JP7355918B2 - ニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法 - Google Patents
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Description
回折格子導波路パターンを有するインプリントテンプレートを製造するステップ1と、
ナノインプリントプロセスによってインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンを転写テンプレートに転写し、回折格子導波路パターンのミラーパターンを有する転写テンプレートを取得するステップ2と、
ナノインプリントプロセスによって転写テンプレートの回折格子導波路パターンのミラーパターンを導波路基板に転写し、ニアアイディスプレイの回折格子導波路を取得するステップ3と、を含む、ニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法を提供する。
回折格子導波路パターンを有するインプリントテンプレートを製造するステップ1であって、上記のインプリントテンプレートはナノスケールであってもよく、即ち、上記のインプリントテンプレートはナノインプリントテンプレートであってもよい、ステップ1と、
ナノインプリントプロセスによってインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンを転写テンプレートに転写し、回折格子導波路パターンのミラーパターンを有する転写テンプレートを取得するステップ2と、
ナノインプリントプロセスによって転写テンプレートの回折格子導波路パターンのミラーパターンを導波路基板に転写し、ニアアイディスプレイの回折格子導波路を取得するステップ3と、を含む。
Claims (9)
- ニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法であって、
回折格子導波路パターンを有するインプリントテンプレートを製造するステップ1と、
ナノインプリントプロセスによってインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンを転写テンプレートに転写し、回折格子導波路パターンのミラーパターンを有する転写テンプレートを取得するステップ2と、
ナノインプリントプロセスによって転写テンプレートの回折格子導波路パターンのミラーパターンを導波路基板に転写し、ニアアイディスプレイの回折格子導波路を取得するステップ3と、を含み、
前記転写テンプレートは、石英テンプレート又は可撓性テンプレートであり、前記転写テンプレートが可撓性テンプレートである場合、曲面基板を前記導波路基板として使用する、ことを特徴とするニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。 - 前記ステップ1は、インプリント基板を用意し、インプリント基板にフォトレジストを均一にスピンコートするステップと、ベークしてフォトレジストにおけるフォトレジスト溶媒を除去し、露光プロセスによってフォトレジスト層をインプリント基板の表面に露光し、現像後にフォトレジストに回折格子導波路パターンを形成するステップと、エッチングプロセスによって露光後のインプリント基板をエッチングし、回折格子導波路パターンをフォトレジストからインプリント基板に転写してインプリント基板に回折格子導波路パターンを形成するステップと、フォトレジストを除去して回折格子導波路パターンを有するインプリントテンプレートを取得するステップと、を含む、ことを特徴とする請求項1に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
- 前記ステップ2において、前記ナノインプリントプロセスは熱インプリント又は紫外線インプリントである、ことを特徴とする請求項1に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
- 熱インプリント方法によってインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンを転写テンプレートに転写することは、可撓性基板を、回折格子導波路パターンを有するインプリントテンプレートの表面に置き、可撓性基板をガラス転移温度以上に加熱し、圧力を加えることで、可撓性基板を軟化させてインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンに充填させた後、冷却及び離型して回折格子導波路パターンのミラーパターンを有する転写テンプレートを取得するステップを含む、ことを特徴とする請求項3に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
- 紫外線インプリント方法によってインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンを転写テンプレートに転写することは、透明な可撓性基板を用意し、透明な可撓性基板のインプリントテンプレートに面する側に紫外線感受性接着剤をスピンコートするステップと、透明な可撓性基板とインプリントテンプレートを貼り合わせ、圧力を加えることで、紫外線感受性接着剤をインプリントテンプレートの回折格子導波路パターンに充填させた後、紫外線感受性接着剤を硬化及び離型して回折格子導波路パターンのミラーパターンを有する転写テンプレートを取得するステップと、を含む、ことを特徴とする請求項3に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
- 前記ステップ3において、ナノインプリントプロセスは熱インプリント又は紫外線インプリントである、ことを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
- 紫外線インプリント方法によって転写テンプレートの回折格子導波路パターンのミラーパターンを導波路基板に転写することは、導波路基板を用意し、導波路基板の転写テンプレートに面する側に紫外線インプリント接着剤をスピンコートするステップと、転写テンプレートを紫外線インプリント接着剤でコーティングされた導波路基板に覆い、空気圧で圧力を均一に加える方法又は圧延して圧力を加える方法によって、紫外線インプリント接着剤を転写テンプレートの回折格子導波路パターンのミラーパターンに充填させた後、紫外線インプリント接着剤を硬化及び離型してニアアイディスプレイの回折格子導波路を取得するステップと、を含む、ことを特徴とする請求項6に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
- 前記ステップ3は、硬化及び離型した後、
エッチングによって紫外線インプリント接着剤における回折格子導波路パターンを導波路基板に転写して、紫外線インプリント接着剤を除去するステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項7に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。 - 前記ステップ3において、前記導波路基板は透明なポリマー基板であり、
前記ステップ3は、電鋳によって転写テンプレートの回折格子導波路パターンのミラーパターンを金属ニッケル板に転写するステップと、電鋳された金属ニッケル板を透明なポリマー基板に置き、熱インプリントによって透明なポリマー基板を金属ニッケル板の回折格子導波路パターンに入らせた後、冷却及び離型してニアアイディスプレイの回折格子導波路を取得するステップと、を含む、ことを特徴とする請求項1に記載のニアアイディスプレイの回折格子導波路の製造方法。
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