JP4928687B2 - 超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 - Google Patents
超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4928687B2 JP4928687B2 JP2001235422A JP2001235422A JP4928687B2 JP 4928687 B2 JP4928687 B2 JP 4928687B2 JP 2001235422 A JP2001235422 A JP 2001235422A JP 2001235422 A JP2001235422 A JP 2001235422A JP 4928687 B2 JP4928687 B2 JP 4928687B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- peeling
- laser
- cleaning
- unnecessary
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この出願の発明は、表面剥離洗浄方法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、洗浄が必要な箇所だけを極めて細かい精度で選択的に洗浄するのに有用な超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術と発明の課題】
歴史的価値の高い古典絵画や、遺跡、化石等については、実体に損傷を与えることなく表面に付着した不要物を剥離洗浄することがしばしば必要となる。しかし、これらの作業は大きな手間と長い時間が必要とされることが問題となっていた。
【0003】
たとえば古典絵画は、度重なる修復によりニスや絵の具などの顔料が幾層にもわたり塗り足されている。このため、古典絵画の修復においては、幾層にも塗り足された顔料の除去作業が不可欠である。原画を損なわないように不要な顔料のみを取り除く作業は、極めて慎重に行なわれる必要があり、専門家の地道な手作業によって実現されている。
【0004】
このような手作業による不要物の剥離洗浄の作業は労力において、費用において極めて負担が大きく、しかも長期の時間が必要とされていた。
そこで、この出願の発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、繊細かつ慎重な作業が必要とされる表面剥離洗浄を正確かつ短時間に行なうことを実現する表面剥離洗浄方法を提供することを課題としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
この出願の発明は、上記の課題を解決するものとして、第1に、洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄方法であって、フェムト秒レーザーかピコ秒レーザーの照射により不要物を励起し、洗浄対象物と不要物との間に急激な応力上昇を発生させ、不要物を断片化し、洗浄対象物表面より剥離することを特徴とする表面剥離洗浄方法を提供する。
【0006】
また、この発明は、第2に、洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄方法であって、不要物に対するフェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射前後それぞれにおける洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを比較し、これらが相違するまで不要物に対してフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーを照射することを特徴とする表面剥離洗浄方法を、第3には、古典絵画の表面剥離洗浄方法を提供する。
【0007】
さらに、この出願の発明は、第4に、洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄装置であって、不要物にフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーを照射するための超短パルスレーザー光源を備え、超短パルスレーザー光源からのフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーの照射により不要部を励起し、洗浄対象物と不要物との間に急激な応力上昇を発生させ、不要物を断片化し、洗浄対象物表面より剥離することを特徴とする表面剥離洗浄装置を、第5に、洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄装置であって、不要物にフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーを照射するための超短パルスレーザー光源と、洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを測定するための分光スペクトル測定器とを備え、不要物に対するフェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射前後において、分光スペクトル測定器で洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを測定し、フェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射前後で分光スペクトルが相違するまで不要物に対するフェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射を継続することを特徴とする表面剥離洗浄装置を、第6には、古典絵画の表面剥離洗浄装置を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
この出願の発明は、上記のとおりの特徴をもつものであるが、以下に、その実施の形態について説明する。
【0009】
この出願の発明の表面剥離洗浄方法においては、洗浄対象物の表面に付着した不要物に対して超短パルスレーザーを照射することで、不要物を表面より剥離する。この場合の超短パルスレーザーとしては、代表的にはフェムト秒レーザーやピコ秒レーザーが例示される。図1は、この出願の発明である表面剥離洗浄方法の原理について示した概要図である。この例においては、フェムト秒レーザー(1)により不要物(2)を励起することで、洗浄対象物(3)と不要物(2)との間に急激な応力上昇が発生するようにしている。発生した応力により、レーザー照射部に存在する不要物(2)は、断片化され、洗浄対象物(3)の表面より剥離される。
【0010】
図2は、有機固体にフェムト秒レーザーを照射したときのエッチング形状を示した図である。図3に、比較例として、有機固体にナノ秒レーザーを照射したときのエッチング形状について示す。ナノ秒レーザー照射と比較して、フェムト秒レーザーを照射することで、より離散的なエッチングが実現していることがわかる。これは、上述の原理に基づき、フェムト秒レーザー照射を行なうことで有機固体中に急激な応力変化が発生するためである。同様に、ピコ秒レーザーを照射する場合にも、離散的なエッチングが実現されることになる。
【0011】
図4は、有機固体にフェムト秒レーザーを照射した場合およびナノ秒レーザーを照射した場合におけるアブレーション過程について示した図である。ナノ秒レーザーを照射した場合は、レーザー励起後約10ナノ秒で急激な昇温が発生し、有機固体表面においては熱的なエッチングがなされる。一方、フェムト秒レーザー励起が行なわれる場合には、大きな熱上昇が生起する前に、急激な内部応力上昇による破壊が発生する。このため、有機固体内部が断片化され、離散的なエッチングが行なわれることとなる。以上の現象を利用し、この出願の発明の表面剥離洗浄方法においては、不要物のみを的確に除去する。すなわち、照射するレーザーが超短パルスレーザーであることで、不要物の熱的な溶解に伴う洗浄対象物表面の汚染が発生することなく、不要物を選択的に断片化し洗浄対象物表面より剥離させることが可能となる。
【0012】
この出願の発明の表面剥離洗浄方法においては、洗浄対象物の洗浄がなるべく人の手を介さず自動的に行われるよう、不要物に対する超短パルスレーザー照射前と照射後のそれぞれにおいて洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを測定し、それらを比較することが考慮される。超短パルスレーザー照射の前後の分光スペクトルを比較し、これらが相違するまで不要物に対して超短パルスレーザーの照射を継続することで、不要物の除去のチェックが自動的に行なわれる。
【0013】
図5は、以上で説明したこの出願の発明の表面剥離洗浄方法を実現する表面剥離洗浄装置の構成の一例を示すものである。また、図6は、図5に示した装置による表面剥離洗浄の手順を示した流れ図である。
【0014】
洗浄対象物(51)は、XYステージ(52)上に設置される。光路ガイド用レーザー(53)から出射される光路ガイド用レーザー光は、たとえばフェムト秒レーザー光が照射する洗浄対象物(51)表面上の座標を照射するように固定されている。
【0015】
まず、CCDカメラ(54)により、光路ガイド用レーザー光が示す箇所を撮影し、撮影された画像を目視で確認することで、洗浄が必要か否かを判断する。洗浄が必要である判断した場合、フェムト秒レーザー光源(55)から出力されるレーザー光はハーフミラー(56)により2本に分離され、一方は、洗浄対象物(51)表面の不要物(57)を剥離するための剥離用レーザー光として不要物(57)に対して照射され、また、分岐した他方のレーザー光は、白色光発生装置(58)に入力され白色レーザー光として不要物(57)に対して照射される。なお、シャッタ(59)により、剥離用レーザー光の洗浄対象物(51)への照射時間の制御が行われる。また、光強度調節装置(60)により、剥離用レーザー光強度の制御が行なわれる。
【0016】
洗浄対象物(51)へ照射された白色レーザー光の拡散反射光の分光スペクトルは、分光スペクトル測定装置(61)により測定される。この分光スペクトルは、洗浄対象物(51)表面のレーザー照射部における表面状態を表す。剥離用レーザー光が照射される前に、予め分光スペクトルを測定しておき、剥離用レーザー光が照射された後の分光スペクトルと比較し、これらが十分に相違するまで、剥離用レーザーの照射を繰り返す。XYステージ(52)を走査しつつ、以上の剥離洗浄を繰り返し、洗浄対象物(51)表面の洗浄を行なう。
【0017】
この表面剥離洗浄装置においては、CCDカメラ(54)による画像情報、および、分光スペクトル測定装置(61)により測定される分光スペクトルは、中央制御装置(62)に入力される。そして、入力されたこれらの情報により、中央制御装置(62)からXYステージ(52)、シャッタ(59)、および、光強度調節装置(60)に対して制御信号が送られ、半自動的な剥離洗浄処理が実施される。
【0018】
この出願の発明である表面剥離洗浄方法の用途としては、古典絵画などの美術品の修復、化石や遺跡発掘品などの付着物の洗浄、塗料の洗浄、精密機器の洗浄など様々なものが考慮されることは言うまでもない。この出願の発明である表面剥離洗浄方法は、付着した不要物が微細である場合に特に適しており、熱影響の少ない応力上昇を利用した方法であり、不要物により洗浄対象物が汚染する可能性が極めて低い。また、レーザー分光により洗浄評価を自動化することで、手作業と比較して作業時間が格段に短縮される。
【0019】
【発明の効果】
この出願の発明によって、以上詳しく説明したとおり、繊細かつ慎重な作業が必要とされる表面剥離洗浄を正確かつ短時間に行なうことを実現する表面剥離洗浄方法が提供される。この出願の発明により、これまで地道な手作業でのみ行なわれてきた作業の半自動化が実現し、高精度かつ高効率の表面剥離洗浄が実用化される。
【図面の簡単な説明】
【図1】この出願の発明である表面剥離洗浄方法の原理について示した概要図である。
【図2】有機固体にフェムト秒レーザーを照射したときのエッチング形状を示した図である。
【図3】有機固体にナノ秒レーザーを照射したときのエッチング形状を示した図である。
【図4】有機固体にフェムト秒レーザーを照射した場合およびナノ秒レーザーを照射した場合におけるアブレーション過程について示したグラフである。
【図5】この出願の発明の表面剥離洗浄装置の構成の一例を示す概要図である。
【図6】図5に示した装置による表面剥離洗浄の手順を示した流れ図である。
【符号の説明】
1 フェムト秒レーザー
2 不要物
3 洗浄対象物
51 洗浄対象物
52 XYステージ
53 光路ガイド用レーザー
54 CCDカメラ
55 フェムト秒レーザー光源
56 ハーフミラー
57 不要物
58 白色光発生装置
59 シャッタ
60 光強度調節装置
61 分光スペクトル測定装置
62 中央制御装置
Claims (6)
- 洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄方法であって、フェムト秒レーザーかピコ秒レーザーの照射により不要物を励起し、洗浄対象物と不要物との間に急激な応力上昇を発生させ、不要物を断片化し、洗浄対象物表面より剥離することを特徴とする表面剥離洗浄方法。
- 請求項1の洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄方法であって、不要物に対するフェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射前後それぞれにおける洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを比較し、これらが相違するまで不要物に対してフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーを照射することを特徴とする表面剥離洗浄方法。
- 請求項1または2の方法により、古典絵画の表面剥離洗浄を行うことを特徴とする表面剥離洗浄方法。
- 洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄装置であって、不要物にフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーを照射するための超短パルスレーザー光源を備え、超短パルスレーザー光源からのフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーの照射により不要部を励起し、洗浄対象物と不要物との間に急激な応力上昇を発生させ、不要物を断片化し、洗浄対象物表面より剥離することを特徴とする表面剥離洗浄装置。
- 請求項4の洗浄対象物の表面に付着した不要物を剥離洗浄するための表面剥離洗浄装置であって、不要物にフェムト秒レーザーかピコ秒レーザーを照射するための超短パルスレーザー光源と、洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを測定するための分光スペクトル測定器とを備え、不要物に対するフェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射前後において、分光スペクトル測定器で洗浄対象物表面の散乱光強度の分光スペクトルを測定し、フェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射前後で分光スペクトルが相違するまで不要物に対するフェムト秒レーザーかピコ秒レーザー照射を継続することを特徴とする表面剥離洗浄装置。
- 請求項4または5の装置であって、古典絵画の表面剥離洗浄を行うことを特徴とする表面剥離洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001235422A JP4928687B2 (ja) | 2001-08-02 | 2001-08-02 | 超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001235422A JP4928687B2 (ja) | 2001-08-02 | 2001-08-02 | 超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003047841A JP2003047841A (ja) | 2003-02-18 |
JP4928687B2 true JP4928687B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=19066873
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001235422A Expired - Fee Related JP4928687B2 (ja) | 2001-08-02 | 2001-08-02 | 超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4928687B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10334737B2 (en) | 2016-06-10 | 2019-06-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Flexible display device and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004006414B4 (de) * | 2004-02-09 | 2008-08-21 | Lpkf Laser & Elektronika D.O.O. | Verfahren zum partiellen Lösen einer leitfähigen Schicht |
JP5386699B2 (ja) * | 2009-02-20 | 2014-01-15 | 信越ポリマー株式会社 | 導電パターン形成基板の製造方法 |
DE102010019406B4 (de) | 2010-05-04 | 2012-06-21 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zum partiellen Lösen einer definierten Fläche einer leitfähigen Schicht |
DE102010019407B4 (de) | 2010-05-04 | 2013-06-27 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zum Einbringen elektrischer Isolierungen in Leiterplatten |
KR102476687B1 (ko) * | 2015-11-30 | 2022-12-09 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 소재 표면 세정 장치 및 세정 방법 |
KR102460434B1 (ko) * | 2015-11-30 | 2022-10-27 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 포터블 소재 표면 세정 장치 |
KR102460433B1 (ko) * | 2015-11-30 | 2022-10-27 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 요철형 부품의 세정 장치 |
KR101984647B1 (ko) * | 2017-07-06 | 2019-06-03 | 삼성중공업 주식회사 | 작업 품질 검사 기능을 구비한 레이저 클리닝 장치 및 그 방법 |
KR102272649B1 (ko) * | 2017-07-17 | 2021-07-02 | 삼성중공업 주식회사 | 작업 품질 검사 기능을 구비한 레이저 클리닝 장치 및 그 방법 |
KR102128776B1 (ko) * | 2017-07-26 | 2020-07-01 | 삼성중공업 주식회사 | 작업 품질 검사 기능을 구비한 레이저 클리닝 장치 및 그 방법 |
CN109675869B (zh) * | 2018-12-29 | 2021-07-06 | 四川大学 | 激光等离子体有效清洗微纳颗粒的脉冲空间间隔选择方法 |
CN109926403B (zh) * | 2019-03-28 | 2020-09-15 | 中国人民解放军陆军装甲兵学院 | 一种降低大功率脉冲激光清洗金属表面残余应力的方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3399408B2 (ja) * | 1999-06-18 | 2003-04-21 | 日本電気株式会社 | 位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置 |
JP4457439B2 (ja) * | 1999-10-14 | 2010-04-28 | Dic株式会社 | 有機化合物の微粒子の製造方法 |
-
2001
- 2001-08-02 JP JP2001235422A patent/JP4928687B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10334737B2 (en) | 2016-06-10 | 2019-06-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Flexible display device and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003047841A (ja) | 2003-02-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4928687B2 (ja) | 超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置 | |
Serafetinides et al. | Ultra-short pulsed laser ablation of polymers | |
JP5659103B2 (ja) | 広スペクトル帯域幅を有するレーザ・パルスを用いた材料の加工方法、および該方法を実行するための装置 | |
JP7437323B2 (ja) | レーザ加工装置、これを動作させる方法、及びこれを用いてワークピースを加工する方法 | |
JP2008199019A (ja) | 光学放出分光工程監視及び材料特性測定 | |
JP4035981B2 (ja) | 超短パルスレーザを用いた回路形成方法 | |
JP2002210730A (ja) | レーザ支援加工方法 | |
US10864599B2 (en) | Location of image plane in a laser processing system | |
Mann et al. | Cleaning of optical surfaces by excimer laser radiation | |
Ciofini et al. | Spectroscopic assessment of the UV laser removal of varnishes from painted surfaces | |
CA3130548A1 (en) | Artificial intelligence-based robotized smart laser ablating systems for multi-dimensional objects | |
JP2023525724A (ja) | レーザ加工されたワークピースの指示された検査を容易にするレーザ加工装置及びこれを動作させる方法 | |
Gabran et al. | Maskless pattern transfer using 355 nm laser | |
Lopez et al. | Nd: YAG vs Er: YAG: a comparative study of laser varnish removal on easel paintings | |
JP4534543B2 (ja) | 超短パルスレーザーによる材料加工方法 | |
JP3106040B2 (ja) | 基板表面のドライ・クリーニング・システム | |
JP3199147B2 (ja) | 音波を用いた基板表面状態検出方法およびその装置 | |
Lee et al. | In-process surface monitoring for laser cleaning processes using a chromatic modulation technique | |
Haight et al. | High resolution material ablation and deposition with femtosecond lasers and applications to photomask repair | |
JP3222326B2 (ja) | 基板表面薄膜パターンの形成方法 | |
JP4147304B2 (ja) | 多波長超短パルスレーザー光による材料加工法 | |
Brand et al. | Comparison between nanosecond and femtosecond laser pulses for the removal of spray paint from granite surfaces | |
Stratis et al. | Characterization of laser-induced plasmas for fiber optic probes | |
Forster et al. | 213 nm and 532 nm solid state laser treatment of biogenetical fibrous materials | |
Mann et al. | Removal of dust particles from metal-mirror surfaces by excimer-laser radiation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20031031 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040129 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20071122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20071126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080704 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20081008 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20081008 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110830 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111031 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120116 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120213 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |