第R11行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R5行に属する画素の読み出しと同様に行われる。第R12行から第R15行に属する画素の読み出しも、第R0行から第R3行に属する画素の読み出しと同様に行われる。
このように、図21の例では、6行分の走査期間を周期として、対向電極12に印加される電圧Vbが、電圧V1と電圧V2との間で切り替えられる。6行分の走査期間は、5つの長さHSと、1つの長さHLの合計に相当する。
図21の例では、第R0行から第R3行に属する画素からの信号読み出しを行っている最中において、電圧供給回路32によって、対向電極12に印加される電圧Vbが、低い電圧V2に維持される。これにより、低感度露光状態が維持される。第R3行に属する画素の読み出しの完了後に、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、低い電圧V2から高い電圧V1に切り替わる。これにより、露光状態が、低感度露光状態から高感度露光状態に切り替わる。第R4行および第R5行に属する画素からの信号読み出しを行っている最中において、電圧供給回路32によって、対向電極12に印加される電圧Vbが、高い電圧V1に維持される。その後、電圧供給回路32によって、電圧Vbが、電圧V1から電圧V2に再び切り替わる。
第R6行から第R11行についても、第R0行から第R5行と同様に、画素の信号読み出しと、電圧Vbの切り替えと、が行われる。第R12行から第R15行についても、第R0行から第R3行と同様に、画素の信号読み出しが行われる。
参考実施形態1の技術は、以下のように表現できる。撮像装置100は、画素アレイPAを備える。1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間とがこの順に現れる。第1期間において、画素アレイPAにおける第1の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第3期間において、画素アレイPAにおける第3の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第1期間と第3期間の境界を跨ぐ期間にわたって画素信号読み出しがなされる画素アレイPAの行は存在しない。第1期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の一方である。第3期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の他方である。なお、第1の少なくとも1つの行と、第3の少なくとも1つの行とは、互いに重複していない。
参考実施形態1では、第1期間および第3期間の両方で、画素信号読み出しが行われる。このことは、フレームレートを確保するのに適している。また、参考実施形態1では、第1期間と第3期間の境界を跨ぐ期間にわたって画素信号読み出しがなされる画素アレイPAの行は存在しない。このことは、良好な画像を得るのに適している。以上の理由で、参考実施形態1の技術は、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。
図21の例では、1つのフレームにおいて、第1期間と第3期間と第2期間とがこの順に現れる。第2期間において、画素アレイPAにおける第2の少なくとも1つの行の、画素信号読み出しが行われる。第3期間と第2期間の境界を跨ぐ期間にわたって画素信号読み出しがなされる画素アレイPAの行は存在しない。第2期間は、高感度露光期間および低感度露光期間の上記一方である。このことは、フレームレートを確保しつつ良好な画像を得るのに適している。なお、第1の少なくとも1つの行と、第2の少なくとも1つの行と、第3の少なくとも1つの行とは、互いに重複していない。
第1の少なくとも1つの行の数は、1つであってもよく、複数であってもよい。第3の少なくとも1つの行の数は、1つであってもよく、複数であってもよい。第2の少なくとも1つの行の数は、1つであってもよく、複数であってもよい。
図21の例では、第1期間および第2期間は低感度露光期間であり、第3期間は高感度露光期間である。ただし、第1期間および第2期間は高感度露光期間であり、第3期間は低感度露光期間であってもよい。
参考実施形態1の技術と、他の実施形態の技術とを、任意に組み合わせてもよい。
本開示による撮像装置は、デジタルスチルカメラ、医療用カメラ、監視用カメラ、車載用カメラ、デジタル一眼レフカメラ、デジタルミラーレス一眼カメラなど、様々なカメラシステムおよびセンサシステムに適用できる。
10,60 単位画素
11 画素電極
12 対向電極
13,69 光電変換部
14 信号検出回路
15 光電変換層
17 シールド電極
20 半導体基板
20t 素子分離領域
24d,24s,26s,28d,28s 不純物領域
24 信号検出トランジスタ
26 アドレストランジスタ
28 リセットトランジスタ
24g,26g,28g ゲート電極
32,35 電圧供給回路
34 リセット電圧源
36 垂直走査回路
37 カラム信号処理回路
38 水平信号読み出し回路
39 画素駆動信号生成回路
40 電源線
41 電荷蓄積部
42,45 感度制御線
44 リセット電圧線
46 アドレス制御線
47 垂直信号線
48 リセット制御線
49 水平共通信号線
50 層間絶縁層
52,54,55 プラグ
53 配線
56 配線層
61 シャッタゲートトランジスタ
62 転送トランジスタ
65 読み出し回路
81 制御信号線
82 シャッタゲート制御線
100,200 撮像装置
PA 画素アレイ

Claims (20)

  1. 第1の少なくとも1つの行の第1画素および第2の少なくとも1つの行の第2画素を含む、画素アレイと、
    電圧供給回路と、
    制御回路とを備え
    前記電圧供給回路は、
    1つのフレームの第1期間において、前記第1画素および前記第2画素に第1電圧を供給して前記第1画素および前記第2画素を第1感度に設定し、
    前記1つのフレームの、前記第1期間に続く第3期間において、前記第1画素および前記第2画素に前記第1電圧と異なる第2電圧を供給して前記第1画素および前記第2画素を前記第1感度と異なる第2感度に設定し、
    前記1つのフレームの、前記第3期間に続く第2期間において、前記第1画素および前記第2画素に前記第1電圧を供給して前記第1画素および前記第2画素を前記第1感度に設定し、
    前記制御回路は、
    前記第1期間において、前記画素アレイにおける前記第1の少なくとも1つの行の前記第1画素の、画素信号読み出しを行い
    前記第2期間において、前記画素アレイにおける前記第2の少なくとも1つの行の前記第2画素の、画素信号読み出しを行い
    前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、前記画素アレイにおける2つの行を含
    撮像装置。
  2. 前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の両方が、前記画素アレイにおける2つの行を含む、
    請求項1に記載の撮像装置。
  3. 前記第1の少なくとも1つの行を構成する行の数と、前記第2の少なくとも1つの行を構成する行の数は、同じである、
    請求項2に記載の撮像装置。
  4. 前記第1感度は、前記第2感度よりも高い、
    請求項1から3のいずれか一項に記載の撮像装置。
  5. 前記第1感度は、前記第2感度よりも低い、
    請求項1から3のいずれか一項に記載の撮像装置。
  6. 前記撮像装置の制御モードは、第1モードと第2モードとを備え、
    前記第1モードにおいて前記第1感度は、前記第2感度よりも高く、
    前記第2モードにおいて前記第1感度は、前記第2感度よりも低い、
    請求項1から3のいずれか一項に記載の撮像装置。
  7. 前記電圧供給回路は、前記画素アレイに前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給し、
    前記1つのフレームにおいて、前記画素アレイに前記第1電圧が供給される期間の総期間は、前記画素アレイに前記第2電圧が供給される期間の総期間以上である、
    請求項1から6のいずれか一項に記載の撮像装置。
  8. 前記電圧供給回路は、前記画素アレイに前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給し、
    前記1つのフレームにおいて、前記画素アレイに前記第1電圧が供給される期間の総期間は、前記画素アレイに前記第2電圧が供給される期間の総期間未満である、
    請求項1から6のいずれか一項に記載の撮像装置。
  9. 前記撮像装置は、半導体基板と、光電変換部と、をさらに備え、
    前記光電変換部は、光電変換層と、第1電極と、第2電極と、を備え、
    前記半導体基板と、前記第1電極と、前記光電変換層と、前記第2電極とは、この順に積層されている、
    請求項1から8のいずれか一項に記載の撮像装置。
  10. 以下の特徴(i)および(ii)の少なくとも一方を有する、請求項9に記載の撮像装置。
    (i)前記撮像装置は、第3電極をさらに備え、
    前記半導体基板と、前記第3電極と、前記光電変換層と、前記第2電極とは、この順に積層され、
    前記電圧供給回路は、前記第3電極に前記第1電圧および前記第2電圧を供給する
    (ii)前記電圧供給回路は、前記第3電極に前記第1電圧および前記第2電圧を供給する
  11. 以下の特徴(I)および(II)の少なくとも一方を有する、請求項10に記載の撮像装置。
    (I)前記撮像装置は、前記特徴(i)と、第3時定数であって前記第3時定数に従って前記第3電極の電圧を変化させる第3時定数と、を有し、前記第3期間は、前記第3時定数の2倍以上である。
    (II)前記撮像装置は、前記特徴(ii)と、第2時定数であって前記第2時定数に従って前記第2電極の電圧を変化させる第2時定数と、を有し、前記第3期間は、前記第2時定数の2倍以上である。
  12. 第1の少なくとも1つの行の第1画素と、第2の少なくとも1つの行の第2画素とを含む、画素アレイを備えた撮像装置を用いた撮像方法であって、
    1つのフレームの第1期間において、前記第1画素および前記第2画素に第1電圧を供給して前記第1画素および前記第2画素を第1感度に設定し、
    前記1つのフレームの、前記第1期間に続く第3期間において、前記第1画素および前記第2画素に前記第1電圧と異なる第2電圧を供給して前記第1画素および前記第2画素を前記第1感度と異なる第2感度に設定し、
    前記1つのフレームの、前記第3期間に続く第2期間において、前記第1画素および前記第2画素に前記第1電圧を供給して前記第1画素および前記第2画素を前記第1感度に設定し、
    前記第1期間において、前記画素アレイにおける前記第1の少なくとも1つの行の前記第1画素の、画素信号読み出しを行い、
    前記第2期間において、前記画素アレイにおける前記第2の少なくとも1つの行の前記第1画素の、画素信号読み出しを行い、
    前記第1の少なくとも1つの行および前記第2の少なくとも1つの行の少なくとも一方は、前記画素アレイにおける2つの行を含
    撮像方法。
  13. 信号線と、
    それぞれが入射光の量に応じた画素信号を生成し、前記画素信号を前記信号線に順次に出力する複数の画素と、
    第1のフレーム期間において、第1電圧と前記第1電圧と異なる第2電圧とをそれぞれ2回以上交互に、前記複数の画素のそれぞれに同時に供給する電圧供給回路と、
    を備え、
    前記複数の画素のそれぞれは、
    前記第1電圧が供給される第1期間において第1の感度で光を電気信号に変換し、前記第2電圧が供給される第2期間において前記第1の感度と異なる第2の感度で光を電気信号に変換する光電変換部と、
    前記電気信号を増幅して前記画素信号を出力する第1トランジスタと、
    を含み、
    前記複数の画素のうちの少なくとも2つの画素は、前記第1のフレーム期間内の前記第1期間のうちの1つの期間において、前記画素信号を前記信号線に順次に出力する、
    撮像装置。
  14. 前記複数の画素のそれぞれは、前記第1のフレーム期間内の前記第1期間において、前記画素信号を前記信号線に出力する、請求項13に記載の撮像装置。
  15. 前記複数の画素のそれぞれは、前記第1のフレーム期間内の前記第2期間において、前記画素信号を前記信号線に出力しない、請求項13または14に記載の撮像装置。
  16. 前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部は、前記第1トランジスタのゲートに電気的に接続される第1電極と、前記第1電極に対向する第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間の光電変換層とを含み、
    前記電圧供給回路は、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部の前記第2電極に、前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給する、請求項13に記載の撮像装置。
  17. 前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部は、第1面と前記第1面の反対側の第2面とを有する光電変換層と、前記第1面上に位置する第1電極および第3電極と、前記第2面上に位置し前記第1電極および前記第3電極に対向する第2電極とを含み、
    前記第1電極は、前記第1トランジスタのゲートに電気的に接続され、
    前記電圧供給回路は、前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部の前記第3電極に、前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給する、請求項13に記載の撮像装置。
  18. 前記複数の画素のそれぞれの前記光電変換部は、フォトダイオードを含み、
    前記複数の画素のそれぞれは、
    ソースおよびドレインの一方が前記フォトダイオードに電気的に接続され、ソースおよびドレインの他方が前記第1トランジスタのゲートに電気的に接続される第2トランジスタと、
    ソースおよびドレインの一方が前記フォトダイオードに電気的に接続され、ソースおよびドレインの他方に所定の電圧が印加される第3トランジスタと、
    を含み、
    前記電圧供給回路は、前記第3トランジスタのゲートに、前記第1電圧および前記第2電圧を交互に供給する、請求項13に記載の撮像装置。
  19. 前記電圧供給回路は、前記第2トランジスタのゲートに、第3電圧と前記第3電圧と異なる第4電圧とを交互に供給する、請求項18に記載の撮像装置。
  20. 前記電圧供給回路に、前記第1電圧および前記第2電圧を供給させる第1制御回路と、
    前記複数の画素のそれぞれに、前記画素信号を前記信号線に順次に出力させる、第2制御回路と、
    をさらに備える、請求項13から19のいずれか一項に記載の撮像装置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020054373A1 (ja) * 2018-09-14 2020-03-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置および撮像方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012105225A (ja) 2010-11-12 2012-05-31 Sony Corp 画像処理装置、撮像装置、および画像処理方法、並びにプログラム
JP2017005051A (ja) 2015-06-08 2017-01-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置および撮像モジュール

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3636291B2 (ja) * 2000-01-31 2005-04-06 オリンパス株式会社 撮像装置
JP3793205B2 (ja) 2003-03-06 2006-07-05 松下電器産業株式会社 電荷検出装置および固体撮像装置
JP4351667B2 (ja) 2003-03-06 2009-10-28 パナソニック株式会社 電荷検出装置の製造方法
JP4578792B2 (ja) 2003-09-26 2010-11-10 富士通セミコンダクター株式会社 固体撮像装置
JP4511442B2 (ja) 2005-09-30 2010-07-28 富士フイルム株式会社 感度可変型撮像素子及びこれを搭載した撮像装置
JP2007135200A (ja) * 2005-10-14 2007-05-31 Sony Corp 撮像方法および撮像装置並びに駆動装置
JP4487944B2 (ja) * 2006-02-09 2010-06-23 ソニー株式会社 固体撮像装置
JP4211849B2 (ja) 2006-08-31 2009-01-21 ソニー株式会社 物理量検出装置、固体撮像装置及び撮像装置
JP4973115B2 (ja) * 2006-10-16 2012-07-11 ソニー株式会社 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法および撮像装置
JP2009055507A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Fujifilm Corp 固体撮像素子の駆動方法およびこれにより駆動される撮像装置
JP4993007B2 (ja) 2010-07-26 2012-08-08 富士通セミコンダクター株式会社 固体撮像装置
JP5578008B2 (ja) * 2010-10-12 2014-08-27 ソニー株式会社 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法および撮像装置
EP2940992A4 (en) * 2012-12-25 2016-06-08 Sony Corp SEMICONDUCTOR IMAGE DETECTION ELEMENT, ITS CONTROL METHOD AND ELECTRONIC DEVICE
US9113097B2 (en) * 2013-02-06 2015-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Image capturing apparatus that controls performing of short-term and long-term exposures and corresponding read operations, and control method thereof
US9106851B2 (en) * 2013-03-12 2015-08-11 Tower Semiconductor Ltd. Single-exposure high dynamic range CMOS image sensor pixel with internal charge amplifier
US9729808B2 (en) * 2013-03-12 2017-08-08 Tower Semiconductor Ltd. Single-exposure high dynamic range CMOS image sensor pixel with internal charge amplifier
US9538092B2 (en) * 2014-01-17 2017-01-03 Texas Instruments Incorporated Methods and apparatus to generate wide dynamic range images
JP6555512B2 (ja) 2014-10-23 2019-08-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置および画像取得装置
CN107018338B (zh) * 2016-01-22 2021-01-29 松下知识产权经营株式会社 摄像装置
CN107018289B (zh) * 2016-01-22 2021-01-19 松下知识产权经营株式会社 摄像装置
CN108389875A (zh) * 2017-02-03 2018-08-10 松下知识产权经营株式会社 摄像装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012105225A (ja) 2010-11-12 2012-05-31 Sony Corp 画像処理装置、撮像装置、および画像処理方法、並びにプログラム
JP2017005051A (ja) 2015-06-08 2017-01-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置および撮像モジュール

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