JP7330875B2 - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、光を出射して走査させる光走査装置および画像形成装置に関する。

従来から電子写真プロセス技術を用いた画像形成装置では、感光体上で光を走査させる光走査装置が用いられている。画像形成装置では、光走査装置から出射される光のズレによって、光走査が乱れて画質が劣化することがあるため、光走査装置の姿勢調整を可能にする方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１０－６６４０２号公報

特許文献１に記載の光走査装置は、光学筐体に１つの位置決め軸と、２つの取付孔とを設け、位置決め軸と取付孔とが三角形の頂点となる位置に配置されており、位置決め軸を中心として、取付孔の取り付け位置が調整可能とされている。

ところで、画像形成装置の装置フレームには、位置決め軸を受ける相手方が設けられているが、位置決め軸と相手方とが別体とされているので、取付時の作業性を考慮すると、位置決め軸と相手方とのサイズを完全に一致させることは難しく、幾ばくかの隙間を設ける必要がある。このような隙間の影響により、光走査装置がガタつくことが懸念される。

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、隙間によって生じるガタつきを防止する光走査装置および画像形成装置を提供することを目的とする。

本発明に係る光走査装置は、画像形成装置に備えられ、光を出射して走査させる光走査装置であって、前記光走査装置から延出して設けられ、前記画像形成装置に対して回転自在に支持される支持軸と、前記支持軸の軸線方向で前記支持軸と対向する端部から延出して設けられた対向支持部とを備え、前記支持軸の外周には、該支持軸の軸線方向に沿って延びる複数のスリットが設けられ、前記対向支持部は、前記画像形成装置に対して回転自在に支持されることを特徴とする。

本発明に係る光走査装置では、前記複数のスリットは、上下方向において、上側に設けられた上側スリットと、前記上側スリットよりも下側に設けられた下側スリットとを含み、前記上側スリットは、前記軸線方向において、前記下側スリットより長く形成されている構成としてもよい。

本発明に係る光走査装置では、前記上側スリットは、前記支持軸の断面での中心から上方向に延びる直線上に設けられ、前記下側スリットは、前記支持軸の断面での中心から横方向に延びる直線上に設けられている構成としてもよい。

本発明に係る光走査装置では、前記支持軸には、延出した端部から前記軸線方向に沿って凹んだ軸凹部が設けられている構成としてもよい。

本発明に係る光走査装置では、前記軸凹部に面する前記支持軸の内周には、上方向へ立設されたリブが設けられている構成としてもよい。

本発明に係る光走査装置では、前記支持軸には、前記軸線方向において異なる位置に設けられ、第１の外径とされた細径部と、前記第１の外径より大きい第２の外径とされた太径部とを有する構成としてもよい。

本発明に係る光走査装置では、前記軸線方向と直交する方向での端部に設けられた固定部が、固定具によって固定される構成としてもよい。

本発明に係る画像形成装置は、本発明に係る光走査装置を備えることを特徴とする。

本発明に係る画像形成装置は、前記光走査装置を取り付ける取付部材と、前記支持軸を係止する調整プレートとを備え、前記調整プレートは、前記取付部材に対し、位置を調整する位置調整部を介して取り付けられている構成としてもよい。

本発明によると、支持軸に複数のスリットを設けることで、径を微調整することができ、支持軸を受け止める相手方との間の隙間によって生じるガタつきを防止することができる。

本発明の実施の形態に係る画像形成装置を示す概略側面図である。 第１側壁および第３側壁側から見た光走査ユニットを示す外観斜視図である。 第２側壁および第３側壁側から見た光走査ユニットを示す外観斜視図である。 上側から見た光走査ユニットを示す外観平面図である。 第３側壁側から見た光走査ユニットを示す外観側面図である。 第１側壁側から見た光走査ユニットを示す外観側面図である。 第２側壁側から見た光走査ユニットを示す外観側面図である。 一方の側面側から見た光走査装置を示す外観斜視図である。 他方の側面側から見た光走査装置を示す外観斜視図である。 上側から見た光走査装置を示す外観平面図である。 他方の側面側から見た光走査装置を示す外観側面図である。 上蓋を取り外した状態の光走査装置を示す外観斜視図である。 図１２に示す光走査装置の外観平面図である。 支持体を示す外観斜視図である。 ステイを示す外観斜視図である。 ステイを示す外観側面図である。 ステイを取り付けた状態の支持体を示す外観斜視図である。 上側から見たステイを取り付けた状態の支持体を示す外観平面図である。 ステイを取り付けた状態の支持体を示す外観側面図である。 光走査装置の側壁側係止部近傍を拡大して示す拡大斜視図である。 側壁側係止部の上側スリットおよびリブを通る断面を示す拡大断面図である。 他方の側面側から見た側壁側係止部近傍を拡大して示す拡大側面図である。 第２側壁の側壁受け部近傍を拡大して示す拡大側面図である。 調整プレートを示す概略側面図である。 調整プレートを取り外した状態の第２側壁を拡大して示す拡大側面図である。

以下、本発明の実施の形態に係る画像形成装置について、図面を参照して説明する。

図１は、本発明の実施の形態に係る画像形成装置を示す概略側面図である。

画像形成装置１は、スキャナ機能、複写機能、プリンタ機能、およびファクシミリ機能等を有する複合機であり、上部に設けられた画像読取装置１１０によって読み取られた原稿Ｇの画像を外部に送信し（スキャナ機能に相当する）、読み取られた原稿Ｇの画像または外部から受信した画像を用紙Ｐに画像形成する（複写機能、プリンタ機能、およびファクシミリ機能に相当する）。

画像読取装置１１０の上側には、画像読取装置１１０に対して開閉自在に支持された原稿搬送装置１０８（ＡＤＦ）が設けられている。原稿搬送装置１０８は、載置された原稿Ｇを画像読取装置１１０の上に自動で搬送する。画像読取装置１１０は、原稿搬送装置１０８から搬送された原稿Ｇや、読取台１０７の上に載置された原稿Ｇを読み取って画像データを生成する。

画像形成装置１は、光走査ユニット２００、現像装置２、感光体ドラム３、ドラムクリーニング装置４、帯電器５、定着装置７、用紙搬送経路Ｓ１、給紙カセット１５、積載トレイ１４等を備えている。

ドラムクリーニング装置４は、感光体ドラム３の表面の残留トナーを除去および回収する。帯電器５は、感光体ドラム３の表面を所定の電位に均一に帯電させる。光走査ユニット２００は、感光体ドラム３の表面を露光して静電潜像を形成する。現像装置２は、感光体ドラム３の表面の静電潜像を現像して、感光体ドラム３の表面にトナー像を形成する。なお、光走査ユニット２００の詳細な構造については、後述する図２ないし図７を参照して説明する。

転写ローラ１０は、感光体ドラム３との間にニップ域が形成されており、用紙搬送経路Ｓ１を通じて搬送されて来た用紙Ｐをニップ域に挟み込んで搬送する。用紙Ｐは、ニップ域を通過する際に、感光体ドラム３の表面のトナー像が転写されて定着装置７に搬送される。

定着装置７は、用紙Ｐを挟んで回転する定着ローラ７ａおよび加圧ローラ７ｂを備えている。定着装置７は、定着ローラ７ａおよび加圧ローラ７ｂの間にトナー像が転写された用紙Ｐを挟み込んで加熱および加圧し、トナー像を用紙Ｐに定着させる。

給紙カセット１５は、画像形成に使用する用紙Ｐを蓄積しておくためのカセットである。用紙Ｐは、用紙ピックアップローラ１１ａによって給紙カセット１５から引き出されて、用紙搬送経路Ｓ１を通じて搬送され、転写ローラ１０や定着装置７を経由し、排紙ローラ１７を介して積載トレイ１４へと搬出される。用紙搬送経路Ｓ１には、用紙Ｐを一旦停止させて、用紙Ｐの先端を揃えた後、感光体ドラム３と転写ローラ１０との間のニップ域でのトナー像の転写タイミングに合わせて用紙Ｐの搬送を開始する用紙レジストローラ１３、用紙搬送経路Ｓ１から反転搬送経路Ｓ２へ用紙Ｐの搬送を促す反転分岐ローラ１２ａ、および排紙ローラ１７が配置されている。

また、画像形成装置１では、用紙Ｐの表面だけでなく、裏面に画像形成を行う構成とされており、用紙Ｐを反転分岐ローラ１２ａから逆方向に搬送する反転搬送経路Ｓ２が設けられている。用紙Ｐは、表裏を反転させた状態で、反転搬送ローラ１２ｂを通じて用紙レジストローラ１３へ再度導かれ、表面と同様にして裏面に画像形成が行われた後、積載トレイ１４へ搬出される。

また、画像形成装置１の側面には、開放することで用紙Ｐを積載できる手差しトレイ１６が設けられている。手差しトレイ１６に積載された用紙Ｐは、手差しピックアップローラ１１ｂによって搬送されて、用紙レジストローラ１３へ導かれる。

本実施の形態では、感光体ドラム３から用紙Ｐに直接トナー像が転写される構成としたが、これに限定されず、感光体ドラムから中間転写ベルトにトナー像を転写した後、中間転写ベルトから用紙Ｐにトナー像が転写されるベルト転写方式としてもよい。

図２は、第１側壁および第３側壁側から見た光走査ユニットを示す外観斜視図であって、図３は、第２側壁および第３側壁側から見た光走査ユニットを示す外観斜視図であって、図４は、上側から見た光走査ユニットを示す外観平面図であって、図５は、第３側壁側から見た光走査ユニットを示す外観側面図であって、図６は、第１側壁側から見た光走査ユニットを示す外観側面図であって、図７は、第２側壁側から見た光走査ユニットを示す外観側面図である。

本発明の実施の形態に係る光走査装置２０は、フレーム（取付部材の一例）に取り付けられて光走査ユニット２００を構成している。フレームは、上部が開口した支持体３０と、支持体３０に取り付けられたステイ４０とで構成されている。なお、以下では説明のため、上側から見た状態で、支持体３０の一方の側辺（例えば、第３側壁３３）に沿った方向を副走査方向Ｘと呼び、副走査方向Ｘと直交する方向を主走査方向Ｙと呼ぶことがある。

支持体３０は、矩形状の支持体底面３５の外周に沿って第１側壁３１、第２側壁３２、第３側壁３３、および第４側壁３４が設けられている。支持体３０の側壁は、第１側壁３１と第２側壁３２とが副走査方向Ｘで対向しており、第３側壁３３と第４側壁３４とが主走査方向Ｙで対向している。なお、以下では説明のため、支持体底面３５に対して側壁が立設している方向を高さ方向Ｚ（上下方向）と呼ぶことがある。また、支持体３０の詳細な構造については、後述する図１４を参照して説明する。

ステイ４０は、一方の端部が第３側壁３３に取り付けられ、他方の端部が第４側壁３４に取り付けられている。光走査装置２０は、一方の側面に設けられたステイ側係止部２２がステイ４０に係止され、他方の側面に設けられた側壁側係止部２５が第２側壁３２に係止されている。なお、光走査装置２０の詳細な構造については、後述する図８ないし図１１を参照して説明し、ステイ４０の詳細な構造については、後述する図１５および図１６を参照して説明する。

図８は、一方の側面側から見た光走査装置を示す外観斜視図であって、図９は、他方の側面側から見た光走査装置を示す外観斜視図であって、図１０は、上側から見た光走査装置を示す外観平面図であって、図１１は、他方の側面側から見た光走査装置を示す外観側面図である。

光走査装置２０は、上側から見た状態で略矩形状とされ、各種光学部材を収容しており、一方の側面に設けられた出射窓２１から出射した光を走査させる。出射窓２１は、筐体の一部が開口され、開口を透光性の部材で覆って形成されている。光走査装置２０に収容される光学部材は、例えば、光源、レンズ、ミラー、アパーチャ、光センサ、および回転多面鏡などとされているが、これに限らず、用途に応じて適宜変更や追加をしてもよい。また、光源については、基板などに搭載されていてもよく、光源の出射部が光走査装置２０の側面に設けた穴に挿入されるようにしてもよい。光走査装置２０は、塵埃の侵入を防ぐように密閉されているが、隙間を塞いだ状態で部材の一部（例えば、回転多面鏡の回転軸など）を露出させていてもよい。なお、光走査装置２０に収容される光学部材については、後述する図１２および図１３を参照して説明する。

ステイ側係止部２２（対向支持部の一例）は、出射窓２１が設けられた側面に設けられ、側壁側係止部２５は、出射窓２１が設けられた側面と対向する側面に設けられている。光走査装置２０をフレームに取り付けた状態において、ステイ側係止部２２が設けられた側面と側壁側係止部２５が設けられた側面とは、副走査方向Ｘで対向している。

ステイ側係止部２２は、自身が設けられた側面において、主走査方向Ｙでの略中央に位置し、外側に向かって延出されている。ステイ側係止部２２は、根元が所定の太さとされ、先端には端部に近づくに従って徐々に細くなる挿入端部２２ａが設けられている。本実施の形態において、ステイ側係止部２２の断面は、略十字状とされているが、これに限定されず、円形の穴に挿入された際、回転自在に支持される形状であればよい。

側壁側係止部２５（支持軸の一例）は、自身が設けられた側面において、主走査方向Ｙでの略中央に位置し、外側に向かって延出されている。側壁側係止部２５は、根元が細い細径部２５ａとされ、先端が太い太径部２５ｂとされており、細径部２５ａと太径部２５ｂとの間では、徐々に太さが変わっている。なお、側壁側係止部２５の詳細な構造については、後述する図２０ないし図２２を参照して説明する。

ステイ側係止部２２と側壁側係止部２５とは、主走査方向Ｙで重なる位置に設けられている。つまり、ステイ側係止部２２と側壁側係止部２５とは、副走査方向Ｘに平行な直線に沿って延びている。

側壁側係止部２５が設けられた側面の両端には、主走査方向Ｙに延出した第１位置決め部２３および第２位置決め部２４が設けられている。第１位置決め部２３には、高さ方向Ｚに長い長穴とされた第１位置決め穴２３ａが設けられ、第２位置決め部２４には、高さ方向Ｚに長い長穴とされた第２位置決め穴２４ａが設けられている。

また、第１位置決め部２３には、偏芯ビスＥＳが挿入される位置調整穴２３ｂが設けられている。上述したステイ側係止部２２、側壁側係止部２５、第１位置決め穴２３ａ、第２位置決め穴２４ａ、および位置調整穴２３ｂを用いて光走査装置２０をフレームに取り付ける方法は、後述する支持体３０およびステイ４０の詳細な構造と併せて説明する。

光走査装置２０には、外側に基板などの部材が取り付けられていてもよく、フレームに干渉しない位置に配置されていればよい。

図１２は、上蓋を取り外した状態の光走査装置を示す外観斜視図であって、図１３は、図１２に示す光走査装置の外観平面図である。

光走査ユニット２００では、光学部材として、光源２１１（レーザーダイオード素子）、コリメータレンズ２１２、アパーチャー部材２１３、シリンドリカルレンズ２１４、光源用反射ミラー２１５、光偏向部材７０、ｆθレンズ２３１、ビーム検知用反射ミラー２３２、ビーム検知用レンズ２３３（集光レンズ）、およびビーム検知部２３４（Ｂｅａｍ Ｄｅｔｅｃｔセンサ（ＢＤセンサ））を備えている。

光走査装置２０の筐体の底面には、光偏向部材７０が収まるように凹凸を設けて偏向収容部２０３が形成されている。偏向収容部２０３に出入りする光ビームが通過する部分には、透明な防塵ガラス２３５が設けられている。

光偏向部材７０は、基板７１と、基板７１に取り付けられた回転多面鏡７３と、回転多面鏡７３の回転軸７２とを有している。回転軸７２の軸線方向は、高さ方向Ｚと略平行にされている。なお、図１３では簡略化しているが、光偏向部材７０は、モータや素子などの部品が適宜搭載されていてもよい。

光源２１１は、光ビーム（レーザービーム）を出射する。コリメータレンズ２１２は、光源２１１からの光ビームを略平行光にしてアパーチャー部材２１３に照射する。アパーチャー部材２１３は、入射した光ビームを絞ってシリンドリカルレンズ２１４に照射する。シリンドリカルレンズ２１４は、入射した光ビームを収束して光源用反射ミラー２１５に照射する。光源用反射ミラー２１５は、光ビームを反射して光偏向部材７０の回転鏡７３に集光させる。

光偏向部材７０では、回転多面鏡７３を回転させて、入射した光ビームを主走査方向Ｙに偏向走査する。光偏向部材７０で偏向走査された光ビームは、主走査方向Ｙに長尺な形状のｆθレンズ２３１と、ビーム検知用反射ミラー２３２とに導かれる。ｆθレンズ２３１に入射した光ビームは、出射窓２１を介して光走査装置２０の外部へ出射される。また、ビーム検知用反射ミラー２３２に入射した光ビームは、反射されてビーム検知用レンズ２３３に入射する。ビーム検知用レンズ２３３は、光ビームをビーム検知部２３４に集光する。ビーム検知部２３４は、光走査装置２０に取り付けられた検知基板２４０に設けられ、主走査の開始前のタイミングを示すビーム検知信号を出力する。なお、検知基板２４０には、光源２１１が接続されていてもよく、光源２１１を駆動する回路が設けられていてもよい。また、光走査装置２０の筐体には、ビーム検知部２３４に向かう光ビームが通過する開口が設けられていてもよい。

図１４は、支持体を示す外観斜視図である。

本実施の形態において、支持体３０は、１枚の板金を折り曲げて形成されており、一部を後から取り付けたり、穴を開けるなどの加工を施したりしている。なお、支持体３０は、板金に限らず、樹脂などを成型して形成してもよい。

第１側壁３１には、外側に向かって突出した係止ボス３１ａ（取付係止部の一例）が設けられている。係止ボス３１ａは、第１側壁３１における主走査方向Ｙでの両端の２箇所に設けられている。

第２側壁３２には、側壁側係止部２５を係止するための側壁受け部３２ａが設けられている。側壁受け部３２ａは、第２側壁３２における主走査方向Ｙでの略中央に設けられている。側壁受け部３２ａの上方には、受け挿入部３２ｂが繋げて設けられており、側壁受け部３２ａと受け挿入部３２ｂとを併せて、第２側壁３２に設けられた凹部とされている。側壁受け部３２ａは、第２側壁３２を貫通する略円形の穴とされており、受け挿入部３２ｂによって上方が開放されている。受け挿入部３２ｂは、側壁受け部３２ａの径よりも幅が狭くなっている。具体的に、側壁受け部３２ａは、側壁側係止部２５の太径部２５ｂと略同じ径となっている。受け挿入部３２ｂは、側壁側係止部２５に対し、太径部２５ｂよりも幅が狭く、細径部２５ａよりも幅が狭い。

つまり、側壁受け部３２ａに側壁側係止部２５を係止する際、上方から受け挿入部３２ｂに細径部２５ａを通さなければならない。そして、細径部２５ａが側壁受け部３２ａに到達した後、側壁側係止部２５を副走査方向Ｘに押して、太径部２５ｂを側壁受け部３２ａに嵌め込むことで、側壁側係止部２５が側壁受け部３２ａに係止される。なお、側壁受け部３２ａ近傍の構造については、後述する図２３ないし図２５を参照して詳細に説明する。

第３側壁３３には、上端の一部を外側に折り曲げて形成した第１ビス受け部３３ａ（取付係止部の一例）が設けられている。第１ビス受け部３３ａにおける副走査方向Ｘに直交する平面には、第１支持体固定穴３３ｂが設けられている。第１支持体固定穴３３ｂは、第２側壁３２側の端部近傍に位置している。また、第３側壁３３における副走査方向Ｘでの中央付近には、第３側壁３３を貫通する第１橋架固定穴３３ｃが設けられている。第１橋架固定穴３３ｃの下方には、支持体３０の内側に向かって突出した第１受け突起３３ｄが設けられている。本実施の形態において、第３側壁３３には、２つの第１受け突起３３ｄが設けられているが、後述するステイの形状に応じて、第１受け突起３３ｄの数を変更してもよい。

第４側壁３４は、第３側壁３３と略同様の形状とされており、第１ビス受け部３３ａに対応する第２ビス受け部３４ａと、第１支持体固定穴３３ｂに対応する第２支持体固定穴３４ｂと、第１橋架固定穴３３ｃに対応する第２橋架固定穴３４ｃと、第１受け突起３３ｄに対応する第２受け突起３４ｄとが設けられている。上述した第２ビス受け部３４ａ、第２支持体固定穴３４ｂ、第２橋架固定穴３４ｃ、および第２受け突起３４ｄは、対応する第３側壁３３の各部と副走査方向Ｘで重なる位置に設けられている。

支持体底面３５には、板金の一部を切り起こして形成した第１立設固定部３５ａおよび第２立設固定部３５ｂが設けられている。第１立設固定部３５ａは、副走査方向Ｘに垂直な平面とされ、フレームに取り付けられた光走査装置２０の第１位置決め部２３に面する位置（例えば、図４参照）に設けられている。第１立設固定部３５ａには、光走査固定ビス６０が挿入される第１立設固定穴３５ａ１と、偏芯ビスＥＳが挿入される偏芯固定穴３５ａ２とが設けられている。第２立設固定部３５ｂは、第１立設固定部３５ａと略同様とされ、フレームに取り付けられた光走査装置２０の第２位置決め部２４に面する位置に設けられ、第２立設固定穴３５ｂ１を有している。

また、支持体底面３５には、板金から第１立設固定部３５ａおよび第２立設固定部３５ｂを切り起こして形成したことで、第１底面孔３５ｃおよび第２底面孔３５ｄが形成される。第１底面孔３５ｃを設けたことで、第１立設固定部３５ａに繋がる部分が分断され、第１立設固定部３５ａに固定された光走査装置２０への振動が伝わりにくくなる。同様に、第２底面孔３５ｄによって、第２立設固定部３５ｂへの振動が伝わりにくくなる。

さらに、支持体底面３５には、板金の一部を開口させた導風部３６が設けられている。導風部３６は、フレームに取り付けられた光走査装置２０の底面に面する位置に設けられている。導風部３６も第１立設固定部３５ａおよび第２立設固定部３５ｂと同様に、板金の一部を切り起こして形成されており、支持体底面３５に対して上方に折り曲げた部分と、下方に折り曲げた部分とを有している。上方に切り起こす高さは、適宜調整すればよく、光走査装置２０の底面に当たらない高さとされている。

図１５は、ステイを示す外観斜視図であって、図１６は、ステイを示す外観側面図である。

本実施の形態において、ステイ４０は、１枚の板金を折り曲げて形成されており、穴を開けるなどの加工を施している。なお、ステイ４０は、板金に限らず、樹脂などを成型して形成してもよい。

ステイ４０は、略長方形状の平面とされたステイ係止面４１を有し、ステイ係止面４１の長手方向での両端を折り曲げて第１ステイ固定面４２および第２ステイ固定面４３が設けられている。

ステイ係止面４１は、長手方向の長さが、支持体３０の第３側壁３３から第４側壁３４までの長さと略同じとされている。つまり、ステイ４０を支持体３０に取り付けた際は、第１ステイ固定面４２が第３側壁３３の内側壁に接し、第２ステイ固定面４３が第４側壁３４の内側壁に接する。以下では説明のため、ステイ４０を支持体３０に取り付けた状態に合わせて、ステイ係止面４１の長手方向を主走査方向Ｙと呼ぶことがある。

ステイ係止面４１には、主走査方向Ｙでの略中央にステイ受け部４１ａが設けられている。ステイ受け部４１ａは、ステイ係止面４１を貫通する円形状の穴とされている。また、ステイ係止面４１には、上端の一部を折り曲げて光通過部４１ｂが形成されている。光通過部４１ｂを設けた部分では、高さ方向Ｚでの幅が短くなっている。さらに、ステイ係止面４１には、下端を折り曲げてステイ補強部４１ｃが形成されている。つまり、平面状の板金を折り曲げて、立体的な構造とすることで、ステイ４０の強度を増している。

第１ステイ固定面４２には、上述した第１橋架固定穴３３ｃに対応する第１ステイ固定穴４２ａが設けられている。第１橋架固定穴３３ｃおよび第１ステイ固定穴４２ａにステイ固定ビス５０（例えば、図１８参照）を挿入することで、ステイ４０を支持体３０に取り付けることができる。また、第１ステイ固定面４２の下端には、上述した第１受け突起３３ｄに対応する第１固定凹部４２ｂが設けられている。第１固定凹部４２ｂは、第１ステイ固定面４２の下端の一部を切り欠いた凹部とされており、ステイ４０を支持体３０に取り付けた際、第１受け突起３３ｄが嵌り込む。

第２ステイ固定面４３は、第１ステイ固定面４２と略同様の形状とされており、第１ステイ固定穴４２ａに対応する第２ステイ固定穴４３ａと、第１固定凹部４２ｂに対応する第２固定凹部４３ｂとが設けられている。第２ステイ固定面４３側では、第２橋架固定穴３４ｃおよび第２ステイ固定穴４３ａにステイ固定ビス５０が挿入される。

図１７は、ステイを取り付けた状態の支持体を示す外観斜視図であって、図１８は、上側から見たステイを取り付けた状態の支持体を示す外観平面図であって、図１９は、ステイを取り付けた状態の支持体を示す外観側面図である。

上述したように、ステイ４０は、ステイ固定ビス５０によって支持体３０に固定される。図１９に示すように、ステイ４０を支持体３０に取り付けた際、ステイ受け部４１ａと側壁受け部３２ａとは、主走査方向Ｙおよび高さ方向Ｚでの位置が略重なる。なお、ステイ４０は、支持体底面３５から離間して支持されており、ステイ係止面４１の下端（ステイ補強部４１ｃ）は、支持体底面３５の上面に接していない。

光走査装置２０は、ステイ４０と支持体３０とを組み合わせたフレームに取り付けられる。光走査装置２０をフレームに取り付ける際、先ず、ステイ側係止部２２の先端（挿入端部２２ａ）をステイ受け部４１ａに差し込みながら、側壁側係止部２５の細径部２５ａを受け挿入部３２ｂを通じて側壁受け部３２ａに挿入する。その後、光走査装置２０を第１側壁３１側に押し込むことで、ステイ側係止部２２がステイ受け部４１ａに係止され、側壁側係止部２５の太径部２５ｂが側壁受け部３２ａに係止される。この状態において、光走査装置２０は、位置が完全には固定されておらず、ステイ側係止部２２および側壁側係止部２５を通る軸を中心にして、主走査方向Ｙでの端部が高さ方向Ｚに揺動し、支持体底面３５を基準とした平面に対する光走査装置２０の傾きが定まっていない。そこで、第１位置決め穴２３ａおよび第１立設固定穴３５ａ１を通る光走査固定ビス６０と、第２位置決め穴２４ａおよび第２立設固定穴３５ｂ１を通る光走査固定ビス６０とによって、光走査装置２０と支持体３０とを固定することで、光走査装置２０の位置決めがなされる。この際、第１位置決め穴２３ａおよび第２位置決め穴２４ａは、光走査固定ビス６０の径より長い長穴とされているので、光走査装置２０の傾きを調整することができる。

光走査装置２０については、位置調整穴２３ｂおよび偏芯固定穴３５ａ２に挿入された偏芯ビスＥＳによって、さらに傾きを微調整することができる。偏芯ビスＥＳは、頭部が位置調整穴２３ｂの内側に収まっており、回転させることで頭部が位置調整穴２３ｂの内壁に接し、さらに回転させることで第１位置決め部２３を押す。偏芯ビスＥＳに押されることで、光走査装置２０は、第１位置決め穴２３ａおよび第２位置決め穴２４ａに沿って高さ方向Ｚに揺動する。

上述したように、光走査装置２０は、主走査方向Ｙでの端部に設けられた固定部（第１位置決め部２３および第２位置決め部２４）が、固定具（光走査固定ビス６０）によって固定される。従って、光走査装置２０が揺動した際に、最も大きく変位する端部を固定することで、光走査装置２０の動きを確実に抑制することができる。また、側壁側係止部２５とステイ側係止部２２とが軸支される構造とすることで、光走査装置２０全体を軸回りに揺動させることができる。

光走査装置２０、支持体３０、およびステイ４０を組み合わせた状態で、光走査ユニット２００は、画像形成装置１に取り付けられる。本実施の形態に係る画像形成装置１では、側面を開口して光走査ユニット２００の収容部が設けられている。この収容部には、係止ボス３１ａが挿入されるボス受けと、第１支持体固定穴３３ｂおよび第２支持体固定穴３４ｂに対応するビス穴が設けられている。光走査ユニット２００は、第１側壁３１側から収容部に挿入され、係止ボス３１ａをボス受けに係止させた後、第１支持体固定穴３３ｂおよび第２支持体固定穴３４ｂをビスで固定される。なお、画像形成装置１の収容部については、光走査ユニット２００の形状や構成に応じて適宜設計すればよく、光走査ユニット２００が収まる構造とされていればよい。また、画像形成装置１に設けた開口については、光走査ユニット２００を取り付けた後、カバーなどで覆ってもよい。

図６に示すように、光走査装置２０をフレームに取り付けた状態では、出射窓２１がステイ４０の光通過部４１ｂに面しており、光走査装置２０から出射された光は、ステイ４０に遮られることなく、第１側壁３１側に抜けていく。

図２０は、光走査装置の側壁側係止部近傍を拡大して示す拡大斜視図であって、図２１は、側壁側係止部の上側スリットおよびリブを通る断面を示す拡大断面図であって、図２２は、他方の側面側から見た側壁側係止部近傍を拡大して示す拡大側面図である。

側壁側係止部２５には、第１の外径とされた細径部２５ａと、第１の外径より大きい第２の外径とされた太径部２５ｂとが設けられており、細径部２５ａと太径部２５ｂとの間には、外径が第１の外径から第２の外径に徐々に変化する径変化部２５ｃが設けられている。つまり、側壁側係止部２５では、先端から軸線方向（図４では、副走査方向Ｘに相当）に沿って、太径部２５ｂ、径変化部２５ｃ、細径部２５ａの順に設けられている。このように、径が異なる細径部２５ａと太径部２５ｂとを設けることで、取り付け時の作業性を向上させることができる。つまり、軸線方向に沿って側壁側係止部２５をスライドさせることで、側壁受け部３２ａに係止されるかどうかを変化させることができる。スライドさせる際には、段差を解消するように径変化部２５ｃが設けられているので、引っ掛かることを防げる。

側壁側係止部２５の外周には、軸線方向に沿って延びる複数のスリット（上側スリット２５ｆおよび下側スリット２５ｇ）が設けられている。上側スリット２５ｆは、高さ方向Ｚにおいて、下側スリット２５ｇより上方に設けられ、軸線方向において、下側スリット２５ｇより長く形成されている。具体的に、上側スリット２５ｆは、太径部２５ｂ、径変化部２５ｃ、および細径部２５ａに亘って設けられている。また、下側スリット２５ｇは、太径部２５ｂおよび径変化部２５ｃに亘って設けられている。従って、上側スリット２５ｆの軸線方向での長さ（上側スリット長ＵＬ）は、下側スリット２５ｇの軸線方向での長さ（下側スリット長ＤＬ）より長くなっている。このように、側壁側係止部２５に複数のスリットを設けることで、径を微調整することができ、側壁側係止部２５を受け止める側壁受け部３２ａとの間の隙間によって生じるガタつきを防止することができる。また、上側スリット２５ｆと下側スリット２５ｇとで軸線方向での長さに差を付けることで、側壁側係止部２５の部位によって変形しやすさを調整することができる。ここで、側壁側係止部２５の下部が変形すると、自重によって下方へ沈み込んでしまうので、上側スリット２５ｆを設けて側壁側係止部２５の上部を変形しやすくすることで、側壁側係止部２５の下部での変形量を抑えることができる。

図２２に示す第１補助線ＳＬ１は、側壁側係止部２５の断面での中心を通り、高さ方向Ｚに平行な直線であって、第２補助線ＳＬ２は、側壁側係止部２５の断面での中心を通り、主走査方向Ｙに平行な直線である。上側スリット２５ｆは、第１補助線ＳＬ１上であって、側壁側係止部２５の断面での中心の上方に設けられている。下側スリット２５ｇは、第２補助線ＳＬ２上であって、側壁側係止部２５の断面での中心の側方（図２２では、左方および右方）に設けられている。側壁側係止部２５では、下側スリット２５ｇが、高さ方向Ｚにおいて側壁側係止部２５の略中央に位置するので、側壁側係止部２５の略半分くらいの部分が、変形量を抑えた箇所となり、相手方に安定して係止される。また、側壁側係止部２５の上部は、上側スリット２５ｆによって、略均等に２つに分けられるので、両者にバランス良く負荷が加わって、位置の偏りを防ぐことができる。側壁側係止部２５の上部では、下側スリット２５ｇ近傍よりも、上側スリット２５ｆ近傍の方が、軸線方向で長い範囲分断されており、変形しやすくなっている。

また、側壁側係止部２５には、延出した先端から軸線方向に沿って凹んだ軸凹部２５ｄが設けられている。つまり、側壁側係止部２５の断面は、略環状とされており、中央を肉抜きして軸凹部２５ｄが形成されている。このように、軸凹部２５ｄを設けることで、側壁側係止部２５の内部に空間が形成され、側壁側係止部２５が押し込まれて変形しやすい構造とすることができる。本実施の形態において、上側スリット２５ｆおよび下側スリット２５ｇは、側壁側係止部２５の外周から内周まで設けられており、軸凹部２５ｄに繋がっている。

軸凹部２５ｄに面す側壁側係止部２５の内周には、上方向へ立設されたリブ２５ｅが設けられている。リブ２５ｅを設けることで、側壁側係止部２５の下部を構造的に補強し、変形量を抑えることができる。

次に、側壁受け部３２ａ近傍の構造について、図２３ないし図２５を参照して説明する。

図２３は、第２側壁の側壁受け部近傍を拡大して示す拡大側面図であって、図２４は、調整プレートを示す概略側面図であって、図２５は、調整プレートを取り外した状態の第２側壁を拡大して示す拡大側面図である。

支持体３０の第２側壁３２には、プレート固定ビスＳＣを用いて、側壁受け部３２ａを有する調整プレート３８が取り付けられる。調整プレート３８は、略板状とされ、上述した側壁受け部３２ａおよび受け挿入部３２ｂが設けられている。また、側壁受け部３２ａの下方には、一部を折り曲げて、部分的に厚みを大きくしたビス当接部３８ｃが設けられている。さらに、調整プレート３８には、高さ方向Ｚで長い長穴とされた３つの係止穴３８ａと、２つのプレートビス穴３８ｂが設けられている。

第２側壁３２には、側壁受け部３２ａおよび受け挿入部３２ｂに対応する箇所を切り欠いたプレート対応部３２ｃが設けられている。プレート対応部３２ｃでは、側壁受け部３２ａおよび受け挿入部３２ｂより広い範囲が切り欠かれており、側壁受け部３２ａに挿入される側壁側係止部２５に干渉しないようになっている。また、第２側壁３２には、係止穴３８ａに対応して設けられた係止突起３２ｄと、プレートビス穴３８ｂに対応して設けられた第２側壁ビス穴３２ｅと、偏芯ビスＥＳが挿入される偏芯挿入穴３２ｆとが設けられている。係止突起３２ｄは、調整プレート３８側に突出しており、係止穴３８ａの内側に収まる。

調整プレート３８は、第２側壁ビス穴３２ｅおよびプレートビス穴３８ｂに挿入されたプレート固定ビスＳＣによって、第２側壁３２に取り付けられる。この際、プレートビス穴３８ｂは、プレート固定ビスＳＣの径より長い長穴とされているので、調整プレート３８を高さ方向Ｚに動かすことができる。また、係止突起３２ｄが、係止穴３８ａに引っ掛かるので、調整プレート３８が動く方向が規制される。なお、図示しないが、プレート固定ビスＳＣは、ワッシャやスプリングを挟み込んで取り付けられていてもよい。

調整プレート３８については、偏芯挿入穴３２ｆに挿入された偏芯ビスＥＳによって、さらに位置を微調整することができる。偏芯ビスＥＳは、頭部がビス当接部３８ｃの下方に位置しており、回転させることで頭部がビス当接部３８ｃに接し、さらに回転させることで調整プレート３８を押す。偏芯ビスＥＳに押されることで、調整プレート３８は高さ方向Ｚに移動する。

上述したように、調整プレート３８は、第２側壁３２に対し、係止穴３８ａ、プレートビス穴３８ｂ、係止突起３２ｄ、およびプレート固定ビスＳＣなど、両者を完全に固定せずに位置を調整する位置調整部を介して取り付けられている。このように、調整プレート３８自体を動かすことで、調整プレート３８と側壁側係止部２５との隙間を変化させずに、光走査装置２０の位置を調整することができる。

上述した構成では、画像形成装置１とは分離して支持体３０を設けたが、これに限定されず、支持体３０が画像形成装置１の筐体の一部とされていてもよい。つまり、光走査装置２０を、支持体３０およびステイ４０に取り付けた状態の光走査ユニット２００を画像形成装置１に固定する形態を説明したが、これに限定されず、支持体３０およびステイ４０を画像形成装置１に設け、これに光走査装置２０を取り付けてもよい。

なお、今回開示した実施の形態は全ての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。従って、本発明の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれる。

１ 画像形成装置
２０ 光走査装置
２１ 出射窓
２２ ステイ側係止部（対向支持部の一例）
２３ 第１位置決め部
２４ 第２位置決め部
２５ 側壁側係止部（支持軸の一例）
２５ａ 細径部
２５ｂ 太径部
２５ｃ 径変化部
２５ｄ 軸凹部
２５ｅ リブ
２５ｆ 上側スリット
２５ｇ 下側スリット
３０ 支持体
３１ 第１側壁
３２ 第２側壁
３２ａ 側壁受け部
３３ 第３側壁
３４ 第４側壁
３５ 支持体底面
３５ａ 第１立設固定部
３５ｂ 第２立設固定部
３６ 導風部
３８ 調整プレート
４０ ステイ
２００ 光走査ユニット
ＥＳ 偏芯ビス
ＳＣ プレート固定ビス
Ｘ 副走査方向
Ｙ 主走査方向
Ｚ 高さ方向

Claims (9)

1. 画像形成装置に備えられ、光を出射して走査させる光走査装置であって、
   前記光走査装置から延出して設けられ、前記画像形成装置に対して回転自在に支持される支持軸と、
   前記支持軸の軸線方向で前記支持軸と対向する端部から延出して設けられた対向支持部とを備え、
   前記支持軸の外周には、該支持軸の軸線方向に沿って延びる複数のスリットが設けられ、
   前記対向支持部は、前記画像形成装置に対して回転自在に支持されること
   を特徴とする光走査装置。
2. 請求項１に記載の光走査装置であって、
   前記複数のスリットは、上下方向において、上側に設けられた上側スリットと、前記上側スリットよりも下側に設けられた下側スリットとを含み、
   前記上側スリットは、前記軸線方向において、前記下側スリットより長く形成されていること
   を特徴とする光走査装置。
3. 請求項２に記載の光走査装置であって、
   前記上側スリットは、前記支持軸の断面での中心から上方向に延びる直線上に設けられ、
   前記下側スリットは、前記支持軸の断面での中心から横方向に延びる直線上に設けられていること
   を特徴とする光走査装置。
4. 請求項１から請求項３までのいずれか１つに記載の光走査装置であって、
   前記支持軸には、延出した端部から前記軸線方向に沿って凹んだ軸凹部が設けられていること
   を特徴とする光走査装置。
5. 請求項４に記載の光走査装置であって、
   前記軸凹部に面する前記支持軸の内周には、上方向へ立設されたリブが設けられていること
   を特徴とする光走査装置。
6. 請求項１から請求項５までのいずれか１つに記載の光走査装置であって、
   前記支持軸には、前記軸線方向において異なる位置に設けられ、第１の外径とされた細径部と、前記第１の外径より大きい第２の外径とされた太径部とを有すること
   を特徴とする光走査装置。
7. 請求項１に記載の光走査装置であって、
   前記軸線方向と直交する方向での端部に設けられた固定部が、固定具によって固定されること
   を特徴とする光走査装置。
8. 請求項１から請求項７までのいずれか１つに記載の光走査装置を備えた画像形成装置。
9. 請求項８に記載の画像形成装置であって、
   前記光走査装置を取り付ける取付部材と、
   前記支持軸を係止する調整プレートとを備え、
   前記調整プレートは、前記取付部材に対し、位置を調整する位置調整部を介して取り付けられていること
   を特徴とする画像形成装置。

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