JP7329130B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
<プラズマ処理装置の構成>
以下に図1を用いて、実施の形態1におけるプラズマ処理装置1の概要について説明する。
以下に図2および図3を用いて、本発明の従来技術に係るガス供給装置300について説明する。図3では、図2に示されるマスフローコントローラボックス(MFCボックス)40およびガス配管接続ボックス50の各々の内部に設けられた配管が示されている。なお、ガス供給装置300は、主にガス配管接続ボックス50が設けられている点で、実施の形態1におけるガス供給装置30と異なっている。
以下に図4~図8を用いて、本願発明者らが検討した検討例におけるガス供給装置30について説明する。図5では、図4に示されるMFCボックス40の内部に設けられた配管が示されている。
2 処理室
3 ステージ
4 窓部材
5 プレート
6 貫通穴
7 被処理材(ウェハ)
8 インピーダンス整合器
9 高周波電源
10 導波管
11 マグネトロン発振器
12 ソレノイドコイル
13 ソレノイドコイル
14 圧力調整板
15 圧力検出器
16 ターボ分子ポンプ
17 ドライポンプ
18 排気配管
19~21 バルブ
30 ガス供給装置
31 配管
40 マスフローコントローラボックス(MFCボックス)
41 吸気口
42 排気口
43 配管
43a マスフローコントローラ(MFC)
43b、43c バルブ
44、45 継手
50 ガス配管接続ボックス
51 排気口
52 配管
53 継手
54 配管
55 ヒータ
60a、60b 配管カバー
61 外周配管
62 チューブ
63 継手
300 ガス供給装置
Claims (9)
- 処理室と、処理用ガスを前記処理室の内部へ供給するためのガス供給装置とを備えたプラズマ処理装置であって、
前記ガス供給装置は、
吸気口および排気口を有するマスフローコントローラボックスと、
前記マスフローコントローラボックスの内部に設けられ、且つ、それぞれにマスフローコントローラが取り付けられた複数の第1配管と、
前記マスフローコントローラボックスの内部において前記複数の第1配管に連結され、且つ、前記マスフローコントローラボックスの外部において、前記処理用ガスの供給源となる複数の第3配管に、複数の第1継手によって連結された複数の第2配管と、
を有し、
前記複数の第1継手のうち少なくとも1つは、第1配管カバーによって覆われ、
1つの前記第1配管カバーは、1つの前記第1継手を密閉し、
前記第1配管カバーの内部および前記マスフローコントローラボックスの内部は、第1連通部材によって連通している、プラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記第1連通部材は、前記複数の第2配管のうち前記第1配管カバーが設けられている前記第2配管の外周を覆う外周配管を含む、プラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記外周配管は、金属材料で構成される、プラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記外周配管は、樹脂材料で構成される、プラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記第1連通部材は、前記第1配管カバーおよび前記マスフローコントローラボックスに着脱可能に接続されたチューブを含む、プラズマ処理装置。 - 請求項5に記載のプラズマ処理装置において、
前記チューブは、可視光が透過可能な樹脂材料で構成される、プラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記複数の第1継手のうち少なくとも1つは、第2配管カバーによって覆われ、
1つの前記第2配管カバーは、1つの前記第1継手を密閉し、
前記第2配管カバーの内部および前記マスフローコントローラボックスの内部は、第2連通部材によって連通し、
前記第2連通部材は、前記第2配管カバーおよび前記マスフローコントローラボックスに着脱可能に接続されたチューブを含み、
前記第2連通部材が適用されている前記第1配管、前記第2配管および前記第3配管に流される前記処理用ガスは、前記第1連通部材が適用されている前記第1配管、前記第2配管および前記第3配管に流される前記処理用ガスよりも、高い沸点を有するガスである、プラズマ処理装置。 - 請求項7に記載のプラズマ処理装置において、
前記第1連通部材が適用されている前記第1配管、前記第2配管および前記第3配管に流される前記処理用ガスは、H2、CH3F、CH4、Cl2、SO2、HBr、SiF4、NF3またはCO2であり、
前記第2連通部材が適用されている前記第1配管、前記第2配管および前記第3配管に流される前記処理用ガスは、SiCl4またはBCl3であり、
前記第1連通部材または前記第2連通部材が適用されていない前記第1配管、前記第2配管および前記第3配管に流される前記処理用ガスは、Ar、He、O2、N2、CHF3、SF6またはCF4である、プラズマ処理装置。 - 請求項7に記載のプラズマ処理装置において、
前記第2連通部材が適用されている前記第1配管、前記第2配管および前記第3配管の外周には、ヒータが設けられている、プラズマ処理装置。
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