CN114179536A - 一种图案的处理方法 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种图案的处理方法,在模板上形成纹理图案,将模板上的纹理图案转印至载膜上,以在载膜上形成纹理图案。在手机后壳上涂覆淋涂液,将淋涂液固化至半干状态。将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在半干状态的淋涂液上形成纹理图案。去除淋涂液上的载膜,使淋涂液处于硬化状态,从而在手机后壳上的淋涂液中形成纹理图案。利用载膜作为在手机后壳上形成纹理图案的中间载体,能够在生产过程中将纹理图案批量复制到手机后壳上,满足批量生产的需求。

Description

一种图案的处理方法
技术领域
本申请涉及手机外壳技术领域,尤其涉及一种图案的处理方法。
背景技术
为了使得手机后壳更新颖、时尚,在手机后壳上形成纹理图案以提升手机后壳的质感和光效。
目前主要采用3D打印的方式在手机后壳上形成纹理图案,具体的是,在手机后壳表面淋涂光面的淋涂液,在淋涂液表面打印纹理图案,随后去除边缘多余物料,从而形成具有纹理图案的手机后壳。
但是,现有的3D打印只能对每一个产品分别单独激光打印,生产时间长效率低,且对镭雕机的需求较大,成本较大,无法满足批量生产的需求。
发明内容
本申请提供一种图案的处理方法,用以解决无法满足批量生成的需求的问题。
第一方面,本申请提供一种图案的处理方法,包括:
在模板上形成纹理图案,将所述模板上的纹理图案转印至载膜上;
在手机后壳上涂覆淋涂液,将所述淋涂液固化至半干状态;
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在所述半干状态的淋涂液上形成所述纹理图案;
去除所述具有纹理图案的载膜,将所述处于半干状态的淋涂液固化至硬化状态。
可选的,所述在模板上形成纹理图案,具体包括:
采用激光镭射在模板上形成纹理图案;
或者,采用曝光、显影和刻蚀的方式在模板上形成纹理图案。
可选的,所述将所述模板上的纹理图案转印至载膜上,具体包括:
在载膜上涂刷紫外光固化胶水;
将所述模板压在所述紫外光固化胶水上;
取下所述模板,并对所述紫外光固化胶水进行烘烤,以在所述载膜上形成所述纹理图案。
可选的,所述模板上的纹理图案包括多个不同的图案;
所述将所述模板上的纹理图案转印至载膜上,具体包括:
将所述模板上的多个不同的纹理图案转印至载膜上。
可选的,将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液之前,所述方法还包括:
在所述手机后壳上的淋涂液上印制第一对位孔,在所述载膜上印制第二对位孔;
相应地,所述将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,具体包括:
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,并使得所述第一对位孔对准所述第二对位孔。
可选的,所述将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在所述处于半干状态的淋涂液上形成所述纹理图案,具体包括:
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液,对所述具有纹理图案的载膜施加压力,以在所述处于半干状态的淋涂液上形成所述纹理图案。
可选的,所述将所述淋涂液固化至半干状态包括:
利用第一烘烤能量烘烤所述淋涂液,以使所述淋涂液固化至半干状态;
所述将所述处于半干状态的淋涂液固化至硬化状态,具体包括:
利用第二烘烤能量烘烤所述处于半干状态的淋涂液,以使所述半干状态的淋涂液固化至硬化状态;
其中,所述第一烘烤能量为所述第二烘烤能量的一半。
可选的,所述模板的材料包括玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、钴、镍或不锈钢,所述模板的形状包括平板状或圆棒状。
可选的,所述载膜包括聚碳酸脂或聚酯。
可选的,所述手机后壳的材料包括塑胶或复合板材。
本申请提供的一种图案的处理方法,首先在模板上形成纹理图案,并将模板上的纹理图案转印至载膜上,以在载膜上形成纹理图案。在手机后壳上涂覆淋涂液,将淋涂液固化至半干状态。而后将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在半干状态的淋涂液上形成纹理图案。随后,去除淋涂液上的载膜,并对处于半干状态的淋涂液进行固化处理,使得淋涂液处于硬化状态,从而在手机后壳上的淋涂液中形成纹理图案。这样,利用载膜作为在手机后壳上形成纹理图案的中间载体,能够在生产过程中将纹理图案批量复制到手机后壳上,满足批量生产的需求。
附图说明
为了更清楚地说明本申请或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请一实施例提供的一种3D打印纹理图案的结构示意图;
图2为本申请一实施例提供的一种图案的处理方法的流程图;
图3为本申请一实施例提供的纹理图案的示意图;
图4为本申请另一实施例提供的一种图案的处理方法的流程图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请中的附图,对本申请中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
目前主要采用3D打印的方式在手机后壳上形成纹理图案,通过3D打印的方式形成的纹理图案手感更强,手感更强可以理解为当触摸手机后壳上的纹理图案时能够更清晰地感知纹理图案。参考图1所示,形成手感更强的纹理图案的过程包括:通过高压成型的方式形成手机后壳,在手机后壳表面涂覆淋涂液,而后通过激光镭雕机在淋涂液表面打印所需纹理,随后通过CNC技术去掉淋涂液边缘的多余物料,从而形成具有纹理图案的手机后壳。
CNC技术是指计算机数控技术,计算机按事先存贮的控制程序来执行对设备的控制功能,替代原先用硬件逻辑电路组成的数控装置,通过计算机软件实现输入数据的存贮、处理、计算、逻辑判断等各种控制技能。
但是,现有的3D打印只能对每一个产品分别单独激光打印,生产时间长效率低,且对镭雕机的需求较大,成本较大,无法满足批量生产的需求。
针对上述问题,本申请提出了一种图案的处理方法,首先,在模板上形成深纹理图案,并将模板上的纹理图案转印至载膜上,以在载膜上形成纹理图案。在手机后壳上涂覆淋涂液,将淋涂液固化至半干状态。而后,将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在半干状态的淋涂液上形成纹理图案。随后,去除淋涂液上的载膜,并对处于半干状态的淋涂液进行固化处理,使得淋涂液处于硬化状态,从而在手机后壳上的淋涂液中形成纹理图案。这样,利用载膜作为在手机后壳上形成纹理图案的中间载体,能够在生产过程中将纹理图案批量复制到手机后壳上,满足批量生产的需求。
图2示出了本申请一实施例提供的一种图案的处理方法的流程图。本实施例的方法可以包括如下步骤:
S101、在模板上形成纹理图案,将模板上的纹理图案转印至载膜上。
模板用于作为在载膜上形成纹理图案的载体,通过在模板上形成纹理图案,而后将纹理图案转印至载膜上,能够提高在载膜上形成的纹理图案的精确性。模板的材料可以包括玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA)、钴、镍、不锈钢等。模板的形状可以包括平板状、圆棒状等,模板的具体形状可以根据纹理图案确定,模板的尺寸大于纹理图案的尺寸。
模板的厚度大于纹理图案的深度,可以理解为在模板上形成纹理图案时,不会刻穿模板,使得后续采用按压模板的方式将模板上的纹理图案转印至载膜上时,模板受力均匀,保证模板上的纹理图案完全转印至载膜上,提高纹理图案的转印效果。模板的厚度范围可以为1mm~2mm,在模板上形成的纹理图案的深度范围为0.005mm~0.015mm,例如模板的厚度为1.5mm,在模板上形成的纹理图案的深度为0.01mm。
在模板上形成纹理图案的方法可以包括:利用激光镭射在模板上雕刻纹理图案,或者利用曝光、显影、刻蚀的方式刻蚀模板以在模板上形成纹理图案。例如,采用激光镭射在厚度范围为1mm~2mm的模板上形成深度范围为0.005mm~0.015mm的纹理图案,或者,采用结合曝光、显影和刻蚀在厚度范围为1mm~2mm的模板上形成深度范围为0.005mm~0.015mm的纹理图案。
利用曝光、显影和刻蚀的方式在模板上形成纹理图案,具体可以为,在模板上形成光刻胶层,光刻胶层上覆盖有掩模板,掩模板中形成有纹理图案,然后通过对光刻胶层进行曝光和显影处理,使得光刻胶层中形成有纹理图案,而后以光刻胶层为遮蔽,对模板进行刻蚀处理,以使得纹理图案转印至模板中。在对模板进行刻蚀处理时,可以根据纹理图案所需的深度对模板进行刻蚀,例如纹理图案的深度为0.01mm时,刻蚀去除模板的厚度为0.01mm。
在模板上形成的纹理图案的数量可以为多个,多个纹理图案可以为相同的纹理图案,也可以为不同的纹理图案,也可以为部分相同的纹理图案,可以根据实际情况确定模板上的纹理图案。例如模板上有8个纹理图案,8个纹理图案可以全部为不同的图案,也可以全部为相同的图案,也可以是4个为相同的图案,另外4个为不同的图案。
参考图3所示,图3示出了多个不同的纹理图案,以图3中最左侧的纹理为例,最左侧的纹理为CD纹理,CD纹理是指产品表面的拉丝纹理成同心圆由中心向外均匀扩散,不可有丝毫凌乱,使其表面侧看好似CD碟片一样的美感。CD纹理的形成方法可以包括一半采用CNC机加,按照ID(in design)效果加工成环状的三角形跑道,起到旋转反光的效果。
在模板上形成纹理图案之后,将模板上的纹理图案转印至载膜上,以在载膜上形成纹理图案,载膜用于作为在手机后壳上形成纹理图案的载体。
载膜的厚度大于载膜上的纹理图案的深度,使得后续采用按压载膜的方式将载膜上的纹理图案转印至手机后壳上时,载膜受力均匀,保证载膜上的纹理图案完全转印至手机后壳上,提高纹理图案的转印效果。载膜的厚度范围可以为0.05mm~0.1mm,载膜上的纹理图案的深度范围可以为0.003m~0.01mm。载膜的材料可以包括聚碳酸脂(PC)、聚酯(PET)等。
将模板上的纹理图案转印至载膜上的方法可以为,参考图4所示。
S1011、在载膜上涂刷紫外光固化(UV)胶水。
在载膜上涂刷的紫外光固化胶水的厚度可以小于载膜的厚度,使得载膜能够对紫外光固化胶水起到更好的支撑作用。载膜的厚度范围可以为0.05mm~0.1mm,紫外光固化胶水的厚度范围可以为0.01mm~0.02mm,例如载膜的厚度为0.07mm,紫外光固化胶水的厚度为0.015mm。
紫外光固化胶水,是一种单组分、低粘度、高强度丙烯酸酯类胶粘剂,具有贮存期长、不含溶剂、固化速度快、透明性好以及耐热耐化学品性能好等特点,广泛用于水晶、玻璃工艺品粘合、水晶无影胶、水晶与金属、电镀金属粘合的工业产品。
S1012、将模板压在紫外光固化胶水上。
在载膜上涂刷紫外光固化胶水后,将模板压在紫外光固化胶水上。由于模板上的纹理图案具有一定的深度,则将模板压在紫外光固化胶水上后,紫外光固化胶水能够流入纹理图案中。
例如,模板上的纹理图案包括:第一沟槽、第二沟槽、第三沟槽以及第四沟槽,则将模板压在紫外光固化胶水上之后,紫外光固化胶水进入第一沟槽、第二沟槽、第三沟槽以及第四沟槽中,并在模板上方的压力作用下,填充第一沟槽、第二沟槽、第三沟槽以及第四沟槽。
S1013、取下模板,并对紫外光固化胶水进行烘烤,以在载膜上形成纹理图案。
取下模板后,利用能量范围为850J~1000J的烘烤能量对紫外光固化胶水进行烘烤,在紫外光照射下,紫外光固化胶水中的光引发剂迅速分解成自由基或阳离子,进而引发不饱和键聚合,使材料固化,即紫外光固化胶水固化变硬。利用紫外光照射紫外光固化胶水的烘烤能量可以为900J,烘烤时间可以为1~3s,例如3s。
当紫外光固化胶水变硬后,可以对变硬后的紫外光固化胶水进行平坦化处理。具体的,紫外光固化胶水进入第一沟槽、第二沟槽、第三沟槽以及第四沟槽中后,取下模板,对第一沟槽、第二沟槽、第三沟槽以及第四沟槽中的紫外光固化胶水进行烘烤,第一沟槽、第二沟槽、第三沟槽以及第四沟槽中的紫外光固化胶水形成第一凸起、第二凸起、第三凸起以及第四凸起。对第一凸起、第二凸起、第三凸起以及第四凸起进行平坦化工艺,以去除凸起表面的微小凹陷,使得凸起表面平整化,以使得载膜上的纹理图案具有较高的质量,提高后续手机后壳上形成的纹理图案的质量。同时,经过平坦化工艺之后的第一凸起、第二凸起、第三凸起以及第四凸起的高度减小,使得第一凸起和第二凸起之间的沟槽、第二凸起和第三凸起之间的沟槽、第三凸起和第四凸起之间的沟槽的深度减小,从而使得载膜上形成的纹理图案的深度小于模板上的纹理图案的深度。例如载膜上的纹理图案的深度为0.006mm,模板上的纹理图案的深度为0.01mm。
载膜上的纹理图案的深度可以大于模板上的纹理图案的深度,具体的,在取下模板并对紫外光固化胶水进行烘烤之后,对载膜上的纹理图案进行刻蚀,以使得载膜上的纹理图案的深度大于模板上的纹理图案的深度。例如,对紫外光固化胶水形成的第一凸起和第二凸起之间的沟槽进行刻蚀,对紫外光固化胶水形成的第二凸起和第三凸起之间的沟槽进行刻蚀,以增大载膜上的纹理图案的深度。
作为一种实现方式,载膜上的纹理图案的深度范围可以为0.003mm~0.01mm,模板上的纹理图案的深度范围可以为0.005mm~0.015mm。在此范围内时,能够保证模板上的纹理图案完好地转印至载膜上,同时载膜上的纹理图案能够完好地转印至手机后壳上。
当模板上的纹理图案包括多个不同的图案时,利用模板载膜上形成的纹理图案为多个不同的图案。当模板上的纹理图案包括多个相同的图案时,利用模板载膜上形成的纹理图案为多个相同的图案。通常,一张载膜上可以形成8~16个纹理图案。
S102、在手机后壳上涂覆淋涂液,将淋涂液固化至半干状态。
手机后壳的材料可以为塑胶或复合板材,手机后壳的厚度可以大于淋涂液的厚度,以提高手机后壳对淋涂液的支撑作用和手机后壳的美观性。手机后壳的厚度范围可以为0.45mm~1mm,淋涂液的厚度范围可以为0.008mm~0.018mm。例如淋涂液的厚度为0.012mm,手机后壳的厚度为0.06mm。
在手机后壳上涂覆淋涂液之后,将淋涂液固化至半干状态,使得淋涂液具有一定的硬度,以便在淋涂液上形成纹理图案。淋涂液可以为紫外光固化胶水,则将淋涂液固化至半干状态可以利用500~600J的烘烤能量烘烤淋涂液2~3s,以使得淋涂液固化至半干状态,例如550J的烘烤能量下烘烤淋涂液3s。
S103、将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液,以在半干状态的淋涂液上形成纹理图案。
在手机后壳上涂覆淋涂液之后,可以在淋涂液上印至第一对位孔。在载膜上形成纹理图案之后,可以在载膜上形成第二对位孔。则,将具有纹理图案的载膜覆盖至半干状态的淋涂液时,可以利用第一对位孔和第二对位孔实现载膜和手机后壳上的淋涂液的对准,防止载膜覆盖于淋涂液上后位置发生偏离,以将载膜上的纹理图案精确地转印至手机后壳上。
第一对位孔可以位于淋涂液的边缘位置,以避免在手机后壳上形成纹理图案,相应地,第二对位孔位于载膜上靠近纹理图案的位置,则第一对位孔和第二对位孔均不会影响纹理图案的转印过程。
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,具体可以为,当具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液时,对具有纹理图案的载膜施加压力,以在半干状态的淋涂液上形成纹理图案。将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液时,由于淋涂液处于半干状态,当对载膜施加一定压力时,能够使得淋涂液被挤压至纹理图案的沟槽内,以使得淋涂液的表面具有一定的凸起和沟槽,淋涂液表面的凸起和沟槽组成纹理图案。施加的压力范围可以为30MPa~45MPa,例如40MPa。在形成纹理图案之后,还可以刻蚀淋涂液表面的沟槽,以增大纹理图案的深度,进而增大纹理图案的手感。
淋涂液上的纹理图案的深度可以小于载膜上的纹理图案的深度,例如,淋涂液上的纹理图案的深度为0.002mm,载膜上的纹理图案的深度为0.003mm。具体的,将载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上后,淋涂液被挤压进载膜上的纹理图案之间的沟槽内,载膜上的纹理图案之间的沟槽内的淋涂液形成凸起,该凸起是指相比于淋涂液表面形成凸起,凸起之间包括沟槽,对凸起进行平坦化工艺,使得凸起表面平整化,同时凸起的高度减小,相应地,凸起之间的沟槽的深度减小,则淋涂液上的纹理图案的深度小于载膜上的纹理图案的深度。
淋涂液上的纹理图案的深度可以大于载膜上的纹理图案的深度。例如,淋涂液上的纹理图案的深度为0.008mm,载膜上的纹理图案的深度为0.005mm。具体的,将载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上后,淋涂液被挤压进载膜上的纹理图案之间的沟槽内,当去除载膜之后,载膜上的纹理图案之间的沟槽内的淋涂液相比于淋涂液表面形成凸起,对凸起之间的沟槽进行刻蚀工艺,使得沟槽的深度增大,则淋涂液上的纹理图案的深度小于载膜上的纹理图案的深度,同时也可以对凸起进行平坦化工艺,使得凸起表面平整化。
作为一种实现方式,淋涂液上的纹理图案的深度范围可以为0.002mm~0.008mm,载膜上的纹理图案的深度范围可以为0.003mm~0.01mm。在此范围内时,能够保证载膜上的纹理图案完好地转印至淋涂液上。
S104、去除具有纹理图案的载膜,将处于半干状态的淋涂液固化至硬化状态。
将载膜上的纹理图案转印至手机后壳上的淋涂液上之后,去除载膜,由于淋涂液此处为半干状态,硬度较小,无法保证手机后壳使用过程中的稳定性,因而,将处于半干状态的淋涂液固化至硬化状态。具体的,利用1000J~1200J的烘烤能量烘烤处于半干状态的淋涂液3~5s,以使得半干状态的淋涂液固化至硬化状态。
在具体的应用中,可以利用第一烘烤能量将淋涂液固化至半干状态,利用第二烘烤能量将淋涂液固化至硬化状态,第一烘烤能量为第二烘烤能量的一半,例如第一烘烤能量为550J,烘烤时间为3s,第二烘烤能量为1100J,烘烤时间为4s。
以上对本申请提供的图案的处理方法进行了详细描述,本申请提供的图案的处理方法利用载膜作为手机后壳上形成纹理图案的中间载体,能够在生产过程中将纹理图案批量复制到手机后壳上,满足批量生产的需求。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案,而非对其限制。尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换。而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种图案的处理方法,其特征在于,所述方法包括:
在模板上形成纹理图案,将所述模板上的纹理图案转印至载膜上;
在手机后壳上涂覆淋涂液,将所述淋涂液固化至半干状态;
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在所述处于半干状态的淋涂液上形成所述纹理图案;
去除所述具有纹理图案的载膜,将所述处于半干状态的淋涂液固化至硬化状态。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在模板上形成纹理图案,具体包括:
采用激光镭射在模板上形成纹理图案;
或者,采用曝光、显影和刻蚀的方式在模板上形成纹理图案。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述模板上的纹理图案转印至载膜上,具体包括:
在载膜上涂刷紫外光固化胶水;
将所述模板压在所述紫外光固化胶水上;
取下所述模板,并对所述紫外光固化胶水进行烘烤,以在所述载膜上形成所述纹理图案。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述模板上的纹理图案包括多个不同的图案;
所述将所述模板上的纹理图案转印至载膜上,具体包括:
将所述模板上的多个不同的纹理图案转印至载膜上。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液之前,所述方法还包括:
在所述手机后壳上的淋涂液上印制第一对位孔,在所述载膜上印制第二对位孔;
相应地,所述将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,具体包括:
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,并使得所述第一对位孔对准所述第二对位孔。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液上,以在所述处于半干状态的淋涂液上形成所述纹理图案,具体包括:
将具有纹理图案的载膜覆盖至处于半干状态的淋涂液,对所述具有纹理图案的载膜施加压力,以在所述处于半干状态的淋涂液上形成所述纹理图案。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述淋涂液固化至半干状态包括:
利用第一烘烤能量烘烤所述淋涂液,以使所述淋涂液固化至半干状态;
所述将所述处于半干状态的淋涂液固化至硬化状态,具体包括:
利用第二烘烤能量烘烤所述处于半干状态的淋涂液,以使所述半干状态的淋涂液固化至硬化状态;
其中,所述第一烘烤能量为所述第二烘烤能量的一半。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的方法,其特征在于,所述模板的材料包括玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、钴、镍或不锈钢,所述模板的形状包括平板状或圆棒状。
9.根据权利要求1-7中任意一项所述的方法,其特征在于,所述载膜包括聚碳酸脂或聚酯。
10.根据权利要求1-7中任意一项所述的方法,其特征在于,所述手机后壳的材料包括塑胶或复合板材。
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Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1592688A (zh) * 2002-01-11 2005-03-09 德国捷德有限公司 制造防伪文件的钢凹版印刷法、钢凹版印刷板及其半成品和其制造方法
CN101434155A (zh) * 2007-11-14 2009-05-20 比亚迪股份有限公司 一种在板材上制作纹路图形的方法
CN102393600A (zh) * 2011-10-27 2012-03-28 南京大学 一种纳米压印复合模板的制备方法
CN102653211A (zh) * 2012-05-09 2012-09-05 巴洛克木业(中山)有限公司 一种高清晰立体紫外光固化油漆转印门制造工艺
CN103635330A (zh) * 2011-06-30 2014-03-12 3M创新有限公司 用于制备、着墨和安装用于微接触印刷的压模的方法
CN104870198A (zh) * 2012-12-21 2015-08-26 3M创新有限公司 图案化的结构化转印带
CN105034670A (zh) * 2015-08-11 2015-11-11 福建安博科环保建材有限公司 一种无机板材热转移印刷图纹的方法
CN105345985A (zh) * 2015-09-30 2016-02-24 深圳天珑无线科技有限公司 一种具有三维金属纹理的塑料壳件及其制造方法
CN105618354A (zh) * 2014-11-06 2016-06-01 联想(北京)有限公司 一种弹性涂层上的纹理制作方法和装置
CN105730119A (zh) * 2016-05-05 2016-07-06 谢汝木 一种具有三维立体纹理的转印金属板及其制造方法
CN107415511A (zh) * 2017-08-24 2017-12-01 深圳市锐欧光学电子有限公司 一种直接将模具纹理或图案转印到钢化玻璃上的方法
CN109016905A (zh) * 2018-08-20 2018-12-18 贾峥嵘 3d局部立体印制方法、包装盒及广告产品
CN109600996A (zh) * 2016-07-27 2019-04-09 皇家飞利浦有限公司 基于聚有机硅氧烷的印模的制造方法、基于聚有机硅氧烷的印模、该基于聚有机硅氧烷的印模用于印刷工艺的用途以及利用该基于聚有机硅氧烷的印模的压印方法
CN109605970A (zh) * 2018-11-22 2019-04-12 宁波微迅新材料科技有限公司 立体logo制备方法
CN110412684A (zh) * 2019-08-01 2019-11-05 国家纳米科学中心 一种近眼显示器衍射光栅波导的制备方法
CN112477493A (zh) * 2020-11-18 2021-03-12 惠州Tcl移动通信有限公司 外壳及其制备方法和移动终端

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1592688A (zh) * 2002-01-11 2005-03-09 德国捷德有限公司 制造防伪文件的钢凹版印刷法、钢凹版印刷板及其半成品和其制造方法
CN101434155A (zh) * 2007-11-14 2009-05-20 比亚迪股份有限公司 一种在板材上制作纹路图形的方法
CN103635330A (zh) * 2011-06-30 2014-03-12 3M创新有限公司 用于制备、着墨和安装用于微接触印刷的压模的方法
CN102393600A (zh) * 2011-10-27 2012-03-28 南京大学 一种纳米压印复合模板的制备方法
CN102653211A (zh) * 2012-05-09 2012-09-05 巴洛克木业(中山)有限公司 一种高清晰立体紫外光固化油漆转印门制造工艺
CN104870198A (zh) * 2012-12-21 2015-08-26 3M创新有限公司 图案化的结构化转印带
CN105618354A (zh) * 2014-11-06 2016-06-01 联想(北京)有限公司 一种弹性涂层上的纹理制作方法和装置
CN105034670A (zh) * 2015-08-11 2015-11-11 福建安博科环保建材有限公司 一种无机板材热转移印刷图纹的方法
CN105345985A (zh) * 2015-09-30 2016-02-24 深圳天珑无线科技有限公司 一种具有三维金属纹理的塑料壳件及其制造方法
CN105730119A (zh) * 2016-05-05 2016-07-06 谢汝木 一种具有三维立体纹理的转印金属板及其制造方法
CN109600996A (zh) * 2016-07-27 2019-04-09 皇家飞利浦有限公司 基于聚有机硅氧烷的印模的制造方法、基于聚有机硅氧烷的印模、该基于聚有机硅氧烷的印模用于印刷工艺的用途以及利用该基于聚有机硅氧烷的印模的压印方法
CN107415511A (zh) * 2017-08-24 2017-12-01 深圳市锐欧光学电子有限公司 一种直接将模具纹理或图案转印到钢化玻璃上的方法
CN109016905A (zh) * 2018-08-20 2018-12-18 贾峥嵘 3d局部立体印制方法、包装盒及广告产品
CN109605970A (zh) * 2018-11-22 2019-04-12 宁波微迅新材料科技有限公司 立体logo制备方法
CN110412684A (zh) * 2019-08-01 2019-11-05 国家纳米科学中心 一种近眼显示器衍射光栅波导的制备方法
CN112477493A (zh) * 2020-11-18 2021-03-12 惠州Tcl移动通信有限公司 外壳及其制备方法和移动终端

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