JP7356846B2 - 金属酸化物粒子分散用組成物 - Google Patents

Description

本発明は、金属酸化物粒子を分散させるための金属酸化物粒子分散用組成物に関する。

光学部材の形成に、高屈折率材料が用いられている。高屈折材料として、例えば、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子を有機成分に分散したものが用いられている。
このような高屈折材料として、金属酸化物粒子とフルオレンにベンゼン環が結合し加水分解性シリル基を有する特定構造のフルオレン化合物とを含む組成物が、開示されている（特許文献１参照）。特許文献１の組成物は、フルオレンにベンゼン環が結合し加水分解性シリル基を有する特定構造のフルオレン化合物を含むため、高い屈折率を有し、また、金属酸化物粒子の分散性に優れる。

特開２０１２－２３３１４２号公報

しかしながら、特許文献１の組成物は、耐熱性が不十分であるという問題がある。耐熱性が不十分であると、加熱により有機成分に由来するアウトガスが発生する等の問題が生じ、ＯＬＥＤ表示素子等のディスプレイ用途等又はＯＬＥＤ照明等での高屈層において用いるには好ましくない。
また、特許文献１の組成物は、インクジェット法により膜を形成すると、濃度変化、吐出不良や、硬化感度の劣化等のおそれがあるため、膜の形成にインクジェット法を適用し難いという問題もある。
したがって、耐熱性に優れ、インクジェット法を適用することができる高屈折材料が求められ、そのため、金属酸化物粒子を混合することで、該高屈折材料を調製可能な金属酸化物粒子分散用組成物が望まれる。

本発明は、上記従来技術の課題に鑑みなされたものであり、耐熱性に優れ、インクジェット法を適用することができる、ＯＬＥＤ表示素子等のディスプレイ用途等又はＯＬＥＤ照明等における高屈層形成用の高屈折材料を調製可能な金属酸化物粒子分散用組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、金属酸化物粒子分散用組成物を特定構造のシリル基変性フルオレン化合物と特定構造の（メタ）アクリレート化合物とを含有するものとし、これに金属酸化物粒子を分散させた組成物（高屈折材料）は、耐熱性に優れ、インクジェット法を適用することができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。

本発明の第１の態様は、下記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物と、下記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物とを含有する、金属酸化物粒子分散用組成物である。

（式（１）中、環Ｚ^１は、ナフタレン環を表し、
Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基を表し、
Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、
Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立に、アルキレン基を表し、
Ｘ^ａ及びＸ^ｂは、それぞれ独立に、－Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｐ（Ｒ^５）_３－ｐで表される基を表し、
Ｒ^４は、水素原子、アルキル基又は－（Ｒ^６Ｏ）_ｑ－Ｒ^７で表される基を表し、
Ｒ^５は、水素原子又は炭化水素基を表し、
Ｒ^６は、アルキレン基を表し、
Ｒ^７は、アルキル基を表し、
ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表し、
ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０以上２以下の整数を表し、
ｐは１以上３以下の整数を表し、
ｑは１以上の整数を表す。）

（式（２）中、Ｚ^２は２個以上の芳香環を含む芳香族基を表し、Ｒ^８は直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、Ｒ^９は水素原子又はメチル基を表し、ｒは０以上の整数を表す。）

本発明の金属酸化物粒子分散用組成物は、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物と式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物とを含有するため、金属酸化物粒子を分散させることにより、耐熱性に優れ、且つ、インクジェット法を適用することができる高屈折材料を調製可能である。この高屈折材料は、ＯＬＥＤ表示素子等のディスプレイ用途等又はＯＬＥＤ照明等における高屈層形成に適している。また、本発明の金属酸化物粒子分散用組成物は、金属酸化物粒子の分散性がよく、屈折率も高い。

＜＜金属酸化物粒子分散用組成物＞＞
本発明の金属酸化物粒子分散用組成物は、下記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物と、下記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物とを含有する。
以下、金属酸化物粒子分散用組成物が含有する成分について、順に説明する。

＜式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物＞
金属酸化物粒子分散用組成物は下記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を含有する。

（式（１）中、環Ｚ^１は、ナフタレン環を表し、
Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基を表し、
Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、
Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立に、アルキレン基を表し、
Ｘ^ａ及びＸ^ｂは、それぞれ独立に、－Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｐ（Ｒ^５）_３－ｐで表される基を表し、
Ｒ^４は、水素原子、アルキル基又は－（Ｒ^６Ｏ）_ｑ－Ｒ^７で表される基を表し、
Ｒ^５は、水素原子又は炭化水素基を表し、
Ｒ^６は、アルキレン基を表し、
Ｒ^７は、アルキル基を表し、
ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表し、
ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０以上２以下の整数を表し、
ｐは１以上３以下の整数を表し、
ｑは１以上の整数を表す。）

（式（２）中、Ｚ^２は２個以上の芳香環を含む芳香族基を表し、Ｒ^８は直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、Ｒ^９は水素原子又はメチル基を表し、ｒは０以上の整数を表す。）

上記式（１）中、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂとしてのハロゲン原子の具体例としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
上記式（１）中、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂとしてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基等の炭素原子数１以上６以下のアルキル基が挙げられる。
Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは、同一でも異なっていてもよい。
ｋ１が２以上である場合、２以上のＲ^１ａは同一でも異なっていてもよく、ｋ２が２以上である場合、２以上のＲ^１ｂは同一でも異なっていてもよい。
ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数であり、０又は１であることが好ましく、０であることが好ましい。
ｋ１及びｋ２は、同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂとしてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、及びｔｅｒｔ－ヘキシル基等の炭素原子数１以上１８以下のアルキル基が挙げられ、炭素原子数１以上８以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基が好ましい。
Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂは、同一でも異なっていてもよい。
ｍ１が２である場合、２つのＲ^２ａは同一でも異なっていてもよく、ｍ２が２である場合、２つのＲ^２ｂは同一でも異なっていてもよい。
ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０以上２以下の整数であり、０又は１であることが好ましい。
ｍ１及びｍ２は、同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂとしてのアルキレン基は、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン－１，２－ジイル基、ヘキシレン基等の炭素原子数２以上１０以下のアルキレン基が挙げられ、炭素原子数２以上６以下のアルキレン基が好ましく、炭素原子数２以上４以下のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数２又は３のアルキレン基がさらに好ましい。
Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^４としてのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、及びｔｅｒｔ－ヘキシル基等の炭素原子数１以上１０以下のアルキル基が挙げられ、炭素原子数１以上６以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１又は２のアルキル基がさらに好ましい。
Ｒ^４が複数ある場合、複数のＲ^４は同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^５としての炭化水素基としては、アルキル基や、アリール基等の不飽和炭化水素基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、及びｔｅｒｔ－ヘキシル基等の炭素原子数１以上１０以下のアルキル基が挙げられ、炭素原子数１以上６以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基がより好ましい。
アリール基としては、フェニル基、トリル基等の炭素原子数６以上１０以下のアリール基等が挙げられる。
Ｒ^５が複数ある場合、複数のＲ^５は同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^６としてのアルキレン基は、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂについて説明したアルキレン基と同様である。
Ｒ^６が複数ある場合、複数のＲ^６は同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、Ｒ^７としてのアルキル基は、Ｒ^４について説明したアルキル基と同様である。
Ｒ^７が複数ある場合、複数のＲ^７は同一でも異なっていてもよい。

上記式（１）中、ｐは１以上３以下の整数であり、加水分解縮合性の観点から、２又は３であるのが好ましく、特に３であるのが好ましい。
ｑは、１以上の整数であり、例えば、１以上１０以下、好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、さらに好ましくは１又は２、特に好ましくは１である。

Ｘ^ａ及びＸ^ｂは、同一でも異なっていてもよい。
Ｘ^ａ及Ｘ^ｂ、すなわち－Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｐ（Ｒ^５）_３－ｐの具体例としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、エチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、又はエチルジエトキシシリル基が挙げられる。

式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物が、下記式（１－１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物であることが好ましい。
なお、式（１－１）において、ナフタレン環に結合しているＲ^２ａ、Ｒ^２ｂ、－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｓ－Ｒ^３ａ－Ｘ^ａや－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｓ－Ｒ^３ｂ－Ｘ^ｂは、ナフタレン環を構成する六員環のうちフルオレン環に結合していない六員環に結合している。

（式（１－１）中、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ａ、Ｒ^３ｂ、Ｘ^ａ、Ｘ^ｂ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、ｐ及びｑは、それぞれ式（１）中のこれらと同様である。）

式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物は、任意の有機合成反応を用いて製造することができる。
例えば、室温で、下記式（ｉ）で表されるアリルオキシ基を有するフルオレン化合物と、（３－メルカプトプロピル）トリメトキシシラン（ＭＰＴＭＳ）等の下記式（ii）で表される化合物とを、ラジカル重合開始剤の存在下、テトラヒドロ（ＴＨＦ）等の溶媒中で光反応させることにより、合成することができる。なお、トリフェニルホスフィン トリフェニルボランをラジカル重合開始剤とともに用いてもよい。反応させる際の露光波長は、例えば、ｉ線（３６５ｎｍ）を含むブロードバンド光である。
下記式（ｉ）で表されるアリルオキシ基を有するフルオレン化合物と、下記式（ii）で表される化合物とは、例えば、質量基準で、下記式（ｉ）で表されるアリルオキシ基を有するフルオレン化合物：下記式（ii）で表される化合物＝１：３～５となる量を用いることが好ましい。

なお、上記式（ｉ）で表されるアリルオキシ基を有するフルオレン化合物は、下記式（iii）で表されるヒドロキシ基を有するフルオレン化合物を、アリル化することにより合成することができる。例えば、下記式（iii）で表されるヒドロキシ基を有するフルオレン化合物を、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の塩基の存在下、アリルブロマイド等のアリルハライドと反応させることで、上記式（ｉ）で表されるアリルオキシ基を有するフルオレン化合物を合成することができる。下記式（iii）で表されるヒドロキシ基を有するフルオレン化合物としては、９，９－ビス（６－ヒドロキシナフチル)フルオレン等が挙げられる。

上記金属酸化物粒子分散用組成物は、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を１種類単独又は２種以上混合して含んでいてもよい。
上記金属酸化物粒子分散用組成物において、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の含有量は本発明の効果を達成し得る限り特に制限はないが、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量及び式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の合計に対する、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量の割合が１質量％以上であることが好ましく、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量の割合が５質量％以上であることがより好ましく、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量の割合が１０質量％以上であることがさらに好ましい。式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量の割合の上限としては特に制限はないが、高屈折率性の観点から、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量及び式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の合計に対する、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量の割合は５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることがさらに好ましい。

＜式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物＞
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物とともに、上記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物を含有する。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両者を意味する。

式（２）において、Ｚ^２としての２個以上の芳香環を含む芳香族基は、置換基を有していてもよく、Ｚ^２が有する芳香環の個数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。なお、芳香環の個数は、ベンゼン環を１個と数え、例えば縮合環であるナフタレン環は、環の個数を２とする。
Ｚ^２が有する芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。
Ｚ^２としての芳香族基が有していてもよい置換基としては、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、炭素原子数１以上１２以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上１２以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数１以上１２以下のアシル基、炭素原子数１以上１２以下のアシルオキシ基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基が挙げられる。
Ｚ^２としての２個以上の芳香環を含む芳香族基を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではなく、Ｚ^２は、上記置換基を有していてもよいビフェニル基又はナフチル基であることが好ましく、ビフェニル基であることがより好ましい。下記式中、＊は結合手を表す。

式（２）において、Ｒ^８としての直鎖状又は分岐状アルキレン基としては、炭素原子数１以上４以下（好ましくは炭素原子数２又は３）の直鎖状又は分岐状アルキレン基が挙げられ、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン－１，２－ジイル基等が挙げられる。

ｒは、より高い耐熱性の観点から、０以上３以下が好ましく、０以上２以下がより好ましく、０又は１がさらに好ましく、０が特に好ましい。

上記金属酸化物粒子分散用組成物は、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物を１種類単独又は２種以上混合して含んでいてもよい。
上記金属酸化物粒子分散用組成物において、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の含有量は本発明の効果を達成し得る限り特に制限はないが、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量及び式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の合計に対する、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の割合が５０質量％以上であることが好ましく、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の割合が７０質量％以上であることがより好ましく、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の割合が７５質量％以上であることがさらに好ましい。式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の割合の上限としては特に制限はないが、分散性の観点から、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量及び式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の合計に対する、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の割合は９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下がさらに好ましい。

＜ラジカル重合開始剤＞
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、ラジカル重合開始剤をさらに含んでいてもいなくてもよいが、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。ラジカル重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤でも熱ラジカル重合開始剤でもよく、光ラジカル重合開始剤及び熱ラジカル重合開始剤を併用してもよい。

光ラジカル重合開始剤としては、Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、Ｏｍｎｉｒａｄ １８４（１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン）、Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ（いずれもＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）等のアルキルフェノン系重合開始剤、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（いずれもＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）等のアシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤や、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２（いずれもＢＡＳＦ社製）等のオキシムエステル系重合開始剤が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の具体例としては、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（４－ジメチルアミノフェニル）ケトン、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１）、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾル－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２）、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキシド（Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９）、４－ベンゾイル－４’－メチルジメチルスルフィド、４－ジメチルアミノ安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４－ジメチルアミノ－２－エチルヘキシル安息香酸、４－ジメチルアミノ－２－イソアミル安息香酸、ベンジル－β－メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（Ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、Ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２－クロロチオキサンテン、２，４－ジエチルチオキサンテン、２－メチルチオキサンテン、２－イソプロピルチオキサンテン、２－エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、２－メルカプトベンゾイミダール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－（Ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（ｍ－メトキシフェニル）－イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、α，α－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル－４－ジメチルアミノベンゾエート、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス－（９－アクリジニル）ヘプタン、１，５－ビス－（９－アクリジニル）ペンタン、１，３－ビス－（９－アクリジニル）プロパン、ｐ－メトキシトリアジン、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－ｎ－ブトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン等が挙げられる。これらの光ラジカル重合開始剤は、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、オキシム系の重合開始剤を用いることが感度の面で特に好ましい。

熱ラジカル重合開始剤としては、ケトンパーオキシド（メチルエチルケトンパーオキシド及びシクロヘキサノンパーオキシド等）、パーオキシケタール（２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン及び１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等）、ヒドロパーオキシド（ｔｅｒｔ－ブチルヒドロパーオキシド及びクメンヒドロパーオキシド等）、ジアルキルパーオキシド（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシド（パーブチル（登録商標）Ｄ（日油株式会社製）、及びジ－ｔｅｒｔ－ヘキシルパーオキサイド（パーヘキシル（登録商標）Ｄ（日油株式会社製））等）、ジアシルパーオキシド（イソブチリルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド及びベンゾイルパーオキシド等）、パーオキシジカーボネート（ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等）、パーオキシエステル（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソブチレート及び２，５－ジメチル－２，５－ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン等）等｝の有機過酸化物や、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチル－４－メトキシバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、２，２’－アゾビス［２－メチル－Ｎ－（２－プロペニル）プロピオンアミジン］ジヒドロクロリド、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス［２－メチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’－アゾビス（２－メチルプロパン）、２，２’－アゾビス（２，４，４－トリメチルペンタン）及びジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）等｝等のアゾ化合物が挙げられる。

上記金属酸化物粒子分散用組成物が、ラジカル重合開始剤を含有する場合、ラジカル重合開始剤の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、ラジカル重合開始剤の含有量は、上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量及び式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物の質量の合計に対して０．０１質量％以上３０質量％以下が好ましく、０．０５質量％以上１５質量％以下がより好ましく、０．０８質量％以上１０質量％以下がさらに好ましい。

＜有機溶媒＞
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、有機溶媒を含有していてもよいが、有機溶媒の含有量は、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、有機溶媒を含有しないことがさらに好ましい。
金属酸化物粒子分散用組成物が有機溶媒を含有すると、インクジェット法を適用すると、有機溶媒の揮発による含有成分の濃度変化や吐出不良、硬化感度の劣化のおそれがあるという問題があるが、有機溶媒の含有量が１０質量％以下、５質量％以下、さらには有機溶媒を含有しない金属酸化物粒子分散用組成物とすることにより、これらの問題を抑制することができる。

有機溶媒を含む場合、有機溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記金属酸化物粒子分散用組成物は、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物と式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物とを含有するため、後述する実施例に示すように、耐熱性に優れる。
また、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物は高屈折率を有するため、上記金属酸化物粒子分散用組成物は、高屈折率を有する。
そして、金属酸化物粒子分散用組成物は、有機溶媒の含有量を１０質量％以下や５質量％以下と少なくすることができ、有機溶媒を含有しないようにすることもできる。したがって、有機溶媒の揮発による含有成分の濃度変化や吐出不良、硬化感度の劣化を抑制することができるため、インクジェット法を適用することができる。
また、上記金属酸化物粒子分散用組成物は、金属酸化物粒子の分散性もよい。
したがって、上記金属酸化物粒子分散用組成物を、高屈折率の金属酸化物粒子と混合して金属酸化物粒子を分散させることにより、耐熱性に優れ、インクジェット法を適用することができる高屈折材料を調製可能である。
このように、高屈折率であり、且つ、耐熱性に優れるためアウトガスの発生が抑制されるので、上記高屈折材料は、ディスプレイ用途又はＯＬＥＤ照明用途での高屈層として適用することができる。例えば、ＯＬＥＤの高屈折層にも適用することができる。また、上記高屈折材料はインクジェット法を適用することができるため、例えば、高屈折材料からなる塗布膜を容易に形成することができる。

＜その他の重合性化合物＞
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物及び上記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物以外の任意の重合性化合物（「その他の重合性化合物」とも記載する。）を含んでいてもいなくてもよく、その他の重合性化合物としては、例えば、上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物及び上記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物以外の、エチレン性不飽和基を有する樹脂、モノマー又はこれらを組み合わせが挙げられる。

（エチレン性不飽和基を有するモノマー）
エチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。以下、単官能モノマー、及び多官能モノマーについて順に説明する。

単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチ（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、炭素原子数１以上５以下のアルキレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジアクリレート（中でも、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジアクリレート）１，６－ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記金属酸化物粒子分散用組成物は、上記その他の重合性化合物として使用される樹脂以外の他の樹脂を含んでいてもいなくてもよい。上記他の樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂等が挙げられる。

本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解するものをいう。

＜その他の成分＞
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、増感剤、硬化促進剤、光架橋剤、分散助剤、充填剤、密着促進剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、可塑剤、難燃剤、消泡剤、レべリング剤、増粘剤、チキソ性付与剤、界面活性剤等が例示される。

上記金属酸化物粒子分散用組成物に使用される熱重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等を挙げることができる。また、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系等の化合物を、界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン等の化合物を、それぞれ例示できる。

（上記金属酸化物粒子分散用組成物の調製方法）
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、上記各成分を均一に撹拌、混合し、分散させた後に、必要に応じて０．２μｍ以下のメンブランフィルタ、０．５μｍ以上１μｍ以下のメンブランフィルタ等のフィルタで濾過して調製することができる。

＜＜高屈折材料＞＞
上記金属酸化物粒子分散用組成物は、金属酸化物粒子を混合して分散させることにより、ディスプレイ用途等又はＯＬＥＤ照明等での高屈層の形成に好ましく使用できる高屈折材料となる。
この高屈折材料は、上述のように、耐熱性に優れ、インクジェット法を適用することができる。また、金属酸化物粒子の分散性も優れている。

＜金属酸化物粒子＞
金属酸化物粒子において、金属酸化物は、用途に応じて適宜選択でき、金属酸化物の金属としては、例えば、遷移金属［例えば、周期表第３族金属（例えば、イットリウム、セリウムなど）、周期第４族金属（例えば、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなど）、周期第４族金属（例えば、ニオブ、タンタルなど）、周期表第６族金属（例えば、タングステンなど）、周期表第８族金属（例えば、鉄など）など］、周期表第１０族金属（例えば、亜鉛など）、周期表第１３族金属（例えば、アルミニウム、インジウムなど）、周期表第１４族金属（例えば、ゲルマニウム、スズなど）などが挙げられる。なお、ケイ素は金属に含まれない。金属酸化物は、単一の金属を含む酸化物であってもよく、２種以上の金属を含む酸化物（又は複酸化物）であってもよい。

代表的な金属酸化物（粒子）には、例えば、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、及び亜鉛から選択された少なくとも１種の非ケイ素系金属を含む金属酸化物（粒子）などが含まれる。

特に、高屈折率の観点から、金属酸化物は、ジルコニウム及びチタンから選択された少なくとも１種を含む金属酸化物であってもよい。

金属酸化物は、天然物（又は鉱物）などであってもよく、金属酸化物の金属に対応する加水分解縮合性化合物（すなわち、加水分解縮合性金属化合物、例えば、金属アルコキシド）の加水分解により得られた加水分解縮合物（いわゆる、ゾルゲル法により得られた金属酸化物）であってもよい。すなわち、金属酸化物粒子（金属酸化物）は、加水分解縮合性金属化合物で構成された縮合成分（加水分解縮合性成分）の加水分解縮合物であってもよい。

なお、金属酸化物粒子の表面は、通常、官能基（金属原子に直接結合したヒドロキシル基、アルコキシ基などの加水分解縮合性基などのゾルゲル反応の原料由来の官能基など）を有している場合が多い。そして、このような官能基は、上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物のシリル基と反応（加水分解縮合反応）し、金属酸化物粒子を安定化しやすい。なお、このような官能基は、金属酸化物粒子自体に存在する官能基であってもよく、金属酸化物粒子を表面処理することによりさらに導入してもよく、ゾルゲル法の原料由来の官能基であってもよい。

加水分解縮合により得られた金属酸化物粒子において、加水分解縮合性化合物としては、金属原子（例えば、ジルコニウム、チタンなど）に直接結合した加水分解縮合性基（例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、塩素原子などのハロゲン原子、ヒドロキシル基など）を少なくとも１つ有する化合物が挙げられる。

代表的な加水分解縮合性金属化合物（又は加水分解縮合性有機金属化合物）としては、金属アルコキシド（前記例示の金属のアルコキシド）、例えば、ジルコニウムアルコキシド［例えば、テトラアルコキシジルコニウム（例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラｎ－ブトキシジルコニウム、テトラキス（２－エチルヘキシルオキシ）ジルコニウム、テトラキス（２－メチル－２－ブトキシ）ジルコニウムなどのテトラＣ_１－１８アルコキシジルコニウム、好ましくはテトラＣ_１－１２アルコキシジルコニウム、さらに好ましくはテトラＣ_１－６アルコキシジルコニウムなど）、これらのオリゴマーなど］、チタンアルコキシド［例えば、テトラアルコキシチタン（例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ－ブトキシチタンなどのテトラＣ_１－１８アルコキシチタン、好ましくはテトラＣ_１－１２アルコキシチタン、さらに好ましくはテトラＣ_１－６アルコキシチタンなど）、これらのオリゴマーなど］、これらのアルコキシドに対応し、金属が前記例示の金属（アルミニウム、亜鉛などのチタン、ジルコニウム以外の金属）である金属アルコキシドなどが挙げられる。これらの加水分解縮合性金属化合物は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。

なお、金属酸化物粒子は、前記のように、必要に応じて、表面処理（又は表面修飾）されていてもよい。表面処理剤としては、加水分解縮合性ケイ素化合物などが挙げられる。また、加水分解縮合により得られた金属酸化物粒子においては、加水分解縮合性ケイ素化合物と加水分解縮合性金属化合物とを組み合わせて加水分解縮合してもよい。加水分解縮合性ケイ素化合物としては、例えば、ジアルキルジアルコキシシラン（例えば、ジメチルジメトキシシランなどのジＣ_１－４アルキルジＣ_１－４アルコキシシラン）、アルキルアリールジアルコキシシラン（例えば、メチルフェニルジメトキシシランなどのＣ_１－４アルキル－Ｃ_６－１０アリール－ジＣ_１－４アルコキシシラン）、ジアリールジアルコキシシラン（例えば、ジフェニルジメトキシシランなどのジＣ_６－１０アリールジＣ_１－４アルコキシシランなど）、アルキルトリアルコキシシラン（例えば、メチルトリメトキシシランなどのＣ_１－４アルキルトリＣ_１－４アルコキシシランなど）、アリールトリアルコキシシラン（例えば、フェニルトリメトキシシランなどのＣ_６－１０アリールトリＣ_１－４アルコキシシランなど）などのアルコキシシラン（又はケイ素アルコキシド、例えば、ジ又はトリアルコキシシランなど）などが挙げられる。

これらのケイ素化合物は単独で又は２種以上組み合わせてもよい。

なお、金属酸化物粒子又は加水分解縮合性金属化合物と加水分解縮合性ケイ素化合物とを組み合わせる場合、これらの割合は、金属原子（例えば、ジルコニウム原子）及びケイ素原子換算で、前者／後者（モル比）＝１／０．１～１／２程度の範囲から選択でき、例えば、１／０．１５～１／１．５、好ましくは１／０．２～１／１、さらに好ましくは１／０．２５～１／０．８程度であってもよい。

金属酸化物粒子の平均粒径（平均一次粒子径）は、特に限定されないが、通常、ナノメータサイズであってもよい。例えば、金属酸化物粒子の平均体積粒子径（累積５０％体積粒子径）は、１０００ｎｍ以下（例えば、１ｎｍ以上８００ｎｍ以下）の範囲から選択でき、７００ｎｍ以下（例えば、１ｎｍ以上６００ｎｍ以下）、好ましくは５００ｎｍ以下（例えば、２ｎｍ以上４００ｎｍ以下）、さらに好ましくは３００ｎｍ以下（例えば、３ｎｍ以上２００ｎｍ以下）、特に１００ｎｍ以下（例えば、５ｎｍ以上７０ｎｍ以下）程度であってもよく、特に十分な透明性を担保するためには、通常５０ｎｍ以下［例えば、１ｎｍ以上４０ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上３５ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下（例えば、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下）］程度であってもよい。

なお、上記金属酸化物粒子分散用組成物は、下記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を含有するため、通常、このようなナノメータサイズを保持したまま（又は反映して）、有機成分（式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物、及び、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物）中に金属酸化物粒子を分散可能である。

金属酸化物粒子分散用組成物に金属酸化物粒子を分散させる方法は特に限定されず、例えば、金属酸化物粒子分散用組成物と金属酸化物粒子とを混合して、金属酸化物粒子を金属酸化物粒子分散用組成物中に分散させればよい。

金属酸化物粒子の配合量は特に限定されないが、例えば、金属酸化物粒子１００質量部に対する上記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の質量が、０．５質量部以上１００質量部以下であることが好ましく、１質量部以上５０質量部以下であることがより好ましく、２質量部以上１０質量部以下であることがさらに好ましい。

高屈折材料は、有機溶媒が配合されていてもよい。但し、インクジェット法を適用するためには、有機溶媒の含有量は少ないことが好ましい。
高屈折材料が含んでいてもよい有機溶媒の具体例については、上記金属酸化物粒子分散用組成物が有機溶媒を含む場合の有機溶媒として例示したものと同様である。

（高屈折材料の屈折率）
金属酸化物粒子分散用組成物に金属酸化物粒子を混合して分散させた高屈折材料は、屈折率が１．６以上であることが好ましく、１．６３以上であることがより好ましく、１．６５以上であることがさらに好ましく、１．７０以上であることが特に好ましく、１．７５以上であることが最も好ましい。
屈折率の上限としては特に制限はないが、例えば、３以下であり、２．５以下とすることもできる。
本発明において、屈折率とは波長６５６ｎｍの光線に対する屈折率であることが好ましく、屈折率は特に断らない限り、後記の実施例で測定した条件によるものとする。
また、高屈折材料の粘度は特に制限はないが、後述のインクジェット法に適用し得る観点から、３００ｃＰ（ｍＰａ・ｓ）以下の範囲が好ましい。高屈折材料の粘度は、６０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。下限は特にないが、０．１ｍＰａ・ｓ以上である。
なお、上記の粘度は、Ｅ型粘度計を用いて２５℃で測定される粘度である。

＜＜硬化膜形成方法＞＞
上記高屈折材料（上記金属酸化物粒子分散用組成物と金属酸化物粒子を混合して分散させたもの）を、基材上に適用して塗布膜を形成する工程（以下単に「塗布膜形成工程」ともいう。）、及び上記塗布膜を硬化する工程を有する硬化膜形成方法により、硬化膜を形成することができる。
上記硬化膜形成方法は、パターン形成工程をさらに含むことが好ましく、具体的には、
（１）上記塗布膜表面にモールドを圧接して上記塗布膜にパターン形成する工程をさらに含む（インプリント法）、又は
（２）上記塗布膜を硬化させる工程が位置選択的な露光により行われ、位置選択的に露光された前記塗布膜に対して現像を行いパターン形成する工程をさらに含むこと（現像法）が好ましい。
上記（２）の現像法において、上記現像はアルカリ現像液又は有機溶剤を含む現像液を用いて行うことができるが、上記現像は有機溶剤を含む現像液を用いて行われることがより好ましい。

基材（基板又は支持体）は、種々の用途によって選択可能であり、例えば、石英、ガラス、光学フィルム、セラミック材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ｎｉ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｆｅなどの金属基板、紙、ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等のポリマー基板、ＴＦＴアレイ基板、ＰＤＰの電極板、ガラスや透明プラスチック基板、ＩＴＯや金属などの導電性基材、絶縁性基材、シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化シリコン、アモルファスシリコンなどの半導体作製基板など特に制約されない。また、基材の形状も特に限定されるものではなく、板状でもよいし、ロール状でもよい。また、上記基材としては、モールドとの組み合わせ等に応じて、光透過性、又は、非光透過性のものを選択することができる。

まず、塗布膜形成工程では、例えば、硬化膜が形成されるべき基板上に、インクジェット、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、ディスペンサー、スプレー、スクリーン印刷、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて高屈折材料を適用し、必要に応じて、乾燥（プリベーク）により溶媒を除去して塗布膜を形成することができる。
塗布膜の厚さとしては、特に制限はないが、１０ｎｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以上５μｍ以下であることが特に好ましい。
なお、基板上に盛られた液滴や、凹凸を有する基板の凹部に埋め込めまれた高屈折材料や、モールドの凹部に充填された高屈折材料等についても、便宜上「塗布膜」と称する。
上記高屈折材料はインクジェット法に好適に用い得るため、上記（１）のように、インプリント法によるパターン形成を行う場合、インクジェット法を適用することができる。

上記（１）のように、インプリント法によるパターン形成を行う場合、上記塗布膜にパターンを転写するために、パターン形成層表面にモールドを押接する。これにより、モールドの押圧表面にあらかじめ形成された微細なパターンを上記塗布膜に転写することができる。また、パターンを有するモールドに高屈折材料を塗布し、基板を押接してもよい。
塗布膜表面に光透過性のモールドを押接し、モールドの裏面から露光し、上記塗布膜を硬化することができる。また、光透過性基材上に高屈折材料を塗布し、モールドを押し当て、基材の裏面から露光し、高屈折材料を硬化させることもできる。

モールド材としては、特に限定されないが、所定の強度、耐久性を有するものであればよい。光透過性のモールド剤としては、具体的には、ガラス、石英、ＰＭＭＡ、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの光透明性樹脂、透明金属蒸着膜、ポリジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化膜、金属膜等が例示される。

また、非光透過型モールド材としては、特に限定されないが、所定の強度を有するものであればよい。具体的には、セラミック材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅなどの金属基板、ＳｉＣ、シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化シリコン、アモルファスシリコンなどの基板などが例示され、特に制約されない。また、モールドの形状も特に制約されるものではなく、板状モールド、ロール状モールドのどちらでもよい。ロール状モールドは、特に転写の連続生産性が必要な場合に適用される。

上記（１）のように、インプリント法によるパターン形成を行う場合、モールド圧力を１０気圧以下で行うことが好ましい。モールド圧力を１０気圧以下とすることにより、モールドや基板が変形しにくくパターン精度が向上する傾向にある。また、加圧が低いため装置を縮小できる傾向にある点からも好ましい。モールド圧力は、モールド凸部の高屈折材料の残膜が少なくなる範囲で、モールド転写の均一性が確保できる領域を選択することが好ましい。
下記露光の前段階として、真空状態にしておくと、気泡混入防止、酸素混入による反応性低下の抑制、モールドと高屈折材料との密着性向上に効果があるため、真空状態で露光してもよい。露光時における好ましい真空度としては、１０^－１Ｐａから常圧の範囲である。

次いで、形成された塗布膜を硬化することができる。硬化方法は、高屈折材料を硬化させることができる方法であれば特に限定されず、露光及び／又は加熱を含み、露光を含むことが好ましい。
露光では光源は特に限定されず、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ＬＥＤ等が挙げられる。このような光源を用い、塗膜にＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、極紫外線（ＥＵＶ）、真空紫外線（ＶＵＶ）、電子線、Ｘ線、軟Ｘ線、ｇ線、ｉ線、ｈ線、ｊ線、ｋ線等の放射線ないし電磁波を照射して塗布膜を露光し得る。塗布膜に対する露光は、ネガ型のマスクを介して位置選択的に行われてもよい。露光量は高屈折材料の組成によっても異なるが、例えば１０ｍＪ／ｃｍ^２以上２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上１５００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ^２以上１２００ｍＪ／ｃｍ^２以下がさらに好ましい。露光照度は高屈折材料の組成によっても異なるが、１ｍＷ／ｃｍ^２以上５０ｍＷ／ｃｍ^２以下の範囲にすることが好ましい。
加熱を行う際の温度は特に限定されず、１８０℃以上２８０℃以下が好ましく、２００℃以上２６０℃以下がより好ましく、２２０℃以上２５０℃以下が特に好ましい。加熱時間は、典型的には、１分以上６０分以下が好ましく、１０分以上５０分以下がより好ましく、２０分以上４０分以下が特に好ましい。

上記（２）の現像法のように、上記塗布膜を硬化させる工程が位置選択的な露光により行われ、位置選択的に露光された上記塗布膜に対して現像して、パターン化された硬化膜を得ることができる。

現像工程では、露光された塗膜を現像液で現像することにより、所望する形状にパターン化された硬化物が形成される。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法、パドル法、ダイナミックディスペンス法等を用いることができる。
有機溶剤を含む現像液の具体例としては、ＰＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）等のアルコール系溶剤ないしグリコールエーテル系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤等が挙げられる。
アルカリ現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。

そして、必要に応じ、露光後の硬化物、又は現像後のパターン化された硬化物にポストベークを施してさらに加熱硬化を進めてもよい。ポストベークの温度は１５０℃以上２７０℃以下が好ましい。

＜＜硬化物＞＞
上記高屈折材料（上記金属酸化物粒子分散用組成物と金属酸化物粒子を混合して分散させたもの）を硬化して得られる硬化物は、耐熱性に優れ、高屈折率を有する。高屈折率で、且つ、耐熱性に優れるためアウトガスの発生が抑制されるので、上記硬化物は、ディスプレイ用途等又はＯＬＥＤ照明等での高屈層等のアウトガスの影響が大きい用途に適している。
硬化物の屈折率としては１．６以上であることが好ましく、１．６３以上であることがより好ましく、１．６５以上であることがさらに好ましく、１．７以上であることが特に好ましく、１．７５以上であることが最も好ましい。
屈折率の上限としては特に制限はないが、例えば、３以下であり、２．５以下とすることもできる。
硬化物が硬化膜である場合、硬化膜の厚さとしては、特に制限はないが、１０ｎｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以上５μｍ以下であることが特に好ましい。

＜＜硬化物の用途＞＞
上記硬化物は、以下説明する各種の高屈折率で透明な光学部材として好適である。
例えば、上記硬化物は、屈折率に優れ、且つ、耐熱性に優れアウトガスの発生が抑制されるため、ディスプレイ用途又はＯＬＥＤ照明等での高屈層として好適である。例えば、ＯＬＥＤの高屈折層として好適である。
また、上記硬化物は屈折率に優れることから、ヘッドアップディスプレイないしヘッドマウントディスプレイ装置、プロジェクター等における透過型透明スクリーン、反射型透明スクリーン等として好適である。
また、透明光学部材（レンズ、マイクロレンズ、ウェハレベルレンズ、光ファイバー、光導波路、プリズムシート、ホログラム、高屈折フィルム、再帰反射フィルム）、光配線部材、回折格子などの光学部材等の種々の用途に好適である。
また、該硬化物は、例えば、ＯＬＥＤ表示素子用封止材、ＯＬＥＤ照明、ハードコート、絶縁膜、反射防止膜、層間絶縁膜、カーボンハードマスク、ディスプレイパネル材料（平坦化膜、カラーフィルタの画素、有機ＥＬ用隔壁、スペーサ）等の種々の用途に好適である。
また、硬化物は、タッチパネル等の表示素子において、金属配線等を被覆する透明被膜として好ましく使用される。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。

（合成例１）式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の合成
下記式（ａ）で表されるアリルオキシ基を有するフルオレン化合物４．０ｇと、（３－メルカプトプロピル）トリメトキシシラン（ＭＰＴＭＳ）３．４ｇとを、ＴＰＰＳ（トリフェニルホスフィン トリフェニルボラン）０．０７５ｇ及び重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン）０．１５ｇの存在下、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中において室温で光反応（３６５ｎｍブロードバンド光により反応）させることにより、下記式（ａ１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を４．２ｇ得た（収率６１．７％）。得られた結晶のＮＭＲを測定し、目的物であることを確認した。

（合成比較例１）下記式（ａ２）で表されるシリル基変性フルオレン化合物の合成
９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレンを９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンに代え、特許文献１の合成例１にしたがって、下記式（ａ２）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を合成した。

［耐熱性評価１］
合成例１で得られた式（ａ１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物及び合成比較例１で得られた上記式（ａ２）で表されるシリル基変性フルオレン化合物について、それぞれ、ヘキサンで抽出し乾燥させたものを、試料として用いた。
試料を、ＴＧ－ＤＳＣ－ＭＳ法によりＨｅ雰囲気中、昇温速度１０℃／分で４０℃から５００℃まで昇温しアウトガス測定を行い（ＭＳ装置中の温度３００℃）、アウトガス量のピーク値の温度を算出した。なお、測定には、ネッチ（ＮＥＴＺＳＣＨ）社製のＴＧ－ＤＳＣ装置と日本電子社製のＭＳ装置とを用いた。
この結果、合成例１で得られた式（ａ１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物のピーク値の温度は３９０．５℃であった。また、合成比較例１で得られた上記式（ａ２）で表されるシリル基変性フルオレン化合物のピーク値の温度は３８０．０℃であった。

（実施例１）
式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物としての上記式（ａ１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物２ｇと、式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物としてのフェニルフェニルアクリレート８ｇとを混合して、金属酸化物粒子分散用組成物を得た。

（比較例１）
上記式（ａ１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を、上記式（ａ２）で表されるシリル基変性フルオレン化合物に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、金属酸化物粒子分散用組成物を得た。

［屈折率評価］
実施例１及び比較例１で得られた金属酸化物粒子分散用組成物について、プリズムカプラ（メトリコン社製）用いて、温度２５℃、６５６ｎｍでの屈折率を測定した。結果を表１に示す。

［耐熱性評価２］
実施例１及び比較例１で得られた金属酸化物粒子分散用組成物について、以下の方法で耐熱性を評価した。
まず、実施例１及び比較例１で得られた金属酸化物粒子分散用組成物を、それぞれシリコン基板に厚さ１μｍになるように、インクジェット法により塗布した。その後、温度８５℃湿度８５％の環境下で２４時間放置することで吸湿させた。
吸湿前後の各基板を試料とし、ＴＤＳ法（昇温脱離ガス分光法）により、昇温脱離ガス分析装置（ＥＳＣＯ社製）を用いて、各基板を真空条件下で４０～１００℃まで加熱した際に観測されるアウトガス量を測定した。吸湿後と吸湿前の１００℃のアウトガス量が、吸湿前のアウトガス量を１００としたときに、吸湿後のアウトガス量が１００以上１０５以下の場合を〇、吸湿後のアウトガス量が１０５超の場合を×として、耐熱性を評価した。結果を表１に示す。

［分散性評価］
実施例１及び比較例１の金属酸化物粒子分散用組成物１ｇと、金属酸化物粒子としての、平均粒径が１０ｎｍのＺｒＯ_２ナノ粒子１０ｇを、混合、撹拌して、高屈折材料を得た。
得られた高屈折材料を、目視で観察して、分散性を評価した。実施例１及び比較例１いずれも、ＺｒＯ_２粒子が均一に分散されており、分散状態が良好であった。

式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物と式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物とを含有する実施例１の金属酸化物粒子分散用組成物は、耐熱性に優れ、インクジェット法を適用することができる高屈折材料を調製可能であった。一方、式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物を含有しない比較例１の金属酸化物粒子分散用組成物は、実施例１の金属酸化物粒子分散用組成物と比べて、耐熱性が悪かった。
詳述すると、実施例１の金属酸化物粒子分散用組成物が含有する式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物は、耐熱性に優れるため、上記金属酸化物粒子分散用組成物も、耐熱性に優れ、アウトガスの発生が少なかった。
また、実施例１の金属酸化物粒子分散用組成物は、有機溶媒を含有しないため、有機溶媒の揮発による含有成分の濃度変化や吐出不良、硬化感度の劣化が抑制され、インクジェット法を適用することができた。
また、上記金属酸化物粒子分散用組成物は、金属酸化物粒子の分散性がよく、屈折率も高かった。

Claims (6)

1. 下記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物と、下記式（２）で表される（メタ）アクリレート化合物とを含有し、有機溶媒を含有しない、金属酸化物粒子分散用組成物。
   

   

   （式（１）中、環Ｚ^１は、ナフタレン環を表し、
   Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基を表し、
   Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、
   Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立に、アルキレン基を表し、
   Ｘ^ａ及びＸ^ｂは、それぞれ独立に、－Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｐ（Ｒ^５）_３－ｐで表される基を表し、
   Ｒ^４は、水素原子、アルキル基又は－（Ｒ^６Ｏ）_ｑ－Ｒ^７で表される基を表し、
   Ｒ^５は、水素原子又は炭化水素基を表し、
   Ｒ^６は、アルキレン基を表し、
   Ｒ^７は、アルキル基を表し、
   ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表し、
   ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０以上２以下の整数を表し、
   ｐは１以上３以下の整数を表し、
   ｑは１以上の整数を表す。）
   

   

   （式（２）中、Ｚ^２は２個以上の芳香環を含む芳香族基を表し、Ｒ^８は直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、Ｒ^９は水素原子又はメチル基を表し、ｒは０以上の整数を表す。）
2. 前記式（１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物が、下記式（１－１）で表されるシリル基変性フルオレン化合物である、請求項１に記載の金属酸化物粒子分散用組成物。
   

   

   （式（１－１）中、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ａ、Ｒ^３ｂ、Ｘ^ａ、Ｘ^ｂ、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、ｐ及びｑは、それぞれ式（１）中のこれらと同様である。）
3. 前記Ｘ^ａ及Ｘ^ｂが、それぞれ独立に、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、エチルジメトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、又はエチルジエトキシシリル基である、請求項１又は２に記載の金属酸化物粒子分散用組成物。
4. 前記ｒが０である、請求項１～３のいずれか１項に記載の金属酸化物粒子分散用組成物。
5. 前記Ｚ^２が、ビフェニル基である、請求項１～４のいずれか１項に記載の金属酸化物粒子分散用組成物。
6. ラジカル重合開始剤を含む、請求項１～５に記載の金属酸化物粒子分散用組成物。