JP7343747B2 - レーザクリーニング装置 - Google Patents
レーザクリーニング装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7343747B2 JP7343747B2 JP2017236878A JP2017236878A JP7343747B2 JP 7343747 B2 JP7343747 B2 JP 7343747B2 JP 2017236878 A JP2017236878 A JP 2017236878A JP 2017236878 A JP2017236878 A JP 2017236878A JP 7343747 B2 JP7343747 B2 JP 7343747B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- cleaning device
- homogenizer
- base material
- laser cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
また、このレーザクリーニングには、上記酸化被膜を除去する際に用いられる薬剤による化学的除去手段と比べても、廃液処理を必要としないというメリットがある。
このレーザクリーニング装置は、レーザ発振器と、このレーザ発振器からパルス発振されるレーザ光を集光して母材の表面上の被膜に照射しつつ走査するレーザ光走査機構を備えており、レーザ光走査機構は、モータにより回転駆動されるポリゴンミラーを具備している。
図1及び図2は、本発明の一実施形態に係るレーザクリーニング装置を示しており、この実施形態では、本発明に係るレーザクリーニング装置のビームプロファイルを示すために、アクリル樹脂に対してレーザ光を照射する場合を例に挙げて説明する。
一方、図6(b)は、上記レーザクリーニング装置1によってホモジナイザ不使用モードでレーザクリーニングを行った試験片の表面外観拡大写真であり、この表面外観拡大写真の下半分もレーザ光未照射の試験片の表面を示している。
2 ファイバーレーザ発振器(レーザ発振器)
10 照射ヘッド
13 ホモジナイザ(光学系ビーム整形手段)
L レーザ光
L1 入射レーザ光
L2 集光ビーム
W 平板(母材)
Wa 平板の表面
Claims (2)
- クリーニング対象部材である母材の表面をクリーニングするレーザクリーニング装置であって、
レーザ発振器と、
前記レーザ発振器からパルス発振されるレーザ光を集光して前記母材の表面上に照射しつつ走査する照射ヘッドを備え、
前記照射ヘッドには、前記レーザ発振器からパルス発振されるレーザ光をパワー密度分布がトップハット型に整形された集光ビームとするべく光学系ビーム整形手段であるホモジナイザが位置調整機構を介して位置調整可能で且つ着脱可能に配置されているレーザクリーニング装置。 - 前記レーザ発振器としてファイバーレーザ発振器を用いる請求項1に記載のレーザクリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017236878A JP7343747B2 (ja) | 2017-12-11 | 2017-12-11 | レーザクリーニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017236878A JP7343747B2 (ja) | 2017-12-11 | 2017-12-11 | レーザクリーニング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019103962A JP2019103962A (ja) | 2019-06-27 |
JP7343747B2 true JP7343747B2 (ja) | 2023-09-13 |
Family
ID=67060763
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017236878A Active JP7343747B2 (ja) | 2017-12-11 | 2017-12-11 | レーザクリーニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7343747B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021011068A (ja) * | 2019-07-05 | 2021-02-04 | 株式会社ソノコム | スクリーン枠の付着物除去方法およびスクリーン枠の付着物除去装置 |
CN110977176B (zh) * | 2020-01-19 | 2021-05-28 | 郑州科技学院 | 一种机械零件除锈装置 |
CN115254805B (zh) * | 2022-09-26 | 2022-12-09 | 国网山东省电力公司荣成市供电公司 | 电网异物激光清除测距仪 |
CN115889340A (zh) * | 2022-11-01 | 2023-04-04 | 北京工业大学 | 一种采用矩形光斑激光清洗金属板表面油污的方法及系统 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008105096A (ja) | 2006-09-28 | 2008-05-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
JP2016221561A (ja) | 2015-06-03 | 2016-12-28 | 株式会社Ihi | 表面処理装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0910968A (ja) * | 1995-06-27 | 1997-01-14 | Ricoh Co Ltd | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
JPH09293688A (ja) * | 1996-04-24 | 1997-11-11 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザアニーリング装置 |
JPH11326461A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-26 | Unique Technol Internatl Pte Ltd | プローブ針のレーザクリーニング方法とその装置 |
JP2004103794A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | シリコン結晶化方法及びレーザアニール装置 |
JP2005302956A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 |
DE102004042337A1 (de) * | 2004-09-01 | 2006-03-30 | Innovavent Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Homogenisieren von Laserstrahlung sowie eine Laseranlage unter Verwendung einer solchen Vorrichtung und eines solchen Verfahrens |
US20110147350A1 (en) * | 2010-12-03 | 2011-06-23 | Uvtech Systems Inc. | Modular apparatus for wafer edge processing |
-
2017
- 2017-12-11 JP JP2017236878A patent/JP7343747B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008105096A (ja) | 2006-09-28 | 2008-05-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 |
JP2016221561A (ja) | 2015-06-03 | 2016-12-28 | 株式会社Ihi | 表面処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019103962A (ja) | 2019-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7343747B2 (ja) | レーザクリーニング装置 | |
US20210053160A1 (en) | Method and System for Ultrafast Laser-based Material Removal, Figuring and Polishing | |
CN109719088B (zh) | 激光清洗装置 | |
Fraggelakis et al. | Generation of micro-and nano-morphologies on a stainless steel surface irradiated with 257 nm femtosecond laser pulses | |
JP2016107299A (ja) | レーザクリーニング装置 | |
RU2538161C2 (ru) | Способ лазерной очистки поверхности | |
EP3759529A1 (en) | Using lasers to reduce reflection of transparent solids, coatings and devices employing transparent solids | |
JP7080239B2 (ja) | 光ベースの皮膚処置装置 | |
US20160151862A1 (en) | Device for laser processing of a surface of a workpiece or for post-treatment of a coating on the outside or the inside of a workpiece | |
CN112276344B (zh) | 一种超快激光切割透明材料的焦点定位方法 | |
JP6382154B2 (ja) | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 | |
US9290008B1 (en) | Laser marking method and system | |
WO2012098930A1 (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH11156568A (ja) | 透明材料のマーキング方法 | |
JP4928687B2 (ja) | 超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 | |
JP2008049380A (ja) | レーザによる表面微細構造形成方法 | |
Horn et al. | Investigations on melting and welding of glass by ultra-short laser radiation | |
US20200061750A1 (en) | Mitigating low surface quality | |
WO2021124561A1 (ja) | クリーニング方法および装置 | |
Kaakkunen et al. | Morphology studies of the metal surfaces with enhanced absorption fabricated using interferometric femtosecond ablation | |
JP7197012B2 (ja) | レーザー光走査装置及びレーザー光走査方法 | |
JP2000133859A (ja) | レーザを用いたマーキング方法及びマーキング装置 | |
WO2013147643A1 (ru) | Лазерная сканирующая система на основе резонансного сканера | |
Laskin et al. | Refractive multi-focus optics for material processing | |
Masaki et al. | Near-field infrared imaging of molecular changes in cholesteryl oleate by free electron laser infrared ablation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211013 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211210 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220511 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220810 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20220810 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20220819 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20220824 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20221104 |
|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20221109 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20230308 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20230814 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20230814 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230814 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7343747 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |